CN105511126B - 显示面板及其制备方法和检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及其制备方法和检测方法，该显示面板包括：阵列基板和对盒基板，阵列基板包括：第一衬底基板，第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，对盒基板包括：第二衬底基板，第二衬底基板上设置与第一基准标记对应的有第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，其中，第一基准标记和第二基准标记的材料为荧光材料。本发明的技术方案，通过在第一衬底基板和第二衬底基板上分别预先设置好对应的第一基准标记和第二基准标记，从而可在对盒处理之后对阵列基板和对盒基板的对盒程度进行检测。

Description

显示面板及其制备方法和检测方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法和检测方法。

背景技术

显示面板是由阵列基板和对盒基板构成，在实际生产过程中，当阵列基板与对盒基板完成对盒后，需要将形成的显示面板进行多项指标检测，并根据检测结果对生产工艺进行调整，以使得产线具备更高的良品率。

显示面板成盒后的对位程度和发生挤压后各结构层与对应衬底基板的位移，是影响显示面板质量的重要指标。显示面板成盒之前我们可以分别管控阵列基板中的衬底基板和对盒基板上的衬底基板的TP值，来保证阵列基板和对盒基板的对盒度。但是填充液晶后导致两个衬底基板产生小范围的位置偏移、以及对显示面板进行挤压而使得阵列基板和/或对盒基板上的至少部分结构层与对应的衬底基板之间产生小范围的位置偏移，会对显示面板的质量产生一定影响。然而，在实际操作过程中，由于两个衬底基板之间产生的位置偏移和各结构层在被挤压后产生的位置偏移，无法进行宏观观察和测量，从而导致在针对这两种位置偏移指标进行生产工艺调整时没有数据基础，进而导致无法对生产工艺进行有针对性的调整。

由上述内容可见，提供一种对显示面板成盒后的对位程度和发生挤压后各结构层与对应衬底基板之间的位移的检测方法,是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

本发明提供一种显示面板及其制备方法和检测方法，可对阵列基板与对盒基板之间的对位程度进行检测。

为实现上述目的，本发明提供了一种显示面板，包括：阵列基板和对盒基板，所述阵列基板包括：第一衬底基板，所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，所述对盒基板包括：第二衬底基板，所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料。

可选地，所述第一基准标记和所述第二基准标记被第一激活光线照射发出不同颜色的光。

可选地，所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层，所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记，所述第一检测标记的材料为荧光材料；

和/或，所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层，所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成有第二检测标记，所述第二检测标记的材料为荧光材料。

可选地，当所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时，各所述第一检测标记和所述第一基准标记在被第二激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

可选地，当所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层时，各所述第二检测标记和所述第二基准标记在被第三激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

可选地，所述第一基准标记位于所述第一衬底基板朝向所述第二衬底基板的一侧，所述第二基准标记位于所述第二衬底基板朝向所述第一衬底基板的一侧。

为实现上述目的，本发明还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

在第一衬底基板上形成第一基准标记，所述第一基准标记的材料为荧光材料；

通过阵列基板制程在所述第一衬底基板上依次形成若干层第一结构层，以制备出阵列基板；

在第二衬底基板上形成与所述第一基准标记对应的第二基准标记，所述第二基准标记的材料为荧光材料；

通过对盒基板制程在所述第二衬底基板上依次形成若干层第二结构层，以制备出对盒基板；

将所述阵列基板和所述对盒基板进行对盒处理。

可选地，至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层，所述通过阵列基板制程在所述第一衬底基板上依次形成若干层第一结构层的过程中，每形成一层所述第一待检测结构层之后，在所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成第一检测标记，所述第一检测标记的材料为荧光材料；

和/或，至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层，所述通过对盒基板制程在所述第二衬底基板上依次形成若干层第二结构层的过程中，每形成一层所述第二待检测结构层之后，在所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成第二检测标记，所述第二检测标记的材料为荧光材料。

为实现上述目的，本发明还提供了一种显示面板的检测方法，所述显示面板包括：阵列基板和对盒基板，所述阵列基板包括：第一衬底基板，所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，所述对盒基板包括：第二衬底基板，所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料；

所述显示面板的检测方法包括：

采用第一激活光线照射所述第一基准标记和所述第二基准标记，以使得第一基准标记和第二基准标记发光；

根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度。

可选地，所述根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度的步骤包括：

判断所述第一基准标记与所述第二基准标记在与所述第一衬底基板平行的平面上的正投影是否完全重合；

当判断出所述第一基准标记与第二基准标记在与所述第一衬底基板平行的平面上的正投影不完全重合时，则在与所述第一衬底基板平行的平面上建立第一直角坐标系，并获取第一基准标记在所述第一直角坐标系上的正投影对应的第一位置坐标，以及获取第二基准标记在所述第一直角坐标系上的正投影对应的第二位置坐标；

根据所述第一位置坐标和所述第二位置坐标评估所述阵列基板与所述对盒基板的对位程度。

可选地，所述第一基准标记和所述第二基准标记被所述第一激活光线照射发出不同颜色的光。

可选地，所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层，所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记，所述第一检测标记的材料为荧光材料；

和/或，所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层，所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成有第二检测标记，所述第二检测标记的材料为荧光材料。

可选地，当所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时，所述显示面板的检测方法还包括：

对所述显示面板进行接触云纹检测处理；

当检测出所述显示面板存在接触云纹时，采用第二激活光线照射所述第一基准标记和各所述第一待检测结构层上的所述第一检测标记，以使得所述第一基准标记和各所述第一检测标记发光；

根据各所述第一检测标记与所述第一基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第一待检测结构层与所述第一衬底基板之间的偏移量。

可选地，所述根据各所述第一检测标记与所述第一基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第一待检测结构层与所述第一衬底基板之间的偏移量的步骤包括：

在与所述第一衬底基板平行的平面上建立第二直角坐标系，并获取各所述第一检测标记在所述第二直角坐标系上的正投影对应的第三位置坐标，以及获取第一基准标记在所述第二直角坐标系上的正投影对应的第四位置坐标；

根据各所述第三位置坐标和所述第四位置坐标计算对应的各第一待检测结构层与所述第一衬底基板之间的偏移量。

可选地，各所述第一检测标记和所述第一基准标记在被所述第二激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

可选地，当所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层时，所述显示面板的检测方法还包括：

对所述显示面板进行接触云纹检测处理；

当检测出所述显示面板存在接触云纹时，采用第三激活光线照射所述第二基准标记和各所述第二待检测结构层上的所述第二检测标记，以使得所述第二基准标记和各所述第二检测标记发光；

根据各所述第二检测标记与所述第二基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第二待检测结构层与所述第二衬底基板之间的偏移量。

可选地，所述根据各所述第二检测标记与所述第二基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第二待检测结构层与所述第二衬底基板之间的偏移量的步骤包括：

在与所述第二衬底基板平行的平面上建立第三直角坐标系，并获取各所述第二检测标记在所述第三直角坐标系上的正投影对应的第五位置坐标，以及获取第二基准标记在所述第三直角坐标系上的正投影对应的第六位置坐标；

根据各所述第五位置坐标和所述第六位置坐标计算对应的各第二待检测结构层与所述第二衬底基板之间的偏移量。

可选地，各所述第二检测标记和所述第二基准标记在被所述第三激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供了一种显示面板及其制备方法和检测方法，该显示面板包括：阵列基板和对盒基板，阵列基板包括：第一衬底基板，第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，对盒基板包括：第二衬底基板，第二衬底基板上设置与第一基准标记对应的有第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，其中，第一基准标记和第二基准标记的材料为荧光材料。本发明的技术方案，通过在第一衬底基板和第二衬底基板上分别预先设置好对应的第一基准标记和第二基准标记，从而可在对盒处理之后对阵列基板和对盒基板的对盒程度进行检测。

附图说明

图1为本发明实施例一提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例二提供的一种显示面板的制备方法的流程图；

图3为本发明实施例三提供的一种显示面板的检测方法的流程图；

图4为本发明中利用图像获取设备获取到的显示面板图像的示意图；

图5为本发明实施例四提供的一种显示面板的检测方法的流程图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的一种显示面板及其制备方法和检测方法行详细描述。

实施例一

图1为本发明实施例一提供的一种显示面板的结构示意图，如图1所示，该显示面板包括：对盒处理后的阵列基板1和对盒基板2，阵列基板1包括：第一衬底基板3，第一衬底基板3上设置有第一基准标记7和通过阵列基板1制程依次形成的若干层第一结构层5(图1中仅示例性画出一层第一结构层5)，对盒基板2包括：第二衬底基板4，第二衬底基板4上设置与第一基准标记7对应的有第二基准标记8和通过对盒基板2制程依次形成的若干个层二结构层(图1中仅示例性画出一层第二结构层6)，其中，第一基准标记7和第二基准标记8的材料为荧光材料。

需要说明的是，本实施例中第一基准标记7与第二基准标记8对应设置具体是指，当阵列基板1与对盒基板2在完全对位的情况下，第一基准标记7与第二基准标记8在与第一衬底基板3平行的平面上的正投影完全重合。

在实际对盒过程中，受到工艺精度、液晶填充、外部环境等因素的影响等，使得对盒处理后的阵列基板1与对盒基板2之间没有完全对位，即两者之间产生了一定的偏移量。为检测出该偏移量，本发明的技术方案通过在第一衬底基板3上预先设置由荧光材料构成的第一基准标记7，以及在第二衬底基板4上预先设置由荧光材料构成的第二基准标记8。当检测人员希望对阵列基板1与对盒基板2的对位程度进行检测时，仅需激活第一基准标记7和第二基准标记8进行发光，并基于第一基准标记7和第二基准标记8的相对位置来对阵列基板1与对盒基板2的对位程度进行判断。

需要说明的是，检测人员可以预先根据实际经验来建立第一基准标记7和第二基准标记8的相对位置与对位程度的对应关系表。在实际检测过程中，仅需获取第一基准标记7和第二基准标记8的相对位置，即可查询出对应的阵列基板1与对盒基板2的对位程度。

可选地，第一基准标记7和第二基准标记8被第一激活光线激活后发出不同颜色的光，从而可方便检查人员快速的对第一基准标记7和第二基准标记8进行识别。

可选地，第一基准标记7位于第一衬底基板3朝向第二衬底基板4的一侧，第二基准标记8位于第二衬底基板4朝向第一衬底基板3的一侧。此时，可避免第一基准标记7和第二基准标记8与产线中的运输装置接触而造成第一基准标记7和第二基准标记8被磨损。

可选地，阵列基板1中的至少一层第一结构层5为第一待检测结构层，第一待检测结构层上对应第一基准标记7的位置形成有第一检测标记9，第一检测标记9的材料为荧光材料；和/或，对盒基板2中的至少一层第二结构层6为第二待检测结构层，第二待检测结构层上对应第二基准标记8的位置形成有第二检测标记10，第二检测标记10的材料为荧光材料。

需要说明的是，本实施例中的第一检测标记9与第一基准标记7对应，具体是指第一待检测结构层上形成的第一基准标记7与第一检测标记9在与第一衬底基板3平行的平面上的正投影完全重合。本实施例中的第二检测标记10与第一基准标记7对应，具体是指第二待检测结构层上形成的第二基准标记8与第一检测标记9在与第二衬底基板4平行的平面上的正投影完全重合。

在对盒处理后，往往需要对显示面板进行接触云纹(Touch mura)检测，以检测显示面板上是否存在接触云纹。具体地，将显示面板呈现纯黑画面，并敲打显示面板的表面，以使得阵列基板1和/或对盒基板2上的某些结构层与对应的衬底基板之间产生相对位移。而在敲打过后，部分产生了相对位移的结构层由于回复力不足，从而造成显示面板上部分像素单元有泛白漏光的现象，进而造成显示面板上出现云纹，而这些云纹称为接触云纹。

在本发明中，为检测出阵列基板1上的某一第一结构层5是否是造成接触云纹的一个因素，则在该第一结构层5上预先形成第一检测标记9，并在检测出显示面板存在接触云纹时，激活该第一检测标记9和阵列基板1上的第一基准标记7，通过检测该第一检测标记9与第一基准标记7的相对位置，从而可判断该第一结构层5是否是造成接触云纹的因素。具体地，判断该第一检测标记9与第一基准标记7在与第一衬底基板3上的正投影是否重合，若判断结果为“否”时，则说明该第一结构层5是造成接触云纹的因素，此时还可对偏移数据进行获取；若判断结果为“是”时，则说明该第一结构层5不是造成接触云纹的因素。需要说明的是，本发明中阵列基板1上需要进行上述检测的第一结构层5即为第一待检测结构层，对盒基板2上需要进行上述检测的第二结构层6即为第二待检测结构层；对于检测对盒基板2上的某一层第二结构层6(即为第二待检测结构层)是否是造成接触云纹的一个因素的检测方法也可采用上述检测方法，具体过程此处不再赘述。

本发明的技术方案通过在至少一层第一结构层5上形成第一检测标记9，和/或在至少一层第二结构层6上形成第二检测标记10，可在检测出显示面板存在接触云纹时，激活各第一检测标记9、各第二检测标记10、第一基准标记7和第二基准标记8，并通过检测各第一检测标记9与第一基准标记7的相对位置，以及检测各第二检测标记10与第二基准标记8的相对位置，从而可对造成显示面板出现接触云纹的结构层进行分析，并提供相应的偏移数据。

可选地，各第一检测标记9和第一基准标记7在被第二激活光线照射后发出的光的颜色均不同，各第二检测标记10和第二基准标记8在被第三激活光线照射后发出的光的颜色均不同，从而可方便检查人员快速的根据各标记的颜色对对应的基板或结构层进行识别。

本实施例中第一激活光线、第二激活光线和第三激活光线均为波长范围在200～400nm的紫外光。在实际应用中，可根据各第一检测标记9、各第二检测标记10、第一基准标记7和第二基准标记8的材料选定相应的激活光线。

需要说明的是，阵列基板制程和对盒基板制程为本领域的常用工艺，具体过程此处不再详细描述。本发明中的第一结构层包括但不限于栅线层、栅绝缘层、有源层、数据线层、钝化层或像素电极层；第二结构层包括但不限于彩膜层、公共电极层或隔垫物层。

图2为本发明实施例二提供的一种显示面板的制备方法的流程图，如图2所示，该制备方法用于制备上述实施例一中的显示面板，该制备方法包括：

步骤101、在第一衬底基板上形成第一基准标记。

在步骤101中，第一基准标记的材料为荧光材料，该荧光材料在未被激活时呈现透明态，从而可避免标记影响对应位置的透过率。优选地，第一基准标记形成于第一衬底基板朝向第二衬底基板的一侧，从而可避免在后续运输第一衬底基板的过程中第一基准标记与产线中的运输装置接触而造成第一基准标记被磨损。

步骤102、通过阵列基板制程在第一衬底基板上依次形成若干层第一结构层，以制备出阵列基板。

可选地，当阵列基板中的至少一层第一结构层为第一待检测结构层时，则在每形成一层第一待检测结构层之后，在第一待检测结构层上对应第一基准标记的位置形成第一检测标记，第一检测标记的材料为荧光材料。

步骤103、在第二衬底基板上形成与第一基准标记对应的第二基准标记。

在步骤103中，第二基准标记的材料为荧光材料，该荧光材料在未被激活时呈现透明态。优选地，第二基准标记形成于第二衬底基板朝向第一衬底基板的一侧，从而可避免在后续运输第二衬底基板的过程中第一基准标记与产线中的运输装置接触而造成第一基准标记被磨损。

步骤104、通过对盒基板制程在第二衬底基板上依次形成若干层第二结构层，以制备出对盒基板。

可选地，当对盒基板中的至少一层第二结构层为第二待检测结构层时，则在每形成一层第二待检测结构层之后，在第二待检测结构层上对应第二基准标记的位置形成第二检测标记，第一检测标记的材料为荧光材料。

步骤105、将阵列基板和对盒基板进行对盒处理。

需要说明的是，阵列基板制程、对盒基板制程和对盒工艺为本领域的常用工艺，具体过程不再详细描述。

图3为本发明实施例三提供的一种显示面板的检测方法的流程图，如图3所示，其中该显示面板采用上述实施例一提供的显示面板，具体地，该显示面板包括：阵列基板和对盒基板，阵列基板包括：第一衬底基板，第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，对盒基板包括：第二衬底基板，第二衬底基板上设置与第一基准标记对应的有第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，第一基准标记和第二基准标记的材料均为荧光材料，该检测方法包括：

步骤201：采用第一激活光线照射第一基准标记和第二基准标记，以使得第一基准标记和第二基准标记发光。

在步骤201中，通过第一激活光线照射第一基准标记和第二基准标记以激活荧光材料，此时第一基准标记和第二基准标记呈现着色态。需要说明的是，该第一激活光线具体为波长范围在200～400nm的紫外光。

优选地，第一基准标记和第二基准标记被第一激活光线照射发出不同颜色的光，以便于检测人员快速的对第一基准标记和第二基准标记进行识别。

步骤202：根据第一基准标记和第二基准标记的相对位置来检测阵列基板和对盒基板的对位程度。

可选地，步骤202包括：

步骤2021：判断第一基准标记与第二基准标记在与第一衬底基板平行的平面上的正投影是否完全重合。

在步骤2021中，检测人员(或者，相应的图像获取设备)正对显示面板且保证视线与显示面板垂直，以此来观察第一基准标记与第二基准标记是否重合。当观察到第一基准标记与第二基准标记重合时，则说明第一基准标记与第二基准标记在与第一衬底基板平行的平面上的正投影完全重合，此时阵列基板和对盒基板的完全对位；当观察到第一基准标记与第二基准标记不重合时，则说明第一基准标记与第二基准标记在与第一衬底基板平行的平面上的正投影不完全重合，则进行步骤2022。

步骤2022：在与第一衬底基板平行的平面上建立第一直角坐标系，并获取第一基准标记在第一直角坐标系上的正投影对应的第一位置坐标，以及获取第二基准标记在第一直角坐标系上的正投影对应的第二位置坐标。

图4为本发明中利用图像获取设备获取到的显示面板图像的示意图，如图4所示，在步骤2022中，将图像获取设备与显示面板正对，并获取显示面板的图像，并在获取到的图像中建立第一直角坐标系，同时测得该图像中第一基准标记7对应的第一位置坐标，以及第二基准标记8对应的第二位置坐标。

步骤2023：根据第一位置坐标和第二位置坐标评估阵列基板和对盒基板的对位程度。

在步骤2023中，检测人员可基于第一位置坐标和第二位置坐标来对阵列基板和对盒基板的对位程度进行评估。例如：根据第一位置坐标和第二位置坐标计算两者对应的向量，从而可以获知阵列基板与对盒基板在水平横向方向上产生的横向偏移量，以及在水平纵向方向上产生的纵向偏移量，然后基于预先设定好的评估规则根据该横向偏移量和/或纵向偏移量来对对位程度进行评估。或者，计算第一位置坐标和第二位置坐标之间的距离，并根据预设设定好的距离-对位程度对应表来查询出该距离对应的对位程度。

需要说明的是，上述基于第一位置坐标和第二位置坐标来计算向量或计算距离以评估对位程度的技术手段，其仅起到示例性作用，这并不会对本发明的技术方案产生限制。本领域技术人员应该知晓的是，但凡以第一位置坐标和第二位置坐标作为基础并进行相应运算从而对对位程度进行评估的技术手段，均应属于本发明的保护范围。

图5为本发明实施例四提供的一种显示面板的检测方法的流程图，如图5所示，在该显示面板中，不仅第一衬底基板上形成有第一基准标记，第二衬底基板上形成有第二基准标记，而且阵列基板中的至少一层第一结构层为第一待检测结构层，第一待检测结构层上对应第一基准标记的位置形成有第一检测标记，对盒基板中的至少一层第二结构层为第二待检测结构层，第二待检测结构层上对应第二基准标记的位置形成有第二检测标记，第一检测标记和第二检测标记的材料均为荧光材料。本实施例提供的检测方法不但可以对阵列基板和对盒基板的对位程度进行检测，还可以对显示面板中的某一个或多个结构层是否为导致接触云纹的因素进行检测，该检测方法包括：

步骤301：采用第一激活光线照射第一基准标记和第二基准标记，以使得第一基准标记和第二基准标记发光。

步骤302：根据第一基准标记和第二基准标记的相对位置来检测阵列基板和对盒基板的对位程度。

需要说明的是，对于步骤301和步骤302的具体内容可参见上述实施例二中对步骤201和步骤202的描述，此处不再赘述。

步骤303：对显示面板进行接触云纹检测处理。

在步骤303中，具体地，将显示面板呈现纯黑画面，并敲打显示面板的表面，然后观察显示面板上是否存在泛白漏光的现象。若不存在泛白漏光现象，则说明显示面板不存在接触云纹，显示面板中的各结构层均没有产生偏移。若存在泛白漏光现象，则说明显示面板存在接触云纹，此时进行步骤304。

步骤304：采用第二激活光线照射第一基准标记和各第一待检测结构层上的第一检测标记，以使得第一基准标记和各第一检测标记发光。

在步骤304中，该第二激活光线具体为波长范围在200～400nm的紫外光。

优选地，各第一检测标记以及第一基准标记被第二激活光线照射发出不同颜色的光，以便于检测人员快速的对各第一检测标记以及第一基准标记进行识别。

步骤305：根据各第一检测标记与第一基准标记的相对位置，来检测对应的各第一待检测结构层与第一衬底基板之间的偏移量。

可选地，步骤305包括：

步骤3051：在与第一衬底基板平行的平面上建立第二直角坐标系，并获取各第一检测标记在第二直角坐标系上的正投影对应的第三位置坐标，以及获取第一基准标记在第二直角坐标系上的正投影对应的第四位置坐标。

在步骤3051中，利用图像获取设备与显示面板正对，并获取显示面板的图像，并在获取到的图像中建立第二直角坐标系，同时测得该图像中各第一检测标记对应的第三位置坐标，以及第一基准标记对应的第四位置坐标。

步骤3052：根据各第三位置坐标和第四位置坐标计算对应的各第一待检测结构层与第一衬底基板之间的偏移量。

在步骤3052中，以检测某一层第一待检测结构层与第一衬底基板之间的偏移量为例进行说明。具体地，根据该层第一待检测结构层上第一检测标记对应的第三位置坐标与第一基准标记对应的第四位置坐标，来计算两者对应的向量，从而获知该第一待检测结构层与第一衬底基板之间在水平横向方向上产生的横向偏移量，以及在水平纵向方向上产生的纵向偏移量；然后，计算该第三位置坐标和第四位置坐标之间的距离，从而获知该第一待检测结构层与第一衬底基板之间的总偏移量。

步骤306：采用第三激活光线照射第二基准标记和各第二待检测结构层上的第二检测标记，以使得第二基准标记和各第二检测标记发光。

在步骤306中，该第三激活光线具体为波长范围在200～400nm的紫外光。

优选地，各第二检测标记以及第二基准标记被第三激活光线照射发出不同颜色的光，以便于检测人员快速的对各第二检测标记以及第二基准标记进行识别。

步骤307：根据各第二检测标记与第二基准标记的相对位置，来检测对应的各第二待检测结构层与第二衬底基板之间的偏移量。

可选地，步骤307包括：

步骤3071：在与第二衬底基板平行的平面上建立第三直角坐标系，并获取各第二检测标记在第三直角坐标系上的正投影对应的第五位置坐标，以及获取第二基准标记在第三直角坐标系上的正投影对应的第六位置坐标。

在步骤3071中，利用图像获取设备与显示面板正对，并获取显示面板的图像，并在获取到的图像中建立第三直角坐标系，同时测得该图像中各第二检测标记对应的第五位置坐标，以及第二基准标记对应的第六位置坐标。

步骤3072：根据各第三位置坐标和第四位置坐标计算对应的各第一待检测结构层与第一衬底基板之间的偏移量。

在步骤3072中，以检测某一层第二待检测结构层与第二衬底基板之间的偏移量为例进行说明。具体地，根据该层第二待检测结构层上第二检测标记对应的第五位置坐标与第二基准标记对应的第六位置坐标，来计算两者对应的向量，从而获知该第二待检测结构层与第二衬底基板之间在水平横向方向上产生的横向偏移量，以及在水平纵向方向上产生的纵向偏移量；然后，计算该第五位置坐标和第六位置坐标之间的距离，从而获知该第二待检测结构层与第二衬底基板之间的总偏移量。

需要说明的是，在本实施例中，仅需满足步骤304先于步骤305执行，步骤306先于步骤307执行即可，步骤306可先于步骤304执行，或者步骤306与步骤304同时执行。此外，在步骤304和步骤306均已完成执行之后，步骤307也可以先于步骤305执行，或步骤307与步骤305同时执行。

作为本实施例中一种优选方案，显示面板上第一基准标记、第二基准标记、各第一检测标记以及各第二检测标记处于激活状态时，发出光的颜色均不同。此时，检测人员可基于各标记的颜色来辨别对应的基板或结构层。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (16)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板和对盒基板，所述阵列基板包括：第一衬底基板，所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，所述对盒基板包括：第二衬底基板，所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料；

所述第一基准标记和所述第二基准标记被第一激活光线照射发出不同颜色的光。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层，所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记，所述第一检测标记的材料为荧光材料；

和/或，所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层，所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成有第二检测标记，所述第二检测标记的材料为荧光材料。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，当所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时，各所述第一检测标记和所述第一基准标记在被第二激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，当所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层时，各所述第二检测标记和所述第二基准标记在被第三激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一基准标记位于所述第一衬底基板朝向所述第二衬底基板的一侧，所述第二基准标记位于所述第二衬底基板朝向所述第一衬底基板的一侧。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在第一衬底基板上形成第一基准标记，所述第一基准标记的材料为荧光材料；

通过阵列基板制程在所述第一衬底基板上依次形成若干层第一结构层，以制备出阵列基板；

在第二衬底基板上形成与所述第一基准标记对应的第二基准标记，所述第二基准标记的材料为荧光材料；

通过对盒基板制程在所述第二衬底基板上依次形成若干层第二结构层，以制备出对盒基板；

将所述阵列基板和所述对盒基板进行对盒处理；

所述第一基准标记和所述第二基准标记被第一激活光线照射发出不同颜色的光。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，

至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层，所述通过阵列基板制程在所述第一衬底基板上依次形成若干层第一结构层的过程中，每形成一层所述第一待检测结构层之后，在所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成第一检测标记，所述第一检测标记的材料为荧光材料；

和/或，至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层，所述通过对盒基板制程在所述第二衬底基板上依次形成若干层第二结构层的过程中，每形成一层所述第二待检测结构层之后，在所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成第二检测标记，所述第二检测标记的材料为荧光材料。

8.一种显示面板的检测方法，其特征在于，所述显示面板包括：阵列基板和对盒基板，所述阵列基板包括：第一衬底基板，所述第一衬底基板上设置有第一基准标记和通过阵列基板制程依次形成的若干层第一结构层，所述对盒基板包括：第二衬底基板，所述第二衬底基板上设置有与所述第一基准标记对应的第二基准标记和通过对盒基板制程依次形成的若干层第二结构层，所述第一基准标记和所述第二基准标记的材料均为荧光材料；

所述显示面板的检测方法包括：

采用第一激活光线照射所述第一基准标记和所述第二基准标记，以使得第一基准标记和第二基准标记发光；

根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度；

所述第一基准标记和所述第二基准标记被所述第一激活光线照射发出不同颜色的光。

9.根据权利要求8所述的显示面板的检测方法，其特征在于，所述根据所述第一基准标记和所述第二基准标记的相对位置来检测所述阵列基板和所述对盒基板的对位程度的步骤包括：

判断所述第一基准标记与所述第二基准标记在与所述第一衬底基板平行的平面上的正投影是否完全重合；

当判断出所述第一基准标记与第二基准标记在与所述第一衬底基板平行的平面上的正投影不完全重合时，则在与所述第一衬底基板平行的平面上建立第一直角坐标系，并获取第一基准标记在所述第一直角坐标系上的正投影对应的第一位置坐标，以及获取第二基准标记在所述第一直角坐标系上的正投影对应的第二位置坐标；

根据所述第一位置坐标和所述第二位置坐标评估所述阵列基板与所述对盒基板的对位程度。

10.根据权利要求8所述的显示面板的检测方法，其特征在于，所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层，所述第一待检测结构层上对应所述第一基准标记的位置形成有第一检测标记，所述第一检测标记的材料为荧光材料；

和/或，所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层，所述第二待检测结构层上对应所述第二基准标记的位置形成有第二检测标记，所述第二检测标记的材料为荧光材料。

11.根据权利要求10所述的显示面板的检测方法，其特征在于，当所述阵列基板中的至少一层所述第一结构层为第一待检测结构层时，所述显示面板的检测方法还包括：

对所述显示面板进行接触云纹检测处理；

当检测出所述显示面板存在接触云纹时，采用第二激活光线照射所述第一基准标记和各所述第一待检测结构层上的所述第一检测标记，以使得所述第一基准标记和各所述第一检测标记发光；

根据各所述第一检测标记与所述第一基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第一待检测结构层与所述第一衬底基板之间的偏移量。

12.根据权利要求11所述的显示面板的检测方法，其特征在于，所述根据各所述第一检测标记与所述第一基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第一待检测结构层与所述第一衬底基板之间的偏移量的步骤包括：

在与所述第一衬底基板平行的平面上建立第二直角坐标系，并获取各所述第一检测标记在所述第二直角坐标系上的正投影对应的第三位置坐标，以及获取第一基准标记在所述第二直角坐标系上的正投影对应的第四位置坐标；

根据各所述第三位置坐标和所述第四位置坐标计算对应的各第一待检测结构层与所述第一衬底基板之间的偏移量。

13.根据权利要求11所述的显示面板的检测方法，其特征在于，各所述第一检测标记和所述第一基准标记在被所述第二激活光线照射后发出的光的颜色均不同。

14.根据权利要求10所述的显示面板的检测方法，其特征在于，当所述对盒基板中的至少一层所述第二结构层为第二待检测结构层时，所述显示面板的检测方法还包括：

对所述显示面板进行接触云纹检测处理；

当检测出所述显示面板存在接触云纹时，采用第三激活光线照射所述第二基准标记和各所述第二待检测结构层上的所述第二检测标记，以使得所述第二基准标记和各所述第二检测标记发光；

根据各所述第二检测标记与所述第二基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第二待检测结构层与所述第二衬底基板之间的偏移量。

15.根据权利要求14所述的显示面板的检测方法，其特征在于，所述根据各所述第二检测标记与所述第二基准标记的相对位置，来检测对应的各所述第二待检测结构层与所述第二衬底基板之间的偏移量的步骤包括：

在与所述第二衬底基板平行的平面上建立第三直角坐标系，并获取各所述第二检测标记在所述第三直角坐标系上的正投影对应的第五位置坐标，以及获取第二基准标记在所述第三直角坐标系上的正投影对应的第六位置坐标；

根据各所述第五位置坐标和所述第六位置坐标计算对应的各第二待检测结构层与所述第二衬底基板之间的偏移量。

16.根据权利要求14所述的显示面板的检测方法，其特征在于，各所述第二检测标记和所述第二基准标记在被所述第三激活光线照射后发出的光的颜色均不同。