KR101550481B1 - 패턴 시인성이 개선된 터치 패널, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적어도 하나의 기판; 및 상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴들로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하며, 상기 채널 영역과 비채널 영역은 더미 패턴 형성용 라인에 의해 단선되는 터치 패널, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.

Description

패턴 시인성이 개선된 터치 패널, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치{TOUCH PANEL HAVING A IMPROVED VISIBILITY, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME}
본 발명은 정전용량 터치 패널, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 더미 패턴용 라인을 이용하여 채널 및 비채널 영역을 구분함으로써, 패턴 시인성이 개선된 터치 패널, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
최근 휴대전화, 네비게이션, 은행 단말기 등의 전자 기기에서 입력 장치로 터치 패널이 채용되고 있다. 터치 패널은 그 구조에 따라 저항막 방식, 정전 용량방식, 적외선 방식, 초음파 방식 등으로 구분되는데, 이 중에서 저항막 방식 및 정전용량 방식이 최근에 주류를 이루고 있다. 저항막 방식은 투명 전도성층이 각각 형성된 2장의 기판이 일정한 간격으로 이격 배치된 구조로, 터치 시 투명 전도성층들이 서로 접촉되면서 변화되는 저항값으로 입력 좌표를 인지하는 방식으로 작동된다. 이와 같은 저항막 방식의 터치 패널은 동작 범위가 좁고, 멀티 터치 구현이 어려울 뿐 아니라, 2장의 기판이 이격 배치된 구조이기 때문에, 휘도 및 콘트라스트(contrast) 등의 광학 특성이 나빠지는 문제점이 있다.
이에 반해, 정전용량 방식의 터치 패널은 1장 또는 2장의 기판에 투명 전도성층을 형성하고, 터치 인식을 위해 상기 투명 전도성층을 일정한 패턴 형상으로 식각하여, 전기가 흐르는 채널 영역과 전기가 흐르지 않는 비채널 영역을 형성하는 방식으로 제조된다. 이와 같은 정전용량 방식의 터치 패널은 손가락 등이 접촉하였을 때, 패턴이 형성된 각 채널에서 정전 용량의이 변화되는 것을 감지하여 입력 좌표를 인지하는 방식으로 작동되며, 저항막 방식에 비해 얇은 두께로 터치 패널을 형성할 수 있으며, 멀티 터치가 가능하다는 장점이 있다.
도 1에는 종래의 정전 용량 방식 터치 패널의 전도성층에 형성되는 채널 영역(10) 및 비채널 영역(20)의 형상이 도시되어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래에는 비채널 영역(20)에 해당하는 부분의 전도성층을 식각을 통해 제거하고, 채널 영역(10)에만 전도성층을 남겨둔 다음, 상기 채널 영역(10)의 말단에 외부 장치와 전기적으로 연결되는 배선(30)을 형성함으로써, 채널 영역(10)에만 전기가 흐르도록 하는 방법이 사용되어 왔다. 그러나, 이와 같이 비채널 영역(20)의 전도성층을 식각을 통해 제거할 경우, 투명 전도성층이 존재하는 채널 영역(10)과 투명 전도성층이 존재하지 않는 비채널 영역(20)에서 광 투과율, 광 반사율 등과 같은 광학 특성의 차이가 커지기 때문에, 외부에서 패턴이 보인다는 문제점이 있다. 일반적으로 터치 패널은 액정 표시장치와 같은 표시 장치 위에 겹쳐 배치되기 때문에, 표시 장치에 표시된 화상이 터치 패널을 통과하여 관찰자에게 도달하게 되는데, 상기와 같이 터치 패널의 전도막 패턴이 시인될 경우, 디스플레이 품질이 현격히 떨어지게 된다.
이를 개선하기 위해서, 종래에는 전도성층과 기판 사이에 굴절율이 설계된 언더코팅층을 도입함으로써, 채널 영역과 비채널 영역의 광학 특성 차이를 최소화하는 방법이 사용되었다. 그러나, 이러한 언더코팅층을 이용한 방법으로는 패턴 시인성 개선에 한계가 있을 뿐 아니라, 제조 공정이 복잡하고, 비용이 높다는 문제가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 더미 패턴 형성용 라인을 이용하여 채널 영역과 비채널 영역을 형성함으로써, 패턴 시인성을 현저히 개선한 터치 패널, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
이를 위해 본 발명은 적어도 하나의 기판; 및 상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴들로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하며, 상기 채널 영역과 비채널 영역은 더미 패턴 형성용 라인에 의해 단선되는 터치 패널을 제공한다.
이때, 상기 더미 패턴 형성용 라인은 선폭이 10 내지 100㎛ 정도인 것이 바람직하다. 또한, 상기 비채널 영역을 구성하는 상기 더미 패턴들은 더미 패턴 상호 간에 전기적으로 연결되지 않도록 분리된 형태로 형성되는 것이 바람직하다.
(아래의 전도성층의 조성물로 ITO관련 재료를 포함할 수 있는지요??-> 네, 포함될 수 있을 것 같습니다.)
한편, 상기 전도성층은 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈, 알루미늄 등과 같은 금속이나, 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 요오드화 구리, 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연 (Zinc Oxide) 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 금속의 금속 산화물; 금이나 은, 구리 등의 물질로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자; 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
다른 측면에서 본 발명은 일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련하는 단계; 및 상기 전도성층에 더미 패턴 형성용 라인을 식각하여 채널 영역 및 비채널 영역을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법을 제공한다.
이때, 상기 더미 패턴 형성용 라인은 선폭이 10 내지 100㎛정도인 것이 바람직하며, 레이저를 이용해 식각되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련하는 단계는, 기판 상에 전도성 재료들을 증착 또는 습식 코팅하는 단계를 포함할 수 있으며, 이때, 상기 전도성 재료는 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈, 알루미늄 등과 같은 금속이나, 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연 (Zinc Oxide) 등으로 이루어진 금속 산화물; 금이나 은, 구리 등의 물질로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자; 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
금, 은, 백금, 구리, 산화티탄, 산화카드뮴, 요오드화 구리, 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석, 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 금속의 금속 산화물; 은이나 구리 등의 물질로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자; 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 상기와 같은 본 발명의 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 예를 들면, 본 발명의 디스플레이 장치는 화상을 표시하기 위한 표시 장치; 및 상기 표시 장치의 일면 상에 부착되며, 적어도 하나의 기판, 상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴으로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층, 및 상기 채널 영역에 연결되어 전원을 공급하는 배선을 포함하고, 상기 채널 영역과 비채널 영역은 더미 패턴 형성용 라인에 의해 전기적으로 단선되는 터치 패널을 포함할 수 있다.
이때, 상기 표시 장치로는 LCD 패널, PDP 패널, OLED 패널, e-paper 및 플렉서블 디스플레이(Flexible display)와 같이 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 표시 장치가 사용될 수 있다.
본 발명은 비채널 영역을 식각하지 않고, 더미 패턴용 라인을 도입하여 비채널 영역과 채널 영역을 전기적으로 단선함으로써, 비채널 영역과 채널 영역 사이의 광학 특성 차이가 없어 외부에서 전도성층 패턴이 보이지 않는다.
또한, 본 발명의 더미 패턴용 라인의 선폭을 10 내지 100㎛로 형성할 경우, 사람의 눈에는 인지되지 않고, 레이저 가공 등을 이용하여 손쉽게 식각할 수 있어 제조가 쉽다는 장점이 있다.고분자 재료, 나노 와이어 또는 탄소나노튜브 등과 같은 전도성 재료로 형성할 경우, 습식 코팅을 통해 전도성층을 손쉽게 형성할 수 있으며, 레이저 등을 통해 상기 전도성 재료 상호 간의 연결을 끊어주는 것만으로 손쉽게 채널 영역과 비채널 영역을 형성할 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 종래의 정전용량 터치 패널의 전도성층 패턴을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 터치 패널의 전도성층 패턴의 일 실시예이다.
도 3은 본 발명의 터치 패널의 전도성층 패턴의 다른 실시예이다.
도 4 ~6은 본 발명의 실시예 1, 2 및 비교예의 전도성층 패턴을 확대 촬영한 사진들이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 다만, 하기 도면은 본 발명을 보다 완전하게 이해할 수 있도록 하기 위해 제시되는 것으로, 본 발명이 상기 도면에 의해 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 터치 패널은 기판 및 상기 기판의 일면에 형성되는 전도성층을 포함하여 이루어진다.
상기 기판으로는 광 투과성이 우수한 투명한 재질의 기판, 예를 들면, 유리 기판이나 플라스틱 기판 등이 사용될 수 있다.
한편, 상기 전도성층에는 터치 인식을 위해, 채널 영역과 비채널 영역이 형성되며, 본 발명에서는 특히 상기 비채널 영역을 전도성층이 존재하지만 실제로는 작동하지 않는 더미 패턴(dummy pattern)으로 형성하는 것을 특징으로 한다. 이를 위해 상기 전도성층에는 채널 영역과 비채널 영역 사이를 단선시키는 더미 패턴용 라인이 도입된다.
도 2에는 본 발명의 전도성층의 일 ?? 실시예가 도시되어 있다.
도 2에 도시된 바와 같이. 본 발명의 터치 패널의 전도성층은 채널 영역(110)과 비채널 영역(120)으로 이루어지며, 상기 채널 영역(110)과 비채널 영역(120)은 더미 패턴 형성용 라인(140)에 의해 전기적으로 분리되어 있다. 한편, 상기 채널 영역(110)은 일반적으로 배선(130) 등을 통해 외부 전원(미도시)과 전기적으로 연결된다. 상기 배선(130)을 통해 전원이 인가되면, 채널 영역(110)을 따라 전기가 흐르게 된다. 이때 비채널 영역(120)은 더미 패턴용 라인(140)에 의해 채널 영역(110)과 분리되어 있기 때문에, 전기가 흐르지 않는다.
한편, 상기 더미 패턴용 라인(140)은 전도성 층을 식각하는 방법으로 형성된다. 식각 방법으로는 레이저 식각과 같은 건식 에칭이나, 습식 에칭이 모두 사용될 수 있으나, 제조 비용, 식각의 정밀도, 경제성 등을 고려할 때, 건식 식각을 이용하는 것이 더 바람직하다.
한편, 상기 더미 패턴용 라인(140)은 그 선폭이 10 내지 100㎛ 정도, 바람직하게는 20 내지 90㎛ 정도, 가장 바람직하게는 20 내지 80㎛ 정도인 것이 좋다. 선폭이 10㎛ 미만인 경우에는 더미 패턴용 라인 형성을 위해 포토 레지스트 공정이 사용되어야 하며, 이 경우 제조 공정이 복잡하고, 비용이 높아진다는 문제점이 있다. 또한, 선폭이 100㎛를 초과하는 경우에는 더미 패턴용 라인이 육안으로 시인될 수 있다.
한편, 도 2에는 특정 형상의 채널 영역과 비채널 영역의 형상이 도시되어 있으나, 이는 일례에 불과하며, 채널과 비채널 영역의 형상은 특별히 제한되지 않는다. 따라서, 상기 채널과 비채널 영역은 다각형, 원형, 삼각형, 사각형, 다이아몬드형, 불규칙한 형태 또는 이들의 조합 등 다양한 형태로 형성될 수 있다.
한편, 도 3에는 본 발명의 터치 패널의 전도성층의 다른 실시예가 도시되어 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 전도성층의 비채널 영역을 이루는 더미 패턴들은 상호간에 전기가 흐르지 않도록 일정한 간격으로 분리된 형태로 형성될 수 있다. 이와 같이 더미 패턴들이 서로 분리된 형태될로 형성되면, 전도성층이 2층(X축 전극, Y축 전극)으로 구성되는 경우에도 오작동을 확실하게 방지할 수 있다. 보다 구체적으로 설명하자면, 전도성층이 2층으로 구성될 경우 더미 패턴이 분리되어 있지 않으면, X축 전극과 가까운 영역을 터치할 경우, Y축에서 발생되는 캐패시티 변화량이 X축 전극의 더미 패턴에 의해 블록킹이 되어 제대로 인식되지 않을 수 있다. 그러나, 도 3과 같이 더미 패턴들을 분리하여 형성하면 이와 같은 문제를 해결할 수 있다.
한편, 본 발명에서 상기 전도성층은 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈, 알루미늄 등과 같은 금속이나, 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연 (Zinc Oxide) 등으로 이루어진 금속 산화물; 금이나 은, 구리 등의 물질로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자; 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
금, 은, 백금, 구리, 산화티탄, 산화카드뮴, 요오드화 구리, 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석, 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 금속의 금속 산화물; 은이나 구리 등의 물질로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자; 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 전도성 재료로 형성될 수 있다.
또한, 상기 전도성층은 사용되는 재료에 따라 적절한 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 전도성층의 재료로 상기와 같은 금속 및 금속 산화물을 이용할 경우, 상기 전도성 층은 예를 들면, 기판 상에 상기 금속 산화물을 증착시키는 등의 방법으로 형성될 수 있다. 상기와 같은 방법으로 전도성 층이 형성되면, 상기 전도성층으로부터 더미 패턴용 라인을 식각 등의 방법을 통해 제거함으로써, 채널 영역과 비채널 영역을 단선시킬 수 있다.
또한, 상기 전도성 재료로 금속 나노 와이어, 전도성 고분자, 탄소 나노튜브, 그라핀 등을 사용할 경우, 상기 전도성 층은, 예를 들면 상기 전도성 재료를 포함하는 코팅액을 제조한 다음, 습식 코팅 방식으로 기판 상에 그 코팅액을 도포하는 습식 코팅 방식으로 형성될 수 있다. 상기와 같이 나노 와이어나 고분자 계열의 전도성 재료를 사용하는 경우, 레이저 등을 통해 상기 전도성 재료 상호 간의 연결을 끊어주는 방법으로 더미 패턴용 라인을 형성함으로써, 손쉽게 채널 영역과 비채널 영역을 단선시킬 수 있다.
이하, 상기와 같은 본 발명의 터치 패널의 제조 방법을 설명한다.
먼저, 일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련한다.
이때 상기 일면에 전도성층이 형성된 기판은, 예를 들면, 기판 상에 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈, 알루미늄 등과 같은 금속이나, 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연 (Zinc Oxide) 등으로 이루어진 금속 산화물산화티탄, 산화카드뮴, 요오드화 구리, 주석을 함유하는 산화 인듐, 안티몬을 함유하는 산화 주석, 불소를 함유하는 산화 주석, 산화 아연 또는 금, 은, 백금, 팔라듐 및/또는 구리와 같은 금속의 산화물 등과 같은 금속 산화물을 증착시키는 등의 방법으로 마련될 수 있다.
또는, 상기 일면에 전도성층이 형성된 기판은, 기판 상에 금속 나노 와이어, 폴리스티렌술포네이트를 포함하는 폴리티오펜계 전도성 고분자, 폴리아닐린계 전도성 고분자, 탄소 나노튜브 및/또는 그라핀 등의 전도성 재료들이 분산된 코팅액을 습식 코팅하는 방법으로 마련될 수 있다.
또는, 상기 일면에 전도성층이 형성된 기판은 상기와 같은 전도성층이 형성된 필름 또는 기판을 구입하는 방법으로 마련될 수도 있다.
상기와 같은 방법으로 일면에 전도성층이 형성된 기판이 마련되면, 상기 전도성층에 더미 패턴 형성용 라인을 식각하여 채널 영역 및 비채널 영역을 형성한다. 이때, 상기 더미 패턴 형성용 라인은 건식 또는 습식 식각을 통해 형성될 수 있으나, 경제성 및 정밀성 등을 감안할 때, 건식 식각, 그 중에서도 특히 레이저 식각을 통해 형성되는 것이 바람직하다.
한편, 본 발명에서 사용되는 레이저로는 광을 발생하는 source에 따라 UV, 가시영역, IR laser레이저 등을 제한 없이 사용할 수 있으며, 특별히 한정되는 것은 아니다.
이때, 상기 더미 패턴 형성용 라인은 선폭이 10 내지 100㎛정도, 바람직하게는 20㎛ 내지 90㎛, 더 바람직하게는 20㎛ 내지 80㎛정도로 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 보다 구체적으로 설명하자면, 본 발명의 디스플레이 장치는 화상을 표시하기 위한 표시 장치; 및 상기 표시 장치의 일면 상에 부착되며, 적어도 하나의 기판과, 상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴으로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하고, 상기 채널 영역과 비채널 영역은 더미 패턴 형성용 라인에 의해 전기적으로 단선되는 터치 패널을 포함할 수 있다.
이때, 상기 표시 장치로는 LCD 패널, PDP 패널, LED 패널 OLED 패널, e-paper 및 Flexible display과 같이 당해 기술 분야에서 사용되는 다양한 표시 장치가 사용될 수 있다.
한편, 상기 터치 패널와 관련하여, 구체적인 내용은 상기에 설명한 것과 동일하므로, 설명을 생략한다.
이하, 바람직한 실시예를 통해 본 발명을 더 자세히 설명한다.
실시예
투명 전도성 필름의 전도성 재료를 은 나노 와이어로 구성하였으며, 전도성 층의 두께는 약 100nm였다. 기재는 125㎛ PET 필름의 일면에 습식 코팅 방식으로 제조를 하였다. 상기 상기 전도성층을 하기 [표 1]에 제시된 조건 하에서 개시된 레이저로 식각하여, 더미 패턴 형성용 라인을 형성하였다.
레이저 종류 주파수 파워 속도(mm/sec) 출력 식각 선폭
실시예 1 IR 레이저
(IPC사, 1064nm)		 25kHz80kHz 9065~70% 1500mm/sec 20W 55㎛
실시예 2 UV 레이저
(Coherent사, 355nm)		 4kHz40kHz 4645~47% 200mm/sec 210W 20㎛
비교예
일면에 ITO 박막이 형성된 투명 전도성 필름을 다음과 같은 식각 조건 하에서, 습식 식각하여 도 1에 도시된 바와 같은 전도성층 패턴을 형성하였다.
식각 조건: 36℃, 40초, dip & DI Wash
식각액: Al etchant
- 55~65% Phosphoric Acid
- 3~5% Acetic Acid
- 1~5% Nitric Acid
- Balance : Water
실시예 1, 2 및 비교예 1의 전도성층 표면을 현미경으로 확대 촬영하였다. 도 4는 실시예 1의 방법으로 제조된 전도성층 표면을 촬영한 사진이며, 도 5는 실시예 2의 방법으로 제조된 전도성층 표면을 촬영한 사진이고, 도 6은 비교예의 전도성층 표면을 촬영한 사진이다.
도 4 ~ 6에 도시된 바와 같이, 실시예 1 및 2의 경우 식각 라인이 현미경 확대 사진을 통해 희미하게 확인될 뿐, 육안으로는 전혀 확인되지 않는 반면, 비교예의 경우, 식각 부분이 확연하게 나타남을 알 수 있다.
10, 110: 채널 영역
20, 120: 비채널 영역
30, 130: 배선
140: 더미 패턴 형성용 라인

Claims (12)

  1. 적어도 하나의 기판; 및
    상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴들로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하며,
    상기 채널 영역과 비채널 영역은 선폭이 10 내지 100㎛인 더미 패턴 형성용 라인에 의해 단선되는 터치 패널.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 더미 패턴들은 더미 패턴 상호 간에 전기적으로 연결되지 않도록 분리된 형태로 형성되는 터치 패널.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 전도성층은 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈 및, 알루미늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속; 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide) 및 산화아연 (Zinc Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 산화물; 금, 은 또는 구리로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 도전성 고분자; 또는 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 터치 패널.
  5. 일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련하는 단계; 및
    상기 전도성층에 선폭이 10 내지 100㎛인 더미 패턴 형성용 라인을 식각하여 채널 영역 및 비채널 영역을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
  6. 삭제
  7. 제5항에 있어서,
    상기 더미 패턴 형성용 라인은 레이저로 식각되는 터치 패널의 제조 방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련하는 단계는, 기판 상에 전도성 재료들을 증착 또는 습식 코팅하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 전도성 재료는 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈 및, 알루미늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속; 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide) 및 산화아연 (Zinc Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 산화물; 금, 은 또는 구리로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 도전성 고분자; 또는 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 터치 패널의 제조 방법.
  10. 청구항 1, 3 및 4 중 어느 하나의 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치.
  11. 화상을 표시하기 위한 표시 장치; 및
    상기 표시 장치의 일면 상에 부착되며, 적어도 하나의 기판 및 상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴으로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하고, 상기 채널 영역과 비채널 영역은 선폭이 10 내지 100㎛인 더미 패턴 형성용 라인에 의해 단선되는 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 표시 장치는 LCD 패널, PDP 패널, LED 패널, OLED 패널, 전자종이(e-paper) 및 플레서블 디스플레이(Flexible display)인 디스플레이 장치.
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