CN105247657A - 管理装置、衬底处理系统、装置信息更新方法及存储介质 - Google Patents

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Abstract

将与具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置连接的管理装置构成为具有：设定部，设定所述装置信息中的成为所述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，基于由所述设定部设定的所述基准装置信息，分别对提取从所述衬底处理装置获取的获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异而得到的差异部和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容进行显示；和控制部，进行如下控制：当从所述操作显示部接收所述获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异部的修正指示时，基于所述修正指示，修正所述获取装置信息并创建修正装置信息，并将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。

Description

管理装置、衬底处理系统、装置信息更新方法及存储介质
技术领域
本发明涉及对于处理晶圆等衬底的衬底处理装置所具有的装置信息进行管理的管理装置、具有该管理装置和衬底处理装置的衬底处理系统、上述衬底处理装置所具有的装置信息的更新方法及存储介质，其中，装置信息是指，成膜配方(recipe)等的存储在文件中的信息。上述衬底处理装置用于对例如嵌入有半导体集成电路(以下称为IC)的半导体衬底(例如半导体晶圆)进行成膜等的处理。
背景技术
在大规模的半导体制造工厂(以下称为工厂)中，导入了用于对由多个衬底处理装置构成的衬底处理装置组进行集中管理的管理装置，在管理装置中，能够进行该管理装置担任的各衬底处理装置的生产状况的监视、生产历史记录和障碍历史记录的积累及参考等。管理装置和各衬底处理装置通过能够高速通信的LAN等的网络来连接。而且，各衬底处理装置分别具有用于进行衬底处理的衬底处理配方，基于自身所具有的衬底处理配方进行衬底处理。
然而，由于在多个衬底处理装置中并行地进行相同内容的衬底处理，在多个衬底处理装置中，进行相同内容的衬底处理的相同衬底处理装置例如进行相同成膜处理的相同成膜处理装置包含有多个。这样的相同衬底处理装置的衬底处理配方原本是相同内容，但有时在反复进行衬底处理的过程中，在某个衬底处理装置中改善了衬底处理配方，例如变更了衬底处理配方的参数设定值(例如衬底处理室的温度设定值)。而且，在其结果良好的情况下，反应给其他的相同衬底处理装置。
在这样的情况下，对已改善的衬底处理配方文件和其他的衬底处理装置所具有的多个衬底处理配方文件进行比较，提取并输出差异部分的参数，基于该输出的差异部分的参数，对其他的衬底处理装置的衬底处理配方文件进行修正。
使用图9说明背景技术的文件比较更新处理。图9是背景技术的文件比较更新处理流程图。在该例中，衬底处理装置A具有恰当的文件。然后，在管理装置中，比较其他的多个衬底处理装置(衬底处理装置B等)所具有的文件是否与衬底处理装置A的恰当的文件一致，在存在差异的情况下，以对照衬底处理装置A的文件的方式来修正衬底处理装置B等的文件。衬底处理装置A和衬底处理装置B等设置在无尘室内，通过LAN等的网络与设置在办公室内的管理装置来连接。
首先，在管理装置中，获取衬底处理装置A的文件(图9的步骤S61)，获取衬底处理装置B的文件(步骤S62)，对所获取的两个文件进行比较(步骤S63)。比较的结果为(步骤S64)，在两个文件间不存在差异的情况下，结束处理。在两个文件间存在差异的情况下，输出比较结果(例如CSV输出)，或者操作者记录差异部分(步骤S65)。
接着，操作者从办公室向无尘室内移动(步骤S66)，在衬底处理装置B中，基于比较结果输出或记录，修正并更新文件(步骤S67)。接着，操作者从无尘室内向办公室移动(步骤S68)，确认是否准确地进行了文件更新。在没有准确地进行文件更新的情况下，再次向无尘室内移动，进行文件的修正。在准确地进行了文件更新的情况下，返回至步骤S62，进行下一衬底处理装置例如衬底处理装置C的文件的比较和修正。
像这样，在背景技术中，在管理装置中，能够进行两个文件间的比较，但不能进行3个以上的文件间的同时比较。由此，在比较对象的衬底处理装置为3台以上时，文件的更新花费大量时间，导致不能开始正式的衬底处理，使装置的运转率降低。
发明内容
本发明的目的在于，提供能够提取衬底处理装置间的装置信息的差异并进行装置信息更新的管理装置、衬底处理系统、装置信息更新方法及存储介质。
根据本发明的一个方式，提供一种管理装置，其为与具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置连接的管理装置，其具有：设定部，其设定所述装置信息中的成为所述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其基于由所述设定部设定的所述基准装置信息，分别对提取从所述衬底处理装置获取的获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异而得到的差异部、和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容进行显示，并进行所述差异部的修正指示；和控制部，其进行如下控制：当从所述操作显示部接收针对该差异部的修正指示时，基于所述修正指示，修正所述获取装置信息并创建修正装置信息，将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
根据本发明的其他方式提供一种衬底处理系统，其为包括具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置和管理装置在内的衬底处理系统，其中，所述管理装置具有：设定部，其设定所述装置信息中的成为所述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其基于由所述设定部设定的所述基准装置信息，分别对提取从所述衬底处理装置获取的获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异而得到的差异部、和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容进行显示，并进行所述差异部的修正指示；和控制部，其进行如下控制：当从所述操作显示部接收针对该差异部的修正指示时，基于所述修正指示，修正所述获取装置信息并创建修正装置信息，将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
根据本发明的又一方式，提供一种装置信息更新方法，其具有如下工序：提取工序，提取从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息而获取的获取装置信息、与成为所述装置信息的基准的基准装置信息之间的差异；显示工序，分别显示所述差异部和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容；修正指示受理工序，受理所述获取装置信息的与所述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和装置信息修正工序，基于所述修正指示，创建对所述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
根据本发明的又一方式，提供一种存储介质，其保存有装置信息更新程序，该装置信息更新程序包括：提取处理，提取从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息而获取的获取装置信息、与成为所述装置信息的基准的基准装置信息之间的差异；显示处理，分别显示所述差异部和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容；修正指示受理处理，受理所述获取装置信息的与所述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和装置信息修正处理，基于所述修正指示，创建对所述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
发明效果
根据上述结构，能够提取衬底处理装置间的装置信息的差异，并能够将提取出的装置信息的差异显示在操作画面上，以能够进行装置信息的更新。
附图说明
图1是本发明的实施方式的衬底处理系统的结构图。
图2是本发明的实施方式的管理装置的结构图。
图3是表示本发明的实施方式的文件比较更新处理的概要的流程图。
图4是本发明的实施方式的衬底处理装置文件信息的例子。
图5是本发明的实施方式的比较文件管理信息的例子。
图6是本发明的实施方式的文件比较结果信息的例子。
图7是本发明的实施方式的文件比较更新处理流程图。
图8是图7的流程图中的编辑文件输出的流程图。
图9是背景技术的文件比较更新处理流程图。
图10是本发明的实施方式的文件比较结果信息的例子。
图11的(a)是用于说明本发明的实施方式的比较结果信息的图示例。图11的(b)是用于说明本发明的实施方式的文件比较结果信息的图示例。
图12的(a)是用于说明本发明的实施方式的文件比较结果信息的图示例。图12的(b)是用于说明本发明的实施方式的文件比较结果信息的图示例。
图13的(a)是用于说明本发明的实施方式的文件比较结果信息的图示例。图13的(b)是用于说明本发明的实施方式的文件比较结果信息的图示例。
具体实施方式
使用图1至图8对本发明的实施方式进行说明。首先，使用图1说明衬底处理系统的结构的概要。图1是本发明的实施方式的衬底处理系统的结构图。在图1中，衬底处理系统具有多个衬底处理装置20(装置A、装置B、装置C、……装置n)、管理装置10、作为构成管理装置10的一部分的操作显示部的GUI(GraphicalUserInterface：图形用户界面)13、将多个衬底处理装置20和管理装置10连接的网络31以及将管理装置10和GUI13连接的网络32。此外，图1所示管理装置10和GUI13也可以采用独立的结构。
各衬底处理装置20设置在无尘室内，GUI13设置在清洁度比无尘室低的环境的办公室内。管理装置10设置在无尘室和办公室外。此外，管理装置10也可以设置在办公室内。在该情况下，不需要通过网络连接管理装置10和GUI13，可以将它们直接连接。
以下，使用图3说明本实施方式的文件比较更新处理的概要。图3是表示本实施方式的文件比较更新处理的概要的流程图。本实施方式的文件是用于处理衬底的衬底处理装置20的装置信息。首先，在进行文件的比较更新的情况下，例如，在操作显示部13的操作画面上设置有用于设定主文件的设定部，操作者利用该设定部决定成为比较源的文件(称为主文件)，并通过管理装置10的操作显示部13指定。管理装置10基于该主文件进行比较。在图3的例子中，衬底处理装置20A的特定文件被操作者设定为主文件。主文件是存储有作为装置信息的基准的基准装置信息的文件。
在图3中，首先，管理装置10从衬底处理装置20A(装置A)经由网络31获取由操作者指定的主文件(例如文件名称为“配方1”)(步骤S11)。接着，管理装置10从衬底处理装置20B(装置B)获取与主文件相同的名称的文件(称为同名文件)(步骤S12)。这样，管理装置10从各装置依次获取同名文件，最后，从衬底处理装置20n(装置n)获取(步骤S13)。像这样，管理装置10从该管理装置10担任的全部衬底处理装置20均获取该同名文件。这里，不仅能够比较相同名称的文件，还能够一并比较名称不同的文件。例如，构成为还能够一并比较类似的文件名。
接着，管理装置10并行地比较从装置B～装置n获取的同名文件的内容和主文件的内容(步骤S14)。在比较结果没有差异的情况下，也就是说，在步骤S15中没有不同的情况下，结束本处理。在比较结果存在差异的情况下，也就是说，步骤S15中存在不同的情况下，管理装置10判定操作者是否从管理装置10的操作显示部13进行了编辑指示(步骤S16)。在步骤S16中没有编辑指示的情况下，结束本处理。此外，关于操作者的编辑指示的有无，例如可以在画面上显示对话框等，来询问编辑指示的有无，另外，也可以利用时间管理编辑指示的有无。
在步骤S16中存在编辑指示的情况下，管理装置10对从装置B～装置n获取的同名文件进行编辑，也就是说，进行修正(步骤S17)，将该修正后的文件经由网络31输出至装置B～装置n，也就是发送至装置B～装置n(步骤S18)。在装置B～装置n中，通过将从管理装置10接收的修正完毕文件替换修正前的同名文件，来更新修正前的同名文件。在管理装置10将修正完毕文件发送到装置B～装置n之后，返回至步骤S11，转移至基于下一主文件(例如文件名称为“配方2”)的文件比较更新处理。像这样，在本实施方式中，管理装置10具有文件编辑功能，因此，操作者的全部操作在管理装置10的操作显示部13上进行，也就是说在办公室内进行。因此，即使比较对象的装置为3台以上，也不需要例如在办公室和无尘室之间多次往返。因此，在文件比较更新处理时，能够抑制浪费在办公室和无尘室之间的移动时间等的没有直接关系的时间上。另外，由于不需要在无尘室中进行编辑处理，所以能够期待将无尘室的环境保持成清洁的环境。
对衬底处理装置20进行说明。衬底处理装置20用于进行衬底处理，例如在衬底表面上进行成膜的成膜处理，并将与衬底处理装置相关的各种装置信息，与作为用于识别各装置信息的标识符的装置信息ID一并作为文件存储在该衬底处理装置20的存储部中。该装置信息包括例如包含用于进行衬底处理的步骤在内的衬底处理配方等。另外，配方包括在执行上述衬底处理配方的过程中出现了错误的情况下执行的警告配方、中止配方。另外，文件不仅包括配方，还包括在该衬底处理配方中所使用的压力参数、温度参数和气体流量参数等的控制参数文件。这些控制参数等的各种参数也包含于装置信息。
使用图2说明管理装置。图2是本发明的实施方式的管理装置的结构图。如图2所示，管理装置10具有控制部11、存储部12、操作显示部13和通信部14。操作显示部13具有：操作部，其由受理来自操作者的各种指示或数据输入等的键盘或鼠标等构成；和显示部，其由显示各种数据等的LCD等构成，操作部和显示部分体地构成。如上所述地，在本实施方式中，操作显示部13通过网络32与管理装置10连接。通信部14与网络31连接，并在与连接于该网络31的各衬底处理装置20之间进行通信。
存储部12存储装置文件信息12a、获取文件信息12b、比较文件管理信息12c、比较结果信息12d和修正完毕文件信息12e。
(装置文件信息12a)图4表示本实施方式的装置文件信息12a的构成例。管理装置10担任的、也就是与管理装置10连接的全部衬底处理装置20所具有的文件的文件名，和衬底处理装置20的装置名相对应地存储在装置文件信息12a中。能够在操作显示部13中显示装置文件信息12a。在图4的例子中，装置文件信息12a包括例如装置名为“装置A”的衬底处理装置20A具有文件名为“File(文件)01”、“File02”、“File03”、……“Filenn”的文件这样的信息。此外，也可以代替装置名，使用特定衬底处理装置20的装置标识符。另外，也可以代替文件名，使用特定文件的文件标识符。
(获取文件信息12b)获取文件信息12b是在上述文件比较更新处理中从各衬底处理装置20获取的、与主文件为相同名称的同名文件的内容信息，包括主文件的内容信息。获取文件信息12b相对应地存储有装置名、文件名和文件内容。能够在操作显示部13中显示获取文件信息12b。
(比较文件管理信息12c)比较文件管理信息12c示出在上述文件比较更新处理中，对哪个衬底处理装置20进行了文件修正(编辑)，也就是说，识别并示出进行了文件修正的衬底处理装置20和未进行文件修正的衬底处理装置20。能够在操作显示部13中显示比较文件管理信息12c。图5表示本实施方式的比较文件管理信息12c的构成例。在比较文件管理信息12c中相对应地存储有是否是具有主文件的衬底处理装置20、主文件的文件名、表示是否进行了文件修正的编辑标记(修正标记)和具有与主文件(在图5的例子中是“File02”)同名的文件的由管理装置10担任的全部衬底处理装置20的装置名。在图5的例子中示出，“File02”被指定为主文件，装置A是具有主文件的衬底处理装置20，装置B～装置n所具有的同名文件均处于未进行文件修正的状态(编辑标记为否(OFF))。
(比较结果信息12d)图6表示本实施方式的比较结果信息12d的构成例。比较结果信息12d示出在上述文件比较更新处理中，对主文件和同名文件进行比较的结果。能够作为文件比较画面(装置信息比较画面)来在操作显示部13中显示比较结果信息12d。在比较结果信息12d中，具有主文件的衬底处理装置20(主装置)的装置名、主文件的文件名、具有与主文件同名的同名文件的衬底处理装置20的装置名以及主文件和同名文件中的参数值以能够在各衬底处理装置20之间进行对比的方式被示出。在图6的例子中，示出了作为主装置的装置名的装置A、作为主文件的文件名的“配方1”、作为具有同名文件的衬底处理装置20的装置名的装置B～装置n以及作为“配方1”的文件中的参数的温度设定值及压力设定值。
在图6的例子中，装置A的主文件“配方1”的温度设定值为300℃，压力设定值为10000Pa。装置B的同名文件“配方1”的温度设定值为295℃，压力设定值为10000Pa。装置C的同名文件“配方1”的温度设定值为300℃，压力设定值为9900Pa。装置n的同名文件“配方1”的温度设定值为295℃，压力设定值为10000Pa。装置B和装置n的同名文件“配方1”的温度设定值与主文件的温度设定值(300℃)存在差异，装置C的同名文件“配方1”的压力设定值与主文件的压力设定值(10000Pa)存在差异，因此用例如下划线等显示存在差异的参数项目(“温度设定值”、“压力设定值”)和存在差异的参数(设定温度、设定压力等)，由此示出了与主文件存在差异的情况。此外，明确地显示差异的方法不仅可以如图6所示地在存在差异的参数或参数项目划出下划线部，也可以进行闪烁显示或颜色区别显示。例如，可以对存在差异的部分的背景色着色来显示，也可以对参数名称或参数项目名称着色来显示。
(修正完毕文件信息12e)修正完毕文件信息12e是在上述文件比较更新处理中进行了文件修正的结果的文件信息(修正装置信息)。能够在操作显示部13中显示修正完毕文件信息12e。例如，修正完毕文件信息12e是将在上述图6的例子中的装置B的同名文件“配方1”的温度设定值修正成主文件的温度设定值即300℃的状态的文件。通过将该修正完毕文件信息12e发送至装置B，能够将装置B的同名文件“配方1”更新成与主文件为相同内容。此外，优选提高进行了修正后的参数的辨识性，例如使其显示颜色与其他参数不同等。
控制部11控制上述管理装置10的各构成部，作为硬件结构，该控制部11具有CPU(CentralProcessingUnit：中央处理器)和保存控制部11的动作程序等的存储器，CPU根据该动作程序进行动作。如图2所示，控制部11具有装置文件获取功能11a、装置文件比较功能11b、装置文件修正功能11c和修正文件输出功能11d。
(装置文件获取功能11a)控制部11根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，将特定的衬底处理装置20所具有的文件作为主文件注册并存储在存储部12中。而且，从具有与主文件同名的同名文件的该管理装置10担任的衬底处理装置20获取同名文件(装置文件获取功能11a)。此时，明确地显示与主文件相关的装置信息。例如，可以将显示与主文件相关的装置信息的项目的背景色着色来显示。
详细来说，控制部11参考存储在存储部12中的装置文件信息12a，经由通信部14对该管理装置10担任的衬底处理装置20中的具有主文件的同名文件的衬底处理装置20进行指示，指示将该同名文件发送到该管理装置10(同名文件发送指示)。当接收到来自管理装置10的同名文件发送指示时，各衬底处理装置20将各自所具有的同名文件，与该衬底处理装置20的装置名一并发送至管理装置10。控制部11将从各衬底处理装置20接收到的同名文件与该衬底处理装置20的装置名建立对应关系，并作为获取文件信息12b存储在存储部12中。
(装置文件比较功能11b)另外，在控制部11从该管理装置10担任的各衬底处理装置20获取同名文件之后，对该获取的同名文件的内容和存储在存储部12中的主文件的内容进行比较，提取所获取的同名文件和主文件之间的差异并明确地进行显示(装置文件比较功能11b)。例如上述图6的文件比较画面那样地，存在差异的参数或参数项目以醒目的方式显示在操作显示部13中。
(装置文件修正功能11c)另外，控制部11根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，转换成能够编辑、也就是能够修正所获取的同名文件的内容的编辑模式。然后，根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，修正所获取的同名文件的内容并创建修正文件(修正装置信息)(装置文件修正功能11c)。在修正了所获取的同名文件的内容的情况下，控制部11使上述图5的比较文件管理信息12c中的编辑标记从“否(OFF)”成为“是(ON)”。
例如图6所示，在显示了所获取的同名文件和主文件的差异的状态下，使构成操作显示部13的鼠标移动到作为差异显示的同名文件的参数的位置，操作该鼠标并显示内容菜单，从该显示的内容菜单选择作为编辑部的“编辑”，由此，转换成编辑模式。在从编辑模式脱离的情况下，同样地显示内容菜单，从该显示的内容菜单选择“编辑结束”，由此，能够从编辑模式脱离。
而且，在编辑模式下，基于由操作显示部13受理的来自操作者的指示，以将作为与主文件之间的差异显示的同名文件的参数设为与主文件的内容相同的方式进行修正。例如，在图6中，将装置B的同名文件(配方1)的温度设定值“295”修正成与主文件相同的“300”。此时，优选在编辑前和编辑后，进一步用颜色区分等来明确是否是已编辑。另外，操作者可以从操作显示部13输入“300”的数值，但也可以预先将以修正成与主文件相同的方式指示的“相同修正”按钮设置在操作显示部13，通过按下“相同修正”按钮，修正成与主文件相同。像这样，能够防止操作者的误输入。
此外，也可以将作为与主文件之间的差异显示的同名文件的参数修正成与主文件的内容不同的值。由此，易于针对每个衬底处理装置20进行参数的微调整。另外，控制部11也能够设为：即使没有来自操作者的指示，也将所获取的同名文件的参数自动地修正成与主文件的内容相同。由此，易于将参数修正成与主文件的内容相同。
(修正文件输出功能11d)另外，控制部11根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，将编辑模式下修正的同名文件输出到衬底处理装置20(修正文件输出功能11d)。此时，控制部11能够通过上述比较文件管理信息12c确认是否在编辑模式下已修正了同名文件。详细来说，管理装置10将编辑模式下修正了的同名文件发送到具有修正前的同名文件的衬底处理装置20。接收了所修正的同名文件的衬底处理装置20将该衬底处理装置20所具有的修正前的同名文件替换并更新成修正后的同名文件。
此外，管理装置10在将修正完毕的同名文件发送至衬底处理装置20时，能够基于由操作显示部13受理的来自操作者的指示，进行仅向被指示的衬底处理装置20发送修正完毕的同名文件这样的个别发送，还能够进行向修正完毕的多个同名文件各自所属的全部衬底处理装置20分别发送修正完毕的同名文件这样的一并发送。
在为个别发送的情况下，操作者利用操作显示部13指示该个别发送的修正文件所属的衬底处理装置20。例如，在图6所示的文件比较画面中，在发送目标的衬底处理装置20的装置名的位置例如装置B的位置，显示内容菜单，从显示的内容菜单中点击并选择“发送(Send)”，由此，将修正文件发送到装置B。
另外，在为一并发送的情况下，操作者利用操作显示部13指示一并发送的主旨。例如，在图6所示的文件比较画面中，显示内容菜单，从显示的内容菜单中点击并选择“全部发送(Sendall)”，由此，将全部的修正文件依次发送到各修正文件所属的衬底处理装置20。例如，在图6的例子中，修正文件“配方1”被依次发送到装置B～装置n。
(文件比较更新处理)以下，使用图7和图8，对管理装置的文件比较更新处理进行说明。图7是本实施方式的文件比较更新处理流程图。图8是图7的流程图中的编辑文件输出的流程图。在文件比较更新处理中，管理装置10的动作由控制部11控制。
首先，管理装置10根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，将特定的衬底处理装置20所具有的特定的文件作为主文件注册并存储在存储部12中(图7的步骤S31)。然后，在该管理装置10担任的衬底处理装置20中，基于存储在存储部12中的装置文件信息12a，提取具有与主文件相同名称的同名文件的衬底处理装置20的装置名，并将其注册及存储在存储部12中(步骤S32)。
接着，管理装置10从上述注册的装置名的衬底处理装置20，也就是具有同名文件的衬底处理装置20获取同名文件，并将其与各自的衬底处理装置20的装置名建立对应关系，作为获取文件信息12b存储在存储部12中(步骤S33)。在图7的例子中，主文件是衬底处理装置20A(装置A)所具有的文件“File02”。
接着，管理装置10对在步骤S33中获取的装置B～装置n的各同名文件的内容和装置A的主文件的内容进行比较(步骤S34)，并输出所获取的各同名文件和主文件的差异，例如图6所示，存在差异的参数或参数项目以醒目的方式显示在操作显示部13中(步骤S35)。这里，由于包含衬底处理配方在内的配方文件、参数文件的项目数量多，所以实际上在1个画面中不能显示全部的项目，从而通常使画面滚动来参考全部的项目。但是，在存在差异的部分分散的情况下，要花费工夫，仅特定该差异部分就会很浪费时间。另外，在编辑模式状态下使画面滚动的情况下，有可能因误操作而变更了可以不设定的参数。因此，需要适当地显示在后述的图10、图11、图12、图13分别示出的操作画面中显示的参数或参数项目。由此，能够通过后述的画面控制来提高操作性，从而能够对存在差异的参数或参数项目进行编辑。
这里，对图10进行说明。图10是在图7中的步骤S35中仅显示差异部分(存在差异的参数或参数项目)时的图示例。虽然未图示，但当显示在步骤S34中进行了文件比较的结果即显示比较结果输出画面时，在该输出画面中的规定位置配置差异按钮。然后，当按下该差异按钮时，显示图10所示的画面。此外，当然也可以预先构成为仅显示步骤S34中的差异部分。像这样，若仅显示差异部分，则应修正的项目变得明确，能够对存在差异的参数或参数项目进行编辑。
以下，针对图11进行说明。图11的(b)是在图7中的步骤S35中显示排除了不需要比较的装置的结果时的图示例。在图11的(a)中的文件比较结果输出画面上，在想非显示的衬底处理装置20(装置C)的装置名的位置例如在装置C的位置，显示内容菜单，从所显示的内容菜单中点击并选择作为非显示部的“非显示(Hide：隐藏)”，由此，被选择的对象的衬底处理装置20(装置C)成为非显示。像这样，如图11的(b)所示，将被选择的装置C设为非显示，将装置D之后的装置名的位置集中显示在左侧。由此，通过构成为将不需要比较的装置C设为非显示，使应比较的衬底处理装置20变得明确，能够对存在差异的参数或参数项目进行编辑。
以下，针对图12进行说明。图12的(b)是在图7中的步骤S35中显示利用特定的参数(或参数项目)进行了排序的结果时的图示例。在图12的(a)中的文件比较结果输出画面上，在所选择的项目“SettingValue：设定值”的位置显示内容菜单，从所显示的内容菜单中点击并选择作为排序部的“排序(Sort)”，由此，从温度设定值接近具有主文件的衬底处理装置20(装置B)的温度设定值300℃的衬底处理装置20(装置D)开始依次进行显示。在针对特别重要的参数(或参数项目)进行比较时，从具有接近主文件的参数文件的衬底处理装置20开始依次进行显示。由此，易于基于重要的参数值判断是否要进行修正，提高参数修正的操作性。
以下，针对图13进行说明。图13的(b)是在图7中的步骤S35中显示变更主文件并进行了排序的结果时的图示例。在图13的(a)中的文件比较结果输出画面上，在作为主文件的切换对象的衬底处理装置20(装置B)的列中显示内容菜单，从所显示的内容菜单中点击并选择作为变更部的“主(Master)”。由此，进行主文件的切换。在该情况下，以新的主文件为基准再次实施文件比较。此时，当选择了“主(Master)”时，返回至步骤S34的文件比较步骤，在实施了文件比较之后，使被选为主文件的装置B移动到最左端，并显示进行了文件比较的结果(步骤S35)。在将主文件切换到装置B之后，从装置B获取的各参数成为基准值。然后，如图13的(b)所示，对于变更后的主文件，针对设定在各配方文件内的各参数再次实施参数比较，并显示比较结果。
在本实施方式中，由于构成为能够任意设定主文件，所以在例如设定衬底处理装置20时一并进行参数比较时，将预先已保存的在具有实际成绩的衬底处理装置20中正使用的参数设定为主文件，由此，能够高效率地进行设定作业。另外，由于构成为能够任意变更主文件，所以在伴随衬底处理装置20的改造例如伴随由衬底处理装置20处理的成膜种类的变更或工序的变更而进行参数变更时，将预先已保存的在具有实际成绩的衬底处理装置20中正使用的参数设定为主文件，由此，能够准确地显示应变更的参数。
在本实施方式中，由于包含衬底处理配方在内的配方文件或参数文件的项目数多，所以不易掌握应修正的项目，但由于能够从操作画面上观察到存在差异的参数或参数项目，所以能够尽量抑制参数的误设定。而且，通过将在具有实际成绩的衬底处理装置20中正使用的参数设定为主文件，能够期待缩短花费在改造作业上的设定时间。
这种图10至图13所示的文件比较结果显示功能当然能够自由组合。例如图12所示，利用特定参数进行“排序(Sort)”，在判断是否要修正参数之后，如图11所示，使具有相同的参数值的衬底处理装置20成为“非显示(Hide)”而不显示。在重复进行规定次数的该操作之后，能够进行步骤S36中的参数修正。另外，还能够在重复上述操作之前，如图10所示，预先显示存在差异的参数或参数项目。而且，还能够在重复上述操作之前，如图13所示，进行主文件的切换。
接着，管理装置10判定是否是能够对所获取的同名文件的内容进行修正的编辑模式状态(步骤S36)。如上所述，是否进入编辑模式是根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示来决定的。在步骤S36中判定为不是编辑模式状态的情况下(步骤S36中的“否”)，结束本处理。在步骤S36中判定为是编辑模式状态的情况下(步骤S36中的“是”)，根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，进行所获取的同名文件的编辑，也就是说，修正所获取的同名文件的内容(步骤S37)。在修正了所获取的同名文件的内容的情况下，控制部11使图5的比较文件管理信息12c中的编辑标记从“否(OFF)”变为“是(ON)”。
接着，管理装置10根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，将编辑模式中修正了的同名文件输出至衬底处理装置20(步骤S38)，结束本处理。
接着，使用图8对步骤S38的修正文件的输出处理进行说明。首先，管理装置10根据由操作显示部13受理的来自操作者的指示，获取与输出方法相关的信息。也就是说，获取是向衬底处理装置20一并输出还是个别输出的信息(步骤S41)。如上所述，在图6所示的文件比较画面中，通过从所显示的内容菜单中选择“全部发送”来指示进行一并输出，通过从所显示的内容菜单中选择“发送”来指示进行个别输出。
接着，管理装置10从图5的比较文件管理信息12c，获取各衬底处理装置20的同名文件的编辑状态，也就是说，获取各衬底处理装置20的文件是否修正完毕的信息(步骤S42)。
接着，管理装置10判定在步骤S42中获取的各衬底处理装置20的同名文件是否修正完毕(步骤S43)。在同名文件修正完毕的情况下(步骤S43中的“已编辑”)，向该同名文件所属的衬底处理装置20输出(步骤S44)，并转移至步骤S45。在同名文件没有修正完毕的情况下(步骤S43中的“未编辑”)，不向该同名文件所属的衬底处理装置20输出，并转移至步骤S45。
在步骤S45中，管理装置10判定步骤S41中获取的输出方法是一并输出还是个别输出(步骤S45)。在输出方法为个别输出的情况下(步骤S45中的“个别”)，结束本处理。
在输出方法为一并输出的情况下(步骤S45中的“一并”)，判定在图5的比较文件管理信息12c中，是否存在修正完毕但未输出的剩余文件，也就是说，判定是否剩下了具有修正完毕但未输出的同名文件的衬底处理装置20(步骤S46)。在不存在修正完毕的剩余文件的情况下(步骤S46中“无剩余”)，也就是说，在没有剩下具有修正完毕但未输出的同名文件的衬底处理装置20的情况下，结束本处理。在存在修正完毕的剩余文件的情况下(步骤S46中的“有剩余”)，也就是说，在剩下了具有修正完毕但未输出的同名文件的衬底处理装置20的情况下，返回至步骤S44，向该衬底处理装置20输出同名文件。
例如，在输出方法是一并输出，且在图5的比较文件管理信息12c中，装置B～装置n的编辑标记都为“是(ON)”的情况下，将装置B的修正完毕文件发送到装置B，接着，将装置C的修正完毕文件发送到装置C，接着，将装置D的修正完毕文件发送到装置D，最后，将装置n的修正完毕文件发送到装置n。由此，将各衬底处理装置20的修正完毕文件发送到各个修正完毕文件所属的衬底处理装置20。
根据本实施方式，至少发挥以下效果。
(a)由于能够同时对进行相同衬底处理的3台以上的衬底处理装置的文件进行比较，所以与每2台进行比较的情况相比，能够实现提高效率。(b)在管理装置中，由于能够以修正衬底处理装置的同名文件的内容，并将修正后的同名文件向衬底处理装置输出的方式进行指示，所以能够实现提高文件更新处理的效率。(c)在文件比较画面(图6)中，由于能够以修正同名文件的内容，并将修正后的同名文件向衬底处理装置输出的方式进行指示，所以能够进一步实现文件更新处理的效率提高。(d)在文件比较画面(图6)中，由于设定为改变同名文件的与主文件不同的部分的显示颜色等来提高辨识性，所以操作者能够容易地识别与主文件不同的部分。(e)在修正完毕文件信息显示画面中，由于设定为改变修正完毕的部分的显示颜色等来提高辨识性，所以操作者能够容易地识别修正完毕的部分。(f)在文件比较画面(图10)中，能够仅显示差异部分(存在差异的参数或参数项目)。另外，由于设定为改变同名文件的与主文件不同的部分的显示颜色等来提高辨识性，所以操作者能够容易地识别与主文件不同的部分。(g)另外，如图11(b)所示，在文件比较画面中，能够排除不需要比较的装置而进行显示。另外，由于设定为改变同名文件的与主文件不同的部分的显示颜色等来提高辨识性，所以操作者能够容易地识别与主文件不同的部分。(h)另外，如图12(b)所示，在文件比较画面中，能够利用特定的参数(或参数项目)进行排序并显示。另外，由于改变同名文件的与主文件不同的部分的显示颜色等来提高辨识性，所以操作者能够容易地识别与主文件不同的部分。由此，针对特定的参数，易于基于参数值判断是否要修正，提高参数修正的操作性。而且，通过进行基于所指定的参数项目的排序，能够掌握与保持主文件的装置之间的设定内容不同的装置台数。
(i)另外，如图13(b)所示，在文件比较画面中，由于改变同名文件的与主文件不同的部分的显示颜色等来提高辨识性，所以操作者能够容易识别与主文件不同的部分。另外，在对文件实施一并比较之后，通过切换主文件，能够从不同视角进行文件一并比较。例如，在指定为主文件的装置文件的一部分项目与比较对象装置的该项目不同的情况下，可能主文件的设定不妥当。由此，通过切换主文件，使该项目的比较对象的衬底处理装置变得明确。(j)另外，根据本实施方式，伴随装置参数调整时间的缩短，能够有助于早期启动(设定)。例如，在伴随新设置装置或已设装置的膜种变更而进行装置参数设定时，能够利用组管理与其他的具有相同膜种的已设装置一并进行参数设定内容的确认及差异部分的编辑，因此，能够缩短至今为止所需的、装置间的反复比较及差异部分的记录作业、从办公室向无尘室内的装置移动而编辑文件的时间，其结果为，能够有助于缩短与减小相同膜种装置的仪器误差相关的时间。(k)另外，根据本实施方式，能够尽早发现因软件版本的不同而导致的装置参数的差异部分。由于有时衬底处理装置的软件版本因出厂时间而不同，所以即使是相同膜种装置，有时参数的设定内容也会因软件版本的差异而不同。因此，通过实施本实施方式中的装置文件的一并比较，能够容易地发现装置间的参数的差异部分，其结果为，能够减小装置间的仪器误差。
(l)另外，根据本实施方式，能够尽早发现生产结果不同的原因。例如，有时即使是相同膜种的装置，生产结果也会发生差异。在该情况下，装置的生产配方的设定可能存在不同，对该不同进行本实施方式中的装置文件的一并比较，由此能够容易地发现配方的设定的不同，其结果为，能够有助于提高生产效率。
此外，本发明不限于上述实施方式，在不脱离其主旨的范围内，能够进行各种变更。
(其他实施方式)在存在主文件的变更指示的情况下，在上述实施方式中，将根据变更指示来指定的文件作为主文件显示在最左端，由此再次实施文件比较(图7的S34)，进行了文件比较画面的变更显示(图7的S35)。不限于此，在其他实施方式中，也可以通过主文件的变更指示，返回至图7的S31。
另外，在上述实施方式中，使用衬底处理配方文件作为主文件进行了说明，但也可以采用衬底处理配方以外的文件，例如由参数构成的参数文件。
另外，在上述实施方式中，管理装置的操作部和显示部采用了分体型的操作显示部，但也可以使用例如触摸板来一体构成操作部和显示部。
另外，在上述实施方式中，从管理装置担任的衬底处理装置获取主文件，但也可以从衬底处理装置以外获取。例如，也可以利用管理装置或电脑创建成为衬底处理的基准的主文件，并存储在管理装置的存储部中。
另外，管理装置不一定必须设置在办公室外或无尘室外，也可以设置在例如办公室内。另外，管理装置不需要使其存储部、控制部、操作部或显示部构成为一体，也可以分别分体地设置。另外，在上述实施方式中，将文件比较画面等显示在管理装置，但也可以显示在衬底处理装置，操作者从衬底处理装置的操作显示部实施各种指示。
上述实施方式中说明的管理装置的控制部、操作显示部或存储部也可以不是管理装置的专用部件，能够使用例如个人计算机(personalcomputer)等的通常的计算机系统实现。例如，从存储有用于执行上述处理的程序(在上述实施方式中，为文件比较更新处理程序)的存储介质(软盘、CD-ROM(只读光盘)、USB存储器等)向通用计算机安装该程序，由此能够构成执行上述处理的控制部。例如，衬底处理装置自身能够实现用于执行上述实施方式中说明的文件比较更新处理程序的控制部等。
另外，用于供给执行上述处理的程序(文件比较更新处理程序)的手段能够任意地选择。除了如上所述地经由规定的存储介质供给以外，例如，能够经由通信线路、通信网络、通信系统等供给。在该情况下，例如，也可以将该程序公告在通信网络的公告板上，经由网络供给。而且，起动像这样提供的程序，并在管理装置的OS(OperatingSystem：操作系统)的控制下与其他的应用程序同样地执行所提供的程序，由此能够执行上述处理。
另外，本发明不仅适用于半导体制造装置，还能够适用于LCD制造装置这种处理玻璃衬底的装置、或其他的衬底处理装置。衬底处理的处理内容不仅有CVD(化学气相沉积法)、PVD(物理气相沉积法)、Epi(外延法)、其他形成氧化膜、氮化膜、含金属的膜等的成膜处理，还可以为退火处理、氧化处理、扩散处理、蚀刻处理、曝光处理、光刻处理、涂布处理、模塑处理、显影处理、切割处理、引线接合处理、检查处理等。
＜本发明的优选方式＞
以下，备注了本发明的优选方式。
(备注1)根据本发明的一个方式，提供一种管理装置，其为与具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置连接的管理装置，其具有：存储部，其存储成为上述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其受理来自操作者的指示，并进行信息显示；和控制部，其进行以如下方式控制的控制动作，即，从上述衬底处理装置获取上述装置信息，基于该获取的获取装置信息和存储在上述存储部中的上述基准装置信息，将上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容作为装置信息比较画面显示在上述操作显示部，当从上述操作显示部受理上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示时，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息发送到上述衬底处理装置。
(备注2)优选的是，提供一种管理装置，在备注1的管理装置中，上述装置信息是上述衬底处理装置中的包含衬底处理的参数的配方信息。
(备注3)优选的是，提供一种管理装置，在备注1或备注2的管理装置中，上述基准装置信息根据上述装置信息的类别而被存储在上述存储部中，上述控制部根据上述装置信息的类别进行上述控制动作。
(备注4)优选的是，提供一种管理装置，在备注1至备注3的管理装置中，上述控制部进行如下的控制，即，对于上述获取装置信息进行使上述差异部成为与上述基准装置信息的内容相同的修正。
(备注5)优选的是，提供一种管理装置，在备注1至备注4的管理装置中，上述操作显示部在上述装置信息比较画面中受理上述修正指示。
(备注6)本发明的另一方式提供一种衬底处理系统，其为包括具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置、和管理装置的衬底处理系统，上述管理装置具有：存储部，其存储成为上述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其受理来自操作者的指示，并进行信息显示；控制部，其进行以如下方式控制的控制动作，即，从上述衬底处理装置获取上述装置信息，基于该获取的获取装置信息和存储在上述存储部中的上述基准装置信息，将上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容作为装置信息比较画面显示在上述操作显示部，当从上述操作显示部受理上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示时，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息发送到上述衬底处理装置。
(备注7)优选的是，提供一种衬底处理系统，在备注6的衬底处理系统中，上述管理装置基于存储在上述存储部中的上述基准装置信息的名称，从上述衬底处理装置获取上述装置信息，将上述基准装置信息所含有的衬底处理用参数和上述装置信息所含有的衬底处理用参数显示在上述装置信息比较画面上。
(备注8)本发明的又一个方式是提供一种装置信息更新方法，其具有如下工序：获取工序，从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息；比较工序，对上述获取的获取装置信息和成为上述装置信息的基准的基准装置信息进行比较；修正指示受理工序，受理上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示；装置信息修正工序，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息发送到上述衬底处理装置。
(备注9)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注8的装置信息更新方法中，在上述获取工序中，基于上述基准装置信息的名称，从上述衬底处理装置获取上述装置信息。
(备注10)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注8或备注9的装置信息更新方法中，在上述比较工序中，将上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容作为装置信息比较画面进行显示。
(备注11)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注10的装置信息更新方法中，在上述修正指示受理工序中，在上述装置信息比较画面上受理上述修正指示。
(备注12)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注10的装置信息更新方法中，在上述装置信息修正工序中，在上述装置信息比较画面上显示上述差异部的修正后的信息。
(备注13)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注11或备注12的装置信息更新方法中，在上述装置信息比较画面中，以他人易于识别的方式来明确表示(改变颜色进行显示、或闪烁显示、或用下划线显示)上述差异部或对上述差异部进行了修正的修正部。
(备注14)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注13的装置信息更新方法中，在上述装置信息比较画面中，以他人易于识别的方式来明确表示上述基准装置信息的与上述差异部对应的部分。
(备注15)优选的是，提供一种装置信息更新方法，在备注13或备注14的装置信息更新方法中，在上述装置信息比较画面中，在修正前和修正后用颜色区别显示上述获取装置信息的上述差异部。
(备注16)本发明的又一方式是提供一种装置信息显示方法，其具有如下工序：获取工序，从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息；比较工序，对上述获取的获取装置信息和成为上述装置信息的基准的基准装置信息进行比较；明示工序，以他人易于识别的方式来明确表示上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部。
(备注17)优选的是，提供一种装置信息显示方法，在备注16的装置信息显示方法中，在上述明示工序中，以他人易于识别的方式来明确表示上述基准装置信息的与上述差异部对应的部分。
(备注18)优选的是，提供一种装置信息显示方法，在备注16或备注17的装置信息显示方法中，在上述明示工序中，以他人易于识别的方式来明确表示上述获取装置信息的上述差异部。
(备注19)本发明的又一方式是提供一种装置信息更新程序，其包括：获取处理，从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息；比较处理，对上述获取的获取装置信息和成为上述装置信息的基准的基准装置信息进行比较；修正指示受理处理，受理上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和装置信息修正处理，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注20)本发明的又一方式是提供一种保存有装置信息更新程序的存储介质，其中，该装置信息更新程序包括：获取处理，从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息；比较处理，对上述获取的获取装置信息和成为上述装置信息的基准的基准装置信息进行比较；修正指示受理处理，受理上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和装置信息修正处理，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注21)本发明的又一方式是提供一种管理装置，其为与具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置连接的管理装置，其具有：设定部，其设定上述装置信息中的成为上述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其基于由上述设定部设定的上述基准装置信息，从上述衬底处理装置获取上述装置信息，对该获取的获取装置信息和上述基准装置信息进行比较，分别显示提取出的差异部和包含上述基准装置信息在内的装置信息的内容；和控制部，其进行如下控制的控制动作，即，当从上述操作显示部受理上述差异部的修正指示时，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注22)优选的是，提供一种管理装置，在备注21的管理装置中，还具有注册部，该注册部基于上述基准装置信息，将具有作为获取对象的上述装置信息的上述衬底处理装置注册，上述注册部具有上述衬底处理装置的名称、主文件的指定信息、上述比较文件名称、表示编辑的有无的编辑标记。
(备注23)优选的是，提供一种管理装置，在备注21的管理装置中，上述操作显示部具有分别显示上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，上述装置信息比较画面具有仅显示上述获取装置信息与上述基准装置信息之间的差异部的按钮。
(备注24)优选的是，提供一种管理装置，在备注21的管理装置中，上述操作显示部具有分别显示上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，上述装置信息比较画面具有切换成对与上述基准装置信息存在差异的上述装置信息进行编辑的编辑模式的编辑部。
(备注25)优选的是，提供一种管理装置，在备注21的管理装置中，上述操作显示部具有分别显示上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，上述装置信息比较画面具有：变更部，其对具有上述基准装置信息的衬底处理装置进行变更；非显示部，其将具有上述不需要比较的装置信息的衬底处理装置设为非显示；和排序部，其以上述基准装置信息中的特定参数为基准进行排序显示。
(备注26)优选的是，提供一种管理装置，在备注25的管理装置，当在上述装置信息比较画面上选择了上述变更部时，上述操作显示部变更具有上述基准装置信息的上述衬底处理装置，基于被变更的基准装置信息，对上述获取装置信息和被变更的基准装置信息进行比较，分别显示上述获取装置信息的内容和上述被变更的基准装置信息的内容。
(备注27)本发明的又一方式是提供一种衬底处理系统，其为包括具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置和管理装置的衬底处理系统，其中，上述管理装置具有：设定部，其设定上述装置信息中的成为上述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其基于由上述设定部设定的上述基准装置信息，从上述衬底处理装置获取上述装置信息，对该获取的获取装置信息和上述基准装置信息进行比较，分别显示提取出的差异部和包含上述基准装置信息在内的装置信息的内容；和控制部，其进行如下控制的控制动作，即，当从上述操作显示部受理上述差异部的修正指示时，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注28)本发明的又一方式是提供一种管理装置，其为与具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置连接的管理装置，其具有：设定部，其设定上述装置信息中的成为上述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其基于由上述设定部设定的上述基准装置信息，分别显示提取从上述衬底处理装置获取的获取装置信息与上述基准装置信息之间的差异而得到的差异部、和包含上述基准装置信息在内的上述装置信息的内容，并进行上述差异部的修正指示；和控制部，其进行如下的控制，即，当从上述操作显示部接收针对该差异部的修正指示时，基于上述修正指示，修正上述获取装置信息并创建修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注29)本发明的又一方式是提供一种衬底处理系统，其为包括具有用于处理衬底的装置信息的衬底处理装置和管理装置的衬底处理系统，其中，上述管理装置具有：设定部，其设定上述装置信息中的成为上述装置信息的基准的基准装置信息；操作显示部，其基于由上述设定部设定的上述基准装置信息，分别显示提取从上述衬底处理装置获取的获取装置信息与上述基准装置信息之间的差异而得到的差异部、和包含上述基准装置信息在内的上述装置信息的内容，并进行上述差异部的修正指示；和控制部，其进行如下的控制，即，当从上述操作显示部接收针对该差异部的修正指示时，基于上述修正指示，修正上述获取装置信息并创建修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注30)本发明的又一方式是提供一种装置信息更新方法，其具有如下工序：提取工序，提取从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息而获取的获取装置信息、与成为上述装置信息的基准的基准装置信息之间的差异；显示工序，分别显示上述差异部和包含上述基准装置信息在内的上述装置信息的内容；修正指示受理工序，接收上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和装置信息修正工序，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注31)本发明的又一方式是提供一种保存有装置信息更新程序的存储介质，其中，该装置信息更新程序包括：提取处理，提取从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息而获取的获取装置信息、与成为上述装置信息的基准的基准装置信息之间的差异；显示处理，分别显示上述差异部和包含上述基准装置信息在内的上述装置信息的内容；修正指示受理处理，受理上述获取装置信息的与上述基准装置信息之间的差异部的修正指示；装置信息修正处理，基于上述修正指示，创建对上述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向上述衬底处理装置发送。
(备注32)而且，优选的是，提供一种管理装置，在备注28的管理装置中，上述操作显示部具有注册部，该注册部基于上述基准装置信息，将具有作为获取对象的上述装置信息的上述衬底处理装置注册，上述注册部具有上述衬底处理装置的名称、主文件的指定信息、上述比较文件名称和表示编辑的有无的编辑标记。
(备注33)而且，优选的是，提供一种管理装置，在备注28的管理装置中，上述操作显示部具有分别显示上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，上述装置信息比较画面具有仅显示上述获取装置信息和上述基准装置信息之间的差异部的按钮。
(备注34)而且，提供一种管理装置，在备注28的管理装置中，上述操作显示部具有分别显示上述获取装置信息的内容和上述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，上述装置信息比较画面具有：变更部，其变更具有上述基准装置信息的衬底处理装置；非显示部，其将具有上述不需要比较的装置信息的衬底处理装置设为非显示；和排序部，其以上述基准装置信息中的特定参数为基准进行排序显示。
(备注35)提供一种管理装置，在备注34的管理装置中，当在上述装置信息比较画面上选择上述变更部时，上述操作显示部变更具有上述基准装置信息的上述衬底处理装置，基于被变更的基准装置信息，对上述获取装置信息和被变更的基准装置信息进行比较，并分别显示上述获取装置信息的内容和上述被变更的基准装置信息的内容。
(备注36)提供一种管理装置，在备注28的管理装置中，上述装置信息是包含上述衬底处理装置中的衬底处理的参数的配方信息。
(备注37)提供一种管理装置，在备注28的管理装置中，上述操作显示部以他人易于识别的方式来明确表示与上述基准装置信息和上述获取装置信息的上述差异部对应的部分。
(备注38)提供一种管理装置，在备注37的管理装置中，上述操作显示部是在上述装置信息比较画面中，在修正前和修正后用颜色区别显示上述基准装置信息和上述获取装置信息的上述差异部。
此外，本申请是以2013年5月22日提出的日本申请特愿2013-108226为基础主张优先权，其公开的全部内容援引于此。
工业实用性
本发明能够良好地用于能够提取处理装置间的装置信息的差异并进行装置信息更新的处理系统。
附图标记说明
10…管理装置，11…控制部，11a…装置文件获取功能，11b…装置文件比较功能，11c…装置文件修正功能，11d…修正文件输出功能，12…存储部，12a…装置文件信息，12b…获取文件信息，12c…比较文件管理信息，12d…比较结果信息，12e…修正完毕文件信息，13…操作显示部，14…通信部，20…衬底处理装置，31…网络，32…网络。

Claims (11)

1.一种管理装置，其与衬底处理装置连接，所述衬底处理装置具有用于处理衬底的装置信息，所述管理装置特征在于，具有：
设定部，其设定所述装置信息中的成为所述装置信息的基准的基准装置信息；
操作显示部，其基于由所述设定部设定的所述基准装置信息，分别对提取从所述衬底处理装置获取的获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异而得到的差异部、和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容进行显示，并进行所述差异部的修正指示；和
控制部，其进行如下控制：当从所述操作显示部接收针对该差异部的修正指示时，基于所述修正指示，修正所述获取装置信息并创建修正装置信息，将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
2.一种衬底处理系统，其包括衬底处理装置和管理装置，所述衬底处理装置具有用于处理衬底的装置信息，所述衬底处理系统的特征在于，
所述管理装置具有：
设定部，其设定所述装置信息中的成为所述装置信息的基准的基准装置信息；
操作显示部，其基于由所述设定部设定的所述基准装置信息，分别对提取从所述衬底处理装置获取的获取装置信息和所述基准装置信息之间的差异而得到的差异部、和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容进行显示，并进行所述差异部的修正指示；和
控制部，其进行如下控制：当从所述操作显示部接收针对该差异部的修正指示时，基于所述修正指示，修正所述获取装置信息并创建修正装置信息，将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
3.一种装置信息更新方法，其特征在于，
具有如下工序：
提取工序，提取从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息而获取的获取装置信息、与成为所述装置信息的基准的基准装置信息之间的差异；
显示工序，分别显示所述差异部和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容；
修正指示受理工序，受理所述获取装置信息的与所述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和
装置信息修正工序，基于所述修正指示，创建对所述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
4.一种存储介质，其保存有装置信息更新程序，所述存储介质的特征在于，
所述装置信息更新程序包括：
提取处理，提取从衬底处理装置获取用于处理衬底的装置信息而获取的获取装置信息、与成为所述装置信息的基准的基准装置信息之间的差异；
显示处理，分别显示所述差异部和包含所述基准装置信息在内的所述装置信息的内容；
修正指示受理处理，受理所述获取装置信息的与所述基准装置信息之间的差异部的修正指示；和
装置信息修正处理，基于所述修正指示，创建对所述获取装置信息进行了修正的修正装置信息，并将该修正装置信息向所述衬底处理装置发送。
5.如权利要求1所述的管理装置，其特征在于，
所述操作显示部还具有注册部，该注册部基于所述基准装置信息，将具有作为获取对象的所述装置信息的所述衬底处理装置注册，所述注册部具有所述衬底处理装置的名称、主文件的指定信息、所述比较文件名称和表示编辑的有无的编辑标记。
6.如权利要求1所述的管理装置，其特征在于，
所述操作显示部具有分别显示所述获取装置信息的内容和所述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，所述装置信息比较画面具有仅显示所述获取装置信息和所述基准装置信息的差异部的按钮。
7.如权利要求1所述的管理装置，其特征在于，
所述操作显示部具有分别显示所述获取装置信息的内容和所述基准装置信息的内容的装置信息比较画面，所述装置信息比较画面具有：变更部，其变更具有所述基准装置信息的衬底处理装置；非显示部，其将具有所述不需要比较的装置信息的衬底处理装置设为非显示；和排序部，其以所述基准装置信息中的特定参数为基准进行排序显示。
8.如权利要求7所述的管理装置，其特征在于，
当在所述装置信息比较画面上选择所述变更部时，所述操作显示部变更具有所述基准装置信息的所述衬底处理装置，基于被变更的基准装置信息，对所述获取装置信息和被变更的基准装置信息进行比较，分别显示所述获取装置信息的内容和所述被变更的基准装置信息的内容。
9.如权利要求1所述的管理装置，其特征在于，
所述装置信息是所述衬底处理装置中的包含衬底处理的参数的配方信息。
10.如权利要求1所述的管理装置，其特征在于，
所述操作显示部以他人易于识别的方式来明确表示与所述基准装置信息和所述获取装置信息的所述差异部对应的部分。
11.如权利要求10所述的管理装置，其特征在于，
所述操作显示部在所述装置信息比较画面中，在修正前和修正后用颜色区别显示所述基准装置信息和所述获取装置信息的所述差异部。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107240564A (zh) * 2016-03-29 2017-10-10 株式会社日立国际电气 处理装置、装置管理控制器、以及装置管理方法
CN107305855A (zh) * 2016-04-19 2017-10-31 株式会社日立国际电气 衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法
CN111354661A (zh) * 2016-03-29 2020-06-30 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、程序以及半导体器件的制造方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6594989B2 (ja) 2015-09-30 2019-10-23 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理システム、基板処理装置のファイル管理方法及びプログラム
CN105467969A (zh) * 2016-01-18 2016-04-06 京东方科技集团股份有限公司 一种制造执行系统
JP6710168B2 (ja) 2016-04-19 2020-06-17 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理装置、装置管理コントローラ及びプログラム並びに半導体装置の製造方法
JP2018067626A (ja) * 2016-10-19 2018-04-26 東京エレクトロン株式会社 半導体システム及びデータ編集支援方法
US10877466B2 (en) * 2017-08-09 2020-12-29 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Reconciliation of run-time and configuration discrepancies
JP7080065B2 (ja) * 2018-02-08 2022-06-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス データ処理方法、データ処理装置、データ処理システム、およびデータ処理プログラム
JP6653722B2 (ja) * 2018-03-14 2020-02-26 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理装置
JP7161896B2 (ja) 2018-09-20 2022-10-27 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理システム
US11714394B2 (en) * 2018-09-28 2023-08-01 Fisher-Rosemount Systems, Inc Bulk commissioning of field devices within a process plant
JP6887545B2 (ja) * 2020-03-06 2021-06-16 東京エレクトロン株式会社 半導体システム及びデータ編集支援方法
JP2023169963A (ja) 2022-05-18 2023-12-01 東京エレクトロン株式会社 レシピの表示方法及び基板処理システム

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11354398A (ja) * 1998-06-08 1999-12-24 Kokusai Electric Co Ltd ウェーハ処理方法
JP2001189248A (ja) * 2000-01-06 2001-07-10 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置
CN1643532A (zh) * 2002-01-23 2005-07-20 英特泰克公司 用于电子电路的许可交付与计费的管理系统、方法和设备
JP2007194446A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2007305613A (ja) * 2006-05-08 2007-11-22 Tokyo Electron Ltd 群管理システム、プロセス情報管理装置およびプログラム

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6442445B1 (en) * 1999-03-19 2002-08-27 International Business Machines Corporation, User configurable multivariate time series reduction tool control method
JP2006073845A (ja) * 2004-09-03 2006-03-16 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造システム
US7209798B2 (en) * 2004-09-20 2007-04-24 Tokyo Electron Limited Iso/nested cascading trim control with model feedback updates
US7308329B2 (en) * 2004-12-28 2007-12-11 Olympus Corporation Method and apparatus for inspecting semiconductor wafer
DE102005009022A1 (de) * 2005-02-28 2006-09-07 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale Automatisches Durchsatzsteuerungssystem und Verfahren zum Betreiben desselben
JP4629728B2 (ja) * 2005-04-12 2011-02-09 富士通株式会社 生産管理プログラム、生産管理方法、生産管理システム
US7340320B2 (en) * 2005-04-13 2008-03-04 Asm Japan K.K. Method of recipe control operation
US7596421B2 (en) * 2005-06-21 2009-09-29 Kabushik Kaisha Toshiba Process control system, process control method, and method of manufacturing electronic apparatus
US7489980B2 (en) * 2005-08-09 2009-02-10 International Business Machines Corporation Factory level and tool level advanced process control systems integration implementation
JP2007071678A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Hitachi High-Technologies Corp 検査システム
US7305320B2 (en) * 2006-02-15 2007-12-04 International Business Machines Corporation Metrology tool recipe validator using best known methods
JP5062806B2 (ja) * 2006-04-27 2012-10-31 東京エレクトロン株式会社 群管理システム、プロセス情報管理装置、制御装置、およびプログラム
JP4697878B2 (ja) * 2006-04-28 2011-06-08 東京エレクトロン株式会社 プロセス情報管理装置、およびプログラム
JP5077992B2 (ja) * 2006-11-06 2012-11-21 東京エレクトロン株式会社 サーバ装置、情報処理方法、及びプログラム
JP4749385B2 (ja) * 2007-05-29 2011-08-17 本田技研工業株式会社 部品発注管理のためのコンピュータ／システム
US20090082897A1 (en) * 2007-09-21 2009-03-26 Cain Jason P Method and apparatus for generating metrology tags to allow automatic metrology recipe generation
JP2009272497A (ja) * 2008-05-08 2009-11-19 Hitachi High-Technologies Corp レシピパラメータ管理装置およびレシピパラメータ管理方法
US8285414B2 (en) * 2009-03-31 2012-10-09 International Business Machines Corporation Method and system for evaluating a machine tool operating characteristics
US9280151B2 (en) * 2012-05-15 2016-03-08 Wafertech, Llc Recipe management system and method
JP2014041976A (ja) * 2012-08-23 2014-03-06 Toshiba Corp レシピ管理装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11354398A (ja) * 1998-06-08 1999-12-24 Kokusai Electric Co Ltd ウェーハ処理方法
JP2001189248A (ja) * 2000-01-06 2001-07-10 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置
CN1643532A (zh) * 2002-01-23 2005-07-20 英特泰克公司 用于电子电路的许可交付与计费的管理系统、方法和设备
JP2007194446A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2007305613A (ja) * 2006-05-08 2007-11-22 Tokyo Electron Ltd 群管理システム、プロセス情報管理装置およびプログラム

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112652558A (zh) * 2016-03-29 2021-04-13 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、程序、半导体器件的制造方法以及显示方法
CN111354661A (zh) * 2016-03-29 2020-06-30 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、程序以及半导体器件的制造方法
CN107240564B (zh) * 2016-03-29 2021-01-05 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、以及装置管理方法
CN112652557A (zh) * 2016-03-29 2021-04-13 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、计算机可读的记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法
CN112652556A (zh) * 2016-03-29 2021-04-13 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、处理系统、记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法
CN107240564A (zh) * 2016-03-29 2017-10-10 株式会社日立国际电气 处理装置、装置管理控制器、以及装置管理方法
US11237538B2 (en) 2016-03-29 2022-02-01 Kokusai Electric Corporation Substrate processing apparatus, device management controller, and recording medium
CN111354661B (zh) * 2016-03-29 2024-01-02 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、记录介质以及半导体器件的制造方法
CN112652558B (zh) * 2016-03-29 2024-04-16 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法
CN112652556B (zh) * 2016-03-29 2024-04-16 株式会社国际电气 处理装置、装置管理控制器、处理系统、记录介质、半导体器件的制造方法以及显示方法
US11966210B2 (en) 2016-03-29 2024-04-23 Kokusai Electric Corporation Substrate processing apparatus, device management controller, and recording medium
CN107305855A (zh) * 2016-04-19 2017-10-31 株式会社日立国际电气 衬底处理装置、装置管理控制器及装置管理方法
US11086304B2 (en) 2016-04-19 2021-08-10 Kokusai Electric Corporation Substrate processing in a process chamber for semiconductor manufacturing and apparatus management controller with error analysis

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