CN105511681A

CN105511681A - 一种gg单层多点无边框触摸屏及其制备工艺

Info

Publication number: CN105511681A
Application number: CN201511014789.7A
Authority: CN
Inventors: 李林波
Original assignee: Dongguan Pingbo Electronic Co Ltd
Current assignee: Shenzhen Xinlian Technology Co ltd
Priority date: 2015-12-31
Filing date: 2015-12-31
Publication date: 2016-04-20
Anticipated expiration: 2035-12-31
Also published as: CN105511681B

Abstract

本发明涉及触摸屏技术领域，尤其涉及一种GG单层多点无边框触摸屏及其制备工艺。触摸屏包括钢化玻璃盖板、透明光学胶层及ITO导电玻璃，ITO导电玻璃边框的走线区包括设于触摸屏一端的横向走线区，ITO导电玻璃设有单端出线的单层多点电极图案，横向走线区压合有FPC，FPC连接有一IC芯片。本发明通过在触摸屏一端的横向走线区压合FPC，取消了原有的左、右纵向走线区，使触摸屏的纵向边无需布线，从而营造无边框视觉效果；本发明在磁控溅射进行ITO镀膜时采用紫外光照射，提高了ITO导电玻璃的光电性能，制备过程只需一次FPC压合，工艺简单，产品良率高，可保证触摸屏的优良性能和生产稳定性。

Description

一种GG单层多点无边框触摸屏及其制备工艺

技术领域

本发明涉及触摸屏技术领域，尤其涉及一种GG单层多点无边框触摸屏及其制备工艺。

背景技术

触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备，具有直观、简单、快捷的优点。触摸屏在许多电子产品中已经获得了广泛的应用。但目前电容式触摸屏大多使用多层ITO结构，制造工艺复杂。因此，单层ITO触摸屏，特别是能够实现多点触摸的触摸屏，已成为电容式触摸屏的一个发展方向。

一般来说，触摸屏包含有连接触控电极与外部的处理器的信号导线，其用以传递触控电极与处理器之间的电信号。为了掩盖信号导线，触摸屏的盖板部分必须增加一个不透明的边框，以用来遮盖走线区。边框的存在使得便携式电子设备的屏幕可视区范围减小。随着消费者对电子设备外观和使用体验的要求越来越高，需减小信号导线所占据的边框面积，在便携式电子装置有限的尺寸上尽可能地增大屏幕可视区的范围，有效解决大显示屏与机身尺寸的矛盾，极力营造无视界的显示效果。无边框触摸屏对其制备工艺提出了更高的要求，因此需改进制备工艺，保证触摸屏的光电性能及生产稳定性，以提高产品的市场竞争力。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种GG单层多点无边框触摸屏及其制备工艺。为实现上述目的，本发明采用的技术方案如下。

一种GG单层多点无边框触摸屏，包括从上往下依次设置的钢化玻璃盖板、透明光学胶层及ITO导电玻璃，所述ITO导电玻璃的边框为走线区，所述走线区包括设置于触摸屏一端的横向走线区，所述ITO导电玻璃设有单端出线的单层多点电极图案，ITO导电玻璃的引出线对应设置于横向走线区，所述横向走线区压合FPC，ITO导电玻璃的引出线通过FPC连接有一IC芯片。

进一步地，单层多点电极图案包括感应通道和驱动通道，感应通道和驱动通道彼此分离，不产生交错。

进一步地，所述IC芯片固定于一补强片，所述FPC连接于所述补强片。

进一步地，所述补强片设有固定卡座，所述FPC的末端卡设于所述固定卡座。

进一步地，所述FPC包括FPC主体区及连接于FPC主体区末端的FPC延长区，FPC主体区包括金手指，金手指距离FPC边缘的距离为3-8mm。在此范围内，FPC主体区与FPC的边缘有一定的距离，可更好地防止FPC主体区的线路被损害且不占用较大的空间。

进一步地，所述钢化玻璃盖板的上表面为向上凸起的弧形曲面。

进一步地，所述钢化玻璃盖板分为黑框区和透明区，所述黑框区包括纵向黑框区和横向黑框区，所述横向黑框区对应于横向走线区设置，所述ITO导电玻璃超出透明区的横向边界0.5mm-0.8mm，可改善边界的视觉效果。

进一步地，所述纵向黑框区的宽度为0-0.8mm。由于本发明未设置纵向走线区，所以纵向黑框区的宽度可以设置得很窄或可以完全不用设置。

进一步地，所述透明光学胶层为OCA胶层、COF胶层或SCA胶层。

OCA胶透光性好，具有高黏着力、高耐候、耐水性、耐高温性、抗紫外线性能好，是触摸屏贴合常用的胶黏剂。

COF胶层具有良好的透光性和清晰度，产品不会黄变，贴合时四周无溢胶与流平时间，节省擦胶人力与流平工时，不需再次脱泡，提高了生产效率和产品良率，COF胶层可以适应各种不同大小尺寸触摸屏，尤其是大尺寸触摸屏的贴合。

SCA胶层具有良好的透光性和清晰度，在贴合预压时可流动，解决了触摸屏贴合时可能产生的气泡，结构被压坏等不良反应，触摸屏粘接性好，具有优异的抗震及抗爆性，提高了触摸屏的稳定性；SCA胶可以适应各种不同大小尺寸触摸屏。

一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，包括以下步骤：

前段工序：

（A1）ITO镀膜：采用磁控溅射的方法在玻璃基片的正面镀ITO薄膜，在磁控溅射的同时采用紫外光照射；然后真空退火，得到ITO导电玻璃粗品；

（A2）清洗：对ITO导电玻璃粗品进行清洗，清洗包括紫外光清洗步骤；

（A3）蚀刻去除：采用激光蚀刻将ITO导电膜粗品位于预设视窗区之外的ITO薄膜除去；

（A4）印刷导电银浆：在ITO导电玻璃粗品的激光蚀刻区域印刷导电银浆，形成导电银浆层，对导电银浆进行激光蚀刻银浆线，形成横向走线区；

（A5）烘烤：对蚀刻有银浆线的ITO导电玻璃粗品进行烘烤；

（A6）蚀刻电极图案：对ITO导电玻璃粗品的预设视窗区进行激光蚀刻蚀刻电极图案；

（A7）覆膜：在印刷导电银浆后的ITO导电玻璃粗品覆上保护膜；

（A8）裁切：裁切形成ITO玻璃功能片；

后段工序:

（B1）ACF绑定：对前段工序做好的ITO玻璃功能片绑定ACF导电胶；

（B2）FPC热压：对贴好的ACF导电胶的ITO玻璃功能片的横向走线区热压FPC；

（B3）透明光学胶层贴合：对压合好FPC的ITO玻璃功能片贴合透明光学胶层；

（B4）组合：将贴好透明光学胶层的ITO玻璃功能片和钢化玻璃盖板进行组合，得到一种GG单层多点无边框触摸屏。

在使用磁控溅射方法在玻璃基片的正面镀ITO薄膜时，通常采用低温溅射沉积方式，所以ITO导电玻璃含很多低价的铟锡氧化物，紫外光源照射将制备环境中的氧气离化成臭氧，产生的臭氧，提高了氧的活性，可以再次对ITO成份进一步氧化，形成电阻阻值更稳定，电阻率更低，透光性更好的高价氧化物ITO，从而提高了ITO导电玻璃的光电性能。ITO导电玻璃的方阻越小，透光性更好，触摸屏的性能越佳。同时，紫外光照射还可利用有机化合物的光敏氧化作用去除黏附在材料表面上的有机污染物，对材料表面进行光清洗。优选地，本发明采用射频磁控溅射法。射频溅射具有可作用靶材范围广，薄膜生长速度快等特点。

进一步地，所述步骤A1中溅射功率为80-350W。在此范围内，ITO薄膜的方阻随着溅射功率的增大而降低。在低溅射功率处理时，低能量溅射粒子在基材片表面的迁移速度小，薄膜的结晶粒径小；随着功率增大，溅射粒子迁移速度及再结晶程度增加，靶材表面电压增加，氩粒子经电场加速获得较高的能量，靶材原子在高能量粒子撞击下从靶材表面逃逸而成为溅射粒子，继而沉降于基材片反应生成ITO薄膜，形成的ITO薄膜具有较好的致密性和粘附力，晶体结构也得到显著改善，因此ITO薄膜的导电性。但过高的溅射功率下溅射出的高能量粒子会持续轰击到所沉积的ITO薄膜表面，给ITO薄膜的晶体状态造成结构缺陷，溅射功率越大，电压越高，产生晶体结构缺陷也越严重，从而导致ITO薄膜的方阻增大。优选地，所述步骤A1中溅射功率为120W-280W。

进一步地，所述步骤A8中银浆由以下重量百分比的原料组成：

银粉末60-70%

四氢呋喃13-23%

双酚A型环氧树脂6-12%

聚氨酯2-6%

2-苯基咪唑1-3%

聚丙二醇二缩水甘油醚1-3%

石墨粉末1-2%

二氧化硅粉末1-2%，

以上重量百分比之和为100%，所述银粉末由质量比为1:20-1:30的微米银粉末和纳米银粉末组成，所述微米银粉末的粒径为30-50μm，所述纳米银粉末的粒径为20-50nm；所述石墨粉末由质量比为1:20-1:30的微米石墨粉末和纳米石墨粉末组成，所述微米石墨粉末的粒径为30-50μm，所述纳米石墨粉末的粒径为20-40nm；所述二氧化硅粉末的粒径为30-60nm。

四氢呋喃对环氧树脂具有良好溶解性，且不能与其他原料发生反应；其沸点适中，会因挥发过快造成黏度变化太大；沸点过高不易挥发，不利于银浆应用。综合对比各种有机物与环氧树脂的相溶性及其沸点，采用四氢呋喃作稀释剂。

聚氨酯为直链分子的弹体，含有较多能形成氢键的基团，柔韧性较好，且粘接性好，赋予银浆较好的抗挠折性。

聚丙二醇二缩水甘油醚无色至淡黄色透明液体，可与双酚A型环氧树脂混溶，在常温下粘度低，是沸点高，不挥发，无毒无刺激性，操作使用安全，参与环氧树脂固化反应，分子结构中有可挠性脂肪长链，可以自由旋转而富有弹性，添加于环氧树脂体系中可极大地提高其抗冲击强度和抗冷热冲击性能，改善环氧固化物的脆裂缺陷，柔韧性好，赋予双酚A型环氧树脂树脂柔性、伸长率和提高冲击强度。

双酚A型环氧树脂和聚氨酯能充分溶解于四氢呋喃中，形成有机载体，具有导电性能的银粉末、石墨粉末加入后可均匀分散，提高导电银浆的导电性，使得导电银浆烧结后的浆料强度高、与基材层的附着力好，可以满足蚀刻线宽较细的银浆走线的要求。

通过对粒径和配比的选择，微米银粉末和纳米银粉末能更好地配合，纳米银粉末附着在微米银粉末的表面随着微米银粉末一起运动，有效避免了纳米银粉末的团聚现象；另一方面由于纳米银粉末具有高的表面能，微米银粉末可通过附着在其表面的纳米银粉末与双酚A型环氧树脂及聚氨酯结合，未附着于微米银粉末表面的纳米银粉末将填充到双酚A型环氧树脂和聚氨酯的空隙中，使所有微米银粉末和纳米银粉末均匀分散，提高了导电性。同理，微米石墨粉末、纳米石墨粉末及二氧化硅粉末粒径及配比的选择，也使导电银浆分布更均匀，导电性能更好。所制备的导电银浆具有高纯度、高导电性、低模量的特点，其工作实效长，具有良好的抗氧化能力和附着力。

通过上述组分的配比，使所制备的导电银浆具有高导电性、良好的抗氧化能力和附着力，抗挠折性能佳。

进一步地，所述步骤A4中导电银浆层的厚度为5-9um，边缘银浆线与导电银浆边缘的距离为150-400um，可以防止膜涨缩和印刷造成的偏位等带来的误差，使边缘银浆线蚀刻出银浆边缘。

进一步地，所述步骤A6中电极图案的激光蚀刻速度为400-900mm/s，蚀刻功率为15-30W，蚀刻频率为50-150kHz。激光蚀刻速度过快，激光停留时间短，蚀刻线蚀刻不完全；蚀刻速度过慢使激光停留时间长，损害玻璃基板。

进一步地，所述步骤A4中对导电银浆的激光蚀刻速度1500-2500mm/s，蚀刻功率为10-30W,蚀刻频率为100-200kHz。经上述工艺蚀刻后的银浆线条平直而光滑，线宽较细，边缘热影响区域小，玻璃基片未收到损伤，保证产品良率。

本发明的有益效果在于：本发明的触摸屏在ITO导电玻璃设置有单端出线的单层多点电极图案，通过横向走线区压合FPC的方式，取消了原有的左纵向走线区和右纵向走线区，使触摸屏的纵向边不再需要布线，信号可从横向走线区经过FPC传到IC芯片，从而营造无边框视觉效果；

本发明在磁控溅射进行ITO镀膜过程中采用紫外光照射，将制备环境中的氧气离化成臭氧，提高了ITO导电玻璃的光电性能，制备过程只需一次FPC压合，工艺简单，产品良率高，可保证触摸屏的优良性能和生产稳定性，实现触摸屏的多点触摸，达到无边框的视觉效果。

附图说明

利用附图对本发明作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本发明的任何限制，对于本领域的普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据以下附图获得其它的附图。

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的剖面示意图。

附图标记包括：

1—ITO导电玻璃2—FPC

3—IC芯片4—固定卡座

5—补强片6—钢化玻璃盖板

7—透明光学胶层。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的说明，见附图1-2。

实施例1

如图1及图2所示，一种GG单层多点无边框触摸屏，包括从上往下依次设置的钢化玻璃盖板6、透明光学胶层7及ITO导电玻璃1，所述ITO导电玻璃1的边框为走线区，所述走线区包括设置于触摸屏一端的横向走线区，所述ITO导电玻璃1设有单端出线的单层多点电极图案，ITO导电玻璃1的引出线对应设置于横向走线区，所述横向走线区压合FPC2，ITO导电玻璃1的引出线通过FPC2连接有一IC芯片3。

本实施例中，横向走线区设置于触摸屏的上端。

本发明在ITO导电玻璃1设置有单端出线的单层多点电极图案，单层多点电极图案包括感应通道和驱动通道，感应通道和驱动通道彼此分离，不产生交错，因此不需要在不同线路的相交处制作绝缘层，简化了制作工艺；通过横向走线区压合FPC2的方式，取消了原有的左纵向走线区和右纵向走线区，使触摸屏的纵向边不再需要布线，信号可从横向走线区经过FPC2传到IC芯片3，从而营造无边框视觉效果。

进一步地，所述IC芯片3固定于一补强片5，所述FPC2连接于所述补强片5。优选地，所述补强片5设有固定卡座4，所述FPC2的末端卡设于所述固定卡座4。由于上述结构的设置，可加强FPC2的机械强度，使连接部位更结实耐用，方便产品的整体组装。

进一步地，所述FPC2包括FPC主体区及连接于FPC主体区末端的FPC延长区，FPC主体区包括金手指，金手指距离FPC边缘的距离为3mm。在此范围内，FPC主体区与FPC2的边缘有一定的距离，可更好地防止FPC2主体区的线路被损害且不占用较大的空间。

进一步地，所述钢化玻璃盖板6的上表面为向上凸起的弧形曲面。钢化玻璃盖板6采用弧形曲面设计，更加符合人体工程学原理，不但可以缓解长时间打电话面部紧贴屏幕时产生的肌肉酸痛疲劳感，还可增加触摸屏的可视角度，提高触摸屏的反光效果。

进一步地，所述钢化玻璃盖板6分为黑框区和透明区，所述黑框区包括纵向黑框区和横向黑框区，所述横向黑框区对应于横向走线区设置，所述ITO导电玻璃1超出透明区的横向边界0.5mm，可改善边界的视觉效果。

进一步地，所述纵向黑框区的宽度为0-0.8mm。由于本发明未设置纵向走线区，所以纵向黑框区的宽度可以设置得很窄或可以完全不用设置，从而营造无边框的视觉效果。

进一步地，所述透明光学胶层7为COF胶层。COF胶层是一种含有感光材料的亚克力胶层，其主要成分是丙烯酸，含有热敏剂和感光剂，具有良好的透光性和清晰度，产品不会黄变，贴合时四周无溢胶与流平时间，节省擦胶人力与流平工时，不需再次脱泡，提高了生产效率和产品良率，COF胶层可以适应各种不同大小尺寸触摸屏，尤其是大尺寸触摸屏的贴合。

一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，包括以下步骤：

前段工序：

（A2）清洗：对ITO导电玻璃粗品进行清洗；

（A5）烘烤：对蚀刻有银浆线的ITO导电玻璃粗品进行烘烤；

（A8）裁切：裁切形成ITO玻璃功能片；

后段工序:

（B2）FPC2热压：对贴好的ACF导电胶的ITO玻璃功能片的横向走线区热压FPC2；

（B3）透明光学胶层7贴合：对压合好FPC2的ITO玻璃功能片贴合透明光学胶层7；

（B4）组合：将贴好透明光学胶层7的ITO玻璃功能片和钢化玻璃盖板6进行组合，得到一种GG单层多点无边框触摸屏。

优选地，本实施例采用直流磁控溅射的方法在玻璃基片的正面镀ITO薄膜。

优选地，本实施例采用波长为1064nm的光纤激光器进行激光蚀刻。

本发明在磁控溅射进行ITO镀膜过程中采用紫外光照射，可将氧气离化成臭氧，提高了ITO导电玻璃1的光电性能，制作过程只需一次FPC2压合，工艺简单，产品良率高，可保证触摸屏的优良性能和生产稳定性，实现触摸屏的多点触摸，达到无边框的视觉效果。

银粉末60%

四氢呋喃13%

双酚A型环氧树脂6%

聚氨酯6%

聚丙二醇二缩水甘油醚1%

石墨粉末1%

二氧化硅粉末2%

2-苯基咪唑1%，

以上重量百分比之和为100%，所述银粉末由质量比为1:20的微米银粉末和纳米银粉末组成，所述微米银粉末的粒径为30μm，所述纳米银粉末的粒径为20nm，所述石墨粉末由质量比为1:20的微米石墨粉末和纳米石墨粉末组成，所述微米石墨粉末的粒径为30μm，所述纳米石墨粉末的粒径为20nm，二氧化硅粉末的粒径为30nm。

进一步地，所述步骤A4导电银浆的激光蚀刻速度为1500mm/s，蚀刻功率为10W,蚀刻频率为150kHz。

本发明的蚀刻重复次数为2-5次。上述工艺参数的设定可有效解决银浆走线加工难的问题，保证产品良率，导电银浆附着力佳，激光蚀刻线条清晰平直完整，线宽窄，且不损伤玻璃基片。

进一步地，所述步骤A6中电极图案的激光蚀刻速度为900mm/s，蚀刻功率为15W，蚀刻频率为100kHz。

进一步地，所述步骤A1中溅射功率为120W。

进一步地，所述步骤A4中导电银浆层的厚度为5-9um，边缘银浆线与导电银浆边缘的距离为150-400um。

本实例中，GG单层多点无边框触摸屏的透光率为88%，雾度为1.9，产品外观无损伤及磨损、无变形、不变色、无气泡和剥离，ITO导电玻璃1的方阻在140Ω以下，产品性能好，产品良率（以500个为统计单位）为97%。

实施例2

本实施例与实施例1的不同之处在于：

本实施例中，横向走线区设置于触摸屏的下端。

进一步地，所述FPC2包括FPC主体区及连接于FPC主体区末端的FPC延长区，FPC主体区包括金手指，金手指距离FPC边缘的距离为8mm。进一步地，所述钢化玻璃盖板6分为黑框区和透明区，所述黑框区包括纵向黑框区和横向黑框区，所述横向黑框区对应于横向走线区设置，所述ITO导电玻璃1超出透明区的横向边界0.8mm，可改善边界的视觉效果。

进一步地，所述透明光学胶层7为SCA胶层。SCA胶层是一种光学透明胶层，主要成分是丙烯酸树脂，具有良好的透光性和清晰度，在贴合预压时可流动，解决了触摸屏贴合时可能产生的气泡，结构被压坏等不良反应，触摸屏粘接性好，具有优异的抗震及抗爆性，提高了触摸屏的稳定性；SCA胶可以适应各种不同大小尺寸触摸屏。

本实施例中，银浆由以下重量百分比的原料组成：

银粉末68%

四氢呋喃16%

双酚A型环氧树脂6%

聚氨酯2%

聚丙二醇二缩水甘油醚2%

石墨粉末2%

二氧化硅粉末1.5%

2-苯基咪唑2.5%，

以上重量百分比之和为100%，所述银粉末由质量比为1:20的微米银粉末和纳米银粉末组成，所述微米银粉末的粒径为50μm，所述纳米银粉末的粒径为50nm，所述石墨粉末由质量比为1:30的微米石墨粉末和纳米石墨粉末组成，所述微米石墨粉末的粒径为40μm，所述纳米石墨粉末的粒径为60nm，二氧化硅粉末的粒径为10nm。这样的组合和粒径使得银浆导电性能更好，附着力更好。

进一步地，所述步骤A1中溅射功率为280W。

进一步地，所述步骤A4导电银浆的激光蚀刻速度为2000mm/s，蚀刻功率为15W,蚀刻频率为100kHz。

进一步地，所述步骤A6中电极图案的激光蚀刻速度为400mm/s，蚀刻功率为30W，蚀刻频率为50kHz。

本实例中，GG单层多点无边框触摸屏的透光率为89%，雾度为2.0，产品外观无损伤及磨损、无变形、不变色、无气泡和剥离，ITO导电玻璃1的方阻在120Ω以下，产品性能好，产品良率（以500个为统计单位）为96%。

本实施例的其余内容与实施例1相同，这里不再赘述。

实施例3

本实施例与实施例1的不同之处在于：

本实施例中，所述FPC2包括FPC主体区及连接于FPC主体区末端的FPC延长区，FPC主体区包括金手指，金手指距离FPC边缘的距离为5mm。

本实施例中，所述透明光学胶层7为OCA胶层。OCA胶透光性好，具有高黏着力、高耐候、耐水性、耐高温性、抗紫外线性能好，是触摸屏贴合常用的胶黏剂。

本实施例中，银浆由以下重量百分比的原料组成：

银粉末65%

双酚A型环氧树脂7%

聚氨酯3%

聚丙二醇二缩水甘油醚3%

石墨粉末2%

二氧化硅粉末1%

四氢呋喃16%

2-苯基咪唑3%，

以上重量百分比之和为100%，所述银粉末由质量比为1:25的微米银粉末和纳米银粉末组成，所述微米银粉末的粒径为40μm，所述纳米银粉末的粒径为40nm，所述石墨粉末由质量比为1:25的微米石墨粉末和纳米石墨粉末组成，所述微米石墨粉末的粒径为50μm，所述纳米石墨粉末的粒径为40nm，二氧化硅粉末的粒径为40nm。这样的组合和粒径使得银浆导电性能更好，附着力更好。

进一步地，所述步骤A1中溅射功率为80W。

进一步地，所述步骤A4导电银浆的激光蚀刻速度为2500mm/s，蚀刻功率为20W,蚀刻频率为200kHz。

本实例中，GG单层多点无边框触摸屏的透光率为87%，雾度为2.1，产品外观无损伤及磨损、无变形、不变色、无气泡和剥离，ITO导电玻璃1的方阻在140Ω以下，产品性能好，产品良率（以500个为统计单位）为97%。

本实施例的其余内容与实施例1相同，这里不再赘述。

实施例4

本实施例与实施例1的不同之处在于：

本实施例中，所述FPC2包括FPC主体区及连接于FPC主体区末端的FPC延长区，FPC主体区包括金手指，金手指距离FPC边缘的距离为6mm。

进一步地，所述钢化玻璃盖板6分为黑框区和透明区，所述黑框区包括纵向黑框区和横向黑框区，所述横向黑框区对应于横向走线区设置，所述ITO导电玻璃1超出透明区的横向边界0.6mm，可改善边界的视觉效果。

本实施例中，银浆由以下重量百分比的原料组成：

银粉末60%

双酚A型环氧树脂12%

聚氨酯2%

聚丙二醇二缩水甘油醚1%

石墨粉末1%

二氧化硅粉末1%

四氢呋喃22%

2-苯基咪唑1%，

以上重量百分比之和为100%，所述银粉末由质量比为1:30的微米银粉末和纳米银粉末组成，所述微米银粉末的粒径为50μm，所述纳米银粉末的粒径为30nm，所述石墨粉末由质量比为1:25的微米石墨粉末和纳米石墨粉末组成，所述微米石墨粉末的粒径为30μm，所述纳米石墨粉末的粒径为40nm，二氧化硅粉末的粒径为50nm。这样的组合和粒径使得银浆导电性能更好，附着力更好。

进一步地，所述步骤A1中溅射功率为350W。

进一步地，所述步骤A4导电银浆的激光蚀刻速度为2500mm/s，蚀刻功率为25W,蚀刻频率为200kHz。

进一步地，所述步骤A6中电极图案的激光蚀刻速度为400mm/s，蚀刻功率为20W，蚀刻频率为150kHz。

本实例中，GG单层多点无边框触摸屏的透光率为88%，雾度为2.0，产品外观无损伤及磨损、无变形、不变色、无气泡和剥离，ITO导电玻璃1的方阻在120Ω以下，产品性能好，产品良率（以500个为统计单位）为96%。

实施例5

本实施例与实施例1的不同之处在于：

本实施例中，所述FPC2包括FPC主体区及连接于FPC主体区末端的FPC延长区，FPC主体区包括金手指，金手指距离FPC边缘的距离为4mm。

本实施例中，银浆由以下重量百分比的原料组成：

银粉末61%

双酚A型环氧树脂8%

聚氨酯2%

聚丙二醇二缩水甘油醚2%

石墨粉末1.5%

二氧化硅粉末1.5%

四氢呋喃23%

2-苯基咪唑1%，

以上重量百分比之和为100%，所述银粉末由质量比为1:20的微米银粉末和纳米银粉末组成，所述微米银粉末的粒径为50μm，所述纳米银粉末的粒径为30nm，所述石墨粉末由质量比为1:30的微米石墨粉末和纳米石墨粉末组成，所述微米石墨粉末的粒径为30μm，所述纳米石墨粉末的粒径为30nm，二氧化硅粉末的粒径为300nm。这样的组合和粒径使得银浆导电性能更好，附着力更好。

进一步地，所述步骤A1中溅射功率为200W。

进一步地，所述步骤A4导电银浆的激光蚀刻速度为2500mm/s，蚀刻功率为30W,蚀刻频率为200kHz。

本实施例中，GG单层多点无边框触摸屏的透光率为89%，雾度为1.8，产品外观无损伤及磨损、无变形、不变色、无气泡和剥离，ITO导电玻璃1的方阻在120Ω以下，产品性能好，产品良率（以500个为统计单位）为95%。

本发明的制备工艺只需进行一次FPC压合，工艺简单，产品良率高，可保证触摸屏的优良性能和生产稳定性，实现触摸屏的多点触摸，达到无边框的视觉效果。

最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims

1.一种GG单层多点无边框触摸屏，其特征在于：包括从上往下依次设置的钢化玻璃盖板、透明光学胶层及ITO导电玻璃，所述ITO导电玻璃的边框为走线区，所述走线区包括设置于触摸屏一端的横向走线区，所述ITO导电玻璃设有单端出线的单层多点电极图案，ITO导电玻璃的引出线对应设置于横向走线区，所述横向走线区压合FPC，ITO导电玻璃的引出线通过FPC连接有一IC芯片。

2.根据权利要求1所述的一种GG单层多点无边框触摸屏，其特征在于：所述钢化玻璃盖板的上表面为向上突起的弧形曲面。

3.根据权利要求1所述的一种GG单层多点无边框触摸屏，其特征在于：所述钢化玻璃盖板分为黑框区和透明区，所述黑框区包括纵向黑框区和横向黑框区，所述横向黑框区对应于横向走线区设置，所述ITO导电玻璃超出透明区的横向边界0.5-0.8mm。

4.根据权利要求3所述的一种GG单层多点无边框触摸屏，其特征在于：所述纵向黑框区的宽度为0-0.8mm。

5.根据权利要求1所述的一种GG单层多点无边框触摸屏，其特征在于：所述透明光学胶层为OCA胶层、COF胶层或SCA胶层。

6.根据权利要求1-5任一项所述的一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

前段工序：

（A2）清洗：对ITO导电玻璃粗品进行清洗；

（A5）烘烤：对蚀刻有银浆线的ITO导电玻璃粗品进行烘烤；

（A8）裁切：裁切形成ITO玻璃功能片；

后段工序:

7.根据权利要求6所述的一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，其特征在于：所述步骤A1中溅射功率为80-350W。

8.根据权利要求6所述的一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，其特征在于：所述步骤A8中银浆由以下重量百分比的原料组成：

银粉末60-70%

四氢呋喃13-23%

双酚A型环氧树脂6-12%

聚氨酯2-6%

2-苯基咪唑1-3%

聚丙二醇二缩水甘油醚1-3%

石墨粉末1-2%

二氧化硅粉末1-2%，

9.根据权利要求6所述的一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，其特征在于：所述步骤A4中导电银浆的激光蚀刻速度为1500-2500mm/s，蚀刻功率为10-30W，蚀刻频率为100-200kHz。

10.根据权利要求6所述的一种GG单层多点无边框触摸屏的制备工艺，其特征在于：所述步骤A6中电极图案的激光蚀刻速度为400-900mm/s，蚀刻功率为15-30W，蚀刻频率为50-150kHz。