CN105593402A - 溅射装置以及溅射装置的膜卷的更换方法 - Google Patents
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Abstract
对于用于在膜上连续地形成薄膜的溅射装置而言,在更换膜卷时,不将成膜室向大气开放,而且不使真空泵停止。供给侧膜卷室(11)具有供给侧真空泵(17)和供给侧主阀(34)。收纳侧膜卷室(13)具有收纳侧真空泵(28)和收纳侧主阀(35)。在供给侧膜卷室(11)和成膜室(12)之间设置有供给侧加载互锁阀(30)。在收纳侧膜卷室(13)和成膜室(12)之间设置有收纳侧加载互锁阀(31)。在更换供给侧膜卷(36)之际,将供给侧主阀(34)和供给侧加载互锁阀(30)关闭。在更换收纳侧膜卷(37)之际,将收纳侧主阀(35)和收纳侧加载互锁阀(31)关闭。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于在膜上连续形成薄膜的溅射装置以及这样的溅射装置的膜卷的更换方法。
背景技术
作为在膜上连续形成薄膜的方法而广泛使用溅射法。在膜的连续溅射装置中,成膜辊和靶材隔开规定的间隔地相对。在低压氩气等溅射气体中,将卷绕有膜的成膜辊作为阳极电位,将靶材作为阴极电位。通过向成膜辊和靶材之间施加电压而产生溅射气体的等离子体。等离子体中的溅射气体离子与靶材相碰撞而轰击出靶材的构成物质。被轰击出的靶材的构成物质堆积在膜上而形成薄膜。
在为长条膜的情况下,不可能一次性地在整个膜上形成溅射膜。因此,将从供给侧的膜卷放出的膜卷绕在成膜辊(筒辊)上不到一圈,使成膜辊以恒定的速度旋转而使膜连续地行进。然后,在膜的与靶材相对的部分上进行薄膜的成膜。将成膜结束后的膜卷取在收纳侧的卷芯。这样的溅射装置被称为卷对卷溅射装置、连续式溅射装置或者卷取式溅射装置等。
在初期的卷对卷溅射装置中,并未划分出供给侧的膜卷室、成膜室以及收纳侧的膜卷室,而只是一个真空槽。当一根膜卷的溅射结束时,敞开真空槽而对供给侧的膜卷和收纳侧的膜卷进行了更换。然后,在更换了膜卷之后,关闭真空槽并实施再次排气,一获得充分的真空度,就实施接下来的膜卷的溅射。在该方法中,每次更换膜卷时必须将真空槽向大气开放。因此,大气中的水分容易附着在真空槽内部,再次的排气需要很长时间。因此,卷对卷溅射装置的工作效率低。如所熟知的那样,真空槽内的水分的排出速度比其他气体(氮气、氧气)的排气速度慢,在提高真空度方面成为最大的障碍。因此,必须极力避免真空槽向大气开放。
为了解决该问题,例如在专利文献1(日本特开2003-183813)中,将真空槽划分为供给侧的膜卷室、成膜室以及收纳侧的膜卷室,在各室之间设置有真空阀。在更换供给侧的膜卷和收纳侧的膜卷之际,只要关闭各室之间的真空阀,则即使将供给侧的膜卷室和收纳侧的膜卷室开放,也能够维持成膜室的真空。在成膜室中设置有普通的真空泵,但是在供给侧的膜卷室和收纳侧的膜卷室中也能够分别设置专用的真空泵。在更换了供给侧的膜卷或者收纳侧的膜卷之后,利用各个真空泵对供给侧的膜卷室或者收纳侧的膜卷室进行排气。当供给侧的膜卷室和收纳侧的膜卷室的真空度与成膜室的真空度处于同一程度时,将供给侧的膜卷室和成膜室之间的真空阀以及成膜室和收纳侧的膜卷室之间的真空阀打开,并且实施之后的溅射。通过采用该方法,即使不进行成膜室的大气开放,也能够更换供给侧的膜卷和收纳侧的膜卷。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:(日本)特开2003-183813号公报
发明内容
发明要解决的问题
通常,在溅射装置中,为了避免油造成的污染(コンタミネーション),不使用油旋转泵、油扩散泵。取而代之,使用涡流泵、涡轮分子泵那样的驱动泵(无油泵)。尤其是,因为涡轮分子泵的排气速度快而能够获得高真空,所以适用于溅射装置,但是无法从大气压进行排气。因此,广泛使用如下结构:利用涡流泵等机械驱动泵进行从大气压(大约10[5]Pa)到1Pa左右的排气,利用涡轮分子泵进行从1Pa左右到10[-5]Pa左右的排气。此外,在本说明书中,10X表示为10[X]。
涡轮分子泵通过使叶片进行超高速旋转(例如每分钟10万转)来进行排气。在大型的涡轮分子泵中,使停止状态的叶片加速至超高速旋转的过程需要很长时间(例如0.5小时)。此外,使超高速旋转的叶片停止也需要很长时间(例如0.5小时)。这样一来,对涡轮分子泵的ON/OFF操作将会浪费时间,因此,希望涡轮分子泵始终处于运转(ON)状态。
此外,希望真空泵不向大气开放。当使真空泵向大气开放时,水分将会进入真空泵的内部,从而使真空泵的排气性能劣化。或者,有时会引发真空泵的故障。
在专利文献1中,对真空泵的种类、安装结构没有进行说明,但在专利文献1的图1中,各个真空泵分别与供给侧的膜卷室和收纳侧的膜卷室直接连接。因此,在专利文献1中,当将供给侧的膜卷室或者收纳侧的膜卷室向大气开放时,也同时将真空泵向大气开放。因此,在将供给侧的膜卷室或者收纳侧的膜卷室向大气开放之前,需要使真空泵停止运转。而且,在对供给侧的膜卷室或者收纳侧的膜卷室进行排气之前,需要使真空泵启动。
在专利文献1的溅射装置的结构中,存在如下问题:在更换供给侧的膜卷或者收纳侧的膜卷之际,除了实际的更换以外,在真空泵的停止和启动过程中花费时间。而且,存在如下问题:因为将真空泵向大气开放,所以真空泵的排气性能劣化或者真空泵发生故障。
近年来,膜卷发生了宽幅化、长条化,并且从膜卷排出的排放气体(主要是水分)增加了。当未充分进行膜卷室的排气时,成膜室的溅射气体与膜卷的排放气体混合,导致溅射膜质量下降。为了防止这样的情况,利用排气速度快、可获得较高的真空度的涡轮分子泵对膜卷室进行排气是有效的。但是,因为涡轮分子泵在启动、停止的过程中需要花费时间,为了避免对涡轮分子泵进行ON/OFF操作,希望一直运转(ON)。
本发明的目的如下所示。
(1)提供一种在使供给侧膜卷室向大气开放且更换供给侧膜卷之际不需要使供给侧真空泵停止的溅射装置。
(2)提供一种在使收纳侧膜卷室向大气开放且更换收纳侧膜卷之际不需要使收纳侧真空泵停止的溅射装置。
(3)提供一种在更换供给侧膜卷之际不需要使供给侧真空泵停止的膜卷的更换方法。
(4)提供一种在更换收纳侧膜卷之际不需要使收纳侧真空泵停止的膜卷的更换方法。
用于解决问题的方案
(1)本发明的溅射装置具有以下器件。具有膜供给机构的供给侧膜卷室。对供给侧膜卷室进行排气的供给侧真空泵。能够将供给侧膜卷室和供给侧真空泵之间气密地密封的供给侧主阀。具有膜收纳机构的收纳侧膜卷室。对收纳侧膜卷室进行排气的收纳侧真空泵。能够将收纳侧膜卷室和收纳侧真空泵之间气密地密封的收纳侧主阀。具有成膜辊、与成膜辊相对的靶材以及支承靶材的阴极的成膜室。设置在供给侧膜卷室和成膜室之间的供给侧加载互锁阀。设置在收纳侧膜卷室和成膜室之间的收纳侧加载互锁阀。
(2)在本发明的溅射装置中,供给侧真空泵和收纳侧真空泵是涡轮分子泵。
(3)本发明的溅射装置的膜卷的更换方法包含以下工序。
(a)在供给侧真空泵运转(ON)了的状态下,关闭供给侧膜卷室和供给侧真空泵之间的供给侧主阀,从而将供给侧膜卷室和供给侧真空泵之间气密地密封、
(b)将供给侧的膜的终端残留在供给侧膜卷室,并且在有膜通过了供给侧膜卷室和成膜室之间的供给侧加载互锁阀的状态下,将该供给侧加载互锁阀关闭,从而将供给侧膜卷室和成膜室之间气密地密封、
(c)将供给侧膜卷室向大气开放、
(d)更换供给侧膜卷,并且将新膜的顶端与膜的终端相结合、
(e)打开供给侧主阀,利用供给侧真空泵对供给侧膜卷室进行排气、
(f)打开供给侧加载互锁阀,以解除供给侧膜卷室和成膜室之间的气密密封。之后,能够实施通常的溅射。
(4)本发明的溅射装置的膜卷的更换方法包含以下工序。
(a)在收纳侧真空泵运转(ON)了的状态下,关闭收纳侧膜卷室和收纳侧真空泵之间的收纳侧主阀,从而将收纳侧膜卷室和收纳侧真空泵之间气密地密封、
(b)在有膜通过了收纳侧膜卷室和成膜室之间的收纳侧加载互锁阀的状态下,将该收纳侧加载互锁阀关闭,从而将收纳侧膜卷室和成膜室之间气密地密封、
(c)将收纳侧膜卷室向大气开放、
(d)取出收纳侧膜卷,将膜与膜收纳机构相结合、
(e)打开收纳侧主阀,利用收纳侧真空泵对收纳侧膜卷室进行排气、
(f)打开收纳侧加载互锁阀,以解除收纳侧膜卷室和成膜室之间的气密密封。之后,能够实施通常的溅射。
发明的效果
利用本发明的溅射装置能够获得以下效果。
(1)在供给侧膜卷室和成膜室之间具有供给侧加载互锁阀。关闭供给侧加载互锁阀,能够将成膜室气密地密封。只要关闭供给侧加载互锁阀,则即使将供给侧膜卷室向大气开放,成膜室的真空度也不降低。
(2)在收纳侧膜卷室和成膜室之间具有收纳侧加载互锁阀。关闭收纳侧加载互锁阀,能够将成膜室气密地密封。只要关闭收纳侧加载互锁阀,则即使将收纳侧膜卷室向大气开放,成膜室的真空度也不降低。
(3)在供给侧膜卷室和供给侧真空泵之间具有供给侧主阀。只要关闭供给侧主阀,则即使将供给侧膜卷室向大气开放,因为供给侧真空泵未向大气开放,所以也无需使供给侧真空泵停止(OFF)。
(4)在收纳侧膜卷室和收纳侧真空泵之间具有收纳侧主阀。只要关闭收纳侧主阀,则即使将收纳侧膜卷室向大气开放,因为收纳侧真空泵未向大气开放,所以也无需使收纳侧真空泵停止(OFF)。
利用本发明的溅射装置的膜卷的更换方法能够获得以下效果。
(1)只要关闭供给侧膜卷室和成膜室之间的供给侧加载互锁阀,则无需使成膜室向大气开放,就能够更换供给侧膜卷。因为未使成膜室向大气开放,所以能够避免伴随着成膜室的排气而产生的时间损失。此外,能够避免成膜室的污染。
(2)只要关闭收纳侧膜卷室和成膜室之间的收纳侧加载互锁阀,则无需使成膜室向大气开放,就能够更换收纳侧膜卷。因为未使成膜室向大气开放,所以能够避免伴随着成膜室的排气而产生的时间损失。此外,能够避免成膜室的污染。
(3)在更换供给侧膜卷之际,因为关闭供给侧主阀,所以无需使供给侧真空泵停止(OFF)。因为不使供给侧真空泵停止,所以能够避免供给侧真空泵的停止及启动所导致的时间损失。此外,因为供给侧真空泵未向大气开放,所以能够防止性能劣化、故障。
(4)在更换收纳侧膜卷之际,因为关闭收纳侧主阀,所以无需使收纳侧真空泵停止(OFF)。因为不使收纳侧真空泵停止,所以能够避免收纳侧真空泵的停止及启动导致的时间损失。此外,因为收纳侧真空泵未向大气开放,所以能够防止性能劣化、故障。
附图说明
图1是本发明的溅射装置的结构图。
具体实施方式
图1是本发明的溅射装置10的一例的结构图。本发明的溅射装置10大致划分为供给侧膜卷室11、成膜室12以及收纳侧膜卷室13。供给侧膜卷室11具有膜供给机构14、导辊15。供给侧真空泵17借助供给侧主阀34与供给侧膜卷室11相结合。成膜室12具有成膜辊18、导辊19、阴极20、靶材21以及隔壁22。成膜室真空泵24与成膜室12相结合。收纳侧膜卷室13具有膜收纳机构25、导辊26。收纳侧真空泵28借助收纳侧主阀35与收纳侧膜卷室13相结合。
膜29自供给侧膜卷36放出且被导辊15、19引导,并且卷绕在成膜辊18上不到一周,之后再次被导辊19、26引导而卷取在膜收纳机构25上。靶材21通常螺钉固定于阴极20,所以靶材21和阴极20是同电位。通常、靶材21具有多根(在图1中为三根)、以包围成膜辊18的方式设置。靶材21的根数最少可以是一根,此外,并未限制最大根数。各靶材21与成膜辊18隔开规定的距离地相对。各靶材21的表面与成膜辊18的切线平行。将溅射薄膜附着于在成膜辊18上连续行进的膜29的与各靶材21相对的位置。
在本发明的溅射装置10中,在低压氩气等溅射气体中,将成膜辊18作为阳极电位,将靶材21作为阴极电位,向成膜辊18和靶材21之间施加电压。由此,在膜29和靶材21之间产生溅射气体的等离子体。等离子体中的溅射气体离子与靶材21相碰撞而轰击出靶材21的构成物质。靶材21的被轰击出的构成物质堆积在膜29上而形成薄膜。
作为膜29,通常使用由聚对苯二甲酸乙酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚乙烯等独立聚合物、共聚物构成的透明膜。膜29可以是单层膜,也可以是层叠膜。膜29的厚度并未特别限定,通常是6μm~250μm。
例如作为透明导电膜,广泛使用铟锡氧化物(Indium-Tin-Oxide:ITO)的薄膜。但是,本发明的溅射装置10所使用的靶材21的材料并未特别限定。
根据靶材21,存在薄膜的材料不同、溅射气体也不同的情况。此外,即使是同一溅射气体,压力也不同。例如,在形成铜薄膜的情况下的溅射气体是氩气,而在对铟锡氧化物(ITO)进行成膜的情况下的溅射气体是氩气和氧气的混合气体。这样一来,在气体的种类、压力不同的情况下,利用隔壁22划分成膜室12的内部。
在本发明的溅射装置10中,在供给侧膜卷室11和成膜室12之间设置有供给侧加载互锁阀30。此外,在成膜室12和收纳侧膜卷室13之间设置有收纳侧加载互锁阀31。供给侧加载互锁阀30在内部例如具有由相对的两根柔软的辊构成的供给侧辊式闸门32。供给侧辊式闸门32未必一定是辊,只要是能够在夹住膜的状态下保持气密的形状的柔软的构件,形状就不用特别限定。在将供给侧膜卷室11向大气开放之际,使供给侧辊式闸门32的两根辊紧密接触,从而关闭供给侧加载互锁阀30。由此,将供给侧膜卷室11和成膜室12之间气密地密封,即使将供给侧膜卷室11向大气开放,也能够将成膜室12维持为真空。此时,在使膜29夹在供给侧辊式闸门32的两根辊之间的状态下,能够实现对供给侧加载互锁阀30的气密密封。收纳侧加载互锁阀31在内部具有由相对的两根柔软的辊构成的收纳侧辊式闸门33。与供给侧加载互锁阀30一样,在有膜29也通过了收纳侧加载互锁阀31的状态下,能够将成膜室12气密地密封。
在本发明的溅射装置10中,在为了进行靶材21的更换等而将成膜室12向大气开放的情况下,采取以下步骤。首先,将供给侧加载互锁阀30和收纳侧加载互锁阀31关闭。接着,解除成膜室12的密闭而成为大气压(向大气开放)。接着,进行靶材21的更换等。接着,利用未图示的低真空用干泵(涡流泵等)对成膜室12进行从大气压(大约10[5]Pa)到1Pa左右的排气。接下来,利用成膜室真空泵24(涡轮分子泵等)进行从1Pa左右到10[-5]Pa左右的排气。接下来,以能够使膜29通过的方式打开供给侧加载互锁阀30和收纳侧加载互锁阀31。接下来,导入溅射气体,减缓成膜室真空泵24的排气速度,保持溅射气体的压力恒定。通过以上步骤,做好进行溅射的准备。
在膜29在供给侧膜卷室11和成膜室12之间通过的状态下,能够将供给侧加载互锁阀30气密地密封,这在更换供给侧膜卷36时非常有利。其理由是,接下来那样的供给侧膜卷36的更换方法成为可能。
首先,将供给侧膜卷36的膜29的终端残留在供给侧膜卷室11内,在膜29通过了供给侧加载互锁阀30的状态下,关闭供给侧辊式闸门32,从而将供给侧膜卷室11和成膜室12之间气密地密封。接着,关闭供给侧主阀34。接着,解除供给侧膜卷室11的密闭而成为大气压。接下来,更换供给侧膜卷36,并且将新的供给侧膜卷36的膜29的顶端与残留的膜29的终端相结合。接着,打开供给侧主阀34而对供给侧膜卷室11进行排气,使得供给侧膜卷室11和成膜室12的真空度达到同一程度。接下来,打开供给侧辊式闸门32,使得膜29能够自由通过供给侧加载互锁阀30。接着,当将膜29卷取在膜收纳机构25上时,供给侧膜卷室11、成膜室12以及收纳侧膜卷室13的膜29将会自动地更换为新的供给侧膜卷36的膜29。
将膜29挂在成膜辊18以及多个导辊15、19、26上的工作非常消耗时间。而且,为此必须将成膜室12向大气开放。在该情况下,使成膜室12恢复到原来的真空度并再次进行溅射为止的过程非常消耗时间。当无法实现利用更换前的膜29替换为新的膜29的方法时,每次更换供给侧膜卷36时都需要将膜29重新挂在成膜辊18以及多个导辊15、19、26上。但是,在本发明的溅射装置10中,能够利用更换前的膜29将新的膜29自动地挂在成膜辊18以及多个导辊15、19、26上。因此,在供给侧膜卷36的更换过程中不费时费力。此外,无需将成膜室12向大气开放。
在本发明的溅射装置10中,使供给侧真空泵17借助供给侧主阀34与供给侧膜卷室11相结合。供给侧真空泵17例如是涡轮分子泵。供给侧主阀34例如是闸阀。当关闭供给侧主阀34时,即使将供给侧膜卷室11向大气开放,也不影响供给侧真空泵17内的真空度。
供给侧膜卷36的更换通过以下工序来实施。供给侧真空泵17一直处于运转(ON)状态。也就是说,在供给侧真空泵17为涡轮分子泵的情况下,叶片一直超高速旋转。
首先,关闭供给侧主阀34。由此,将供给侧真空泵17的吸入口气密地密封。接着,在将供给侧膜卷36的膜29的终端残留在供给侧膜卷室11的状态下,关闭供给侧辊式闸门32,从而将供给侧膜卷室11和成膜室12之间气密地密封。此时,膜29处于被供给侧辊式闸门32夹住的状态。接着,将供给侧膜卷室11向大气开放。接着,更换供给侧膜卷36之后,将新的供给侧膜卷36的膜29的顶端与残留的膜29的终端相结合。接着,利用未图示的低真空泵对供给侧膜卷室11进行排气直至真空度达到1Pa左右为止。接着,打开供给侧主阀34,利用供给侧真空泵17将供给侧膜卷室11排气到10[-5]Pa左右。由此,使得供给侧膜卷室11和成膜室12的真空度达到同一程度。接着,打开供给侧辊式闸门32,使得膜29能够自由通过供给侧加载互锁阀30。当将膜29卷取在膜收纳机构25上时,供给侧膜卷室11、成膜室12、收纳侧膜卷室13的膜29将会自动地更换为新的供给侧膜卷36的膜29。之后,能够按照通常的做法实施溅射。
收纳侧膜卷37的更换通过以下工序实施。收纳侧真空泵28一直运转(ON)。首先,关闭收纳侧主阀35。由此,将收纳侧真空泵28的吸入口气密地密封。接下来,将收纳侧加载互锁阀31的收纳侧辊式闸门33关闭,从而将收纳侧膜卷室13和成膜室12之间气密地密封。此时,膜29处于被收纳侧加载互锁阀31的收纳侧辊式闸门33夹住的状态。接着,将收纳侧膜卷室13向大气开放。接着,将收纳侧膜卷室13内的膜29切断。接着,取出收纳侧膜卷37。接下来,将膜29的顶端与膜收纳机构25相结合。接着,利用未图示的低真空泵对收纳侧膜卷室13进行排气直至收纳侧膜卷室13的真空度达到1Pa左右。接着,打开收纳侧主阀35,利用收纳侧真空泵28将收纳侧膜卷室13排气到10[-5]Pa左右。由此,使得收纳侧膜卷室13和成膜室12的真空度为同一程度。接着,将收纳侧膜卷室13和成膜室12之间的收纳侧加载互锁阀31的收纳侧辊式闸门33打开,使得膜29能够自由地通过收纳侧加载互锁阀31。之后,能够按照通常的做法实施溅射。此外,当同时进行供给侧膜卷36的更换和收纳侧膜卷37的更换时,因为停止时间较短就足够,所以生产效率下降得较少。
产业上的可利用性
本发明的溅射装置和溅射装置的膜卷的更换方法在对长条状的膜高效地溅射各种薄膜的方面是有用的。
Claims (4)
1.一种溅射装置,其特征在于,该溅射装置具有:
供给侧膜卷室,其具有膜供给机构;
供给侧真空泵,其用于对所述供给侧膜卷室进行排气;
供给侧主阀,其能够将所述供给侧膜卷室和所述供给侧真空泵之间气密地密封;
收纳侧膜卷室,其具有膜收纳机构;
收纳侧真空泵,其用于对所述收纳侧膜卷室进行排气;
收纳侧主阀,其能够将所述收纳侧膜卷室和所述收纳侧真空泵之间气密地密封;
成膜室,其具有成膜辊、与所述成膜辊相对的靶材以及支承所述靶材的阴极;
供给侧加载互锁阀,其设置在所述供给侧膜卷室和所述成膜室之间;
收纳侧加载互锁阀,其设置在所述收纳侧膜卷室和所述成膜室之间。
2.根据权利要求1所述的溅射装置,其特征在于,
所述供给侧真空泵和所述收纳侧真空泵是涡轮分子泵。
3.一种溅射装置的膜卷的更换方法,其特征在于,该更换方法具有:
在供给侧真空泵处于运转的状态下,关闭供给侧膜卷室和所述供给侧真空泵之间的供给侧主阀,从而将所述供给侧膜卷室和所述供给侧真空泵之间气密地密封的工序;
将供给侧的膜的终端残留在所述供给侧膜卷室,并且在有所述膜通过所述供给侧膜卷室和成膜室之间的供给侧加载互锁阀的状态下将该供给侧加载互锁阀关闭,从而将所述供给侧膜卷室和所述成膜室之间气密地密封的工序;
将所述供给侧膜卷室向大气开放的工序;
更换供给侧膜卷,并且将所述膜的终端与新膜的顶端相结合的工序;
打开所述供给侧主阀,利用所述供给侧真空泵对所述供给侧膜卷室进行排气的工序;
打开所述供给侧加载互锁阀,以解除所述供给侧膜卷室和所述成膜室之间的气密密封的工序。
4.一种溅射装置的膜卷的更换方法,其特征在于,该更换方法具有:
在收纳侧真空泵处于运转的状态下,关闭收纳侧膜卷室和所述收纳侧真空泵之间的收纳侧主阀,从而将所述收纳侧膜卷室和所述收纳侧真空泵之间气密地密封的工序;
在有膜通过所述收纳侧膜卷室和成膜室之间的收纳侧加载互锁阀的状态下将该收纳侧加载互锁阀关闭,从而将所述收纳侧膜卷室和所述成膜室之间气密地密封的工序;
将所述收纳侧膜卷室向大气开放的工序;
取出收纳侧膜卷,将所述膜与膜收纳机构相结合的工序;
打开所述收纳侧主阀,利用所述收纳侧真空泵对所述收纳侧膜卷室进行排气的工序;
打开所述收纳侧加载互锁阀,以解除所述收纳侧膜卷室和所述成膜室之间的气密密封的工序。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113416939A (zh) * | 2021-06-29 | 2021-09-21 | 辽宁分子流科技有限公司 | 一种用于卷对卷工艺过程的卷辊更换方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017182062A (ja) * | 2016-03-25 | 2017-10-05 | 日東電工株式会社 | 調光フィルムの製造方法 |
KR20180066320A (ko) | 2016-12-07 | 2018-06-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
JP6755200B2 (ja) * | 2017-01-30 | 2020-09-16 | 株式会社カネカ | 製品ロールの製造方法および製品ロールの製造装置 |
KR102109251B1 (ko) * | 2018-05-04 | 2020-05-11 | 주식회사 야스 | 척을 적용한 롤투롤 시스템 |
CN110331376A (zh) * | 2019-08-21 | 2019-10-15 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 一种带隔膜阀的t型卷绕真空镀膜设备 |
JP6955130B1 (ja) | 2020-02-03 | 2021-10-27 | 日東電工株式会社 | 透明導電層、透明導電性シート、タッチセンサ、調光素子、光電変換素子、熱線制御部材、アンテナ、電磁波シールド部材および画像表示装置 |
US20220112594A1 (en) * | 2020-10-14 | 2022-04-14 | Applied Materials, Inc. | Device for sealing a vacuum chamber, vacuum processing system, and method of monitoring a load lock seal |
KR20220124343A (ko) * | 2021-03-03 | 2022-09-14 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 롤투롤 상태 전극의 진공건조장치 및 그 진공건조방법 |
CN113416941B (zh) * | 2021-06-29 | 2023-06-02 | 辽宁分子流科技有限公司 | 一种用于卷对卷设备的卷辊更换装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5296036A (en) * | 1990-11-29 | 1994-03-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus for continuously forming a large area functional deposit film including microwave transmissive member transfer mean |
JP2003183813A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-07-03 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性フィルムの製造装置 |
JP2008050638A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Toray Advanced Film Co Ltd | 金属化プラスチックフィルム基材の製造方法および真空成膜装置 |
JP2009076690A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 薄膜製造装置及び薄膜製造方法 |
CN102758190A (zh) * | 2011-04-28 | 2012-10-31 | 日东电工株式会社 | 真空成膜方法和由该方法得到的层积体 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04326943A (ja) * | 1991-04-25 | 1992-11-16 | Hitachi Ltd | 真空排気システム及び排気方法 |
JPH09209148A (ja) * | 1996-02-06 | 1997-08-12 | Canon Inc | 製造工程管理装置及びその方法、及び連続体 |
JP2005158926A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Canon Inc | ロードロック装置および方法 |
JP2011127183A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Canon Anelva Corp | ゲートバルブ、それを具備したフィルム製造装置、及び、それを用いたフィルム製造方法 |
JP5812838B2 (ja) * | 2011-12-12 | 2015-11-17 | 株式会社荏原製作所 | 真空容器の自動開閉機構 |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5296036A (en) * | 1990-11-29 | 1994-03-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus for continuously forming a large area functional deposit film including microwave transmissive member transfer mean |
JP2003183813A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-07-03 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性フィルムの製造装置 |
JP2008050638A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Toray Advanced Film Co Ltd | 金属化プラスチックフィルム基材の製造方法および真空成膜装置 |
JP2009076690A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 薄膜製造装置及び薄膜製造方法 |
CN102758190A (zh) * | 2011-04-28 | 2012-10-31 | 日东电工株式会社 | 真空成膜方法和由该方法得到的层积体 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
杨乃恒等: "如何选择和使用涡轮分子泵", 《真空》 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113416939A (zh) * | 2021-06-29 | 2021-09-21 | 辽宁分子流科技有限公司 | 一种用于卷对卷工艺过程的卷辊更换方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160293383A1 (en) | 2016-10-06 |
DE112014004676T5 (de) | 2016-07-21 |
TW201527567A (zh) | 2015-07-16 |
TWI519662B (zh) | 2016-02-01 |
KR20160070038A (ko) | 2016-06-17 |
JP2015074810A (ja) | 2015-04-20 |
WO2015053391A1 (ja) | 2015-04-16 |
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