CN103914194A - 一种电容触摸屏的线路制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种电容触摸屏的线路制作方法，采用镭射方式将ITOFILM导电薄膜上的ITO宽度镀层用镭射光烧灼去除，从而实现线路的成型。采用镭射方式所制成的线路在线路要求上有着明显的优势，且在环境、设备、场地要求上比湿蚀刻有着明显优势，在蚀刻良率上比湿蚀刻明显高，在工艺操作也比湿蚀刻更简便且更环保，因其无需太多专业设备，产品成本也在很大程度上降低了。
Description
技术领域
本发明涉及触摸屏领域，具体涉及一种电容触摸屏的线路制作方法。
背景技术
电容触摸屏，可用手指触摸操作进行人机对话，一般用在触摸屏手机，触摸屏PDA，平板电脑，车载导航仪以及其他工控设备中。
目前在市面上凡是投射式电容触摸屏的 FILM SENSOR部分线路都由如下两种方法制成，其工艺流程如下：
方式一，在ITO FILM基板表面涂上光刻胶，然后由菲林遮盖，经曝光显影后，把被菲林遮盖掉没被曝光部位的光刻胶去除后再用药水蚀刻，清洗后，在ITO FILM表面就留下所需要的线路。如图1和图2所示。
方式二，采用印刷方式将导电油墨印刷在ITO FILM SENSOR上实现线路的成型，其工艺把导电油墨涂布在网版上，由刮刀从左至右把油墨通过网版上的线路图案转印到ITO FILM上，再经过烘烤烤干即可。如图3和图4所示。
这两种制造方法存在以下弊端：
1．工艺复杂，对生产环境要求很高；
2．工艺对设备的要求非常高，生产成本相对较高；
3．工艺步骤多，对生产良率有极大限制；
4．不能做高精度线路的印刷；
5. 对蚀刻药水的排放较为严格。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种工艺更简便、设备要求更低、制造精度更高、产品良率更高的电容触摸屏制造方法。
为实现上述目的，本发明提供的技术方案是：一种电容触摸屏的线路的制造方法，其包括以下步骤：（1）步骤一：取一张含有ITO镀层的ITO FILM导电薄膜基板进行调质处理；（2）步骤二：清洗并干燥所述ITO FILM导电薄膜基板；（3）步骤三：再把导电油墨涂布在网版上，将油墨印到所述ITO FILM导电薄膜上；（4）步骤四：干燥所述经油印的ITO FILM导电薄膜；（5）步骤五：采用镭射方式蚀刻图案，根据所需的线路图案，将所述ITO FILM导电薄膜上需要去除的所述ITO镀层用镭射设备去除，将所述ITO FILM导电薄膜上的导电油墨用需要去除的部分用镭射设备去除形成导线走线，所述导线走线之间通过烧灼空隙间隔；（6）步骤六：在所述经镭射去除ITO镀层后的ITO FILM导电薄膜上丝印银浆；（7）步骤七：用镭射方式蚀刻银浆线，完成电路线路的成型。
进一步地，上述镭射方式采用镭射设备所发射出的镭射光线照射在所述基材ITO FILM上以灼烧所述ITO镀层，形成导线走线从而实现线路的成型。
进一步地，上述镭射方式还可以采用镭射设备所发射出的镭射光线照射所述导ITO FILM导电玻璃上的导电油墨以灼烧需要去除的所述导电油墨。
进一步地，上述镭射设备可为波长为800nm-1500nm的镭射器。
进一步地，上述镭射扫描速度为 800mm/s-2000mm/s，频率为80khz-250khz。
更进一步地，上述镭射线宽0.01mm-0.05mm，两镭射线间距最小为0.1mm。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：由于本发明采用镭射成型，在线路宽度要求上比网版印刷有着明显的优势，采用镭射蚀刻在环境、设备、场地要求上比湿蚀刻有着明显优势，采用镭射蚀刻，不需药水蚀刻，无需药水排放，无需再蚀刻完后清洗，在蚀刻良率上比网版印刷明显高，镭射蚀刻为干式蚀刻，不会产生酸性物质的污染，在工艺操作也比湿蚀刻更简便且更环保，本发明采用镭射蚀刻，因其无需太多专业设备，产品成本也在很大程度上降低了。
附图说明
图1到图4是现有技术的示意图；
图5和图6是实施例1的示意图。
1.网版 2.镭射线路 3.刮刀 4. ITO FILM 导电薄膜 5.镭射头 6.镭射线 7.菲林 8.曝光灯。
具体实施方式
下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解，在阅读了本发明的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附后权利要求书限定的范围。
实施例1
采用镭射方式将FILM上的银浆用镭射光烧灼去除，从而达到实现线路的成型，其工艺流程如图5和图6所示。
采用镭射方式将ITO FILM上的银浆用镭射光烧灼去除，从而达到实现线路的成型，其工艺流程如图5和图6所示。
取一张含有ITO镀层的ITO FILM导电薄膜4基板进行调质处理；清洗并干燥所述ITO FILM导电薄膜4基板；再把导电油墨涂布在网版1上，将油墨印到所述ITO FILM导电薄膜4上；干燥所述经油印的ITO FILM导电薄膜4；采用镭射方式蚀刻图案，根据所需的镭射线路2图案，将所述ITO FILM导电薄膜4上需要去除的所述ITO镀层用镭射头5发射的镭射光线6烧灼去除，将所述ITO FILM导电薄膜4上需要去除的导电油墨部分用镭射光线6烧灼去除，形成导线走线，所述导线走线之间通过烧灼空隙间隔；所述的镭射方式采用镭射设备所发射出的镭射光线6照射在所述基材ITO FILM上以灼烧所述ITO镀层，形成导线走线从而实现线路的成型，所述的镭射方式可以采用1064nm镭射机所发射出的镭射光线6照射所述导ITO FILM 导电薄膜上的导电油墨以灼烧需要去除的所述导电油墨，其中，优选的镭射扫描速度为1500mm/s，频率为180khz，镭射线宽为0.03mm，两镭射线间距最小为0.1mm。
实施例2
其余与实施例1相同，不同之处在于，所述的1064nm镭射机可以换成1055nm镭射机。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：由于本发明采用镭射成型，在线路宽度要求上比网版印刷有着明显的优势，采用镭射蚀刻在环境、设备、场地要求上比湿蚀刻有着明显优势，采用镭射蚀刻，不需药水蚀刻，无需药水排放，无需再蚀刻完后清洗，在蚀刻良率上比网版印刷明显高，镭射蚀刻为干式蚀刻，不会产生酸性物质的污染，在工艺操作也比湿蚀刻更简便且更环保，本发明采用镭射蚀刻，因其无需太多专业设备，产品成本也在很大程度上降低了。
以上为对本发明实施例的描述，通过对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (6)
1.一种电容触摸屏的线路制作方法，其特征在于，其制作方法包括以下步骤：
步骤一：取一张含有ITO镀层的ITO FILM导电薄膜基板进行调质处理；
步骤二：清洗并干燥所述ITO FILM导电薄膜基板；
步骤三：再把导电油墨涂布在网版上，将油墨印到所述ITO FILM导电薄膜上；
步骤四：干燥所述经油印的ITO FILM导电薄膜；
步骤五：采用镭射方式蚀刻图案，根据所需的线路图案，将所述ITO FILM导电薄膜上需要去除的所述ITO镀层用镭射设备去除，将所述ITO FILM导电薄膜上的导电油墨用需要去除的部分用镭射设备去除形成导线走线，所述导线走线之间通过烧灼空隙间隔；
步骤六：在所述经镭射去除ITO镀层后的ITO FILM导电薄膜上丝印银浆；
步骤七：用镭射方式蚀刻银浆线，完成电路线路的成型。
2.根据权利要求1所述的电容触摸屏的线路制作方法，其特征在于，所述的镭射方式采用镭射设备所发射出的镭射光线照射在所述基材ITO FILM上以灼烧所述ITO镀层，形成导线走线从而实现线路的成型。
3.根据权利要求1所述的电容触摸屏的线路制作方法，其特征在于，所述的镭射方式还可以采用镭射设备所发射出的镭射光线照射所述导ITO FILM导电玻璃上的导电油墨以灼烧需要去除的所述导电油墨。
4.根据权利要求2所述的电容触摸屏的线路制作方法，其特征在于，所述的镭射设备可为波长为800nm-1500nm的镭射器。
5.根据权利要求1所述的电容触摸屏的线路制作方法，其特征在于，所述镭射扫描速度为 800mm/s-2000mm/s，频率为80khz-250khz。
6.根据权利要求1所述的电容触摸屏的线路制作方法，其特征在于，所述镭射线宽0.01mm-0.05mm，两镭射线间距最小为0.1mm。
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2013
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