CN105452173A - 紫外线照射装置 - Google Patents

紫外线照射装置 Download PDF

Info

Publication number
CN105452173A
CN105452173A CN201480044686.2A CN201480044686A CN105452173A CN 105452173 A CN105452173 A CN 105452173A CN 201480044686 A CN201480044686 A CN 201480044686A CN 105452173 A CN105452173 A CN 105452173A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ultraviolet
irradiation
irradiation portion
uitraviolet intensity
measurement unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201480044686.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105452173B (zh
Inventor
小林伸次
阿部法光
出健志
城田昭彦
竹内贤治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Publication of CN105452173A publication Critical patent/CN105452173A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105452173B publication Critical patent/CN105452173B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J1/4228—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors arrangements with two or more detectors, e.g. for sensitivity compensation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J1/429—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to measurement of ultraviolet light
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/59—Transmissivity
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
    • C02F1/283—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using coal, charred products, or inorganic mixtures containing them
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322—Lamp arrangement
    • C02F2201/3227—Units with two or more lamps
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326—Lamp control systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/005—Processes using a programmable logic controller [PLC]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/005—Processes using a programmable logic controller [PLC]
    • C02F2209/008—Processes using a programmable logic controller [PLC] comprising telecommunication features, e.g. modems or antennas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00—Specific treatment goals
    • C02F2303/02—Odour removal or prevention of malodour
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00—Specific treatment goals
    • C02F2303/04—Disinfection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J2001/4247—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors for testing lamps or other light sources

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

实施方式的紫外线照射装置具备照射部、计测部、检测部、计算部、显示部。照射部向成为处理对象的处理水照射处理用的紫外线。计测部计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度。检测部根据通过计测部计测到的紫外线强度来检测照射部发生了劣化的情况。计算部根据与预先设定的设定值相应地从照射部照射的紫外线的紫外线强度与通过计测部计测出的紫外线强度，计算处理水的紫外线透射率。显示部显示基于检测部的照射部的劣化的检测结果以及通过计算部计算出的紫外线透射率。

Description

紫外线照射装置
技术领域
本发明的实施方式涉及一种紫外线照射装置。
背景技术
在以往的消毒装置中，为了进行上下水道中的自来水或者地下水等的杀菌/消毒、工业用水的除臭/脱色、纸浆的漂白、以及医疗设备的杀菌等，使用臭氧、氯气等化学制剂。然而，在以往的消毒装置中，为了将臭氧、化学制剂均匀地溶于处理水中，滞留槽、喷淋泵等搅拌装置是必需品，但无法立即应对水质、水量的变化。
对此，根据使用从紫外线灯照射的紫外线对处理对象的处理水进行处理的消毒装置(紫外线照射装置的一例)，能够进行上下水道中的自来水或者地下水等的杀菌/消毒/脱色、工业用水的除臭/脱色、纸浆的漂白等，并且能够通过调整紫外线灯的输出而立即应对水质、水量的变化。
现有技术文献
文献
专利文献1：日本专利第3881183号
专利文献2：日本专利第4138797号
然而，在以往的紫外线照射装置中，为了监视从紫外线灯照射了处理水的处理所需的紫外线强度的紫外线，通过专用的测量设备测量处理水的紫外线透射率，根据该测量结果，判断从紫外线灯照射的紫外线强度是否满足根据该紫外线照射装置的运用规格规定的规定值。
发明内容
实施方式的紫外线照射装置具备照射部、计测部、检测部、计算部、显示部。照射部向成为处理对象的处理水照射处理用的紫外线。计测部计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度。检测部根据通过计测部计测到的紫外线强度来检测照射部产生了劣化的情况。计算部根据与预先设定的设定值相应地从照射部照射的紫外线的紫外线强度与通过计测部计测出的紫外线强度，计算处理水的紫外线透射率。显示部显示基于检测部的照射部的劣化的检测结果以及通过计算部计算出的紫外线透射率。
附图说明
图1是示出第一实施方式的上水处理系统中的处理水的处理工序的流程图。
图2是第一实施方式的紫外线照射装置的外观图。
图3是第一实施方式的紫外线照射装置所具备的反应槽的垂直剖视图。
图4是示出第一实施方式的紫外线照射装置所具备的电子稳定器的硬件结构的框图。
图5是示出紫外线监视器指示值与占空设定值的关系的图。
图6是示出通过反应槽的处理水的水质等发生变化的情况下的、紫外线监视器指示值与紫外线透射率的关系的图。
图7是示出根据使用了紫外线监视器指示值以及占空设定值的式(2)得到的紫外线透射率的计算结果的图。
图8是第三实施方式的紫外线照射装置所具备的反应槽的垂直剖面。
图9是示出因第三实施方式的紫外线照射装置的照射部的劣化而使得紫外线监视器指示值降低至70％的情况下的、紫外线透射率的计算结果的图。
图10是示出第四实施方式的紫外线照射装置所具备的电子稳定器的硬件结构的框图。
具体实施方式
以下，参照附图对具备本实施方式的紫外线照射装置的上水处理系统进行说明。
(第一实施方式)
首先，使用图1对本实施方式的上水处理系统中的处理流程的概要进行说明。图1是示出第一实施方式的上水处理系统中的处理水的处理工序的流程图。本实施方式的上水处理系统如图1所示那样从河流、湖或者地下水等获取原水(处理对象的处理水的一例)(步骤S101)。接下来，上水处理系统将所获取的原水导入到凝结沉淀槽，在此添加凝结剂，使原水凝结、沉淀(步骤S102)。接下来，上水处理系统如图1所示那样将凝结沉淀槽的澄清水向活性炭过滤槽输送并过滤异物(步骤S103)。此外，上水系统将过滤水向紫外线照射装置1(参照图2)输送并照射紫外线(步骤S104)，将照射紫外线后的UV消毒处理水向氯气注入槽输送并注入氯气(步骤S105)，之后向普通家庭、办公场所等配水。
接下来，使用图2～4对本实施方式的紫外线照射装置进行说明。图2是第一实施方式的紫外线照射装置的外观图。图3是第一实施方式的紫外线照射装置所具备的反应槽的垂直剖视图。图4是示出第一实施方式的紫外线照射装置所具备的电子稳定器的硬件结构的框图。
紫外线照射装置1向处理水照射处理用的紫外线，由此进行处理水的杂菌、消毒、去活化等。在本实施方式中，紫外线照射装置1具备处理水所通过的反应槽(处理槽)6、供水端口9、排水端口11、保护管7、紫外线监视窗12、以及保护外罩14。
反应槽6使进行杂菌、消毒、去活化等的处理水通过。另外，反应槽6具有供给处理水(使处理水流入)的供水口、以及使实施处理后的处理水排出(流出)的排水口。该供水口与排水口在反应槽6中以对置的方式形成。并且，在反应槽6的供水口连接有供水端口9。另外，在反应槽6的排水口连接有排水端口11。处理水沿从供水口(供水端口9)趋近排水口(排水端口11)的方向、即图2中的A方向流动而通过。此外，将与A方向垂直的水平方向设为B方向。
保护管7例如由石英玻璃等紫外线能够透射的部件形成。并且，如图3所示，在保护管7的内部，收纳有向从供水口朝向排水口通过的处理水照射处理用的紫外线的紫外线灯8。紫外线灯8连接有用于从两端部向紫外线灯8供电的布线，经由该布线在紫外线灯8上连接用于进行供电的电子稳定器13。
另外，保护管7在反应槽6的内部沿与从供水口趋近排水口的方向交叉的方向设置。在本实施方式中，紫外线照射装置1构成为，沿从供水口趋近排水口的方向(处理水通过的方向)并列配置的两个保护管7分别设置在反应槽6内的上下。在本实施方式中，紫外线灯8以及保护管7作为照射部15而发挥功能。
紫外线监视窗12设置有紫外线监视器12a(计测部的一例)，该紫外线监视器12a计测从紫外线灯8照射并透射处理水后的紫外线的紫外线强度。在本实施方式中，紫外线监视窗12隔着形成在反应槽6的内部的保护管7上下各设有两个。
电子稳定器13具备能够向紫外线灯8供电的供电部131、控制电子稳定器13整体的控制部132、能够向电子稳定器13输入各种信息(例如，紫外线灯8的额定输出、照射部15与紫外线监视器12a之间的距离、紫外线监视器12a的灵敏度等)的输入部133、以及能够显示各种信息(例如，照射部15的劣化的检测结果、通过反应槽6的处理水的紫外线透射率等)的显示部134。
保护外罩14屏蔽从照射部15照射的紫外线10。在本实施方式中，保护外罩14设置于反应槽6的侧面6a以及侧面6b的外侧。
接下来，使用图4～7，对在本实施方式的紫外线照射装置1中显示紫外线灯8的劣化的检测结果、以及通过反应槽6的处理水的紫外线透射率的处理进行说明。图5是示出紫外线监视器指示值与占空设定值的关系的图。图6是示出通过反应槽的处理水的水质等发生变化的情况下的、紫外线监视器指示值与紫外线透射率的关系的图。图7是示出通过使用了紫外线监视器指示值以及占空设定值的式(2)得到的紫外线透射率的计算结果的图。
当经由输入部133输入指示开始向处理水照射紫外线的开始指示时，控制部132控制供电部131，向紫外线灯8供电，开始向通过反应槽6的处理水照射处理用的紫外线。在本实施方式中，控制部132向供电部131输出脉冲信号(以下，也称作可变占空脉冲信号)，该脉冲信号用于根据从输入部133输入的占空比(以下，也称作占空设定值)调整从紫外线灯8照射的紫外线的紫外线强度。由此，控制部132调整从照射部15照射的紫外线的紫外线强度。即，照射部15根据占空设定值(预先设定的设定值)照射紫外线。
当开始向处理水照射紫外线时，紫外线监视器12a计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度。然后，在紫外线灯8未劣化并且处理水的紫外线透射率UVT是100％/cm的情况下，紫外线监视器12a计算透射处理水后的紫外线的紫外线强度相对于根据占空设定值：100％的可变占空脉冲信号相应地从紫外线灯8照射的紫外线的紫外线强度之比(以下，也称作紫外线监视器指示值)。
控制部132(检测部)根据通过紫外线监视器12a计测的紫外线强度爱检测照射部15已发生劣化的情况。在本实施方式中，在通过紫外线监视器12a计算出的紫外线监视器指示值降低至无法维持应对处理水的处理性能(例如消毒性能等)的规定值的情况下，控制部132检测到照射部15已发生劣化的情况。
另外，控制部132(计算部)根据与占空设定值相应地从照射部15照射的紫外线的紫外线强度、以及计测到的紫外线强度(透射处理水后的紫外线的紫外线强度)，计算针对处理水的紫外线的紫外线透射率UVT。在本实施方式中，控制部132根据占空设定值以及通过紫外线监视器12a计测的紫外线灯指示值S来计算紫外线透射率UVT。
通过紫外线监视器12a计测的紫外线监视器指示值S(％)如下式(1)所示那样，利用表示处理水的紫外线透射率UVT的比即变化值F(UVT)以及表示占空设定值的比即灯输入值D的函数表示。
S＝F(UVT)×S100×D···(1)
这里，S100是紫外线灯8未劣化且紫外线透射率UVT为100％/cm、并且占空设定值为100％的情况下的紫外线监视器指示值S(100％)。
由此，在紫外线透射率UVT未发生变化的情况(即，通过反应槽6的处理水的水质等未发生变化的情况)下，紫外线监视器指示值S与占空设定值成比例地增大。紫外线监视器指示值S与占空设定值的关系如图5所示那样利用通过原点的线形函数表示。
另一方面，在占空设定值恒定并且紫外线透射率UVT发生了变化的情况(例如，通过反应槽6的处理水的水质等发生了变化的情况)下，紫外线监视器指示值S如图6所示那样相对于紫外线透射率UVT的变化以指数函数的关系发生变化。由此，紫外线透射率UVT只要能够指定紫外线监视器指示值S与占空设定值就能够根据式(2)而计算。在本实施方式中，控制部132使用紫外线监视器指示值S以及占空设定值，根据式(2)计算紫外线透射率UVT。
UVT＝A×ln(B×S/D)···(2)
这里，A以及B是规定的系数，在本实施方式中，A＝8.8588，B＝10000。
如图7所示，紫外线监视器指示值S相对于根据式(2)计算的紫外线透射率UVT的变化以指数函数的关系发生变化。即，根据式(2)，在占空设定值一定的情况下，能够计算相对于紫外线透射率UVT的变化以指数函数关系发生变化的紫外线监视器指示值S。
并且，控制部132将照射部15的劣化的检测结果(例如，紫外线监视器指示值S降低至无法维持应对处理水的处理性能的规定值以下)以及计算出的紫外线透射率UVT显示于显示部114。
这样，根据第一实施方式的紫外线照射装置1，根据与占空设定值相应地从照射部15向处理水照射的处理用的紫外线的紫外线强度、以及透射处理水后的紫外线的紫外线强度，计算紫外线透射率UVT，由此不需要设置能够计测紫外线透射率的专用的测量设备，故而能够以低成本和简易的结构计算处理水的紫外线透射率UVT。
(第二实施方式)
本实施方式是根据透射处理水后的紫外线的紫外线强度以及计算出的紫外线透射率检测照射部已发生劣化的的情况的例子。此外，在以下说明中省略与第一实施方式相同部分的说明。
控制部132(检测部)根据透射处理水后的紫外线的紫外线强度(在本实施方式中，是紫外线监视器指示值S)以及计算出的紫外线透射率UVT来检测照射部15已发生劣化的情况。具体而言，对于控制部132，在计测出的紫外线监视器指示值S降至无法维持应对处理水的理性能的规定值以下，并且计算出的紫外线透射率UVT达到预先设定的透射率以下的情况下，紫外线监视器指示值S因暂时的处理水的水质劣化而降低的可能性较高。由此，在这种情况下，控制部132不将计测出的紫外线监视器指示值S达到规定值以下的情况检测为照射部15的劣化。
另一方面，对于控制部132，在计测出的紫外线监视器指示值S降至规定值以下，并且计算出的紫外线透射率UVT比预先设定的透射率更高的情况下，紫外线监视器指示值S因紫外线灯8以及保护管7的劣化而降低的可能性较高。由此，在这种情况下，控制部132将计测出的紫外线监视器指示值S达到规定值以下的情况检测为照射部15的劣化。
这样，根据第二实施方式的紫外线照射装置1，通过根据透射处理水后的紫外线的紫外线强度以及计算出的紫外线透射率UVT检测照射部15已发生劣化的情况，由此，在因暂时的处理水的水质劣化而使得紫外线监视器指示值S降低的情况下，不将计测到的紫外线监视器指示值S达到规定值以下的情况检测为照射部15的劣化，因此能够提高照射部15的劣化的检测精度。
(第三实施方式)
在本实施方式中，是紫外线监视器与照射部分离配置、以使得照射部以及紫外线监视器的劣化所导致的紫外线透射率的变动量在允许误差以下的例子。在以下说明中，省略关于与上述的实施方式相同的部分的说明。
图8是第三实施方式的紫外线照射装置所具备的反应槽的垂直剖面。如图8所示，在本实施方式的紫外线照射装置800中，引导棒801与保护管7平行地设置，该引导棒801支承被设置为能够沿着保护管7移动、且除去附着在该保护管7的外表面上的污垢等的清洁部(未图示)。
另外，本实施方式的紫外线照射装置800构成为，沿从供水口趋近排水口的方向(处理水的流动方向)并列配置的两个紫外线监视窗802、803分别设置在反应槽6的上下。并且，配置于处理水的流动方向的下游侧的紫外线监视窗803(紫外线监视器12a)被配置为，能够计测从在处理水的流动方向的上游侧配置的照射部15照射的紫外线的紫外线强度。更具体而言，紫外线监视窗803朝向配置于处理水的流动方向的上游侧的保护管7(紫外线灯8)的中心轴C设置。另一方面，配置于处理水的流动方向的上游侧的紫外线监视窗802(紫外线监视器12a)被配置为，能够计测从在处理水的流动方向的下游侧配置的照射部15照射的紫外线的紫外线强度。更具体而言，紫外线监视窗802朝向配置于处理水的流动方向的下游侧的保护管7(紫外线灯8)的中心轴C设置。
由此，紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)以与照射部15分离的方式配置，以使得照射部15以及紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)的劣化所导致的紫外线透射率UVT的变动量达到允许误差以下。具体而言，紫外线监视窗802、803以与照射部15分离的方式配置，以使得透射处理水后的紫外线的紫外线强度(在本实施方式中，是紫外线监视器指示值S)降至规定值的情况下的、紫外线透射率UVT的变动量在允许误差以下。例如，在紫外线透射率UVTn的允许误差是3％的情况下，紫外线监视窗802、803与照射部15之间的距离(液相距离)n根据下式(3)而计算。
UVTn＝(1－0.03)n＝0.97n≥0.7···(3)
n≥11.5(cm)
这里，0.7是表示无法维持针对处理水的处理性能的规定值(例如70％)的比。
在本实施方式中，将从在上游侧配置有紫外线监视窗803的照射部15照射的紫外线的紫外线强度设置为能够计测，将从在下游侧配置有紫外线监视窗802的照射部15照射的紫外线的紫外线强度设置为能够计测，但只要以使照射部15以及紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)的劣化所导致的紫外线透射率UVT的变动量在允许误差以下的方式配置紫外线监视窗802、803即可，并不限定于此。例如，也可以将从在下游侧配置有紫外线监视窗803的照射部15照射的紫外线的紫外线强度设置为能够计测，将从在上游侧配置有紫外线监视窗802的照射部15照射的紫外线的紫外线强度设置为能够计测。
图9是示出因第三实施方式的紫外线照射装置的照射部的劣化而使得紫外线监视器指示值降低至70％的情况下的紫外线透射率的计算结果的图。紫外线照射装置800因其使用历史而出现紫外线灯8的劣化所导致的从该紫外线灯8照射的紫外线的紫外线强度的降低、保护管7的劣化所导致的该保护管7的紫外线的透射率的降低、因附着于保护管7的污垢、紫外线监视窗802、803的污垢等而使得通过紫外线监视器12a计测出的紫外线监视器指示值S(透射处理水后的紫外线的紫外线强度的计测结果)降低。紫外线灯8、保护管7、紫外线监视窗802、803是消耗品，将计测到的紫外线监视器指示值S降至无法维持处理水的处理性能的规定值(在本实施方式中是70％)以下时作为寿命而进行更换。
这里，紫外线监视窗802、803如上述那样以与照射部15分离的方式设置，以使得紫外线监视器指示值S降至70％的情况下的紫外线透射率UVT的变动量为允许误差(3％)以下。因此，在紫外线监视器指示值S降至70％的情况下，如图9所示，通过控制部132计算的紫外线透射率UVT的变动量也相对于紫外线监视器指示值S为100％的情况下的紫外线透射率UVT(参照图7)为允许误差(3％)以下。由此，即便因照射部15以及紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)等的劣化而使得紫外线监视器指示值S降低，也能够得到变动量在允许误差以下的紫外线透射率UVT，故而能够计算使照射部15等的劣化所导致的影响减少了的紫外线透射率UVT。
这样，根据第三实施方式的紫外线照射装置800，通过将紫外线监视器12a以与照射部15分离的方式配置，以使得照射部15以及紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)的劣化所导致的紫外线透射率UVT的变动量在允许误差以下，由此，即便因照射部15以及紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)等的劣化而使得通过紫外线监视器12a计测的紫外线强度降低，也能够得到变动量在允许误差以下的紫外线透射率UVT，因此能够计算使照射部15以及紫外线监视窗802、803(紫外线监视器12a)等的劣化所导致的影响减少了的紫外线透射率UVT。
(第四实施方式)
本实施方式示出如下例子：使用通过外部计测设备计测出的紫外线光相对于处理水的透射率，计算从照射部照射的处理用的紫外线的实效照射强度以及通过紫外线监视器计测的实效透射强度，并且根据计算出的实效照射强度以及实效透射强度计算紫外线透射率。在以下说明中，省略关于与上述的实施方式相同的部分的说明。
图10是示出第四实施方式的紫外线照射装置所具备的电子稳定器的硬件结构的框图。本实施方式的紫外线照射装置1000所具备的电子稳定器1001包括供电部131、输入部133、显示部134、控制部1002。在本实施方式中，控制部1002使用通过外部计测设备500计测出的紫外线相对于处理水的透射率(以下，也称作劣化系数K)，计算从照射部15照射的处理用的紫外线的实效照射强度以及通过紫外线监视器12a计测的实效透射强度，并且根据计算出的实效照射强度以及实效透射强度来计算紫外线透射率UVT。
这里，实效照射强度是考虑到从紫外线灯8照射的紫外线的紫外线强度的降低、保护管7的紫外线的透射率的降低等的、向处理水照射的紫外线的紫外线强度(在本实施方式中，是表示占空设定值的比、即与灯输入值D相应的紫外线的紫外线强度)。另外，实效透射强度是考虑到通过紫外线监视器12a计测的紫外线强度(在本实施方式中，是紫外线监视器指示值S)的降低的、透射处理水后的紫外线的紫外线强度。
在本实施方式中，控制部1002根据下式(4)、(5)，使用通过外部计测设备500计测到的紫外线的透射率即劣化系数K、灯输入值D以及紫外线监视器指示值S，计算紫外线透射率UVT。
K＝S/(UVT，D，S)
＝S/(1/B×exp(UVT×D/A)···(4)
UVT＝A×ln(B×S/D/K)···(5)
这样，根据第四实施方式的紫外线照射装置1000，通过使用利用外部计测设备500计测出的紫外线相对于处理水的透射率(劣化系数K)，计算从照射部15照射的处理用的紫外线的实效照射强度以及通过紫外线监视器12a计测的实效透射强度，并且根据计算出的实效照射强度以及实效透射强度来计算紫外线透射率UVT，由此，能够计算出减少了从紫外线灯8照射的紫外线的紫外线强度的降低、保护管7的紫外线的透射率的降低、通过紫外线监视器12a计测的紫外线强度的降低的影响后的紫外线透射率UVT。
在上述的实施方式中，紫外线照射装置1、800、1000根据为了检测照射部15的劣化而使用的紫外线监视器12a所带来的紫外线的紫外线强度的计测结果来计算紫外线透射率UVT，但不限定于此。例如，紫外线照射装置1、800、1000也可以独立于紫外线监视器12a地具备另一个计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度的第二计测部，控制部132、1002(计算部)根据从照射部15照射的紫外线的紫外线强度与通过第二计测部计测的紫外线强度，计算紫外线透射率。由此，能够在不受紫外线监视器12a的劣化的影响的情况下计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度，故而能够提高紫外线透射率UVT的计算精度。
另外，在上述的实施方式中，紫外线照射装置1、800、1000根据来自照射处理用紫外线的照射部15的紫外线的紫外线强度，计算紫外线透射率UVT，但不限定于此。例如，紫外线照射装置1、800、1000也可以在第二计测部的基础上，还具备独立于照射部15地向处理水照射紫外线透射率UVT的计算用紫外线的第二照射部，控制部132、1002(计算部)根据从第二照射部照射的紫外线的紫外线强度与透射第二计测部计测到的紫外线强度，计算紫外线透射率UVT。由此，能够在不受照射部15的劣化的影响的情况下，向处理水照射紫外线透射率UVT的计算用的紫外线，故而能够提高紫外线透射率UVT的计算精度。
另外，与第三实施方式的紫外线照射装置800所具有的照射部15与紫外线监视窗802、803的位置关系相同，优选第二计测部以与第二照射部分离的方式配置，以使得第二照射部以及该第二计测部的劣化所导致的紫外线透射率UVT的变动量在允许误差以下。
另外，优选第二照射部在进行紫外线照射装置1、800、1000的检查时向处理水照射计算用紫外线。由此，能够延迟照射紫外线所导致的第二照射部的劣化。
此外，控制部132、1002(计算部)也能够使用根据从照射部15照射的紫外线的紫外线强度与提高紫外线监视器12a计测出的紫外线强度而计算的紫外线透射率UVT、根据从第二照射部照射的紫外线的紫外线强度与通过第二计测部计测的紫外线强度而计算的紫外线透射率UVT，检测照射部15以及紫外线监视器12a的劣化。此外，也可以根据该紫外线监视器12a的劣化的检测结果修正基于紫外线监视器12a的紫外线强度的计测结果。
如以上说明那样，根据第一～第四实施方式，由于不需要设置能够计测紫外线透射率的专用的测量设备，因此能够以低成本和简单的结构计算处理水的紫外线透射率。
此外，由本实施方式的紫外线照射装置1、800、1000执行的程序以预先装入ROM等方式提供。另外，由本实施方式的紫外线照射装置1、800、1000执行的程序也可以利用能够安装的形式或者能够执行的形式的文件存储于CD－ROM、软盘(FD)、CD－R、DVD(DigitalVersatileDisk)等能够用计算机读取的记录介质而提供。
此外，也可以将由本实施方式的紫外线照射装置1、800、1000执行的程序存储于与因特网等网络连接的计算机上，经由网络进行下载而提供。另外，也可以经由因特网等网络提供或者发布由本实施方式的紫外线照射装置1、800、1000执行的程序。
由本实施方式的紫外线照射装置1、800、1000执行的程序形成为包括上述各部分(控制部132、1002)的模块结构，通过作为实际的硬件由CPU(处理器)从所述ROM读取程序并执行上述程序，由此所述各部分被上传至主存储装置上，在主存储装置上生成控制部132、1002。
虽说明了本发明的几个实施方式，但这些实施方式仅是例示，并不意图限定发明的范围。这些新实施方式能够以其他各种方式实施，能够在不脱离发明的主旨的范围内进行各种省略、替换、变更。这些实施方式、其变形包含于发明的范围，并且包含于与权利要求书所记载的发明等同的范围。

Claims (6)

1.一种紫外线照射装置，具备：
照射部，其向成为处理对象的处理水照射处理用的紫外线；
计测部，其计测透射所述处理水后的紫外线的紫外线强度；
检测部，其根据通过所述计测部计测到的紫外线强度来检测所述照射部产生了劣化的情况；
计算部，其根据与预先设定的设定值相应地从所述照射部照射的紫外线的紫外线强度与通过所述计测部计测出的紫外线强度，计算所述处理水的紫外线透射率；以及
显示部，其显示基于所述检测部的所述照射部的劣化的检测结果、以及通过所述计算部计算出的所述紫外线透射率。
2.根据权利要求1所述的紫外线照射装置，其中，
所述检测部根据通过所述计测部计测出的紫外线强度以及通过所述计算部计算出的所述紫外线透射率，检测所述照射部发生了劣化的情况。
3.根据权利要求1或2所述的紫外线照射装置，其中，
所述计测部以与所述照射部分离的方式配置，以使得所述照射部的劣化所导致的所述紫外线透射率的变动量在允许误差以下。
4.根据权利要求3所述的紫外线照射装置，其中，
所述计测部以与所述照射部分离的方式配置，以使得通过该计测部计测的紫外线强度降至无法维持应对所述处理水的处理性能的规定值的情况下的、所述紫外线透射率的变动量在所述允许误差以下。
5.根据权利要求1～4中的任一项所述的紫外线照射装置，其中，
所述计算部根据通过外部计测设备计测的紫外线相对于所述处理水的的透射率，计算从所述照射部照射的紫外线的实效照射强度以及通过所述计测部计测的实效透射强度，并且根据所述实效照射强度以及所述实效透射强度计算所述紫外线透射率。
6.一种紫外线照射装置，具备：
照射部，其向成为处理对象的处理水照射处理用的紫外线；
计测部，其计测透射所述处理水后的紫外线的紫外线强度；
检测部，其根据通过所述计测部计测到的紫外线强度来检测所述照射部产生了劣化的情况；
计算部，其使用预先设定的设定值、以及通过所述计测部计测出的紫外线强度相对于与该设定值相应地从所述照射部照射的紫外线的紫外线强度之比，根据下式计算所述处理水的紫外线透射率；以及
显示部，其显示基于所述检测部的所述照射部的劣化的检测结果、以及通过所述计算部计算出的所述紫外线透射率，
UVT＝A×ln(B×S/D)；
这里，UVT是所述紫外线透射率，S是通过所述计测部计测到的紫外线强度相对于与所述设定值相应地从所述照射部照射的紫外线的紫外线强度之比，D是表示所述设定值的比，A以及B是规定的系数。
CN201480044686.2A 2013-09-12 2014-03-13 紫外线照射装置 Active CN105452173B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013189323A JP5649703B1 (ja) 2013-09-12 2013-09-12 紫外線照射装置
JP2013-189323 2013-09-12
PCT/JP2014/056665 WO2015037260A1 (ja) 2013-09-12 2014-03-13 紫外線照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105452173A true CN105452173A (zh) 2016-03-30
CN105452173B CN105452173B (zh) 2017-08-04

Family

ID=52344828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201480044686.2A Active CN105452173B (zh) 2013-09-12 2014-03-13 紫外线照射装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10364166B2 (zh)
JP (1) JP5649703B1 (zh)
CN (1) CN105452173B (zh)
AU (1) AU2014319797B2 (zh)
CA (1) CA2923993C (zh)
SG (1) SG11201601824RA (zh)
WO (1) WO2015037260A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI709537B (zh) * 2016-10-28 2020-11-11 日商美得華水務股份有限公司 水處理裝置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10849997B2 (en) * 2018-10-10 2020-12-01 Bolb Inc. Disinfection device having disinfection light source

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1057954A (ja) * 1996-08-14 1998-03-03 Nippon Photo Sci:Kk 紫外線照射装置の紫外線照射量測定装置
JP2000070928A (ja) * 1998-08-31 2000-03-07 Shimada Denshi Kogyo Kk 浄水装置及びそれを用いた温水プール浄水システム
JP2002263645A (ja) * 2001-03-13 2002-09-17 Ebara Corp 紫外線照射装置
CN101000263A (zh) * 2006-12-28 2007-07-18 华南师范大学 紫外线强度检测方法及装置
JP2010221072A (ja) * 2009-03-19 2010-10-07 Kyoei Controls:Kk 紫外線照射装置
JP2011183295A (ja) * 2010-03-08 2011-09-22 Iwasaki Electric Co Ltd 紫外線処理装置
JP2012192381A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Toshiba Corp 紫外線照射装置の監視制御システム
CN103837231A (zh) * 2012-11-21 2014-06-04 株式会社日本光电科技 紫外线灯的劣化检测装置及方法

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1215451A (en) 1915-04-19 1917-02-13 William M White Hydraulic equalizer.
JP2001029941A (ja) 1999-07-26 2001-02-06 Ebara Corp 紫外線殺菌装置
US6264836B1 (en) * 1999-10-21 2001-07-24 Robert M. Lantis Method and apparatus for decontaminating fluids using ultraviolet radiation
DE60030948D1 (de) * 2000-03-03 2006-11-09 Hanovia Ltd Transmissionsmessgerät, Verfahren zur Transmissionsmessung und Desinfektionsvorrichtung
DE10101816A1 (de) 2001-01-17 2002-07-18 Peter Ueberall Flachdiffusor zur Änderung des Strömungsquerschnittes in einem Strömungskanal
US6752971B2 (en) 2002-01-07 2004-06-22 Atlantic Ultraviolet Corporation Ultraviolet water disinfection reactor for installing in an existing water pipeline
JP4098577B2 (ja) 2002-07-16 2008-06-11 株式会社東芝 紫外線消毒装置を用いた下水消毒システム
AU2003273656A1 (en) 2002-10-09 2004-05-04 Trojan Technologies Inc. Ultraviolet fluid treatment system
US7385204B2 (en) 2003-10-29 2008-06-10 Calgon Carbon Corporation Fluid treatment device
US7578211B1 (en) 2004-03-29 2009-08-25 Raytheon Company Leadscrew drive with annular-shell leadscrew
JP2007144386A (ja) 2005-11-02 2007-06-14 Toshiba Corp 紫外線照射水処理装置
JP4138797B2 (ja) 2005-11-25 2008-08-27 株式会社荏原製作所 紫外線照射装置
US8709261B2 (en) * 2006-10-26 2014-04-29 Atlantium Technologies Ltd. System and method for monitoring water transmission of UV light in disinfection systems
US7507973B2 (en) 2006-11-02 2009-03-24 Calgon Carbon Corporation UV treatment reactor
US8747753B2 (en) * 2008-08-18 2014-06-10 Sanuvox Technologies Inc. Controller for UV light purification system
DE102008051239B4 (de) * 2008-10-10 2015-03-19 Airbus Operations Gmbh Methode und Vorrichtung zur einfachen Überwachung des Wartungszustandes einer UV-Trinkwasserdesinfektionsanlage in einem Flugzeug
JP5180799B2 (ja) 2008-12-10 2013-04-10 日本トムソン株式会社 アクチュエータ
JP5355319B2 (ja) 2009-09-10 2013-11-27 株式会社東芝 紫外線照射装置
JP2013506126A (ja) * 2009-09-29 2013-02-21 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 流体ストリームのｕｖ線量のセンシング
JP2011131138A (ja) 2009-12-22 2011-07-07 Toshiba Corp 紫外線照射装置
JP5259562B2 (ja) 2009-12-22 2013-08-07 株式会社東芝 紫外線照射システム
JP4977225B2 (ja) 2010-03-15 2012-07-18 株式会社東芝 紫外線水処理装置
US20120061585A1 (en) 2010-09-15 2012-03-15 Takeshi Ide Ultraviolet water treating apparatus
GB201103342D0 (en) * 2011-02-26 2011-04-13 Ucl Business Semiconductor device fabrication
JP5575077B2 (ja) 2011-09-14 2014-08-20 株式会社東芝 紫外線照射装置
JP5575078B2 (ja) 2011-09-15 2014-08-20 株式会社東芝 紫外線照射装置
DK2931664T3 (en) 2012-12-13 2017-10-09 Atlantium Tech Ltd SYSTEM AND METHOD OF MANAGING ULTRAVIOLET LIQUID INFECTION

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1057954A (ja) * 1996-08-14 1998-03-03 Nippon Photo Sci:Kk 紫外線照射装置の紫外線照射量測定装置
JP2000070928A (ja) * 1998-08-31 2000-03-07 Shimada Denshi Kogyo Kk 浄水装置及びそれを用いた温水プール浄水システム
JP2002263645A (ja) * 2001-03-13 2002-09-17 Ebara Corp 紫外線照射装置
CN101000263A (zh) * 2006-12-28 2007-07-18 华南师范大学 紫外线强度检测方法及装置
JP2010221072A (ja) * 2009-03-19 2010-10-07 Kyoei Controls:Kk 紫外線照射装置
JP2011183295A (ja) * 2010-03-08 2011-09-22 Iwasaki Electric Co Ltd 紫外線処理装置
JP2012192381A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Toshiba Corp 紫外線照射装置の監視制御システム
CN103837231A (zh) * 2012-11-21 2014-06-04 株式会社日本光电科技 紫外线灯的劣化检测装置及方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI709537B (zh) * 2016-10-28 2020-11-11 日商美得華水務股份有限公司 水處理裝置
US11142469B2 (en) 2016-10-28 2021-10-12 Metawater Co., Ltd. Water treatment apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
AU2014319797B2 (en) 2017-08-31
JP5649703B1 (ja) 2015-01-07
CA2923993C (en) 2020-07-14
CN105452173B (zh) 2017-08-04
JP2015054294A (ja) 2015-03-23
US10364166B2 (en) 2019-07-30
AU2014319797A1 (en) 2016-04-07
US20160221839A1 (en) 2016-08-04
WO2015037260A1 (ja) 2015-03-19
CA2923993A1 (en) 2015-03-19
SG11201601824RA (en) 2016-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102442720B (zh) 用于生产无菌水的方法和生产设备
JP5127691B2 (ja) 紫外線消毒装置
EP2338838B1 (en) Ultraviolet irradiation system
JP4901250B2 (ja) 紫外線消毒装置
DE102011114912B4 (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Reinstwasser
EP2338839A1 (en) Ultraviolet irradiation device
JP4945149B2 (ja) 水処理システム
JP5571113B2 (ja) 液体処理システム、制御方法及び制御プログラム
CN105452173A (zh) 紫外线照射装置
KR101772558B1 (ko) 수영장 관리 시스템 및 관리 방법
JP6422900B2 (ja) 液体処理装置及び液体処理システム
JP3920504B2 (ja) 紫外線殺菌装置
JP2004049953A (ja) 紫外線消毒装置およびそれを用いた消毒システム
JP5482307B2 (ja) 紫外線処理装置
KR101729690B1 (ko) 염소 발생기 및 이를 이용한 수영장 관리 시스템
JP4851820B2 (ja) 水処理システム
JP2024049658A (ja) 紫外線照射装置
JP2022086142A (ja) 水処理システム
KR20050003945A (ko) 수평식 자외선 살균 장치
JP2004082043A (ja) 病原性微生物の不活化方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant