CN103914195A - 一种电容触摸屏线路成型的制作方法 - Google Patents
一种电容触摸屏线路成型的制作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103914195A CN103914195A CN201310007197.7A CN201310007197A CN103914195A CN 103914195 A CN103914195 A CN 103914195A CN 201310007197 A CN201310007197 A CN 201310007197A CN 103914195 A CN103914195 A CN 103914195A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- radium
- shine
- glass
- ito
- moulding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
本发明提供一种电容触摸屏线路成型的制作方法，采用镭射方式将ITOGLASS上的ITO镀层用镭射光烧灼去除，从而实现线路的成型。采用镭射方式所制成的线路在线路宽度要求上有着明显的优势，且在环境、设备、场地要求上比湿蚀刻有着明显优势，在蚀刻良率上比湿蚀刻明显高，在工艺操作也比湿蚀刻更简便且更环保，因其无需太多专业设备，产品成本也在很大程度上降低了。
Description
技术领域
本发明涉及触摸屏领域，具体涉及一种电容触摸屏线路成型的制作方法。
背景技术
电容触摸屏，可用手指触摸操作进行人机对话，一般用在触摸屏手机，触摸屏PDA，平板电脑，车载导航仪以及其他工控设备中。
目前在市面上凡是投射式电容触摸屏的 GLASS SENSOR部分线路都由如下两种方法制成，其工艺流程如下：
方式一，在ITO GLASS基板表面涂上光刻胶，然后由菲林遮盖，经曝光显影后，把被菲林遮盖掉没被曝光部位的光刻胶去除后再用药水蚀刻，清洗后，在ITO GLASS表面就留下所需要的线路。如图1和图2所示。
方式二，采用印刷方式将导电油墨印刷在ITO GLASS SENSOR上实现线路的成型，其工艺把导电油墨涂布在网版上，由刮刀从左至右把油墨通过网版上的线路图案转印到ITO GLASS上，再经过烘烤烤干即可。如图3和图4所示。
这两种制造方法存在以下弊端：
1．工艺复杂，对生产环境要求很高；
2．工艺对设备的要求非常高，生产成本相对较高；
3．工艺步骤多，对生产良率有极大限制；
4．不能做高精度线路的印刷；
5. 对蚀刻药水的排放较为严格。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种工艺更简便、设备要求更低、制造精度更高、产品良率更高的电容触摸屏制造方法。
为实现上述目的，本发明提供的技术方案是：一种电容触摸屏线路成型的制作方法，包括以下步骤：步骤一：取一块ITO GLASS导电玻璃基板；步骤二：清洗并干燥所述ITO GLASS导电玻璃基板；步骤三：再把导电油墨涂布在网版上，将油墨印到所述ITO GLASS导电玻璃上；步骤四：干燥所述经油印的ITO GLASS导电玻璃；步骤五：采用镭射方式蚀刻图案，根据所需的镭射线路2图案，将所述ITO GLASS导电玻璃上需要去除的所述ITO镀层用镭射光线烧灼去除，将所述ITO GLASS导电玻璃上的导电油墨用需要去除的部分用镭射光线烧灼去除形成导线走线，所述导线走线之间通过烧灼空隙间隔；步骤六：在所述经镭射去除ITO镀层后的ITO GLASS导电玻璃上丝印银浆；步骤七：用镭射方式蚀刻银浆线，完成电路线路的成型。
进一步地，上述的镭射方式采用镭射设备所发射出的镭射光线照射在所述基材ITO GLASS上以灼烧所述ITO镀层，形成导线走线从而实现线路的成型。
进一步地，上述的电容触摸屏的线路的制作方法，其特征在于，所述的镭射方式还可以采用镭射设备所发射出的镭射光线照射所述导ITO GLASS导电玻璃上的导电油墨以灼烧需要去除的所述导电油墨。
进一步地，上述镭射设备可为波长为800nm-1500nm的镭射器。
进一步地，上述镭射扫描速度为 800mm/s-2000mm/s，频率为80khz-250khz。
更进一步地，上述镭射线宽0.01mm-0.05mm，两镭射线间距最小为0.1mm。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：由于本发明采用镭射成型，在线路宽度要求上比网版印刷有着明显的优势，采用镭射蚀刻在环境、设备、场地要求上比湿蚀刻有着明显优势，采用镭射蚀刻，不需药水蚀刻，无需药水排放，无需再蚀刻完后清洗，在蚀刻良率上比网版印刷明显高，镭射蚀刻为干式蚀刻，不会产生酸性物质的污染，在工艺操作也比湿蚀刻更简便且更环保，本发明采用镭射蚀刻，因其无需太多专业设备，产品成本也在很大程度上降低了。
附图说明
图1到图4是现有技术的示意图；
图5和图6是实施例1的示意图。
图中，1.网版 2.镭射线路 3.刮刀 4.ITO GLASS导电玻璃 5.镭射头 6.镭射光线 7.菲林 8.曝光灯。
具体实施方式
下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解，在阅读了本发明的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附后权利要求书限定的范围。
实施例1
采用镭射方式将ITO GLASS上的银浆用镭射光烧灼去除，从而达到实现线路的成型，其工艺流程如图5和图6所示。
取一块ITO GLASS导电玻璃4基板；清洗并干燥所述ITO GLASS导电玻璃4基板；再把导电油墨涂布在网版1上，将油墨印到所述ITO GLASS导电玻璃4上；干燥所述经油印的ITO GLASS导电玻璃4；采用镭射方式蚀刻图案，根据所需的镭射线路2图案，将所述ITO GLASS导电玻璃4上需要去除的所述ITO镀层用镭射头5发射的镭射光线6烧灼去除，将所述ITO GLASS导电玻璃上需要去除的导电油墨部分用镭射光线6烧灼去除，形成导线走线，所述导线走线之间通过烧灼空隙间隔；所述的镭射方式采用镭射设备所发射出的镭射光线6照射在所述基材ITO GLASS上以灼烧所述ITO镀层，形成导线走线从而实现线路的成型，所述的镭射方式还可以采用1064nm镭射机所发射出的镭射光线6照射所述导ITO GLASS4导电薄膜上的导电油墨以灼烧需要去除的所述导电油墨，其中，优选的镭射扫描速度为 1500mm/s，频率为180khz，镭射线宽0.03mm，两镭射线间距最小为0.1mm。
实施例2
其余与实施例1相同，不同之处在于，所述的1064nm镭射机可以换成1055nm镭射机。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：由于本发明采用镭射成型，在线路宽度要求上比网版印刷有着明显的优势，采用镭射蚀刻在环境、设备、场地要求上比湿蚀刻有着明显优势，采用镭射蚀刻，不需药水蚀刻，无需药水排放，无需再蚀刻完后清洗，在蚀刻良率上比网版印刷明显高，镭射蚀刻为干式蚀刻，不会产生酸性物质的污染，在工艺操作也比湿蚀刻更简便且更环保，本发明采用镭射蚀刻，因其无需太多专业设备，产品成本也在很大程度上降低了。
以上为对本发明实施例的描述，通过对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (6)
1.一种电容触摸屏线路成型的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：取一块ITO GLASS导电玻璃基板；
步骤二：清洗并干燥所述ITO GLASS导电玻璃；
步骤三：再把导电油墨涂布在网版上，将油墨印到所述ITO GLASS导电玻璃上；
步骤四：干燥所述经油印的ITO GLASS导电玻璃；
步骤五：采用镭射方式蚀刻图案，根据所需的镭射线路图案，将所述ITO GLASS导电玻璃上需要去除的所述ITO镀层用镭射设备去除，将所述ITO GLASS导电玻璃上需要去除的导电油墨部分用镭射设备去除，形成导线走线，所述导线走线之间通过烧灼空隙间隔；
步骤六：在所述经镭射去除ITO镀层后的ITO GLASS导电玻璃上丝印银浆；
步骤七：用镭射方式蚀刻银浆线，完成电路线路的成型。
2.根据权利要求1所述的电容触摸屏线路成型的制作方法,其特征在于，所述的镭射方式采用镭射设备所发射出的镭射光线照射在所述ITO GLASS导电玻璃上以灼烧所述ITO镀层，形成导线走线从而实现线路的成型。
3.根据权利要求1所述的电容触摸屏线路成型的制作方法，其特征在于，所述的镭射方式还可以采用镭射设备所发射出的镭射光线照射所述导ITO GLASS导电玻璃上的导电油墨以灼烧需要去除的所述导电油墨。
4.根据权利要求2所述的电容触摸屏线路成型的制作方法，其特征在于，所述的镭射设备可为波长为800nm-1500nm的镭射器。
5.根据权利要求1所述的电容触摸屏线路成型的制作方法，其特征在于，所述镭射扫描速度为 800mm/s-2000mm/s，频率为80khz-250khz。
6.根据权利要求1所述的电容触摸屏线路成型的制作方法，其特征在于，所述镭射线宽为0.01mm-0.05mm，两镭射线间距最小为0.1mm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310007197.7A CN103914195A (zh) | 2013-01-09 | 2013-01-09 | 一种电容触摸屏线路成型的制作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310007197.7A CN103914195A (zh) | 2013-01-09 | 2013-01-09 | 一种电容触摸屏线路成型的制作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103914195A true CN103914195A (zh) | 2014-07-09 |
Family
ID=51039928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310007197.7A Pending CN103914195A (zh) | 2013-01-09 | 2013-01-09 | 一种电容触摸屏线路成型的制作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103914195A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105653081A (zh) * | 2014-11-27 | 2016-06-08 | 财团法人工业技术研究院 | 触控电极层及其制作方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20030011575A1 (en) * | 2001-01-17 | 2003-01-16 | Fujitsu Takamisawa Component Limited | Touch panel |
| CN102033650A (zh) * | 2010-09-29 | 2011-04-27 | 南京点面光电有限公司 | 激光蚀刻银浆铟锡氧化物薄膜的方法 |
| CN102830873A (zh) * | 2012-08-08 | 2012-12-19 | 赣州市德普特科技有限公司 | 电容式触摸屏及其制造方法 |
-
2013
- 2013-01-09 CN CN201310007197.7A patent/CN103914195A/zh active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20030011575A1 (en) * | 2001-01-17 | 2003-01-16 | Fujitsu Takamisawa Component Limited | Touch panel |
| CN102033650A (zh) * | 2010-09-29 | 2011-04-27 | 南京点面光电有限公司 | 激光蚀刻银浆铟锡氧化物薄膜的方法 |
| CN102830873A (zh) * | 2012-08-08 | 2012-12-19 | 赣州市德普特科技有限公司 | 电容式触摸屏及其制造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105653081A (zh) * | 2014-11-27 | 2016-06-08 | 财团法人工业技术研究院 | 触控电极层及其制作方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103914194A (zh) | 一种电容触摸屏的线路制作方法 | |
| CN104635993B (zh) | 一种白色ogs触摸屏中白色边框的制备方法 | |
| CN103631459B (zh) | 触控感应层及其制造方法 | |
| CN103823595A (zh) | 触摸屏制备方法 | |
| WO2015174133A1 (ja) | タッチパネル及びその製造方法 | |
| CN106371686A (zh) | 柔性电容式触摸屏及其制作方法 | |
| CN105930015B (zh) | 一种电容触控屏的制作方法 | |
| CN102486692A (zh) | 触控感应器图案及信号导线的制造方法 | |
| CN206339959U (zh) | 柔性电容式触摸屏 | |
| CN203825594U (zh) | 触控面板的透明感应层结构 | |
| US10379687B2 (en) | Manufacture method for a projection capacitive touch screen | |
| CN102156601A (zh) | 电容式触摸屏导电线路的制造方法 | |
| CN103914195A (zh) | 一种电容触摸屏线路成型的制作方法 | |
| CN104007885B (zh) | 投射式电容触控白板的制造方法及该投射式电容触控白板 | |
| KR20140078753A (ko) | 가요성 기판 상에 미세한 도전성 라인을 형성하기 위해 반투명 원통형 마스터를 사용하는 포토-패터닝 | |
| CN104216577A (zh) | 一种电容屏的制备方法 | |
| CN207690059U (zh) | 一种触控传感器及触控膜 | |
| CN102915165A (zh) | 一种触摸屏双面ito刻蚀方法 | |
| KR101474251B1 (ko) | 터치패널 및 이의 제조장치와, 이의 제조방법. | |
| CN102156602A (zh) | 电容式触摸屏导电线路的生产工艺 | |
| US20150104567A1 (en) | Method for forming a functional pattern on a substrate | |
| CN104461188A (zh) | 一种电容触摸屏搭桥结构的制备方法 | |
| CN209248494U (zh) | 纳米银触控屏 | |
| CN103885652A (zh) | 一种电容触摸屏的制造方法 | |
| CN104020920A (zh) | 一种超薄触摸屏薄膜感应器的生产方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20140709 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |