CN212713743U - 一种溅射镀膜生产系统 - Google Patents
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Abstract
为了解决如何稳定控制镀膜设备的真空度的问题，本实用新型提出一种溅射镀膜生产系统，第一预真空室201和第三过渡室207先用滑阀泵209进行抽真空处理，随后启动第四罗茨泵208进行更高真空度的抽取，基片架随着工作轨道218依次通过第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，进行基片的镀膜，随后从卸料口219出来进入卸料区4后随着传输轨道3进入进料区1进行上料后进入工作区20的进料口220进行下一次的镀膜，溅射镀膜生产系统的结构简单，自动化程度高，保证了镀膜设备的真空度的的稳定性。
Description
技术领域
本实用新型涉及溅射镀膜技术领域，较为具体的，涉及到一种溅射镀膜生产系统。
背景技术
目前，真空磁控溅射镀膜机是对金属、玻璃和塑料表面进行镀膜的专用设备，其可适用于镀制耐磨损的涂层。现有技术的真空磁控溅射镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室的进料口220、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的磁控溅射装置，可利用物理气相沉积(以下简称“PVD”)技术在工件表面沉积一层几个微米薄的金属层。随着生活水平的提高，人们对于具有更加广泛用途和性能的涂层需求也越来越大。
目前的镀膜设备采用双面镀膜的方式，设备有正反两面区分，设备两边同时装有靶材217，且装载基片架也分正反两面，在镀膜过程中，在基片架的正反面分别转载基片，镀膜时装有基片的基片架在真空室内行走，基片架经过靶区通过磁控溅射的方式进行镀膜，这种方式对抽真空的要求会很高，真空镀膜时，真空度一般在10的负3次方左右，真空度大小是真空镀膜时必须严格要求的指标之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性、牢固度有直接的关系，如何稳定控制镀膜设备的真空度成了当下需要解决的问题。
实用新型内容
有鉴于此，为了解决如何稳定控制镀膜设备的真空度的问题，本实用新型提出一种溅射镀膜生产系统，第一预真空室201和第三过渡室207先用滑阀泵209进行抽真空处理，随后启动第四罗茨泵208进行更高真空度的抽取，基片架随着工作轨道218依次通过第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，进行基片的镀膜，随后从卸料口219出来进入卸料区4后随着传输轨道3进入进料区1进行上料后进入工作区20的进料口220进行下一次的镀膜，溅射镀膜生产系统的结构简单，自动化程度高，保证了镀膜设备的真空度的的稳定性。
一种溅射镀膜生产系统，其特征在于：包括依次连通的进料区1、工作区20和卸料区4，工作区20依据镀膜工艺流程方向依次包括第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，工作区20各室均具备所需真空环境，所述各室通过密封装置分隔，第一预真空室201和第三过渡室207外分别依次连接第四罗茨泵208和滑阀泵209，通过第四罗茨泵208和滑阀泵209对第一预真空室201和第三过渡室207进行抽真空处理，第二预真空室202外连接有第一扩散泵221，第一过渡室204、第一镀膜室203、第二过渡室206和第二镀膜室205外均分别连接两个第二扩散泵210，第一扩散泵221的自由端依次连接有第一罗茨泵211和第一旋片泵212，第二过渡室206和第一镀膜室203外的四个第二扩散泵210的自由端一起连接有第二罗茨泵213和第二旋片泵214，第二过渡室206和第二镀膜室205外的四个第二扩散泵210的自由端一起连接有第三罗茨泵215和第三旋片泵216，第一镀膜室203和第二镀膜室205的两边均设有对称的两个靶材217。
进一步的，第一镀膜室203和第二镀膜室205内的靶材217的材料可以不同也可以相同。
进一步的，进料区1设有上料台11，卸料区4设有卸料台41。
进一步的，工作区20内设有连通的工作轨道218，工作区20外设有传输轨道3，进料区1和进料区1的一端通过工作轨道218连通，另一端通过传输轨道3连通。
进一步的，工作区20靠近卸料区4处设有卸料口219，工作区20靠近进料区1处设有进料口220。
进一步的，第一预真空室201的真空度与第三过渡室207的真空度相同。
进一步的，第二预真空室202、第二过渡室206、第一镀膜室203、第一过渡室204和第二镀膜室205的真空度相同。
进一步的，第一预真空室201和第三过渡室207的真空度小于第二预真空室202、第二过渡室206、第一镀膜室203、第一过渡室204和第二镀膜室205的真空度。
本实用新型的有益效果：本实用新型提出一种溅射镀膜生产系统，第一预真空室201和第三过渡室207先用滑阀泵209进行抽真空处理，随后启动第四罗茨泵208进行更高真空度的抽取，基片架随着工作轨道218依次通过第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，进行基片的镀膜，随后从卸料口219出来进入卸料区4后随着传输轨道3进入进料区1进行上料后进入工作区20的进料口220进行下一次的镀膜，溅射镀膜生产系统的结构简单，自动化程度高，保证了镀膜设备的真空度的的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型的溅射镀膜生产系统的系统示意图。
主要元件符号说明
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。
具体实施方式
如图1所示，为本实用新型的溅射镀膜生产系统的系统示意图。
一种溅射镀膜生产系统，其特征在于：包括依次连通的进料区1、工作区20和卸料区4，工作区20依据镀膜工艺流程方向依次包括第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，工作区20各室均具备所需真空环境，所述各室通过密封装置分隔，第一预真空室201和第三过渡室207外分别依次连接第四罗茨泵208和滑阀泵209，通过第四罗茨泵208和滑阀泵209对第一预真空室201和第三过渡室207进行抽真空处理，第二预真空室202外连接有第一扩散泵221，第一过渡室204、第一镀膜室203、第二过渡室206和第二镀膜室205外均分别连接两个第二扩散泵210，第一扩散泵221的自由端依次连接有第一罗茨泵211和第一旋片泵212，第二过渡室206和第一镀膜室203外的四个第二扩散泵210的自由端一起连接有第二罗茨泵213和第二旋片泵214，第二过渡室206和第二镀膜室205外的四个第二扩散泵210的自由端一起连接有第三罗茨泵215和第三旋片泵216，第一镀膜室203和第二镀膜室205的两边均设有对称的两个靶材217。
所述第一镀膜室203和第二镀膜室205内的靶材217的材料可以不同也可以相同。
所述进料区1设有上料台11，卸料区4设有卸料台41。
所述工作区20内设有连通的工作轨道218，工作区20外设有传输轨道3，进料区1和进料区1的一端通过工作轨道218连通，另一端通过传输轨道3连通。
所述工作区20靠近卸料区4处设有卸料口219，工作区20靠近进料区1处设有进料口220。
所述第一预真空室201的真空度与第三过渡室207的真空度相同。
所述第二预真空室202、第二过渡室206、第一镀膜室203、第一过渡室204和第二镀膜室205的真空度相同。
所述第一预真空室201和第三过渡室207的真空度小于第二预真空室202、第二过渡室206、第一镀膜室203、第一过渡室204和第二镀膜室205的真空度。
本实用新型的有益效果：本实用新型提出一种溅射镀膜生产系统，第一预真空室201和第三过渡室207先用滑阀泵209进行抽真空处理，随后启动第四罗茨泵208进行更高真空度的抽取，基片架随着工作轨道218依次通过第一预真空室201、第二预真空室202、第一镀膜室203、第一过渡室204、第二镀膜室205、第二过渡室206和第三过渡室207，进行基片的镀膜，随后从卸料口219出来进入卸料区4后随着传输轨道3进入进料区1进行上料后进入工作区20的进料口220进行下一次的镀膜，溅射镀膜生产系统的结构简单，自动化程度高，保证了镀膜设备的真空度的的稳定性。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (8)
1.一种溅射镀膜生产系统，其特征在于：包括依次连通的进料区(1)、工作区(20)和卸料区(4)，工作区(20)依据镀膜工艺流程方向依次包括第一预真空室(201)、第二预真空室(202)、第一镀膜室(203)、第一过渡室(204)、第二镀膜室(205)、第二过渡室(206)和第三过渡室(207)，工作区(20)各室均具备所需真空环境，所述各室通过密封装置分隔，第一预真空室(201)和第三过渡室(207)外分别依次连接第四罗茨泵(208)和滑阀泵(209)，通过第四罗茨泵(208)和滑阀泵(209)对第一预真空室(201)和第三过渡室(207)进行抽真空处理，第二预真空室(202)外连接有第一扩散泵(221)，第一过渡室(204)、第一镀膜室(203)、第二过渡室(206)和第二镀膜室(205)外均分别连接两个第二扩散泵(210)，第一扩散泵(221)的自由端依次连接有第一罗茨泵(211)和第一旋片泵(212)，第二过渡室(206)和第一镀膜室(203)外的四个第二扩散泵(210)的自由端一起连接有第二罗茨泵(213)和第二旋片泵(214)，第二过渡室(206)和第二镀膜室(205)外的四个第二扩散泵(210)的自由端一起连接有第三罗茨泵(215)和第三旋片泵(216)，第一镀膜室(203)和第二镀膜室(205)的两边均设有对称的两个靶材(217)。
2.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：第一镀膜室(203)和第二镀膜室(205)内的靶材(217)的材料可以不同也可以相同。
3.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：进料区(1)设有上料台(11)，卸料区(4)设有卸料台(41)。
4.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：工作区(20)内设有连通的工作轨道(218)，工作区(20)外设有传输轨道(3)，进料区(1)和进料区(1)的一端通过工作轨道(218)连通，另一端通过传输轨道(3)连通。
5.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：工作区(20)靠近卸料区(4)处设有卸料口(219)，工作区(20)靠近进料区(1)处设有进料口(220)。
6.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：第一预真空室(201)的真空度与第三过渡室(207)的真空度相同。
7.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：第二预真空室(202)、第二过渡室(206)、第一镀膜室(203)、第一过渡室(204)和第二镀膜室(205)的真空度相同。
8.如权利要求1所述的溅射镀膜生产系统，其特征在于：第一预真空室(201)和第三过渡室(207)的真空度小于第二预真空室(202)、第二过渡室(206)、第一镀膜室(203)、第一过渡室(204)和第二镀膜室(205)的真空度。
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Cited By (1)
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| CN114672783A (zh) * | 2022-03-16 | 2022-06-28 | 国家电投集团氢能科技发展有限公司 | 连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法 |
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| CN114672783B (zh) * | 2022-03-16 | 2024-03-22 | 国家电投集团氢能科技发展有限公司 | 连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法 |
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