CN105700730B - 触摸面板和制造该触摸面板的方法 - Google Patents

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Abstract

提供了触摸面板和制造该触摸面板的方法，该触摸面板包括：基底，具有感测区域和外围区域；多个第一感测电极和多个第二感测电极，多个第一感测电极位于基底的表面上并且沿着第一方向布置在感测区域中，多个第二感测电极沿着与第一方向交叉的第二方向布置；第一连接件，位于基底的表面上并且沿第一方向连接多个第一感测电极；绝缘层图案，位于第一连接件上；第二连接件，位于绝缘层图案上，与第一连接件交叉以与第一连接件绝缘，并沿着第二方向连接多个第二感测电极；多条布线，位于基底的表面上，位于外围区域中，并且电连接到多个第一感测电极或多个第二感测电极；以及导电图案，位于多个第二感测电极中的每个第二感测电极和第二连接件之间。

Description

触摸面板和制造该触摸面板的方法
本申请要求于2014年12月16日在韩国知识产权局提交的第10-2014-0180958号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的公开通过引用全部包含于此。
技术领域
本申请涉及一种触摸面板和制造该触摸面板的方法。
背景技术
触摸面板作为输入装置正在被应用于液晶显示器(LCD)或有机发光显示器。触摸面板是一种由用户的手指或诸如笔的物体触摸以输入命令的装置。触摸面板通过感测两个电极之间的电容或电压的变化识别触摸位置，并且将对应于触摸位置的用户命令提供到显示装置。
通常，触摸面板包括用于感测由手指或物体触摸的位置的两个感测电极和分别连接到两个感测电极的布线。因此，为了制造触摸面板，需要用于形成感测电极的掩模和用于形成布线的掩模，并且使用掩模执行光刻工艺。
光刻工艺包括形成光敏层，通过使用掩模将光敏层曝光以及对曝光的光敏层进行显影。
由于一个光刻工艺包括多个步骤，因此将光刻工艺加入到制造触摸面板的过程中会使整个制造过程复杂，并且在去除光敏层的过程中会出现污染或缺陷。
发明内容
发明构思的多个方面提供一种能够以简化的工艺制造的触摸面板和制造该触摸面板的方法。
然而，发明构思的多个方面不局限于在此阐述的各方面。对于本申请所属领域的普通技术人员而言，通过参照下面给出的发明构思的详细描述，发明构思的以上和其它方面将变得更加明显。
根据发明构思的一方面，提供一种触摸面板。所述触摸面板包括：基底，包括感测区域和外围区域；多个第一感测电极和多个第二感测电极，所述多个第一感测电极位于所述基底的表面上并且沿着第一方向布置在所述感测区域中，所述多个第二感测电极沿着与所述第一方向交叉的第二方向布置；第一连接件，位于所述基底的所述表面上并且沿所述第一方向连接所述多个第一感测电极；绝缘层图案，位于所述第一连接件上；第二连接件，位于所述绝缘层图案上，与所述第一连接件交叉以与所述第一连接件绝缘，并且沿着所述第二方向连接所述多个第二感测电极；多条布线，位于所述基底的所述表面上，位于所述外围区域中，并且电连接到所述多个第一感测电极或所述多个第二感测电极；以及导电图案，位于所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极和所述第二连接件之间。
根据发明构思的另一方面，提供一种制造触摸面板的方法。所述方法包括在基底的表面上形成第一导电层。在所述第一导电层上形成第二导电层。形成沿着第一方向布置的多个第一感测电极。形成沿着与所述第一方向交叉的第二方向布置的多个第二感测电极。对所述第一导电层和所述第二导电层进行图案化以形成位于所述多个第一感测电极中的每个第一感测电极和所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极上的导电图案、多个布线图案以及沿着所述第一方向连接所述多个第一感测电极的第一连接件。形成覆盖所述第一连接件的绝缘层图案。在所述基底的所述表面上形成覆盖所述多个第一感测电极、所述多个第二感测电极、所述导电图案、所述绝缘层图案和所述多个布线图案的第三导电层。在所述第三导电层上形成第四导电层。通过对所述第三导电层、所述第四导电层和所述导电图案进行图案化来形成多条布线和与所述第一连接件交叉并且沿着所述第二方向连接所述多个第二感测电极的第二连接件。
通过权利要求和下面的具体实施方式与附图，其它特征和示例性实施例将是明显的。
附图说明
通过参照附图详细描述发明构思的示例性实施例，发明构思的以上和其它方面及特征将变得更加明显，在附图中：
图1是根据示例性实施例的触摸面板的示意平面图；
图2是图1的部分P的放大平面图；
图3是沿着图2的线III-III’截取的触摸面板的剖视图；
图4和图5分别是图3的部分X1和X2的放大图；
图6是沿着图2的线VI-VI’截取的触摸面板的剖视图；以及
图7、图8、图9、图10、图11、图12、图13、图14、图15、图16和图17是示出根据示例性实施例的制造触摸面板的方法的剖视图。
具体实施方式
通过参照实施例的下面的详细描述和附图可以更容易理解发明构思的特征及其实现方法。然而，发明构思可以以许多不同的形式实施，而不应该被解释为局限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且这些实施例将把发明构思的构思充分地传达给本领域技术人员，并且将仅由权利要求限定发明构思。在整个说明书中，同样的附图标记指代同样的元件。
在这里使用的术语仅用于描述具体实施例的目的，并不意图成为发明构思的限制。如在此使用的，除非上下文清楚地另有表明，单数形式“一种”、“一个”、“该”和“所述”也意图包括复数形式。此外，将理解的是，当在该说明书中使用术语“包括”和/或“包含”时，表示存在陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或添加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
将理解的是，当元件或层被称作“在”另一元件或层“上”，“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在所述另一元件或层上，直接连接到或结合到另一元件或层，或可以存在中间元件或层。相反，当元件被称作“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或层。如在此使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任何和所有组合。
将理解的是，虽然在这里可以使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语所限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区别开。因此，在不脱离发明构思的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可以被称作第二元件、组件、区域、层或部分。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，诸如“在……下面”、“在……下方”、“下面的”、“在……上方”和“上面的”等，以描述如在附图中示出的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意在包含装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果把附图中的装置翻转，则被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“下面”的元件将随后被定向为“在”所述其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可能包括在……上方和在……下方两种方位。可以将装置另外地定向(旋转90度或在其它方位)，并相应地解释在此使用的空间相对描述语。
在此参照作为理想实施例(和中间结构)的示意图的剖视图来描述实施例。如此，预计会出现例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。因此，这些实施例不应该被解释为限于这里示出的区域的具体形状，而是将包括由于例如制造导致的形状的偏差。例如，以矩形示出的区域将有时具有被倒圆或被弯曲的特征，和/或位于其边缘处的浓度的梯度，而非区域之间的二元变化。因此，附图中示出的区域本质上是示意性的，它们的形状并不意图示出装置的区域的实际形状，并不意图限制发明构思的范围。
虽然在这里可以使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语所限制。这些术语用于将一个元件、组件、区域、层和/或部分与另一元件、组件、区域、层和/或部分区别开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层和/或部分可以被称作第二元件、组件、区域、层和/或部分。
除非另外定义，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本申请所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非在这里明确地如此定义，否则术语(诸如在通用词典中定义的术语)应该被解释为具有与其在相关领域的环境中和本说明书中的意思一致的意思，并且将不以理想化或过于形式化的意思来解释它们。
在下文中，将参照附图描述实施例。
图1是根据实施例的触摸面板10的示意平面图。图2是图1的部分(更具体地，图1的部分P)的放大平面图。图3是沿着图2的线III-III’截取的触摸面板10的剖视图。图4和图5是图3的部分的放大平面图。更具体地，图4是图3的部分X1的放大图，图5是图3的部分X2的放大图。图6是沿着图2的线VI-VI’截取的触摸面板10的剖视图。
参照图1至图6，根据当前实施例的触摸面板10可以包括基底100、多个感测电极200、第一连接件220、导电图案233、绝缘层图案240、第二连接件250和多条布线270、280。
感测电极200、第一连接件220、导电图案233、绝缘层图案240、第二连接件250和布线270、280设置在基底100的表面上。基底100可以由透明材料制成。在一些实施例中，透明材料可以是但不限于钢化玻璃、丙烯酸树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、聚醚砜(PES)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、金属箔、纤维增强塑料(FRP)或硅橡胶。基底100可以具有刚性。然而，发明构思不限于此，基底100也可以具有韧性。换言之，基底100可以是柔性基底。
基底100可以包括感测区域AA和在感测区域AA外侧限定的外围区域NA。感测区域AA是用于感测手或物体的触摸位置的区域。感测电极200、第一连接件220、导电图案233、绝缘层图案240和第二连接件250可以位于基底100的表面上并在感测区域AA中。
外围区域NA位于感测区域AA的外侧。连接到感测电极200的布线270、280和连接到布线270、280的盘(pad)单元290可以位于基底100的表面上并在外围区域NA中。
用于驱动触摸面板10的驱动电路板(未示出)可以电连接到盘单元290。
感测电极200可以位于基底100的表面上并在感测区域AA中。感测电极200可以包括在第一方向(图中的竖直方向)上布置的多个第一感测电极210和在与第一方向交叉的第二方向(图中的水平方向)上布置的多个第二感测电极230。
第一感测电极210和第二感测电极230可以彼此分开。例如，第一感测电极210和第二感测电极230可以物理地彼此分开，并且可以彼此不直接接触。此外，第一感测电极210和第二感测电极230可以彼此电绝缘。
第一感测电极210和第二感测电极230可以位于同一水平。当第一感测电极210和第二感测电极230位于同一水平时，意味着它们位于同一层上。在一些实施例中，第一感测电极210和第二感测电极230可以在基底100的表面上被形成为直接接触基底100。
第一感测电极210和第二感测电极230可以由光学透明的光透射导电材料制成。这里，光学透明的光透射导电材料不仅表示透明的导电材料，而且还表示不透明但在用肉眼观察时被视为透明(因为导电材料的基本组成单元非常小并且以适当的密度排列)的导电材料。在一些实施例中，光透射导电材料可以是金属材料。在示例中，光透射导电材料可以是金属纳米线，金属纳米线可以是包含银(Ag)的纳米线。然而，发明构思不限于此，金属纳米线也可以包含金(Au)、铂(Pt)、镍(Ni)或硅。
在一些实施例中，第一感测电极210和第二感测电极230可以以同一工艺由相同的材料形成。
沿着第一方向(或附图中的竖直方向)彼此相邻的第一感测电极210可以通过位于基底100的表面上的第一连接件220连接。
第一连接件220可以位于基底100的表面上并在感测区域AA中。第一连接件220可以包括位于基底100的表面上的下导电图案221和位于下导电图案221上的上导电图案223。
在一些实施例中，下导电图案221可以与第一感测电极210和第二感测电极230位于同一水平。下导电图案221可以在基底100的表面上被形成为直接接触基底100。
类似于第一感测电极210和第二感测电极230，下导电图案221可以由光透射导电材料制成。光透射导电材料可以是金属材料。在示例中，光透射导电材料可以是金属纳米线。金属纳米线与上面在第一感测电极210和第二感测电极230的描述中描述的金属纳米线相同，因此省略对金属纳米线的详细描述。
在一些实施例中，下导电图案221可以由与第一感测电极210和第二感测电极230的材料相同的材料制成，并且可以与第一感测电极210和第二感测电极230在同一工艺中形成。另外，下导电图案221可以与每个第一感测电极210一体地形成。
上导电图案223可以由透明导电材料制成。在一些实施例中，透明导电材料可以是氧化锌基材料。在示例中，氧化锌基材料可以包括但不限于氧化铟锌(IZO)、铝掺杂氧化锌(AZO)和氧化镓锌(GZO)中的至少一种。上导电图案223可以由与将在后面描述的导电图案233和第二布线图案273的材料相同的材料制成。
下导电图案221和上导电图案223可以具有基本上相同的平面形状。更具体地，当在平面图中观察时，下导电图案221和上导电图案223可以具有相同的平面形状并且彼此完全叠置。
绝缘层图案240可以位于第一连接件220上以覆盖第一连接件220。绝缘层图案240可以完全覆盖第一连接件220。在一些实施例中，绝缘层图案240的至少一部分可以延伸到每个第二感测电极230上。换言之，绝缘层图案240的至少一部分可以部分地覆盖每个第二感测电极230的上部。
绝缘层图案240可以由绝缘材料制成。在一些实施例中，绝缘材料可以是有机绝缘材料。在示例性实施例中，有机绝缘材料可以是正性光敏树脂。正性光敏树脂可以包括但不限于以碱溶性树脂为例的粘结剂树脂、具有各种结构的光敏剂以及溶剂。
第二连接件250可以位于绝缘层图案240上，并且可以与第一连接件220交叉以与第一连接件220绝缘。第二连接件250可以将沿着第二方向(或图2中的水平方向)彼此相邻的第二感测电极230电连接。
第二连接件250可以由导电材料制成，并且可以具有多层结构。在示例中，第二连接件250可以包括位于每个第二感测电极230和绝缘层图案240上的第一导电图案251和位于第一导电图案251上的第二导电图案253。
第一导电图案251可以位于绝缘层图案240上，并且可以直接接触绝缘层图案240。第一导电图案251可以延伸到每个第二感测电极230上以将沿着第二方向彼此相邻的第二感测电极230电连接。
在一些实施例中，第一导电图案251可以包含具有低电阻率的导电材料。具有低电阻率的导电材料可以具有比第一感测电极210和第二感测电极230低的电阻值。在示例中，具有低电阻率的导电材料可以是钼(Mo)、银(Ag)、钛(Ti)、铜(Cu)、铝(Al)或Mo/Al/Mo。在更具体的实施例中，具有低电阻率的导电材料可以是但不限于铜(Cu)。在一些实施例中，第一导电图案251可以由与将在后面描述的第三布线图案281的材料相同的材料制成。
第二导电图案253可以位于第一导电图案251上，并且可以用作保护第一导电图案251的覆盖层。在一些实施例中，第二导电图案253可以由透明导电材料制成。在示例性实施例中，透明导电材料可以是氧化锌基材料。氧化锌基材料可以包括但不限于IZO、AZO和GZO中的至少一种。第二导电图案253可以由与将在后面描述的第四布线图案283的材料相同的材料制成。在一些实施例中，第二导电图案253可以由与将在后面描述的导电图案233的材料相同的材料制成。
第一导电图案251和第二导电图案253可以具有基本上相同的平面形状。更具体地，当在平面图中观察时，第一导电图案251和第二导电图案253可以具有相同的平面形状并且彼此完全叠置。
导电图案233可以位于每个第二感测电极230上。导电图案233可以位于每个第二感测电极230和第二连接件250之间。另外，当绝缘层图案240的一部分位于每个第二感测电极230上时，导电图案233的一部分可以位于每个第二感测电极230和绝缘层图案240之间。
在一些实施例中，导电图案233可以仅位于其中每个第二感测电极230与第二连接件250叠置的区域OA(有时称作叠置区域OA)中。换言之，导电图案233可以不位于每个第二感测电极230的未与第二连接件250叠置的区域NOA(有时称作非叠置区域NOA)上，并且可以不位于其上未置有第二连接件250的每个第一感测电极210上。当绝缘层图案240的一部分位于每个第二感测电极230上时，在其中第二连接件250电连接到每个第二感测电极230的接触区域CA中，导电图案233可以直接接触第二连接件250。
导电图案233的外侧表面233a可以与第二连接件250的外侧表面251a和253a基本上连续。当两个元件的外侧表面彼此连续时，在剖视图中观察时两个元件之间可以基本上不存在阶梯差。例如，导电图案233的外侧表面233a与第二连接件250的外侧表面251a和253a之间可以基本上不存在阶梯差。换言之，当在剖视图中观察时，导电图案233的外侧表面233a与第二连接件250的外侧表面251a和253a可以位于同一虚拟直线上。
导电图案233可以由透明导电材料制成。在示例性实施例中，透明导电材料可以是氧化锌基材料。氧化锌基材料可以包括但不限于IZO、AZO和GZO中的至少一种。如上所述，导电图案233可以由与上导电图案223的材料相同的材料制成。另外，导电图案233可以由与第二布线图案273的材料相同的材料制成。在一些实施例中，导电图案233也可以由与以上描述的第二导电图案253和将在后面描述的第四布线图案283的材料相同的材料制成。
布线270、280可以位于基底100的表面上并在外围区域NA中。布线270、280可以电连接到第一感测电极210和第二感测电极230。在一些实施例中，每条布线270、280可以直接连接到感测电极200的位于感测区域AA的最外边缘处的至少任一感测电极200。
每条布线270、280可以包括位于基底100上的内布线图案270和覆盖内布线图案270的外布线图案280。
内布线图案270可以包括位于基底100上的第一布线图案271和位于第一布线图案271上的第二布线图案273。
第一布线图案271可以由光学透明的光透射导电材料制成。在一些实施例中，光透射导电材料可以是金属材料。在示例中，光透射导电材料可以是金属纳米线，金属纳米线可以是包含Ag的纳米线。然而，发明构思不限于此，金属纳米线也可以包含Au、Pt、Ni或硅。在一些实施例中，第一布线图案271可以由与第一感测电极210和第二感测电极230的材料相同的材料制成。另外，第一布线图案271可以与第一感测电极210和第二感测电极230位于同一水平。
第二布线图案273可以位于第一布线图案271上。在一些实施例中，第二布线图案273可以由透明导电材料制成。在示例性实施例中，透明导电材料可以是氧化锌基材料。氧化锌基材料可以包括但不限于IZO、AZO和GZO中的至少一种。第二布线图案273可以由与以上描述的上导电图案223和导电图案233的材料相同的材料制成。
第一布线图案271和第二布线图案273可以具有基本上相同的平面形状。更具体地，当从平面图中观察时，第一布线图案271和第二布线图案273可以具有相同的平面形状并且彼此完全叠置。
外布线图案280可以位于内布线图案270上，并且超过内布线图案270延伸到基底100的表面上。
外布线图案280可以包括第三布线图案281和位于第三布线图案281上的第四布线图案283。
第三布线图案281可以包含具有低电阻率的导电材料。具有低电阻率的导电材料可以是Mo、Ag、Ti、Cu、Al或Mo/Al/Mo。在示例性实施例中，具有低电阻率的导电材料可以是Cu。在一些实施例中，第三布线图案281可以由与以上描述的第一导电图案251的材料相同的材料制成。
第四布线图案283可以位于第三布线图案281上。在一些实施例中，第四布线图案283可以由透明导电材料制成。在示例性实施例中，透明导电材料可以是氧化锌基材料。氧化锌基材料可以包括但不限于IZO、AZO和GZO中的至少一种。第四布线图案283可以由与以上描述的第二导电图案253的材料相同的材料制成。在一些实施例中，第四布线图案283也可以由与导电图案233和上导电图案223的材料相同的材料制成。
第三布线图案281的侧表面281a可以与第四布线图案283的侧表面283a基本上连续。换言之，第三布线图案281的侧表面281a和第四布线图案283的侧表面283a之间可以基本上不存在阶梯差。
现在将描述制造上述触摸面板10的方法。
图7至图17是示出根据实施例的制造触摸面板的方法的剖视图(更具体地，沿着图2的线III-III’截取的剖视图)，以描述根据实施例的制造触摸面板的方法的步骤。
参照图7至图17，在限定有感测区域AA和外围区域NA的基底100的表面上顺序地堆叠第一导电层51和第二导电层53，如图7所示。形成第一导电层51的材料与以上参照图1至图6描述的形成第一感测电极210和第二感测电极230的材料基本上相同。形成第二导电层53的材料与以上参照图1至图6描述的形成导电图案233的材料基本上相同。
参照图8，在第二导电层53上形成光敏层55。光敏层55可以通过涂覆液态光致抗蚀剂来形成或可由干膜光致抗蚀剂(DFR)形成。另外，光敏层55可以是其被曝光的部分能够通过显影去除的正性光敏层。然而，发明构思不限于此，光敏层55也可以是其未曝光的部分能够通过显影去除的负性光敏层。为了便于描述，作为示例，在下面将描述正型光敏层55的情况。
形成光敏层55之后，将第一掩模M1放置在基底100的表面上方。第一掩模M1可以包括对应于内布线图案270(参见图1至图6)的第一阻光掩模图案P1、对应于第一连接件220(参见图1至图6)的第二阻光掩模图案P2和对应于第一感测电极210(参见图1至图6)和第二感测电极230(参见图1至图6)的第三阻光掩模图案P3。
通过从基底100上方朝着基底100照射光L使光敏层55被光L曝光。在一些实施例中，光L可以是紫外光(UV)。光敏层55的对应于第一阻光掩模图案P1、第二阻光掩模图案P2和第三阻光掩模图案P3的部分不被光L曝光，其它部分被光L曝光。
通过显影工艺去除光敏层55的被曝光的部分。因此，如图9所示，对应于内布线图案270(参见图1至图6)的第一部分551、对应于第一连接件220(参见图1至图6)的第二部分552以及对应于第一感测电极210(参见图1至图6)和第二感测电极230(参见图1至图6)的第三部分553留在第二导电层53上。
参照图10，使用光敏层55的剩余部分(即，第一部分551、第二部分552和第三部分553)作为掩模对第二导电层53和第一导电层51依次(例如，同时地，或一次性地)进行蚀刻。因此，形成内布线图案270、第一感测电极210(参见图1至图6)、第一连接件220、第二感测电极230和导电图案233’。第一连接件220可以被构造为包括下导电图案221和位于下导电图案221上的上导电图案223。内布线图案270可以被构造为包括第一布线图案271和位于第一布线图案271上的第二布线图案273。然后去除光敏层55的剩余部分(即，第一部分551、第二部分552和第三部分553)。
参照图11，在基底100的表面上形成光敏绝缘层57，以覆盖内布线图案270、第一感测电极210(参见图1至图6)、第一连接件220、第二感测电极230和导电图案233’。光敏绝缘层57可以是有机绝缘材料。在一些实施例中，光敏绝缘层57可以是正性光敏树脂。
接着，将第二掩模M2放置在基底100的表面上方。第二掩模M2可以包括对应于绝缘层图案240(参见图1至图6)的第四阻光掩模图案P4。通过从基底100上方朝着基底100照射光L使光敏绝缘层57被光L曝光。然后，去除光敏绝缘层57的被曝光的部分。因此，如图12所示，形成绝缘层图案240(参见图1至图6)，以覆盖第一连接件220。在一些实施例中，绝缘层图案240可以延伸到每个第二感测电极230的部分上。在这种情况下，由于在绝缘层图案240之前形成导电图案233’，因此导电图案233’的一部分可以位于每个第二感测电极230和绝缘层图案240之间。
参照图13，在基底100的表面上顺序地堆叠第三导电层59和第四导电层61，以覆盖内布线图案270、第一感测电极210(参见图1至图6)、第一连接件220、第二感测电极230、导电图案233’和绝缘层图案240。形成第三导电层59的材料与以上参照图1至图6描述的形成第一导电图案251或第三布线图案281的材料基本上相同。形成第四导电层61的材料与以上参照图1至图6描述的形成第二导电图案253或第四布线图案283的材料基本上相同。
参照图14，在第四导电层61上形成光敏层63。光敏层63可以通过涂覆液态光致抗蚀剂来形成或可由DFR形成。另外，光敏层63可以是正性光敏层。然而，发明构思不限于此，光敏层63也可以是负性光敏层。为了便于描述，作为示例，下面将描述正型光敏层63的情况。
形成光敏层63之后，将第三掩模M3放置在基底100的表面上方。第三掩模M3可以包括对应于外布线图案280(参见图1至图6)的第五阻光掩模图案P5和对应于第二连接件250(参见图1至图6)的第六阻光掩模图案P6。
通过从基底100上方朝着基底100照射光L使光敏层63被光L曝光。光敏层63的对应于第五阻光掩模图案P5和第六阻光掩模图案P6的部分不被光L曝光，其它部分被光L曝光。
通过显影工艺去除光敏层63的被曝光的部分。因此，对应于外布线图案280(参见图1至图6)的第四部分631和对应于第二连接件250(参见图1至图6)的第五部分633留在第四导电层61上。
然后，使用第四部分631和第五部分633作为掩模依次(例如，同时地，或一次性地)对第四导电层61、第三导电层59和导电图案233’进行蚀刻。因此，如图16所示，形成外布线图案280、第二连接件250和导电图案233。第二连接件250可以被构造为包括第一导电图案251和位于第一导电图案251上的第二导电图案253。外布线图案280可以被构造为包括第三布线图案281和位于第三布线图案281上的第四布线图案283。
最后，去除第四部分631和第五部分633，从而制造出触摸面板，如图17所示。图17中示出的触摸面板与以上参照图1至图6描述的触摸面板10相同，因此省略对其的详细描述。
根据以上描述的发明构思，能够使用三个掩模形成布线、第一感测电极、第二感测电极、第一连接件、绝缘层图案和第二连接件。因此，能够减少在制造过程中使用的掩模的数量，从而简化了制造过程。
另外，根据发明构思，导电图案位于第一感测电极和第二感测电极中的每个上。导电图案能够防止在制造触摸面板的过程中可能对第一感测电极和第二感测电极的损坏。具体地，如果第一感测电极和第二感测电极由金属纳米线制成，则在制造过程中更容易损坏第一感测电极和第二感测电极。然而，根据发明构思，即使第一感测电极和第二感测电极由金属纳米线制成，也能够防止对第一感测电极和第二感测电极的损坏。
此外，根据发明构思，可以在形成第二连接件的过程中对位于第一感测电极和第二感测电极中的每个上的导电图案进行蚀刻。因此，能够省略用于去除导电图案的掩模。
实施例提供以下特征中的至少一种。
根据发明构思，能够提供一种以更简化的工艺制造触摸面板的方法和使用该方法制造的触摸面板。
然而，发明构思的效果不局限于在此阐述的效果。对于本申请所属领域的普通技术人员而言，通过参照权利要求，发明构思的以上和其它效果将变得更加明显。
虽然已经参照发明构思的示例性实施例具体地示出并描述了发明构思，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离由权利要求限定的发明构思的精神和范围的情况下，在此可以做出形式和细节上的各种改变。应该仅以描述性意义来考虑示例性实施例，而不是出于限制的目的。

Claims (19)

1.一种触摸面板，其特征在于，所述触摸面板包括：
基底，包括感测区域和外围区域；
多个第一感测电极和多个第二感测电极，所述多个第一感测电极位于所述基底的表面上并且沿着第一方向布置在所述感测区域中，所述多个第二感测电极沿着与所述第一方向交叉的第二方向布置；
第一连接件，位于所述基底的所述表面上并且沿所述第一方向连接所述多个第一感测电极；
绝缘层图案，位于所述第一连接件上，并且所述绝缘层图案的一部分位于所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极上；
第二连接件，位于所述绝缘层图案上，与所述第一连接件交叉以与所述第一连接件绝缘，并且沿着所述第二方向连接所述多个第二感测电极；
多条布线，位于所述基底的所述表面上，位于所述外围区域中，并且电连接到所述多个第一感测电极或所述多个第二感测电极；以及
导电图案，位于所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极和所述第二连接件之间，
其中，所述导电图案的一部分设置在所述绝缘层图案和所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极之间，所述导电图案的所述一部分的上表面直接接触所述绝缘层图案的所述一部分。
2.根据权利要求1所述的触摸面板，其特征在于，所述导电图案仅位于所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极与所述第二连接件叠置的区域中。
3.根据权利要求2所述的触摸面板，其特征在于，所述第二连接件的侧表面与所述导电图案的侧表面连续。
4.根据权利要求1所述的触摸面板，其特征在于，所述第二连接件包括：
第一导电图案，位于所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极和所述绝缘层图案上；以及
第二导电图案，位于所述第一导电图案上，
其中，所述第一导电图案和所述第二导电图案具有相同的平面形状。
5.根据权利要求4所述的触摸面板，其特征在于，所述导电图案和所述第二导电图案包括氧化锌基材料。
6.根据权利要求5所述的触摸面板，其特征在于，所述氧化锌基材料包括氧化铟锌、铝掺杂氧化锌和氧化镓锌中的至少一种。
7.根据权利要求5所述的触摸面板，其特征在于，所述第一导电图案包括铜。
8.根据权利要求5所述的触摸面板，其特征在于，所述多个第一感测电极和所述多个第二感测电极包括金属纳米线。
9.根据权利要求4所述的触摸面板，其特征在于，所述导电图案和所述第二导电图案包括相同的材料。
10.根据权利要求4所述的触摸面板，其特征在于，所述第一导电图案直接接触所述绝缘层图案。
11.根据权利要求1所述的触摸面板，其特征在于，所述第一连接件包括：
下导电图案，位于所述基底的所述表面上；以及
上导电图案，位于所述下导电图案上，
其中，所述上导电图案和所述导电图案由相同的材料制成。
12.根据权利要求1所述的触摸面板，其特征在于，所述多条布线中的每条布线包括：
第一布线图案，位于所述基底上；
第二布线图案，位于所述第一布线图案上；
第三布线图案，位于所述基底和所述第二布线图案上并且覆盖所述第一布线图案和所述第二布线图案；以及
第四布线图案，位于所述第三布线图案上，
其中，所述第一布线图案由与所述多个第一感测电极和所述多个第二感测电极的材料相同的材料制成，所述第二布线图案由与所述导电图案的材料相同的材料制成。
13.根据权利要求12所述的触摸面板，其特征在于，所述第一布线图案和所述第二布线图案具有相同的平面形状，所述第三布线图案和所述第四布线图案具有相同的平面形状。
14.一种制造触摸面板的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：
在基底的表面上形成第一导电层；
在所述第一导电层上形成第二导电层；
通过对所述第一导电层和所述第二导电层进行图案化来形成沿着第一方向布置的多个第一感测电极、沿着与所述第一方向交叉的第二方向布置的多个第二感测电极、位于所述多个第一感测电极中的每个第一感测电极和所述多个第二感测电极中的每个第二感测电极上的导电图案、多个布线图案以及沿着所述第一方向连接所述多个第一感测电极的第一连接件；
形成覆盖所述第一连接件的绝缘层图案；
在所述基底的所述表面上形成覆盖所述多个第一感测电极、所述多个第二感测电极、所述导电图案、所述绝缘层图案和所述多个布线图案的第三导电层；
在所述第三导电层上形成第四导电层；以及
通过对所述第三导电层、所述第四导电层和所述导电图案进行图案化来形成多条布线和与所述第一连接件交叉并且沿着所述第二方向连接所述多个第二感测电极的第二连接件。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，形成所述多个第一感测电极、所述多个第二感测电极、所述导电图案以及所述第一连接件和所述多个布线图案的步骤包括：
在所述第二导电层上形成光敏层；
使用具有对应于所述多个第一感测电极、所述多个第二感测电极以及所述第一连接件和所述多个布线图案的掩模图案的掩模对所述光敏层进行曝光和显影；以及
使用剩余的光敏层作为掩模同时对所述第一导电层和所述第二导电层进行图案化。
16.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，形成所述第二连接件和所述多条布线的步骤包括：
在所述第四导电层上形成光敏层；
使用具有对应于所述第二连接件和所述多条布线的掩模图案的掩模对所述光敏层进行曝光和显影；以及
使用剩余的光敏层作为掩模同时对所述第三导电层、所述第四导电层和所述导电图案进行图案化。
17.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述第二导电层和所述第四导电层包括氧化锌基材料。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述第三导电层包括Cu。
19.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述第一导电层包括金属纳米线。
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