JP2012192381A - 紫外線照射装置の監視制御システム - Google Patents

紫外線照射装置の監視制御システム Download PDF

Info

Publication number
JP2012192381A
JP2012192381A JP2011059931A JP2011059931A JP2012192381A JP 2012192381 A JP2012192381 A JP 2012192381A JP 2011059931 A JP2011059931 A JP 2011059931A JP 2011059931 A JP2011059931 A JP 2011059931A JP 2012192381 A JP2012192381 A JP 2012192381A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet
lamp
monitor
output
ultraviolet irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011059931A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5414721B2 (ja
Inventor
Norimitsu Abe
法光 阿部
Shinji Kobayashi
伸次 小林
Kenji Ide
健志 出
Naoto Yoshizawa
直人 吉澤
Akihiko Shirota
昭彦 城田
Takahiro Soma
孝浩 相馬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2011059931A priority Critical patent/JP5414721B2/ja
Priority to EP12159852.8A priority patent/EP2511241B1/en
Priority to CA2771552A priority patent/CA2771552C/en
Priority to CN201210070972.9A priority patent/CN102674501B/zh
Priority to US13/422,521 priority patent/US8487267B2/en
Publication of JP2012192381A publication Critical patent/JP2012192381A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5414721B2 publication Critical patent/JP5414721B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325Irradiation devices or lamp constructions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/008Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/322Lamp arrangement
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/324Lamp cleaning installations, e.g. brushes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/32Details relating to UV-irradiation devices
    • C02F2201/326Lamp control systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/005Processes using a programmable logic controller [PLC]
    • C02F2209/008Processes using a programmable logic controller [PLC] comprising telecommunication features, e.g. modems or antennas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/40Liquid flow rate

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract


【課題】 紫外線照射装置の信頼性を向上し、安全な処理水を提供することができる紫外線照射装置の監視制御システムを提供する。
【解決手段】 流入した処理水が紫外線を照射した後に排出する紫外線照射装置と、前記紫外線照射装置の流入口側または排出口側の前記処理水の流量を測定する流量計と、前記紫外線照射装置における紫外線照射量監視と前記紫外線ランプの出力制御とを行う紫外線照射量監視制御装置と、を備え、前記複数の紫外線ランプの1つから発光された紫外線の強度を測定する第1測定ヘッドと、前記複数の紫外線ランプのそれぞれから発光された紫外線の強度を測定する複数の第2測定ヘッドと、を備え、前記第1測定ヘッドでの紫外線強度測定値と前記第1測定ヘッドにより測定される紫外線ランプの出力制御値が100%のときの紫外線強度との比と、等価換算紫外線照射量とが所定の関係となるように、前記紫外線ランプと第1測定ヘッドまでの距離が設定されている。
【選択図】図1

Description

本発明の実施形態は、紫外線照射装置の監視制御システムに関する。
上下水道の殺菌・消毒、工業用水の脱臭・脱色、あるいはパルプの漂白、さらには医療機器の殺菌等を行うためにオゾンや塩素等の薬品が用いられている。
従来の消毒装置では、オゾンや薬品を処理水に均一に溶けこますために、滞留槽やスプレーポンプ等の攪拌装置が必需品で、水質や水量の変化に対し即対応できなかった。紫外線には、殺菌・消毒・脱色、工業用水の脱臭・脱色、あるいはパルプの漂白等の作用があり、水質や水量の変化に対し即対応するために、紫外線処理を行う。
特に、上下水道の殺菌・消毒・不活化を行う紫外線照射装置において、紫外線を用いる場合、紫外線を照射している数秒に殺菌・消毒・不活化される。このため、その能力の維持を監視するためには、正確な紫外線の照射量を把握する必要がある。
特許第4168348号公報 特開2005−334756号公報 特開2005−279434号公報 特開2005−52760号公報 特許第3881183号公報 特許第4138797号公報
(財)水道技術センター,「紫外線照射装置JWRC技術審査基準(中圧ランプ編),2008年8月1日発行 阿部 他:「中圧紫外線照射装置の照射性能解析と検証試験の比較」,環境システム計測制御学会誌,vol.15 No.2/3,pp52-54,2010年10月
一般に、紫外線ランプは、同じ電気入力でも点灯累積時間に応じて紫外線放射量が減衰することが知られている。そのため、紫外線照射装置に内蔵される紫外線ランプ個々の能力変化を監視し、また、そのために装着される紫外線モニターの劣化を軽減する必要があった。
さらに、紫外線ランプの紫外線照射量の低下が、被処理流体の紫外線透過率の低下によるものであるか、紫外線ランプの経年変化によるものであるか、紫外線モニターの劣化によるものであるか、の判定が困難であった。このことから、紫外線ランプを1台の紫外線モニターで監視するだけでは不十分であった。
一方、紫外線発光源として中圧紫外線ランプを用いる場合には、ランプ1本当たりの投入電力を大きくできるので、動作温度が高く(600℃〜900℃)なり水銀原子同士の衝突頻度が増加し広範囲の波長(多波長)の紫外線が高光度で発生するため、一般的な低圧紫外線ランプを用いる場合と比べてランプの使用本数を少なくでき、装置を小型化できるとともに、メンテナンス作業工数を軽減できる等の利点がある。
その反面、処理水流量や水質の変動が大きい施設に適用する場合、常に定格で運転していると、流量が低下した場合や処理水の浄化度が上がり紫外線透過率が計画条件よりも改善した場合には、必要以上の紫外線が照射されることになり、紫外線を発光させるための電力の無駄が発生することがあった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、紫外線照射装置の信頼性を向上し、安全な処理水を提供することができる紫外線照射装置の監視制御システムを提供することを目的とする。
実施形態による紫外線照射装置の監視制御システムは、複数の紫外線ランプを備え、流入した処理水が紫外線を照射した後に排出する紫外線照射装置と、前記紫外線照射装置の流入口側または排出口側の前記処理水の流量を測定する流量計と、前記紫外線照射装置における紫外線照射量監視と前記紫外線ランプの出力制御とを行う紫外線照射量監視制御装置と、を備え、前記複数の紫外線ランプの1つから発光された紫外線の強度を測定する第1測定ヘッドと、前記複数の紫外線ランプのそれぞれから発光された紫外線の強度を測定する複数の第2測定ヘッドと、を備え、前記第1測定ヘッドでの紫外線強度測定値と前記第1測定ヘッドにより測定される紫外線ランプの出力制御値が100%のときの紫外線強度との比と、等価換算紫外線照射量との関係が1つの一次関数直線となるように、前記紫外線ランプと第1測定ヘッドまでの距離が設定されている。
実施形態の紫外線照射装置の監視制御システムを含む紫外線処理設備の一構成例を示す図である。 第1実施形態における紫外線照射装置の一構成例を説明するための図である。 図2に示す紫外線照射装置の線A−Aにおける断面の一例を示す図である。 紫外線照射装置に設置された第2紫外線モニター用測定ヘッドの取りつけ構造の一例を説明するための図である。 第2紫外線モニター用測定ヘッドの一構成例を示す図である。 第1紫外線モニター用測定ヘッドの保護管の外周面から測定窓の窓面までの距離が異なる位置にそれぞれ設定した場合の試験条件の一例を説明する図である。 図6Aに示す試験条件において試験を実施した場合の測定結果の一例を示す図である。 紫外線照射装置の紫外線照射量を解析する方法の一例を説明するための図である。 紫外線強度分布の所定の解析方法による解析結果の一例を示す図である。 保護管の外周面と測定窓面との間の距離L=35mmの場合について、流量別の紫外線モニター相対出力と等価換算紫外線照射量との関係の一例を示す図である。 保護管の外周面と測定窓面との間の距離L=135mmの場合について、流量別の紫外線モニター相対出力と等価換算紫外線照射量との関係の一例を示す図である。 保護管の外周面と測定窓面との間の距離L=241mmの場合について、流量別の紫外線モニター相対出力と等価換算紫外線照射量との関係の一例を示す図である。 保護管12の外周面と測定窓面31との間の距離L=135mmの場合について、複数の流量について(2)式の関係を調べ、それぞれの流量条件のときの係数aQを流量Qの逆数を横軸に、係数aQを縦軸としたグラフ上にプロットした場合の関係を示す一例を示す図である。 第1実施形態における紫外線処理設備の監視および紫外線ランプ出力制御手順の一例を示すフローチャートである。 第2実施形態における紫外線照射装置の監視制御システムの一構成例を説明する図である。 第2実施形態における紫外線処理設備の監視および紫外線ランプ出力制御手順の一例を示すフローチャートである。 第3実施形態における紫外線処理設備の監視および紫外線ランプ出力制御手順の一例を示すフローチャートである。
以下、実施形態について、図面を参照して説明する。
図1に、第1実施形態に係る紫外線照射装置2の監視制御システムを含む紫外線処理設備1の一構成例を示す。紫外線処理設備1は、紫外線照射装置2と、流量計3と、流量調整弁4と、ランプ電源5と、紫外線照射量監視制御装置6と、紫外線処理設備監視制御装置7と、紫外線測定ヘッド8と、紫外線モニター9と、を備えている。
紫外線測定ヘッド8は、紫外線照射装置2に取り付けられ、紫外線モニター9と専用線により接続されている。紫外線モニター9は、紫外線測定ヘッド8により測定された紫外線強度に対応した電流信号、あるいは電圧信号を取得し、電流信号、あるいは電圧信号を紫外線強度に変換して紫外線照射量監視制御装置6へ出力する。
紫外線モニター9は、後述する第1紫外線モニター21と第2紫外線モニター24とを備えている。紫外線測定ヘッド8は、後述する第1紫外線モニター用測定ヘッド22と、第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6と、を備えている。
第1紫外線モニター用測定ヘッド22は第1紫外線モニター21と有線あるいは無線により接続され、第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6は第2紫外線モニター24と有線あるいは無線により接続されている。
流量調整弁4は、弁の開閉により、紫外線照射装置2に流入する処理流体の量を調整する。流量調整弁4の弁の開閉動作は、紫外線処理設備監視制御装置7により制御される。
流量計3は、流量調整弁4を通過して紫外線照射装置に流入する処理流体の流量を計測する。流量計3は、計測した流量を紫外線照射量監視制御装置6へ出力する。
紫外線照射量監視制御装置6は、流量計3で計測された処理流体の流量と、紫外線モニター9から取得した紫外線強度と、に基づいて、ランプ電源5を制御する。
ランプ電源5は、紫外線照射装置2に搭載された紫外線ランプに電源を供給する。ランプ電源5が紫外線ランプに供給する電源電力は、紫外線照射量監視制御装置6により制御される。
図2に、紫外線照射装置2の一構成例を概略的に示す。
図3に、図2に示す紫外線照射装置2の線A−Aにおける断面の一例を示す。
紫外線照射装置2は、通水胴10と、ランプハウジング11と、複数の保護管12と、複数の紫外線ランプ13と、ランプハウジング蓋14と、Oリング押さえ15と、洗浄板駆動軸16と、移動コマ17と、駆動モータ18と、洗浄ワイパー19と、洗浄板20と、第1紫外線モニター21と、第1紫外線モニター用測定ヘッド22と、測定ヘッド保護管23と、第2紫外線モニター24と、第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6と、を備えている。
通水胴10は略円筒形状であって、処理流体が流入する流入口と処理流体が排出される排出口と、流入口と排出口との間に延びる壁を備える。通水胴10の流入口は、流量調整弁4の排出口と流路を介して接続されている。
一対のランプハウジング11は、通水胴10内を処理流体が流れる方向と略直交する方向において、通水胴10の壁の互いに対向する位置から通水胴10の外側に向かって突出している。ランプハウジング11の突出する方向と略直交する面における断面形状は略円形である。すなわち、通水胴10とランプハウジング11とは、2つの円筒がそれぞれの軸の中心部分で交差するように結合した略十字形状の構造となる。
一対のランプハウジング蓋14は略円形状であって、ランプハウジング11の両端の開口に取り付けられて、ランプハウジング11を封止する。一対のランプハウジング蓋14は、互いに対向する位置に設けられた開口を備えている。
複数の保護管12は、両端が一対のランプハウジング蓋14の開口において保持されている。本実施形態では、保護管12はたとえば石英ガラス管であり、6つの保護管12の軸が略平行であって互いに等間隔になるように配置されている。
複数の紫外線ランプ13は、複数の保護管12の中に挿入されている。これら複数の紫外線ランプ13を内蔵した保護管12の両端部は、ランプハウジング蓋14の開口に取り付けられる図示していない水密OリングとOリング押さえ15とにより水封シールされている。
洗浄板駆動軸16は、ランプハウジング11の円筒の略中心軸に設置されている。洗浄板駆動軸16には、移動コマ17が取り付けられている。移動コマ17は、駆動モータ18により駆動されて洗浄板駆動軸16上を移動する。
洗浄板20は、複数の保護管12の周囲を囲むように配置された洗浄ワイパー19を備えている。洗浄板20は移動コマ17に取り付けられて、移動コマ17の動きに合わせてランプハウジング11の軸方向に移動する。洗浄板20が移動することにより、洗浄ワイパー19が保護管12の軸方向に渡って外周面に接触し、保護管12の外周面に付着した汚れが洗浄される。
紫外線照射装置2の通水胴10と、ランプハウジング11とには、紫外線照射装置2の内部における紫外線照射量を監視するための第1紫外線モニター21に接続された第1紫外線モニター用測定ヘッド22が取り付けられている。
さらに、紫外線照射装置2の内部には、ランプハウジング11の中心軸と各紫外線ランプ13−1〜13−6それぞれの中心軸を結ぶ線上に石英ガラス管製の測定ヘッド保護管23が配置されている。測定ヘッド保護管23はその内部に個々の紫外線ランプ13−1〜13−6から発光される紫外線強度を監視するための第2紫外線モニター24に接続された第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6が内蔵されている。
ここで、個々の紫外線ランプ13−1〜13−6から発光される紫外線強度を監視するための第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6の取り付け構造の一例について図面を参照して詳細に説明する。
図4は、本実施形態の紫外線照射装置2に設置された個々の紫外線ランプから発光される紫外線強度を監視するための第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6の取付け方法の一例を示す構成図である。
図4において第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6は、紫外線照射装置2のランプハウジング11の略中心軸と各紫外線ランプ13−1〜13−6の略中心軸とを結ぶ線上に紫外線ランプ13−1〜13−6と平行に配置された石英ガラス管の測定ヘッド保護管23内部に、測定ヘッド支持部材26によって所定の位置に固定されている。
図5は第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6の構成の一例を示す図である。
第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−6は、先端部に360°どの方向からの紫外線を検知可能な受光部27を有している。受光部27には紫外線の入射方向を限定するための導光孔28が開けられた円筒状の遮光キャップ29が、導光孔28が監視対象の紫外線ランプ13−1〜13−6の方向に向くように取り付けられている。
紫外線照射装置2における紫外線照射量を監視するための第1紫外線モニター21に接続された第1紫外線モニター用測定ヘッド22は、通水胴10あるいはランプハウジング11の壁に設けられた測定窓(図6Aに一例を示す)内に収納され、紫外線ランプ13−1と対向した測定窓面と監視対象である紫外線ランプ13−1の保護管12表面との距離が135mmになるように設置されている。
この距離135mmは、任意の処理流量において処理水の紫外線透過率や紫外線ランプ13−1の出力が変化した場合でも第1紫外線モニター21による紫外線強度測定値と流量のみの関数により、紫外線照射装置2における紫外線照射量が計算可能となる最適な位置であり、以下の試験および紫外線照射装置における紫外線照射量解析結果に基づいて決定されたものである。
以下に説明する試験は、監視対象である紫外線ランプ13と第1紫外線モニター用測定ヘッド22との位置関係、すなわち、紫外線ランプ13を覆う保護管12の外周面と第1紫外線モニター用測定ヘッド22を収納する測定窓30の窓面31との間の距離が異なる複数の場合について、処理水中1cmの間隔を波長253.7nmの紫外線が透過する割合である紫外線透過率と紫外線ランプ出力が変化したときの第1紫外線モニター21測定値の変化とを調べる目的で実施したものである。
図6Aに、第1紫外線モニター用測定ヘッド22の保護管12の外周面から測定窓30の窓面31までの距離を35mm、135mm、241mmの位置にそれぞれ設定した場合の試験条件の一例を説明する図を示す。
この試験では、第1紫外線モニター用測定ヘッド22と紫外線ランプ13とを、保護管12の外周面から測定窓の窓面31までの距離35mm、135mm、241mmの位置にそれぞれ設置し、処理水の波長253.7nmの紫外線透過率を約80〜100%、紫外線ランプ13の出力制御値を50%〜100%の間で変化させた。
図6Bに、図6Aに示す試験条件において試験を実施した場合の測定結果の一例を示す。
図7Aに、紫外線照射装置の紫外線照射量を解析する方法の一例を説明するための図を示す。
紫外線照射装置における紫外線照射量の解析は一例として図7Aに示す紫外線照射装置の紫外線照射量について、大腸菌ファージMS2を指標菌とし、菌1つ1つが紫外線照射装置の流入口から排出口まで通過する間の軌跡を流動解析で求め、紫外線ランプ13から発光される紫外線のうち波長200nm〜300nmの間で5nm毎の紫外線強度、保護管波長別紫外線透過率、処理水波長別紫外線透過率特性を考慮し、紫外線放射式(1)を用いて紫外線照射装置内部における分布を計算し、その間に菌が照射される紫外線強度と通過時間の積として求められる紫外線照射量分布に基づく等価換算紫外線照射量RED(Reduction Equivalent UV Dose)を試験と同じ条件について解析した。
なお、図7Aに示した紫外線照射装置において、紫外線ランプ13−1、13−2は消費電力3kWの中圧紫外線ランプ、保護管12は外径34mm,肉厚2mmの特殊(波長240nm以下の紫外線をカットするような処理がなされている)石英ガラス管とし、2本設置している紫外線ランプ13−1、13−2のうち図7Aの右側に示した中圧紫外線ランプ13−2のみ点灯(紫外線ランプ13−1は消灯)させた場合とした。
紫外線強度分布の解析方法は、例えば下式(1)により紫外線照射装置内部の紫外線強度分布を求めた。
Figure 2012192381
ここで、
λ:ランプから発する紫外線の強さに関するランプ固有の定数
PX:発光点からの距離
r:紫外線強度を計算する位置におけるランプからの半径距離
q:保護管の半径
T:処理水の紫外線透過率(%)
:ランプ劣化係数
:保護管透過率
:保護管汚れ係数
:その他の係数
なお、上記の解析方法の妥当性は、非特許文献2により検証済みである。
図7Bに、上記紫外線強度分布の解析方法による解析結果の一例を示す。
図8に、図6Bに示した第1紫外線モニター用測定ヘッド22の各位置に紫外線強度Sと、図7Bに示した等価換算紫外線照射量REDとの関係に基づいて、保護管12の外周面から測定窓面31までの距離L=35mmの場合について、流量が5,000(m/日)のときの紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係の一例を示す。ここで、Sは処理水の紫外線透過率100%、かつ、紫外線ランプ出力制御値が100%のときの紫外線強度(mW/cm)である。
図9に、保護管12の外周面と測定窓面31との間の距離L=135mmの場合について、流量が5,000(m/日)の紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係の一例を示す。
図10に、保護管12の外周面と測定窓面31との間の距離L=241mmの場合について、流量が5,000(m/日)の紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係の一例を示す。
図8乃至図10に示した紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係の一例を見比べると、図8と図10とに示す場合では、紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係を示す処理水の紫外線透過率(UTV)毎のグラフがそれぞれ異なる一次関数直線となっている。
これに対し、図9に示す紫外線ランプ保護管12の外周面から第1紫外線モニター用測定ヘッド22を内蔵した測定窓30の測定窓面31までの距離がL=135mmの場合は、紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係が1本の一次関数直線となる特性を示している。
これは、紫外線ランプ保護管12の外周面から測定窓面31までの距離をL=135mmとすると、処理水の紫外線透過率(UTV)に関わらす、紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDが所定の一次関数で表せることとなり、この一次関数を特定することにより、所定の相対出力に対する等価換算紫外線照射量REDを演算することが可能となる。
したがって、紫外線ランプ保護管12の外周面から紫外線モニター用測定ヘッドを内蔵した測定窓の窓面31までの距離がL=135mmの位置が、第1紫外線モニター用測定ヘッド22の最適な設置位置であることが分かる。この結果から、紫外線ランプ保護管12の外周面から紫外線モニター用測定ヘッドを内蔵した測定窓の窓面31までの距離がLは、誤差を含めて135mm±5mmとすることが好ましい。
なお、この場合に、第2紫外線モニター用測定ヘッドとその第2紫外線モニター用測定ヘッドにより発光した紫外線強度を測定される紫外線ランプとの距離は、第1紫外線モニター用測定ヘッドとその第1紫外線モニター用測定ヘッドにより発光した紫外線強度を測定される紫外線ランプとの距離(L)以下である。
第1紫外線モニター用測定ヘッド22が上記最適位置に設置されている場合、等価換算紫外線照射量REDは第1紫外線モニター21の相対出力S/Sと処理流量との関数として(2)式より求めることができ、処理水の紫外線透過率のオンライン監視が不要となる。
Figure 2012192381
ここで、
RED:等価換算紫外線照射量(mJ/cm
S :紫外線強度測定値(W/m
:紫外線ランプ出力制御値100%における紫外線強度(W/m
Q :流量(m/日)
Q=5000:図9に示す一次関数から求められる係数
図11は、保護管12の外周面と測定窓面31との間の距離L=135mmの場合について、複数の流量について(2)式の関係を調べ、それぞれの流量条件のときの係数aQを流量Qの逆数を横軸に、係数aQを縦軸としたグラフ上にプロットした場合の関係を示す一例である。さらに、図11中の曲線は(3)式により近似した近似線である。
Figure 2012192381
ここで、
Q:任意の流量毎の紫外線モニター相対出力S/Sと等価換算紫外線照射量REDとの関係を(2)式で近似したときの係数
b:図11に示す累乗関数によ近似式の定数
c:図11に示す累乗関数によ近似式の指数
Q:流量(m/日)
上記の(2),(3)の関係に基づけは、第1紫外線モニター用測定ヘッド22が上記最適位置に設置されている場合、等価換算紫外線照射量REDは第1紫外線モニター21の相対出力S/Sと処理流量との関数として(4)式より求めることができ、処理水の紫外線透過率のオンライン監視が不要となる。
Figure 2012192381
次に、上記のように構成された紫外線処理設備の紫外線照射量監視制御装置6における紫外線ランプ13の出力制御方法について図1、図2および図12を用いて説明する。本実施形態では、紫外線照射量監視制御装置6は、流量計3によって測定された流量と、第1紫外線ランプモニター用測定ヘッドによる測定値とによって、第1紫外線ランプモニター用測定ヘッドにより発光した紫外線強度を測定される紫外線ランプの出力を調整し、かつ、第1紫外線ランプモニター用測定ヘッドにより発光した紫外線強度を測定される紫外線ランプが発光した紫外線強度を測定する第2紫外線ランプモニター用測定ヘッドによる測定値を目標値として、他の紫外線ランプを監視対象とする第2紫外線ランプモニター用測定ヘッドの測定値が、その目標値と一致するように、個々の紫外線ランプの出力を調整する。
図12は、第1実施形態の紫外線処理設備1の監視および紫外線ランプ出力制御手順の一例を示すフローチャートである。以下に、第1実施形態における監視・制御手順を説明する。
まず、監視・制御を開始すると、目標紫外線照射量(目標RED)を設定する(ステップSTA1)。続いて、紫外線照射量監視制御装置6は流量計3の出力(流量Q)を読み込む(ステップSTA2)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、上記式(2)に目標REDと流量Qとを代入し、第1紫外線モニター21の相対出力目標値(S/SDSを計算する(ステップSTA3)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21から相対出力(S/SDmを読み込み(ステップSTA4)、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1の出力制御値(Ds)を読み込む(ステップSTA5)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1の出力制御値(Ds)が100%以上(Ds≧100%)であるか否か、および、第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmが相対出力目標値(S/S)DS以下((S/SDm≦(S/SDS)であるか否か判断する(ステップSTA6)。
出力制御値(Ds)が100%以上(Ds≧100%)であり、かつ、相対出力(S/SDmが相対出力目標値(S/SDS未満((S/SDm<(S/SDS)である場合、紫外線照射量監視制御装置6は、重警報「UV強度不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発報し(ステップSTA7)、紫外線処理設備1の運転を停止する(ステップSTA8)。
出力制御値(Ds)が100%未満(Ds<100%)、あるいは、相対出力(S/SDmが相対出力目標値(S/SDS以上((S/SDm≧(S/SDS)である場合、第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSを比較し、一致している((S/SDm=(S/SDS)か否か判断する(ステップSTA9)。
相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致しない場合、紫外線照射量監視制御装置6は、ランプ電源5の出力電力を制御して、紫外線ランプ13−1のランプ出力を以下の条件に従って調整する(ステップSTA10)。
すなわち、(S/SDm>(S/SDSである場合、紫外線ランプ13−1の出力制御値を下げる。(S/SDm<(S/SDSである場合、紫外線ランプ13−1の出力制御値を上げる。
上記のように紫外線ランプ13−1のランプ出力を調整した後、再び、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21から相対出力(S/SDmを読み込み(ステップSTA4)、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1の出力制御値(Ds)を読み込み(ステップSTA5)、ステップSTA6およびステップSTA9の判断を、相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致するまで繰り返す。
相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致した後、紫外線照射量監視制御装置6は、第2紫外線モニター24−1〜24−6の相対出力((S/SIm1〜Im6)を読み込む(ステップSTA11)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、ランプ電源5より全紫外線ランプ出力制御値(DI1〜I6)を読み込み(ステップSTA12)、紫外線ランプ13−1〜13−6の何れかの出力制御値(DI1〜DI6)が100%以上(DI1〜DI6≧100%)か否か、かつ、出力制御値DIiが100%以上となった紫外線ランプ13を監視対象とする第2紫外線モニター24の相対出力(S/SImiが第1の紫外線モニターの監視対象ランプ13−1を監視対象とする第2紫外線モニター24−1の相対出力(S/SIm1より小さい((S/SIm2〜Im6<(S/SIm1)か否か判断する(ステップSTA13)。
紫外線ランプ13−1〜13−6の何れかの出力制御値(DI1〜DI6)が100%以上であって、かつ、出力制御値DIiが100%以上となった紫外線ランプ13を監視対象とする第2紫外線モニター24の相対出力(S/SImiが第1の紫外線モニターの監視対象ランプ13−1を監視対象とする第2紫外線モニター24−1の相対出力(S/SIm1より小さい場合、紫外線照射量監視制御装置6は重警報「UV強度不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発報し(ステップSTA7)、紫外線処理設備1の運転を停止する(ステップSTA8)。
紫外線ランプ13−1〜13−6の何れかの出力制御値(DI1〜DI6)が100%未満、あるいは、出力制御値DIiが100%以上となった紫外線ランプ13を監視対象とする第2紫外線モニター24の相対出力(S/SImiが第1の紫外線モニターの監視対象ランプ13−1を監視対象とする第2紫外線モニター24−1の相対出力(S/SIm1以上である場合、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1を監視対象とする第2紫外線モニター24−1の相対出力(S/SIm1と、それ以外の第2紫外線モニター24−2〜24−6の相対出力(S/SIm2〜Im6とを比較し、一致している((S/SIm1=(S/SIm2〜Im6)か否か判断する(ステップSTA14)。
相対出力(S/SIm1と、それ以外の第2紫外線モニター24−2〜24−6の相対出力(S/SIm2〜Im6とが一致しない場合は、紫外線照射量監視制御装置6は紫外線ランプ13−2〜13−6のランプ出力を以下の条件に従って調整する(ステップSTA15)。
すなわち、(S/SIm2〜Im6>(S/SIm1である場合、この条件に合致した紫外線ランプの出力制御値を下げ、(S/SIm2〜Im6<(S/SIm1である場合、この条件に合致した紫外線ランプの出力制御値を上げる。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、各紫外線ランプの出力調整値の最大値DImaxと最小値DIminとの差が許容差ΔD以下である(DImax−DImin≦ΔD)か否か判断する(ステップSTA16)。
最大値DImaxと最小値DIminとの差が許容差ΔDより大きい場合、紫外線照射量監視制御装置6は、軽警報「ランプNo.(該当番号)能力不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発し(ステップSTA17)、紫外線ランプ交換を促す。
最大値DImaxと最小値DIminとの差が許容差ΔD以下である場合、紫外線照射量監視制御装置6は、第2紫外線モニター24−1〜24−6の相対出力((S/SIm1〜6)を再び読み込み(ステップSTA11)、続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、ランプ電源5より全紫外線ランプ出力制御値(DI1〜I6)を読み込み(ステップSTA12)、ステップSTA13およびステップSTA14の判断を、相対出力(S/SIm1と、相対出力(S/SIm2〜Im6とが一致するまで繰り返す。
相対出力(S/SIm1と、相対出力(S/SIm2〜Im6とが一致したら、紫外線照射量監視制御装置6は、紫外線ランプ13の紫外線照射量監視と、紫外線ランプ出力制御動作を終了する。
第1実施形態によれば、紫外線照射装置2内の照射量の常時監視と制御が可能となり、流量が計画流量より小さい場合や、処理水の紫外線透過率が設計条件より高い条件で起こる得る紫外線が過剰となる条件になった場合は、紫外線ランプの出力を下げて運転できる。このことにより、紫外線ランプを駆動するための無駄な電量消費を防ぎ、省エネルギーを実現することができる。
また、処理水の流量が計画流量より大きい場合や、処理水の紫外線透過が計画条件より低い場合に起こりうる紫外線の照射不足を防止することができる。このことにより、紫外線照射量不足により、処理水内に病原性を保持した微生物が生存することに起因する感染拡大を防止することができる。したがって、本実施形態の紫外線処理装置の監視制御システムによれば、紫外線照射装置の信頼性を向上し、安全な処理水を提供することができる。
さらに、第1実施形態の紫外線照射装置2によれば、紫外線照射装置2内に配置された紫外線ランプ個々の紫外線発光能力の監視、および制御が可能となり、紫外線照射装置2内全ての紫外線ランプから発光される紫外線の強度を均一にすることができる。このことにより、紫外線照射装置2の安定した運転を実現できるとともに、能力の低下した紫外線ランプの特定が可能となり、紫外線照射量不足により処理水内に病原性を保持した微生物が生存することに起因する感染拡大を防止することができる。したがって、本実施形態によれば、紫外線照射装置の信頼性が向上し、安全な処理水を提供することができる。
次に、第2実施形態の紫外線照射装置について図面を参照して説明する。なお、以下の説明において上述の第1実施形態の紫外線照射装置と同様の構成には、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
図13は、第2実施形態の紫外線照射装置の一構成例を示す図である。
本実施形態の紫外線照射装置では、第2紫外線モニター24と第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−5とを第1紫外線モニター21および第1紫外線モニター用測定ヘッド22と同一仕様の機器を用い、第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−5の中心軸の延長線が監視対象である紫外線ランプ13−2〜13−6の略中心軸に達する向きに設置されている。
さらに、第1紫外線モニター用測定ヘッド22と第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−5とを収納する全ての測定窓30の測定窓面31から監視対象である紫外線ランプ13−1〜13−6用の保護管12外周面までの距離Lが等しく、好ましくは距離L=135mm程度になるように設置されている。上記の構成以外は上述の第1実施形態に係る紫外線照射装置2と同様の構成である。
上記のように構成された紫外線照射装置2においては、第1紫外線モニター21が第2紫外線モニター24の基準モニターとして紫外線照射装置2の監視、制御が構成される。具体的には、紫外線照射装置2の紫外線照射量監視と、紫外線ランプ出力制御を行う。
図14は、第2実施形態の紫外線処理設備1の監視および紫外線ランプ出力制御手順の一例を示すフローチャートである。以下に、第2実施形態における監視・制御手順を説明する。
すなわち、まず、監視・制御を開始すると、目標紫外線照射量(目標RED)を設定する(ステップSTB1)。続いて、紫外線照射量監視制御装置6は流量計3の出力(流量Q)を読み込む(ステップSTB2)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、上記式(2)に目標REDと流量Qとを代入し、第1紫外線モニター21の相対出力目標値(S/SDSを計算する(ステップSTB3)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21から相対出力(S/SDmを読み込み(ステップSTA4)、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1の出力制御値(Ds)を読み込む(ステップSTB5)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1の出力制御値(Ds)が100%以上(Ds≧100%)であるか否か、および、第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmが相対出力目標値(S/SDS未満((S/SDm<(S/SDS)であるか否か判断する(ステップSTB6)。
出力制御値(Ds)が100%以上(Ds≧100%)であり、かつ、相対出力(S/SDmが相対出力目標値(S/SDS未満((S/SDm<(S/SDS)である場合、紫外線照射量監視制御装置6は、重警報「UV強度不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発報し(ステップSTB7)、紫外線処理設備1の運転を停止する(ステップSTB8)。
出力制御値(Ds)が100%未満(Ds<100%)、あるいは、相対出力(S/SDmが相対出力目標値(S/SDS以上((S/SDm≧(S/SDS)である場合、第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSを比較し、一致している((S/SDm=(S/SDS)か否か判断する(ステップSTB9)。
相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致しない場合、紫外線照射量監視制御装置6は、ランプ電源5の出力電力を制御して、紫外線ランプ13−1のランプ出力を以下の条件に従って調整する(ステップSTB10)。
すなわち、(S/SDm>(S/SDSである場合、紫外線ランプ13−1の出力制御値を下げる。(S/SDm<(S/SDSである場合、紫外線ランプ13−1の出力制御値を上げる。
上記のように紫外線ランプ13−1のランプ出力を調整した後、再び、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21から相対出力(S/SDmを読み込み(ステップSTB4)、第1紫外線モニター21の監視対象である紫外線ランプ13−1の出力制御値(Ds)を読み込み(ステップSTB5)、ステップSTB6およびステップSTA9の判断を、相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致するまで繰り返す。
続いて、相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致した後、紫外線照射量監視制御装置6は、第2紫外線モニター24−1〜24−6の相対出力((S/SIm1〜Im6)を読み込み(ステップSTB11)、全紫外線ランプの出力制御値(DI1〜I6)を読み込む(ステップSTB12)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、紫外線ランプ13−1〜13−6の何れかの出力制御値(DI1〜I6)が100%以上、かつ、出力制御値DIiが100%以上となった紫外線ランプ13を監視対象とする第2紫外線モニター24の相対出力(S/SImiが第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmより小さいか否か判断する((S/SIm1〜Im5<(S/SDm)(ステップSTB13)。
相対出力(S/SImiが第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmより小さい場合は、紫外線照射量監視制御装置6は、重警報「UV強度不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発報し(ステップSTB7)、紫外線処理設備の運転を停止する(ステップSTB8)。
紫外線ランプ13−1〜13−6の何れかの出力制御値(DI1〜I6)が100%未満である場合、あるいは、出力(S/SImiが第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDm以上である場合は、第1紫外線モニター21の相対出力(S/SDmと、第2紫外線モニター24−1〜24−5の相対出力(S/SIm1〜5とが一致しているか否か判断し(ステップSTB14)、相対出力(S/SDmと相対出力(S/SIm1〜5とが一致している場合は、紫外線照射量監視と、紫外線ランプ出力制御を終了する。
相対出力(S/SDmと相対出力(S/SIm1〜5とが一致していない場合、紫外線照射量監視制御装置6は、紫外線ランプ13−2〜13−6のランプ出力を以下の条件に従って調整する(ステップSTB15)。
すなわち、(S/SIm1〜5>(S/SDmである場合、この条件に合致したランプの出力制御値を下げ、(S/SIm1〜5<(S/SDmである場合、この条件に合致したランプの出力制御値を上げる。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、各ランプの出力調整値の最大値DImaxと最小値DIminとの差が許容差ΔD以下であるか否か判断し(ステップSTB16)、最大値DImaxと最小値DIminとの差が許容差ΔDより大きい場合、軽警報「ランプNo.(該当番号)能力不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発し(ステップSTB17)、ランプ交換を促す。
最大値DImaxと最小値DIminとの差が許容差ΔD以下である場合、相対出力(S/SDmと相対出力目標値(S/SDSとが一致した後、紫外線照射量監視制御装置6は、第2紫外線モニター24−1〜24−5の相対出力((S/SIm1〜5)を読み込み、全紫外線ランプの出力制御値(DI1〜I6)を読み込んで、相対出力(S/SDmと相対出力(S/SIm1〜5とが一致するまでステップSTB13およびステップSTB14の判断を繰り返す。
本実施形態では、上述の第1実施形態の紫外線照射装置2と同様の効果が得られるとともに、第1実施形態による紫外線照射装置に対して、第1紫外線モニター21が第2紫外線モニター24の1つを兼用することができるので、紫外線モニター、測定ヘッドおよび測定ヘッド用保護管や、その他関連部品を減らすことができる。
さらに、第2実施形態の紫外線照射装置2よれば、第2紫外線モニター用測定ヘッド25を設置するための保護管23が不要となるため、紫外線照射装置2内部における処理水の流動に対する影響を軽減することができるとともに、測定ヘッド保護管23の影となっていた領域がなくなるため、内部での紫外線有効照射域を拡大することができる。
さらに、第2紫外線モニター24−1〜24−5、および第2紫外線モニター用測定ヘッド25−1〜25−5は、第1紫外線モニター21および第1紫外線モニター用測定ヘッド22と同じ仕様の機器を使用しているため、どの紫外線モニターでも、第1紫外線モニター21兼第2紫外線モニター24の基準モニターとして使用することができる。
例えば、紫外線ランプ13−1〜13−6を必要数の倍数設置しておき、その内の半数のランプセットを常時点灯ランプとして、点灯ランプセットを切替えて運転するように構成された紫外線照射装置において、点灯ランプ能力が許容能力(設計能力)以下になったり、点灯ランプの累積点灯時間が期待寿命時間に達したりすることにより、点灯ランプセットを切替えた場合には、第1紫外線モニター21を担当する紫外線モニターを変更するだけで、同様の監視、制御を実行することができる。
次に、第3実施形態の紫外線照射装置について図面を参照して説明する。
本実施形態における紫外線照射装置の構造および紫外線モニターの設置方法は、第2の実施形態と同一の構造であり、紫外線照射量監視と、紫外線ランプ出力制御の動作が第1実施形態、および第2実施形態と異なる。
本実施形態では、紫外線照射量監視制御装置6は、目標紫外線量が予め設定され、処理水の流量や、紫外線透過率の変動に応じて、予め設定された目標紫外線照射量を達成するために必要な第1紫外線モニター出力値を算出するための演算式に、目標紫外線照射量と処理水流量を代入して算出された値を目標紫外線モニター出力値とし、複数の紫外線ランプをそれぞれ監視する紫外線モニターの中で、最も低い値を示した紫外線モニターをそのときの第1紫外線モニターとする。
さらに、そのときの第1紫外線モニターによる測定値が、目標紫外線モニター出力値と一致するように、第1紫外線モニターが監視対象とする紫外線ランプの出力を調整し、さらに、他の紫外線ランプの出力は、そのときの第1紫外線モニターの監視対象紫外線ランプの出力調整値と同一の出力調整値に設定する。
図15は、本実施形態による紫外線処理設備の監視および紫外線ランプ出力制御手順の一例を示すフローチャートである。以下に、図14を参照して本実施形態における監視・制御手順の一例を説明する。
すなわち、まず、監視・制御を開始すると、目標紫外線照射量(目標RED)を設定する(ステップSTC1)。続いて、紫外線照射量監視制御装置6は流量計3の出力(流量Q)を読み込む(ステップSTC2)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、上記式(2)に目標REDと流量Qとを代入し、第1紫外線モニター21の相対出力目標値(S/SDSを計算する(ステップSTC3)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21および第2紫外線モニター24の相対出力(S/SDm、(S/SIm1〜Im5を読み込む(ステップSTC4)。
次に、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21および第2紫外線モニター24の相対出力(S/SDm、(S/SIm1〜Im5から、最小の相対出力値(S/Sminを求める(ステップSTC5)。
(S/S)min=MIN((S/SDm、(S/SIm1〜Im5
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、全ての紫外線ランプ13−1〜13−6の紫外線ランプ出力制御値(D,DI1〜I5)をランプ電源5から読み込む(ステップSTC6)。
続いて、紫外線照射量監視制御装置6は、全ての紫外線ランプ13−1〜13−6の出力制御値(D、DI1〜I5)が100%以上、かつ、最小の紫外線モニター相対出力(S/S)minが相対出力目標値(S/SDS未満であるか否か判断する(ステップSTC7)。
紫外線ランプ13−1〜13−6の出力制御値(D、DI1〜I5)が100%以上、かつ、最小の紫外線モニター相対出力(S/S)minが相対出力目標値(S/SDS未満である場合、紫外線照射量監視制御装置6は、重警報「UV強度不足」を紫外線処理設備監視制御装置7へ発報し(ステップSTC8)、紫外線処理設備の運転を停止する(ステップSTC9)。
紫外線ランプ13−1〜13−6の出力制御値(D、DI1〜I5)が100%未満、あるいは、最小の紫外線モニター相対出力(S/S)minが相対出力目標値(S/SDS以上の場合、最小の紫外線モニター相対出力(S/S)minと相対出力目標値(S/SDSとを比較し、相対出力(S/S)minと相対出力目標値(S/SDSとが一致しているか否か判断する(ステップSTC10)。
相対出力(S/S)minと相対出力目標値(S/SDSとが一致していない場合、紫外線照射量監視制御装置6は、全紫外線ランプ13の出力を以下の条件に従って調整する(ステップSTC11)。
すなわち、(S/Smin>(S/SDSである場合、紫外線照射量監視制御装置6は、全紫外線ランプ13−1〜13−6の出力制御値を下げ、(S/Smin<(S/SDSである場合、紫外線照射量監視制御装置6は、全紫外線ランプ13−1〜13−6の出力制御値を上げる。
その後、紫外線照射量監視制御装置6は、第1紫外線モニター21および第2紫外線モニター24の相対出力(S/SDm、(S/SIm1〜Im5を読み込み(ステップSTC4)、第1紫外線モニター21および第2紫外線モニター24の相対出力(S/SDm、(S/SIm1〜Im5から、最小の相対出力値(S/Sminを求め、(ステップSTC5)。全ての紫外線ランプ13−1〜13−6の紫外線ランプ出力制御値(D,DI1〜I5)をランプ電源5から読み込み(ステップSTC6)、上記ステップSTC7およびステップSTC10の判断を相対出力(S/S)minと相対出力目標値(S/SDSとが一致するまで繰り返す。
ステップSTC10において、相対出力(S/Sminと相対出力目標値(S/SDSとが一致している場合、紫外線照射量監視制御装置6は、紫外線照射量監視と、紫外線ランプ出力制御を終了する。
本実施形態によれば、第1実施形態、第2実施形態と同様の効果が得られるとともに、紫外線モニターによる測定値の最小値が目標紫外線強度以上になるように全紫外線ランプの出力を制御するので、紫外線処理設備を常に十分な能力で運転することができる。
さらに、紫外線ランプを個別に制御する必要が無いため紫外線照射量監視と紫外線ランプ出力制御動作を簡略化することができる。
なお、以上の実施形態では、紫外線モニターの出力を相対出力値としているが、相対出力値の代わりに紫外線モニターで測定される紫外線強度の絶対値を用いた場合にも同様効果が得られる。
さらに、紫外線照射装置の構造として、紫外線ランプが処理流体の流れに対して直交する方向に配置する構造を例として示したが、紫外線照射装置の構造は上記構造になんら限定するものではなく、紫外線ランプを流れに対して平行に設置する場合でも同様の効果を得ることができる。
すなわち、上記第1乃至第3実施形態に係る紫外線照射装置によれば、紫外線照射装置内の紫外線照射状況を常時監視するための紫外線モニターと、紫外線照射装置内に紫外線を照射する光源として配置された紫外線ランプの能力を個別に監視するための、ランプ能力監視用紫外線モニターを設置することにより、紫外線照射装置の能力を正確に監視でき、これに基づいて紫外線ランプの出力制御することで紫外線照射量の過不足を防止でき、信頼性を確保しながら省エネ運転を実現可能な紫外線照射装置および、紫外線照射装置の監視制御システムを提供することができる。
また、紫外線照射装置内の紫外線照射量を監視するための紫外線モニターとは別に、個々の紫外線ランプの能力を監視するための紫外線モニターを設置しているので、常時監視に対する要求と、紫外線ランプ個々の監視に対する要求を同時に対応することができる紫外線照射装置および、紫外線照射装置の監視制御システムを提供することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、紫外線照射装置に要求される紫外線照射量を確保するために必要な紫外線ランプ数が決まっている場合は、紫外線照射装置内には必要本数の複数倍の紫外線ランプを実装し、紫外線ランプの発光能力低下や、期待寿命到達時に順番に切替える方式の紫外線照射装置において、切替え前のランプセットと、切替え後のランプセットとの照射能力が大きく変化しないように点灯する紫外線ランプの組合せを予め決めておき、それぞれの組合せごとに代表ランプを定め、紫外線処理設備における紫外線照射量監視と、点灯している全ての紫外線ランプの出力を制御する指標となる代表ランプを監視するための第1紫外線モニター21および第1紫外線モニター用測定ヘッド22を設置してもよい。
この場合、紫外線照射装置における目標紫外線量が予め設定され、処理水の流量や、紫外線透過率の変動に応じて、予め設定された目標紫外線照射量を達成するために必要な第1紫外線モニター出力値を算出する演算式に目標紫外線照射量と処理水流量を代入して目標紫外線モニター出力値を算出するための演算式が、予め設定された紫外線ランプの組合せ毎に設定されてもよい。
さらに、紫外線照射装置における目標紫外線量が予め設定され、処理水の流量や、紫外線透過率の変動に応じて、予め設定された目標紫外線照射量を達成するために必要な第1紫外線モニター出力値を算出する演算式に目標紫外線照射量と処理水流量を代入して目標紫外線モニター出力値を算出するための演算式は、予め設定された紫外線ランプの組合せのなかで、紫外線照射量が最も低くなる紫外線ランプの組合せの特性に合わせた演算式を設定してもよい。
RED…等価換算紫外線照射量、Q…流量、ΔD…許容差、1…紫外線処理設備、2…紫外線照射装置、3…流量計、4…流量調整弁、5…ランプ電源、6…紫外線照射量監視制御装置、7…紫外線処理設備監視制御装置、8…紫外線測定ヘッド、9…紫外線モニター、10…通水胴、11…ランプハウジング、12…保護管(紫外線ランプ保護管)、13(13−1〜13−6)…紫外線ランプ、14…ランプハウジング蓋、16…洗浄板駆動軸、17…移動コマ、18…駆動モータ、19…洗浄ワイパー、20…洗浄板、21…第1紫外線モニター、22…第1紫外線モニター用測定ヘッド(第1測定ヘッド)、23…保護管(測定ヘッド保護管)、24…第2紫外線モニター、25…第2紫外線モニター用測定ヘッド(第2測定ヘッド)、26…測定ヘッド支持部材、27…受光部、28…導光孔、29…遮光キャップ、30…測定窓、31…測定窓面。

Claims (7)

  1. 複数の紫外線ランプを備え、流入した処理水が紫外線を照射した後に排出する紫外線照射装置と、
    前記紫外線照射装置の流入口側または排出口側の前記処理水の流量を測定する流量計と、
    前記紫外線照射装置における紫外線照射量監視と前記紫外線ランプの出力制御とを行う紫外線照射量監視制御装置と、を備え、
    前記複数の紫外線ランプの1つから発光された紫外線の強度を測定する第1測定ヘッドと、
    前記複数の紫外線ランプのそれぞれから発光された紫外線の強度を測定する複数の第2測定ヘッドと、を備え、
    前記第1測定ヘッドでの紫外線強度測定値と前記第1測定ヘッドにより測定される紫外線ランプの出力制御値が100%のときの紫外線強度との比と、等価換算紫外線照射量との関係が1つの一次関数直線となるように、前記紫外線ランプと第1測定ヘッドまでの距離が設定されていることを特徴とする紫外線照射装置の監視制御システム。
  2. 前記第1測定ヘッドは、前記紫外線照射装置内の紫外線照射量監視と、紫外線照射装置内に配置された全ての前記紫外線ランプの出力を制御する指標となる紫外線ランプから発光された紫外線の強度を測定し、円柱形状の第1本体軸と、前記第1本体軸の軸方向に対して垂直に設けられた第1受光面と、を有し、
    前記第2測定ヘッドは、円柱形状の第2本体軸と、前記第2本体軸の軸方向と水平に設けられた第2受光面と、を有し、
    前記第2測定ヘッドと前記第2測定ヘッドにより発光した紫外線を測定される紫外線ランプとの距離は、前記第1測定ヘッドと前記第1測定ヘッドにより発光した紫外線を測定される紫外線ランプとの距離以下であることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置の監視制御システム。
  3. 前記第1測定ヘッドおよび前記第2測定ヘッドは、柱形状の本体軸と、前記本体軸の軸方向に対して垂直に設けられた受光面と、を備え、
    第2測定ヘッドと前記第2測定ヘッドにより発光した紫外線を測定される紫外線ランプとの距離は、前記第1測定ヘッドと前記第1測定ヘッドにより発光した紫外線を測定される紫外線ランプとの距離と略同一であることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置の監視制御システム。
  4. 前記複数の紫外線ランプは前記処理水の経路に配置され、
    前記複数の第2測定ヘッドは、それぞれが監視対象とする前記紫外線ランプとの受光面との距離が略等しくなるように配置されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置の監視制御システム。
  5. 前記第1測定ヘッドは、前記第1測定ヘッドの固定および処理水との接触を防ぐために設置される測定窓の窓外面と、前記紫外線ランプの外周を覆う保護管外面との距離は135mm±5mmになるように設置されていることを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置の監視制御システム。
  6. 前記紫外線照射量監視制御装置は、前記流量計によって測定された流量と、前記第1測定ヘッドによる測定値とによって、前記第1測定ヘッドにより発光した紫外線を測定される紫外線ランプの出力を調整し、かつ、前記第1測定ヘッドにより発光した紫外線を測定される紫外線ランプが発光した紫外線を測定する第2測定ヘッドによる測定値を目標値として、他の紫外線ランプを監視対象とする第2測定ヘッドの測定値が、前記目標値と一致するように、個々の紫外線ランプの出力を調整することを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置の監視制御システム。
  7. 前記第1測定ヘッドおよび第2測定ヘッドで測定される値を監視する複数の紫外線モニターをさらに備え、
    前記紫外線照射量監視制御装置は、予め設定された目標紫外線照射量を達成するために必要な複数の紫外線モニター出力値を算出するための演算式に、前記目標紫外線照射量と前記流量計で測定された処理水流量を代入して算出された値を目標紫外線モニター出力値とし、前記複数の紫外線モニターの中で、最も低値を示した前記紫外線モニターを第1紫外線モニターとし、さらに、前記第1紫外線モニターによる測定値が、目標紫外線モニター出力値と一致するように、第1紫外線モニターが監視対象とする紫外線ランプの出力を調整し、さらに、他の紫外線ランプの出力は、前記第1紫外線モニターの監視対象紫外線ランプの出力調整値と略同一の出力調整値に設定することを特徴とする請求項1記載の紫外線照射装置の監視制御システム。
JP2011059931A 2011-03-17 2011-03-17 紫外線照射装置の監視制御システム Active JP5414721B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011059931A JP5414721B2 (ja) 2011-03-17 2011-03-17 紫外線照射装置の監視制御システム
EP12159852.8A EP2511241B1 (en) 2011-03-17 2012-03-16 Setting of a distance between an ultraviolet lamp and a measurement head in an ultraviolet irradiation system
CA2771552A CA2771552C (en) 2011-03-17 2012-03-16 Ultraviolet irradiation system for water treatment
CN201210070972.9A CN102674501B (zh) 2011-03-17 2012-03-16 紫外线照射系统
US13/422,521 US8487267B2 (en) 2011-03-17 2012-03-16 Ultraviolet irradiation system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011059931A JP5414721B2 (ja) 2011-03-17 2011-03-17 紫外線照射装置の監視制御システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012192381A true JP2012192381A (ja) 2012-10-11
JP5414721B2 JP5414721B2 (ja) 2014-02-12

Family

ID=45976087

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011059931A Active JP5414721B2 (ja) 2011-03-17 2011-03-17 紫外線照射装置の監視制御システム

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8487267B2 (ja)
EP (1) EP2511241B1 (ja)
JP (1) JP5414721B2 (ja)
CN (1) CN102674501B (ja)
CA (1) CA2771552C (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014151275A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Iwasaki Electric Co Ltd 流体処理装置
WO2015037260A1 (ja) * 2013-09-12 2015-03-19 株式会社東芝 紫外線照射装置
JP2017140560A (ja) * 2016-02-09 2017-08-17 株式会社東芝 液体処理装置及び液体処理システム
JP2018535089A (ja) * 2015-10-27 2018-11-29 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. アンチ・ファウリング・システム、並びに、アンチ・ファウリング・システムを制御するコントローラー及び方法
JP2019030635A (ja) * 2017-06-26 2019-02-28 ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company 光システムを動作させるためのシステムと方法
JP2019098291A (ja) * 2017-12-07 2019-06-24 スタンレー電気株式会社 流体殺菌装置
CN110980870A (zh) * 2019-12-23 2020-04-10 西安建筑科技大学 一种自动调节紫外辐照度的紫外线消毒水处理系统与方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5259562B2 (ja) * 2009-12-22 2013-08-07 株式会社東芝 紫外線照射システム
CN103241798A (zh) * 2013-05-09 2013-08-14 闻路红 有机物消除装置及方法
CA2914752A1 (en) * 2013-06-07 2014-12-11 Trojan Technologies System for determining uv dose in a reactor system
US9880052B2 (en) 2013-10-02 2018-01-30 The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement and real-time feedback of solar ultraviolet exposure
US9798458B2 (en) 2013-10-02 2017-10-24 The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement and real-time feedback of solar ultraviolet exposure
JP5874785B2 (ja) * 2014-07-18 2016-03-02 栗田工業株式会社 付着物定量化装置及びそれを用いた付着物定量化方法
WO2016193114A1 (en) 2015-06-03 2016-12-08 Koninklijke Philips N.V. Safety improvements for uv radiation in aquatic applications
US10527491B2 (en) 2015-08-25 2020-01-07 The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute Methods, systems, and apparatuses for accurate measurement and real-time feedback of solar ultraviolet exposure
US10739253B2 (en) 2016-06-07 2020-08-11 Youv Labs, Inc. Methods, systems, and devices for calibrating light sensing devices
GB2587574B (en) * 2016-06-14 2021-11-03 Finsen Tech Limited A method of monitoring failure of an ultraviolet emitter in an ultraviolet disinfecting apparatus
GB2551349B (en) * 2016-06-14 2021-02-24 Finsen Tech Limited Method of calculating an exposure time for disinfecting a room using an ultraviolet disinfecting apparatus
USD829112S1 (en) 2016-08-25 2018-09-25 The Joan and Irwin Jacobs Technion-Cornell Innovation Institute Sensing device
CA3057298A1 (en) 2017-03-21 2018-09-27 Hayward Industries, Inc. Systems and methods for sanitizing pool and spa water
US11472727B2 (en) 2017-06-09 2022-10-18 Hayward Industries, Inc. Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit
KR102478463B1 (ko) * 2017-08-31 2022-12-20 서울바이오시스 주식회사 유체 처리 장치
EP3867610A4 (en) 2018-10-19 2022-06-29 Youv Labs, Inc. Methods, systems, and apparatus for accurate measurement of health relevant uv exposure from sunlight
CN112750515A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 Oppo广东移动通信有限公司 健康提示方法及相关产品
WO2022081407A1 (en) * 2020-10-15 2022-04-21 Current Lighting Solutions, Llc Ultraviolet light source for use in an environment for human occupation including hardware safety interlocks
CN113053085B (zh) * 2021-02-04 2022-06-03 北京戴纳实验科技有限公司 一种医院冰箱监管系统
CN117083090A (zh) * 2021-03-31 2023-11-17 大金工业株式会社 处理装置、紫外线释放装置及紫外线释放方法
CN113179571B (zh) * 2021-04-08 2022-11-08 北京戴纳实验科技有限公司 一种紫外照明管控系统
CN116854185A (zh) * 2023-08-30 2023-10-10 佛山市锐诚云智能科技有限公司 净水系统的紫外线光源控制方法、装置及驱动电源

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1057954A (ja) * 1996-08-14 1998-03-03 Nippon Photo Sci:Kk 紫外線照射装置の紫外線照射量測定装置
JP2002263645A (ja) * 2001-03-13 2002-09-17 Ebara Corp 紫外線照射装置
JP2006082085A (ja) * 2005-11-25 2006-03-30 Ebara Corp 紫外線照射装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6451202B1 (en) 1999-06-21 2002-09-17 Access Business Group International Llc Point-of-use water treatment system
JP3920504B2 (ja) * 1999-08-10 2007-05-30 株式会社荏原製作所 紫外線殺菌装置
US6264836B1 (en) * 1999-10-21 2001-07-24 Robert M. Lantis Method and apparatus for decontaminating fluids using ultraviolet radiation
EP1130381B1 (en) * 2000-03-03 2006-09-27 Hanovia Limited Transmission meter, a method of measuring transmittance and a disinfection apparatus
JP2005052760A (ja) 2003-08-05 2005-03-03 Nishihara:Kk 紫外線照射装置
JP4340181B2 (ja) 2004-03-29 2009-10-07 株式会社野村工電社 飲用水供給機
JP4886972B2 (ja) 2004-05-26 2012-02-29 株式会社豊振科学産業所 電磁波照射装置
US7820038B2 (en) 2005-03-29 2010-10-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet radiation water treatment system
JP4168348B2 (ja) 2005-12-06 2008-10-22 千代田工販株式会社 紫外線照度測定装置、及び紫外線照射装置
CN101497487A (zh) * 2008-01-31 2009-08-05 株式会社东芝 水处理系统及水处理方法
JP5276855B2 (ja) * 2008-02-18 2013-08-28 株式会社日立製作所 紫外線水処理設備及びその紫外線照射量制御装置
JP5049901B2 (ja) * 2008-07-04 2012-10-17 株式会社東芝 紫外線照射水処理装置
JP2011131138A (ja) 2009-12-22 2011-07-07 Toshiba Corp 紫外線照射装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1057954A (ja) * 1996-08-14 1998-03-03 Nippon Photo Sci:Kk 紫外線照射装置の紫外線照射量測定装置
JP2002263645A (ja) * 2001-03-13 2002-09-17 Ebara Corp 紫外線照射装置
JP2006082085A (ja) * 2005-11-25 2006-03-30 Ebara Corp 紫外線照射装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014151275A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Iwasaki Electric Co Ltd 流体処理装置
WO2015037260A1 (ja) * 2013-09-12 2015-03-19 株式会社東芝 紫外線照射装置
CN105452173A (zh) * 2013-09-12 2016-03-30 株式会社东芝 紫外线照射装置
US10364166B2 (en) 2013-09-12 2019-07-30 Kabushiki Kaisha Toshiba UV-irradiation apparatus
JP2018535089A (ja) * 2015-10-27 2018-11-29 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. アンチ・ファウリング・システム、並びに、アンチ・ファウリング・システムを制御するコントローラー及び方法
JP7232047B2 (ja) 2015-10-27 2023-03-02 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ アンチ・ファウリング・システム、並びに、アンチ・ファウリング・システムを制御するコントローラー及び方法
JP2017140560A (ja) * 2016-02-09 2017-08-17 株式会社東芝 液体処理装置及び液体処理システム
JP7030627B2 (ja) 2017-06-26 2022-03-07 ザ・ボーイング・カンパニー 光システムを動作させるためのシステムと方法
JP2019030635A (ja) * 2017-06-26 2019-02-28 ザ・ボーイング・カンパニーThe Boeing Company 光システムを動作させるためのシステムと方法
US11503680B2 (en) 2017-06-26 2022-11-15 The Boeing Company Systems and methods for operating a light system
JP2019098291A (ja) * 2017-12-07 2019-06-24 スタンレー電気株式会社 流体殺菌装置
JP7011930B2 (ja) 2017-12-07 2022-01-27 スタンレー電気株式会社 流体殺菌装置
CN110980870B (zh) * 2019-12-23 2022-04-26 西安建筑科技大学 一种自动调节紫外辐照度的紫外线消毒水处理系统与方法
CN110980870A (zh) * 2019-12-23 2020-04-10 西安建筑科技大学 一种自动调节紫外辐照度的紫外线消毒水处理系统与方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN102674501B (zh) 2014-06-25
CA2771552A1 (en) 2012-09-17
US8487267B2 (en) 2013-07-16
EP2511241B1 (en) 2015-11-25
CN102674501A (zh) 2012-09-19
EP2511241A1 (en) 2012-10-17
CA2771552C (en) 2014-07-08
US20120235050A1 (en) 2012-09-20
JP5414721B2 (ja) 2014-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5414721B2 (ja) 紫外線照射装置の監視制御システム
US9592102B2 (en) Dental hand tool with disinfection reactor
US4629896A (en) Apparatus for monitoring the intensity of a UV source
JP2011050830A (ja) 紫外線照射装置
JP5571113B2 (ja) 液体処理システム、制御方法及び制御プログラム
JP2009082774A (ja) 紫外線水処理システム及びそのシステムに用いる紫外線水処理装置並びに遠隔監視装置。
JP6422900B2 (ja) 液体処理装置及び液体処理システム
EP2288578A1 (en) Photochemical reactor, luminescent screen and photochemical processing system
US20230055000A1 (en) Device for disinfecting a fluid
JP7411770B2 (ja) 水処理装置
AU2012227351B2 (en) Dental hand tool with disinfectant reactor
US20220119280A1 (en) Lamp sensor modulation of a power supply
EP4029355B1 (en) Ultraviolet lamp output modulation
JP2008068203A (ja) 紫外線消毒システム
JP2024049658A (ja) 紫外線照射装置
WO2023285992A1 (en) Methods and devices for ultraviolet fluid treatment of fluids
JP2013180275A (ja) 紫外線処理装置
WO2014202681A1 (en) Uv-lamp based water treatment system
JP2004082043A (ja) 病原性微生物の不活化方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130321

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130416

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130617

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130723

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130924

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131015

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131112

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5414721

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151