CN105225987A - 用于处理基板的设备 - Google Patents

Abstract

公开的是一种基板处理设备，所述基板处理设备包括：处理容器，所述处理容器在其内具有处理空间，且包括围绕所述处理空间的多个收集槽，所述收集槽被设置为使得用于将流体输入到所述处理空间的入口竖直地叠放在彼此上；支撑单元，所述支撑单元用于在所述处理空间中支撑基板；溶液供应单元，所述溶液供应单元将处理溶液供应到由所述支撑单元支撑的基板；以及升降单元，所述升降单元分别与所述收集槽连接，且分别将所述收集槽升起和降下。所述升降单元的每一个包括基部，所述基部具有环形形状且与相应的收集槽连接；升降载荷，所述升降载荷与所述基部连接；以及驱动器，所述驱动器将所述升降载荷升起和降下。

Description

用于处理基板的设备

技术领域

本文描述的发明构思的实施例涉及一种基板处理设备，尤其涉及一种用于清洗基板的基板处理设备。

背景技术

由于半导体器件的高密度、高集成度和高性能，因而电路图案可按比例迅速缩小。污染物材料，例如颗粒、有机污染物、金属污染物和类似的材料可显著影响器件特性和产量。因此，在半导体制造工艺中，用于清除附着在基板表面上的各种污染物材料的清洗工艺可为非常重要的，基板清洗工艺可在用于制造半导体器件的每个单元工艺之前或之后被执行。

在公开号为2011-0116469的韩国专利中，示出了一种基板清洗设备，该设备包括具有3阶层(step)收集槽的容器。在该基板清洗设备中，用于清洗工艺的溶液可彼此独立地排出，且可分别通过形成在处理容器处的溶液路径排出。在该基板清洗设备中，收集槽的入口可上下叠放。所有收集槽可由驱动器驱动，以调节基板和收集槽之间的垂直高度，从而在执行工艺时，使得处理溶液可能不流入选定的收集槽而是流入其他任意的收集槽。

发明内容

本发明构思的实施例提供一种能够有效收集处理溶液的基板处理设备。

此外，本发明构思的实施例提供一种能够在基板处理工艺中，防止处理溶液不流入目标收集槽而流入到其他任意收集槽中的基板处理设备。

此外，本发明构思的实施例提供一种具有新结构收集槽的基板处理设备，上述收集槽能够在基板处理工艺中独立地收集多种处理溶液。

本发明构思的实施例一方面的目的是提供一种基板处理设备，该基板处理设备包括处理容器，所述处理容器在其内具有处理空间，且包括围绕所述处理空间的多个收集槽，所述收集槽被设置为使得用于将流体输入到所述处理空间的入口竖直地叠放在彼此上；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑基板；溶液供应单元，所述溶液供应单元将处理溶液供应到由所述支撑单元支撑的所述基板；以及升降单元，所述升降单元分别与所述收集槽连接，且分别将所述收集槽升起和降下。所述升降单元的每一个包括：基部，所述基部具有环形形状且与相应的收集槽连接；升降载荷，所述升降载荷与所述基部连接；以及驱动器，所述驱动器将所述升降载荷升起和降下。

所述基部可与所述收集槽的外壁固定连接。所述升降载荷可包括：竖直载荷，所述竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上；以及轮缘(flange)，所述轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述竖直载荷延伸。所述驱动器可安装轮缘上，所述轮缘设置在各升降单元中与所述驱动器对应的升降单元不同的升降单元上。

设置在不同的升降单元上的轮缘可为邻近于具有所述驱动器的升降单元、且设置在具有所述驱动器的升降单元下方的升降单元的轮缘。

所述收集槽可包括：第一收集槽以及围绕所述第一收集槽的第二收集槽。所述基部可包括：第一基部，所述第一基部固定到所述第一收集槽的外壁上；以及第二基部，所述第二基部置于所述第一基部的内部，且固定到所述第二收集槽的外壁上。所述竖直载荷可包括：第一竖直载荷，所述第一竖直载荷与所述第一基部连接，所述第一竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上；以及第二竖直载荷，所述第二竖直载荷与所述第二基部连接，且设置在从所述支撑单元到所述第一竖直载荷的方向上，所述第二竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上。所述轮缘可包括：第一轮缘，所述第一轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第一竖直载荷延伸。

所述收集槽还可包括围绕所述第二收集槽的第三收集槽。所述基部还可包括第三基部，所述第三基部被置于所述第二基部的内部，且固定在所述第三收集槽的外壁上。所述竖直载荷还可包括第三竖直载荷，所述第三竖直载荷与所述第三基部连接，且设置在从所述支撑单元到所述第二竖直载荷的方向上，所述第三竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上。所述轮缘还可包括第二轮缘，所述第二轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第三竖直载荷延伸，且设置在所述第一轮缘的上方。

所述驱动器可包括：第一驱动器，所述第一驱动器与所述第一竖直载荷的底面连接，且将所述第一收集槽向上和向下移动；以及第二驱动器，所述第二驱动器与所述第二竖直载荷的底面连接，且与所述第一轮缘的上部固定连接以将所述第二收集槽向上和向下移动。

所述收集槽还可包括围绕所述第二收集槽的第三收集槽，所述基部还可包括第三基部，所述第三基部被置于所述第二基部的内部，且固定在所述第三收集槽的外壁上。所述竖直载荷还可包括第三竖直载荷，所述第三竖直载荷与所述第三基部连接，且设置在从所述支撑单元到所述第二竖直载荷的方向上，所述第三竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上。所述轮缘还可包括第二轮缘，所述第二轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第三竖直载荷延伸，且设置在所述第一轮缘的上方。所述驱动器还可包括第三驱动器，所述第三驱动器与所述第三竖直载荷的底面连接，且与所述第二轮缘的顶端部固定连接以将所述第三收集槽向上和向下移动。

所述第一基部可包括第一内侧壁，所述第一内侧壁在长度方向上与所述第一收集槽的外壁的底端部连接；第一外侧壁，所述第一外侧壁在远离所述支撑单元的方向上与所述第一内侧壁间隔分开，且平行于所述第一内侧壁；以及第一底壁，所述第一底壁与所述第一内侧壁的底面和所述第一外侧壁的底面连接，且水平设置。所述第二基部可包括第二内侧壁，所述第二内侧壁在长度方向上与所述第二收集槽的外壁的底端部连接；第二外侧壁，所述第二外侧壁在远离所述支撑单元的方向上与所述第二内侧壁间隔分开，且平行于所述第二内侧壁；以及第二底壁，所述第二底壁与所述第二内侧壁的底面和所述第二外侧壁的底面连接，且水平设置。所述第三基部可包括第三内侧壁，所述第三内侧壁在长度方向上与所述第三收集槽的外壁的底端部连接；第三外侧壁，所述第三外侧壁在远离所述支撑单元的方向上与所述第三内侧壁间隔分开，且平行于所述第三内侧壁；以及第三底壁，所述第三底壁与所述第三内侧壁的底面和所述第三外侧壁的底面连接，且水平设置。

所述第一基部可具有顶端开放的第一空间，且所述第一空间由所述第一内侧壁、所述第一外侧壁和所述第一底壁围成。所述第二基部可具有顶端开放的第二空间，且所述第二空间由所述第二内侧壁、所述第二外侧壁和所述第二底壁包围，所述第三基部可具有顶端开放的第三空间，且所述第三空间由所述第三内侧壁、所述第三外侧壁和所述第三底壁围绕。所述第二基部可置于所述第一空间中，所述第三基部可置于所述第二空间中。

所述处理容器还可包括基槽，所述基槽围绕所述收集槽，且以圆形的形式设置。

所述收集槽可包括用于将收集的溶液排放到外部的排出管线。

所述排出管线可从所述收集槽的底面连接到外部，在所述基槽中，排出管线可连接到与设置所述收集槽的排出管线的位置相对的位置，且设置为连接到外部。

所述基板处理设备还可包括气流供应单元，所述气流供应单元将下降气流供应到所述处理空间，所述收集槽可包括出口，所述出口通过由所述气流供应单元提供的下降气流将气流排出。

所述基板处理设备还可包括辅助收集槽，所述辅助收集槽设置在所述收集槽的外部；以及辅助驱动器，所述辅助驱动器将所述辅助收集槽向上和向下移动。

所述基板处理设备还可包括辅助轮缘，所述辅助轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第三竖直载荷延伸，且所述辅助驱动器固定连接在所述辅助轮缘上。

附图说明

根据以下参照附图的说明书，上述对象和特征以及其他对象和特征将变得明显，其中，贯穿各附图，相似的附图标记指代相似的部件，除非另有说明，其中，

图1为根据本发明构思的示例性实施例的基板处理设备的平面图；

图2为根据本发明构思的示例性实施例的基板处理设备的剖面图；

图3为示意性示出图2的基板处理设备的处理容器和升降单元的示意图；

图4-图7为示意性示出升降单元的驱动的示意图；以及

图8为示意性示出图2的基板处理设备的另一个实施例的示意图。

具体实施方式

将参照附图详细描述实施例。然而，本发明的构思可以各种不同的形式体现，且不应当被解释为仅限于示出的实施例。而是，这些实施例作为示例被提供，使得对于本领域技术人员而言，该公开是彻底且完整的，并充分地表达了本发明构思的概念。相应地，对于本发明构思的一些实施例，并没有描述已知工艺、构件和技术。除非另有说明，贯穿附图和书面描述，相似的附图标记表示相似的构件，因此将不会重复描述。在附图中，为清楚起见，层和区域的尺寸和相对尺寸可能被放大。

应当理解的是，虽然术语“第一”、“第二”、“第三”等可能在本文中使用以描述各种构件、组件、区域、层和/或部分，但是这些构件、组件、区域、层和/或部分不应受限于这些术语。这些术语仅用于将一个构件、组件、区域、层和/或部分与另一个区域、层或部分进行区分。因此，以下所述的第一构件、第一组件、第一区域、第一层和/或第一部分可被称为第二构件、第二组件、第二区域、第二层和/或第二部分，而不背离本发明的教导。

为了便于描述，本文可使用空间相对术语，例如“在…下面(beneath)”、“在…下方(below)”、“下面的(lower)”、“在…之下(under)”、“在…上方(above)”、“上面的(upper)”等，以描述如附图中所示的一个构件或特征与另一个(多个)构件或(多个)特征之间的关系。应当理解的是，除附图中描述的方位以外，空间相对术语意图是包含设备在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的设备被倒置，描述为在其他构件或特征“下方(below)”或“下面(beneath)”或“之下(under)”的构件将随之调整为在其他构件或特征的“上方”。因此，示例性术语“下方(below)”和“之下(under)”可包含上方和下方两个方位。另外，设备可作其他调整(旋转90度或处于其他方位)，且本文使用的空间相对术语相应地进行解释。此外，还应当理解的是，当层被称为在两层“之间”时，可为两层之间的唯一层，或者也可存在一个或多个中间层。

本文所用术语仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限定本发明构思。如本文使用的单数形式的“一个(a，an)”和“该/所述(the)”旨在还包含复数形式，除非上下文明确指出并非如此。还应当理解的是，在该说明书中使用术语“包含(comprises和/或comprising)”时，指定存在所述特征、整体、步骤、操作、构件、和/或组件，但是不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、构件、组件、和/或以上的组合。如本文所用，术语“和/或”包括列出的一个或多个关联项目的任何和所有组合。此外，术语“示例性”的目的是指例子或实例。

应当理解，当构件或层被称为“在…上”、“连接至”、“耦合至”、或“邻近”另一个构件或层时，可为直接在…上、直接连接至、直接耦合至、或直接邻近另一个构件或层，或可存在中间构件或层。与此相反，当一个构件被称为“直接在…上”、“直接连接至”、“直接耦合至”、或“直接邻近”另一个构件或层时，不存在中间构件或层。

除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明构思所属领域的普通技术人员普遍理解的含义相同的含义。还应当理解，术语，例如在常用词典中定义的那些术语，应解释为具有与它们在相关领域和/或本说明书的背景中的含义一致的含义，不能在理想或过于正式的意义中解释，除非本文明确定义如此。

在以下描述中，应当理解的是，当一个构件，例如层、部分、基板、板或构件，被称为“在另一个构件上”时，该构件可为直接在另一个构件上，或者可存在中间构件。相反的，术语“直接”意味着没有中间构件。

图1为根据本发明构思的示例性实施例的基板处理设备的平面图。

参见图1，基板处理设备10可具有索引模块100和工艺处理模块200。索引模块100可包括装载场120和传送框架140。装载场120、传送框架140和工艺处理模块200可呈直线顺序排列。在下文中，装载场120、传送框架140和工艺处理模块200排列的方向可称为“第一方向”12。当从上方看时，垂直于第一方向12的方向可称为“第二方向”14，垂直于由第一方向12和第二方向14限定(或者包括第一方向12和第二方向14)的平面的方向可称为“第三方向”16。

接收基板W的载体130可被平稳地放置在装载场120上。装载场120可为多个，且多个装载场120可沿第二方向14呈直线排列。示例性地，在图1中，本发明构思实施例的装载场120的数量为4。然而，装载场120的数量可根据例如工艺效率、占地(footprint)等条件增加或减少。载体130上可形成有多个槽(未示出)，以支撑基板W的边缘。上述槽可在第三方向16上设置为多个。基板W可放置在载体130中，以使基板以彼此间隔分开的状态沿第三方向16叠放。前端开启式晶圆传送盒(FOUP)可用作为载体130。

工艺处理模块200可包括缓冲单元220、传送室240和工艺室260(一个或多个)。传送室240可被设置为使得它的长度方向平行于第一方向12。工艺室260可沿第二方向14设置在传送室240的两侧。工艺室260可设置在传送室240的一侧和另一侧，以便以传送室240为中心对称。工艺室260的一部分可沿传送室240的长度方向排列。此外，工艺室260的一部分可被设置为叠放在彼此上。也即，工艺室260可以A乘B矩阵的方式设置在位于传送室240一侧。此时，“A”可表示沿第一方向12呈直线排列的工艺室260的数量，“B”可表示沿第三方向16呈直线排列的工艺室260的数量。当四个或六个工艺室260设置在传送室240的一侧时，工艺室260可以2乘2或3乘2的方式设置。工艺室260的数量可增加或减少。不同于以上所述，工艺室260可仅设置在传送室240的一侧。不同于以上所述，工艺室260可设置在传送室240的一侧或两侧以形成单层。

缓冲单元220可设置在传送框架140和传送室240之间。将基板W在传送室240和传送框架140之间传送之前，缓冲单元220可为基板提供停留空间。缓冲单元220内可提供有放置基板W的槽(未示出)。多个槽可设置为沿第三方向16彼此间隔。缓冲单元220可具有朝向传送框架140的开放表面和朝向传送室240的开放表面。

传送框架140可将基板W在缓冲单元220和放置在装载场120上的载体130之间传送。传送框架140处可设置有索引导轨142和索引机械手144。索引导轨142可被设置为使得它的长度方向平行于第二方向14。索引机械手144可安装在索引导轨142上，且可沿索引导轨142朝第二方向14直线移动。索引机械手144可包括基部144a、主体144b和索引臂144c。基部144a可安装为沿索引导轨142是可移动的。主体144b可连接到基部144a。主体144b可设置为在基部144a上沿第三方向16是可移动的。此外，主体144b可设置为在基部144a上是可旋转的。索引臂144c可连接到主体144b，使得索引臂144c相对于主体144b可向前和向后移动。索引臂144c可为多个，且多个索引臂144c可彼此独立地被驱动。在索引臂144c沿第三方向16彼此间隔的情况下，索引臂144c可被排列为叠放在彼此上。一部分索引臂144c可用于将基板W从工艺处理模块200传送到载体130，且剩余的一部分索引臂144c可用于将基板W从载体130传送到工艺处理模块200，从而当索引机械手144将基板W搬入或搬出时，防止由未经工艺处理的基板W产生的颗粒附着到基板W上。

传送室240可将基板W在缓冲单元220和工艺室260之间传送，以及多个工艺室260之传送。在传送室240处可设置有导轨242和主机械手244。导轨242可设置为使得它的长度方向平行于第一方向12。主机械手244可安装在导轨242上，并可沿第一方向12在导轨242上直线移动。主机械手244可包括基部244a、主体244b和主臂244c。基部244a可安装为沿导轨242是可移动的。主体244b可连接到基部244a。主体244b可设置为在基部244a上沿第三方向16是可移动的。此外，主体244b可被设置为在基部244a上是可旋转的。主臂244c可连接到主体244b，使得主臂244c相对于主体244b可向前和向后移动。主臂244c可为多个，且多个主臂244c可彼此独立地被驱动。主臂244c可设置为以主臂244c彼此间隔的状态沿第三方向16叠放在彼此上。用于将基板W从缓冲单元220传送到工艺室260的主臂244c可不同于用于将基板W从工艺室260传送到缓冲单元220的主臂。

工艺室260可包括用于清洗基板W的基板处理设备1000。根据清洗工艺的类型，基板处理设备1000的结构可以是不同的。可选地，工艺室260的基板处理设备1000可具有相同的结构。可选地，工艺室260可被分成多个组。在这种情形中，相同组中的基板处理设备1000可具有相同结构；另一方面，不同组中的基板处理设备1000可具有不同结构。例如，在工艺室160被分成两组的情形中，第一组中的工艺室260可设置在传送室240的一侧，第二组中的工艺室260可设置在传送室240的另一侧。可选地，在传送室240的一侧和另一侧，第一组中的工艺室260可设置在下层，第二组中的工艺室260可设置在上层。工艺室260可基于所用化学制品的类型或所用清洗方式的类型来分为上述第一组和第二组。

在下文中，将描述用于使用处理溶液清洗基板W的基板处理设备1000的实施例。图2为根据本发明构思的示例性实施例的基板处理设备1000的剖面图。

基板处理设备1000可包括壳体1100、处理容器1200、支撑单元1400、溶液供应单元1600、升降单元2000和气流供应单元1700。

壳体1100可提供密闭的内部空间。壳体1100可以长方体的形式形成。

处理容器1200可提供处理空间，在该处理空间中执行基板处理工艺，且所述处理空间的顶端可开放。处理容器1200可包括第一收集槽1210、第二收集槽1230、第三收集槽1250、辅助收集槽1270和基槽1280。

收集槽1210、1230、1250和1270可用于收集用于工艺的处理溶液之中的不同的处理溶液。第一收集槽1210可以围绕支撑单元1400的环形形式设置，第二收集槽1230可以围绕第一收集槽1210的环形形式设置，第三收集槽1250可以围绕第二收集槽1230的环形形式设置。辅助收集槽1270可以围绕第三收集槽1250的上部的环形形式设置。收集槽1210、1230、1250和1270可上下叠放，且收集槽1210、1230、1250和1270的入口可由后面将要描述的升降单元2000独立地打开。第一收集槽1210的内部空间R1、第一收集槽1210和第二收集槽1230之间的空间R2、第二收集槽1230和第三收集槽1250之间的空间R3、以及第三收集槽1250和辅助收集槽1270之间的空间R4可构成以下空间，该空间允许处理溶液提供到第一收集槽1210、第二收集槽1230、第三收集槽1250和辅助收集槽1270，然后流入到排出管线1290中。排出管线1290与收集槽1210、1230、1250和1270连接，且竖直向下延伸。排出管线1290可分别将通过收集槽1210、1230、1250和1270流入的处理溶液排出。排出的处理溶液可通过外部的处理溶液回收系统回收。

第一收集槽1210可具有内壁1211、底壁1213、外壁1215和导流壁(guidewall)1217。内壁1211、底壁1213、外壁1215和导流壁1217中的每个可具有环形形状。外壁1215可具有倾斜壁1215a和竖直壁1215b，倾斜壁1215a在远离支撑单元1400的方向上向下倾斜，竖直壁1215b在从倾斜壁1215a的下端向下的方向上竖直延伸。底壁1213可从竖直壁1215b的下端，且平行于朝向支撑单元1400的方向延伸。底壁1213的端部可延伸到与倾斜壁1215a的上端位置相同的位置。内壁1211可在向上方向上从底壁1213的内端部竖直延伸。内壁1211可延伸到其上端与倾斜壁1215a的上端间隔分开的位置。

内壁1211上可形成有多个开口，且上述开口可排列为形成环形形状。每个开口可以狭缝的形式设置。上述开口可作为出口(或排气孔)，上述出口(或排气孔)允许流入到第一收集槽1210的气体通过支撑单元1400的下部空间排出到外部。排出管线1291可与底壁1213连接。通过第一收集槽1210流入的处理溶液可通过排出管线1291排出到用于回收处理溶液的外部系统。

导流壁1217可具有倾斜壁1217a和竖直壁1217b，倾斜壁1217a在远离支撑单元1400的方向上从与内壁1211(或内壁1211的顶面)竖直间隔的位置(spot)(或点)向下倾斜，竖直壁1217b从倾斜壁1217a的下端向下竖直延伸。竖直壁1217b的下端可设置为与底壁1213间隔分开。导流壁1217可引导通过入口流入的处理溶液，以便处理溶液平稳地流入到由外壁1215、底壁1213和内壁1211围成的空间R1中。

第二收集槽1230可包括内壁1231、底壁1233和外壁1235。第二收集槽1230的内壁1231、底壁1233和外壁1235的形状可分别与第一收集槽1210的内壁1211、底壁1213和外壁1215形状相似，但是由于第二收集槽1230围绕第一收集槽1210，所以第二收集槽1230的尺寸可大于第一收集槽1210的尺寸。第二收集槽1230中外壁1235的倾斜壁1235a的上端和第一收集槽1210中外壁1215的倾斜壁1215a的上端可设置为竖直地(或在上、下方向上)堆叠，当上述两个上端彼此间隔分开时，这两个上端之间的空间可作为第二收集槽1230的入口。第二收集槽1230中内壁1231的上端可与第一收集槽1210的底壁1213的端部接触。第二收集槽1230的内壁1231上可设置有用于排出气体的狭缝形出口(或排气孔)，且上述出口(或排气孔)可被排列为形成环形。排出管线1293可与底壁1233连接，通过第二收集槽1230流入的处理溶液可通过排出管线1293排出到用于回收处理溶液的外部系统。

第三收集槽1250可包括内壁1251、底壁1253和外壁1255。第三收集槽1250的内壁1251、底壁1253和外壁1255可与第二收集槽1230的内壁1231、底壁1233和外壁1235形状相似，但是由于第三收集槽1250围绕第二收集槽1230，所以第三收集槽1250的尺寸可大于第二收集槽1230的尺寸。第三收集槽1250中外壁1255的倾斜壁1255a的上端和第二收集槽1230中外壁1235的倾斜壁1235a的上端可设置为在上、下方向上堆叠，当上述两个上端彼此间隔分开时，这两个上端之间的空间可作为第三收集槽1250的入口。排出管线1295可与底壁1253连接，通过第三收集槽1250流入的处理溶液可通过排出管线1295排出到用于回收处理溶液的外部系统。

辅助收集槽1270可具有倾斜壁1271和外壁1273。辅助收集槽1270的倾斜壁1271可设置为叠放在第三收集槽1250的倾斜壁1255a上，当倾斜壁1271和1255a彼此间隔分开时，倾斜壁1271和1255a之间的空间可作为辅助收集槽1270的入口。

基槽1280可围绕处理容器1200，且可以圆形形式设置。基槽1280可具有外壁1283、底壁1285和排出管线1281。基槽1280可作为处理容器1200的整个外壁1283。外壁1283可设置在从收集槽1210、1230、1250和1270的外壁朝向处理容器1200的外部的方向上。外壁1283可以环形形式设置。基部2100和收集槽1210、1230、1250和1270可设置在外壁1283内。底壁1285的端部可与外壁1283连接。排出管线1290可与底壁1285连接。与底壁1285连接的排出管线1290可在与收集槽1210、1230、1250和1270连接的排出管线1291、1293、1295和1297的相应位置处连接。此外，可在底壁1285上设置出口(或排气孔)1281，气流通过上述出口(或排气孔)排出。在基板处理工艺期间产生的污染物可通过出口1281与气流一起排出。

支撑单元1400可设置在处理容器1200中。在工艺期间，支撑单元1400可支撑和旋转基板W。支撑单元1400可包括主体1410、支撑销1430、卡盘(chuck)销1450和支撑轴1470。主体1410可具有顶面，当从上方看时，该顶面以圆形形式设置。由电动机旋转的支撑轴1470可固定安装在主体1410的底面上。支撑销1430可为多个。上述支撑销1430可设置在主体1410顶面的边缘，以彼此间隔分开，且可从主体1410向上突出。支撑销1430可设置为通过组合而具有环形形式。支撑销1430可支撑基板W背面的边缘，以允许基板W与主体1410的顶面间隔分开。卡盘销1450可为多个。上述卡盘销1450可设置为使得它比支撑销1430离主体1410的中心更远。卡盘销1450可设置为从主体1410向上突出。卡盘销1450可支撑基板W的侧壁，以当支撑单元1400旋转时，防止基板W从给定位置向横向方向离开。卡盘销1450可设置为沿主体1410的径向方向，在待料位置(waitingposition)和支撑位置之间直线移动。当基板W装载到主体1410上或者从主体1410卸载时，卡盘销1450可置于待料位置；当执行基板处理工艺时，卡盘销1450可置于支撑位置。在支撑位置，卡盘销1450可与基板W的侧壁接触。

在基板处理工艺中，溶液供应单元1500可将处理溶液供应到基板W。溶液供应单元1500可包括喷嘴支撑杆1510、喷嘴1530、支撑轴1550和驱动器1570。支撑轴1550的长度方向可沿第三方向16设置，且驱动器1570可与支撑轴1550的底端部连接。驱动器1570可使支撑轴1550旋转以及升起和降下。喷嘴支撑杆1510可与驱动器1570的与支撑轴1550连接的一端相反的另一端垂直连接。喷嘴1530可安装在喷嘴支撑杆1510的端部的底面上。喷嘴1530可由驱动器1570移位到工艺位置和待料位置。工艺位置可为这样的位置，在该位置喷嘴1530设置在处理容器1200的上方，待料位置可为这样的位置，在该位置喷嘴1530不设置在处理容器1200的上方。可设置一个或多个溶液供应单元1500。在溶液供应单元1500为多个的情况下，可分别通过不同的溶液供应单元1500提供化学制品、清洗溶液和有机溶剂。清洗溶液可为去离子水，有机溶剂可为异丙醇流和惰性气体的混合物或者异丙醇溶液。

气流供应单元1700可将外部空气供应到壳体1100中。气流供应单元1700可安装在壳体1100的顶部。气流供应单元1700可将高湿度的外部空气进行过滤，并将其供应到壳体1100中以形成下降气流。上述下降气流可在基板W上提供均匀气流。

升降单元2000可与收集槽1210、1230、1250和1270连接，以将收集槽1210、1230、1250和1270升起和降下。升降单元2000可包括第一升降单元2010、第二升降单元2030、第三升降单元2050和辅助升降单元2070。升降单元2010、2030、2050和2070中的每一个可具有基部2100、升降载荷2300和驱动器2500。

基部2100可与收集槽1210、1230和1250连接。基部2100可包括第一基部2110、第二基部2130和第三基部2150。升降载荷2300可与相应的驱动器2500连接，以将收集槽1210、1230、1250和1270向上和向下移动。升降载荷2300可包括第一升降载荷2301、第二升降载荷2303、第三升降载荷2305和辅助升降载荷2307。每个升降载荷2300可包括竖直载荷2310、支撑部2330和轮缘2350。每个驱动器2500可与相应的升降载荷2300连接，以将收集槽向上和向下移动。

支撑部2330可包括设置为与基部2100结合的辅助支撑部以及设置为与辅助收集槽1270结合的辅助支撑部2337。支撑部2330可以板的形式设置。支撑部2330可包括第一支撑部2331、第二支撑部2333、第三支撑部2335和辅助支撑部2337。在支撑部2330中，第一支撑部2331、第二支撑部2333、第三支撑部2335和辅助支撑部2337可按从底部到顶部的顺序设置。

驱动器2500可与竖直载荷2310连接。竖直载荷2310可设置为垂直于支撑部2330。竖直载荷2310可设置为当由驱动器2500驱动时向上和向下移动。竖直载荷2310可包括第一竖直载荷2311、第二竖直载荷2313、第三竖直载荷2315和辅助竖直载荷2317。第一竖直载荷2311、第二竖直载荷2313、第三竖直载荷2315和辅助竖直载荷2317可在远离支撑单元1400的方向上顺序设置，可竖直设置，并可设置为相互平行。

轮缘2350可在远离支撑单元1400的方向上从竖直载荷2310延伸。轮缘2350可包括第一轮缘2351、第二轮缘2353和第三轮缘2355。第二轮缘2353可置于第一轮缘2351上方，第三轮缘2355可置于第二轮缘2353上方。轮缘2351、2353和2355可平行设置。

第一升降单元2010可将第一收集槽1210向上和向下移动。第一升降单元2010可包括第一基部2110、第一升降载荷2301和第一驱动器2510。

第一基部2110可设置为与第一收集槽1210结合。第一基部2110可以环形形式设置。第一基部2110可包括第一内侧壁2111、第一底壁2113和第一外侧壁2115。第一内侧壁2111可设置在第一收集槽1210的外壁1215的下方。第一内侧壁2111可设置为垂直于外壁1215的长度方向。第一外侧壁2115可在远离支撑单元1400的方向上从第一内侧壁2111延伸，且可设置为平行于第一内侧壁2111。第一外侧壁2115可竖直设置，且可邻近于基槽1280的外壁1283。第一基部2110可提供顶端开放的第一空间，且所述第一空间由第一内侧壁2111、第一外侧壁2115和第一底壁2113围成。第一底壁2113可与第一内侧壁2111的底面和第一外侧壁2115的底面连接，且可垂直设置。第一底壁2113可与排出管线1297连接，该排出管线1297用于收集流入到辅助收集槽1270中的处理溶液。

第一升降载荷2301可与第一基部2110连接。第一升降载荷2301可包括第一竖直载荷2311、第一支撑部2331和第一轮缘2351。

第一支撑部2331可设置为与第一基部2110结合。第一支撑部2331可以板的形式设置。第一支撑部2331可水平设置。第一支撑部2331可与第一外侧壁2115的顶端部连接，且可设置为垂直于第一外侧壁2115。

第一竖直载荷2311可设置为垂直于第一支撑部2331，且可与第一支撑部2331固定连接。第一竖直载荷2311可设置在基槽1280的外壁1283的外部，且可设置为平行于基槽1280。

第一轮缘2351可提供放置第二驱动器2530的空间。第一轮缘2351可在远离支撑单元1400的方向上从第一竖直载荷2311延伸。第一轮缘可与第一竖直载荷2311连接，且可水平设置。第一轮缘2351可位于第二轮缘2353的下方。

第一驱动器2510可将与第一基部2110连接的第一收集槽1210升起和降下。第一驱动器2510可与第一竖直载荷2311固定连接。第一驱动器2510可位于第二驱动器2530的下方。

第二升降单元2030可将第二收集槽1230向上和向下移动。第二升降单元2030可包括第二基部2130、第二升降载荷2303和第二驱动器2530。

第二基部2130可设置为与第二收集槽1230结合。第二基部2130可以环形的形式设置。第二基部2130可包括第二内侧壁2131、第二底壁2133和第二外侧壁2135。第二基部2130的第二内侧壁2131、第二底壁2133和第二外侧壁2135的形状可分别与第一基部2110的第一内侧壁2111、第一底壁2113和第一外侧壁2115的形状相同。第二基部2130可置于第一空间中。第二内侧壁2131可设置在第二收集槽1230的外壁1235的下方。第二内侧壁2131可设置为垂直于外壁1235的长度方向。第二外侧壁2135可在远离支撑单元1400的方向上从第二内侧壁2131延伸，且可设置为与第二内侧壁2131平行。第二外侧壁2135可置于第一外侧壁2115和第三外侧壁2155之间。第二底壁2133可与第二内侧壁2131的底面和第二外侧壁2135的底面连接，且可水平设置。第二基部2130可提供顶端开放的第二空间，且所述第二空间由第二内侧壁2131、第二外侧壁2135和第二底壁2133围成。第二底壁2133可与排出管线1297连接，排出管线1297用于收集流入到辅助收集槽1270的处理溶液。

第二升降载荷2303可与第二基部2130连接。第二升降载荷2303可包括第二竖直载荷2313、第二支撑部2333和第二轮缘2353。

第二支撑部2333可与第二基部2130连接。第二支撑部2333可以板的形式设置。第二支撑部2333可水平设置。第二支撑部2333可与第二外侧壁2135的顶端连接，且可设置为垂直于第二外侧壁2135。

第二竖直载荷2313可设置为垂直于第二支撑部2333，且可与第二支撑部2333固定连接。第二竖直载荷2313可设置在第一竖直载荷2311的外部，且可设置为与第一竖直载荷2311平行。

第二轮缘2353可提供放置第三驱动器2550的地方。第二轮缘2353可在远离支撑单元1400的方向上从第二竖直载荷2313延伸。第二轮缘2353可与第二竖直载荷2313连接，且可水平设置。第二轮缘2353可位于第一轮缘2351的上方以及第三轮缘2355的下方。

第二驱动器2530可与第二竖直载荷2313固定连接。第二驱动器2530可固定连接在第一轮缘2351上。第二驱动器2530可将与第二基部2130连接的第二收集槽1230升起和降下。

第三升降单元2050可将第三收集槽1250向上和向下移动。第三升降单元2050可包括第三基部2150、第三升降载荷2305和第三驱动器2550。

第三基部2150可设置为与第三收集槽1250结合。第三基部2150可以环形的形式设置。第三基部2150可包括第三内侧壁2151、第三底壁2153和第三外侧壁2155。第三基部2150的第三内侧壁2151、第三底壁2153和第三外侧壁2155的形状可分别与第二基部2130的第二内侧壁2131、第二底壁2133和第二外侧壁2135的形状相同。第三基部2150可置于第二空间中。第三内侧壁2151可设置在第三收集槽1250的外壁1255的下方。第三内侧壁2151可设置为垂直于外壁1255的长度方向。第三外侧壁2155可在远离支撑单元1400的方向上与第三内侧壁2151间隔分开，且可设置为与平行于第三内侧壁2151。第三外侧壁2155可置于第二外侧壁2135和第三收集槽1250的外壁1255之间。第三底壁2153可与第三内侧壁2151的底面和第三外侧壁2155的底面连接，且可水平设置。第三基部2150可提供顶端开放的第三空间，该第三空间由第三内侧壁2151、第三外侧壁2155和第三底壁2153围成。第三底壁2153可与排出管线1297连接，排出管线1297用于收集流入到辅助收集槽1270的处理溶液。在第一基部2110、第二基部2130以及第三基部2150的第三底壁2153处设置的排出管线1297的连接位置可设置为彼此相对。

第三升降载荷2305可与第三基部2150连接。第三升降载荷2305可包括第三竖直载荷2315、第三支撑部2335和第三轮缘2355。

第三支撑部2335可与第三基部2150连接。第三支撑部2335可以板的形式设置。第三支撑部2335可水平设置。第三支撑部2335可与第三外侧壁2155的顶端连接，且可设置为垂直于第三外侧壁2155。

第三竖直载荷2315可设置为垂直于第三支撑部2335，且可与第三支撑部2335固定连接。第三竖直载荷2315可设置在第二竖直载荷2313的外部，且可设置为与第二竖直载荷2313平行。

第三轮缘2355可提供放置辅助驱动器2570的空间。第三轮缘2355可在远离支撑单元1400的方向上从第三竖直载荷2315延伸。第三轮缘2335可与第三竖直载荷2315连接，且可水平设置。第三轮缘2355可位于第二轮缘2353的上方。

第三驱动器2550可与第三竖直载荷2315固定连接。第三驱动器2550固定连接在第二轮缘2353上。第三驱动器2550可将与第三基部2150连接的第三收集槽1250升起和降下。

辅助升降单元2070可将辅助收集槽1270向上和向下移动。辅助升降单元2070可包括辅助升降载荷2307和辅助驱动器2570。

辅助升降载荷2307可与辅助收集槽2170连接。辅助升降载荷2307可包括辅助竖直载荷2317和辅助支撑部2337。

辅助支撑部2337可设置为与辅助收集槽1270的外壁结合。辅助支撑部2337可以板的形式设置。辅助支撑部2337可水平设置。辅助支撑部2337可与外壁1273的顶端连接，且可垂直设置。

辅助竖直载荷2317可设置为垂直于辅助支撑部2337，且可与辅助支撑部2337固定连接。辅助竖直载荷2317可设置在第三竖直载荷2315的外部，且可设置为平行于第三竖直载荷2315。

辅助驱动器2570可与辅助竖直载荷2317固定连接。辅助驱动器2570可固定连接在第三轮缘2355上。

图4-图7为示意性地示出升降单元的驱动的示意图。在基板处理工艺中，基板处理工艺可通过打开多个收集槽中的一个的入口执行，上述一个收集槽根据供应的处理溶液选择。如图4所示，在基板处理工艺期间，第一化学制品处理溶液可由第一收集槽1210收集。为了收集第一化学制品溶液，第一驱动器2510可将第一竖直载荷2311向上移动，以允许第一基部2110和与第一基部2110连接的第一收集槽1210向上移动。此时，由于收集槽的入口叠放在彼此上，从而置于第一收集槽1210上方的收集槽的入口可被关闭。由于当第一驱动器2510向上移动时，其余部分全部连接，因而第二收集槽1230、第三收集槽1250和辅助收集槽1270可全部向上移动，且它们的入口可被关闭。也即，仅第一收集槽1210的入口可被打开。第一化学制品溶液可通过打开的入口被收集。

如图5所示，在基板处理工艺期间，第二化学制品处理溶液可由第二收集槽1230收集。为了收集第二化学制品溶液，第二驱动器可将第二竖直载荷2313向上移动，以允许第二基部2130和与第二基部2130连接的第二收集槽1230向上移动。此时，由于收集槽的入口叠放在彼此上，从而置于第二收集槽1230上方的收集槽的入口可被关闭。由于当第二驱动器2530向上移动时，其余部分全部连接，因而第三收集槽1250和辅助收集槽1270可全部向上移动，且它们的入口可被关闭。也即，仅第二收集槽1230的入口可被打开。此外，由于第一收集槽1210与和第二驱动器2530的连接无关联，因而第一收集槽1210在第二驱动器2530操作时可不移动，因此第一收集槽1210的入口可被关闭。第二化学制品溶液可通过第二收集槽1230的打开的入口被收集。

如图7所示，在基板处理工艺期间，用于清洗基板的清洗溶液可由辅助收集槽1270收集。为了收集清洗溶液，辅助驱动器2570可将辅助竖直载荷2317向上移动，以允许与辅助竖直载荷2317连接的辅助收集槽1270向上移动。此时，由于收集槽的入口叠放在彼此上，从而置于辅助收集槽1270下方的收集槽的入口可被关闭。虽然辅助驱动器2570操作，但是其他收集槽可不移动。也即，仅辅助收集槽1270的入口可被打开。清洗溶液可通过辅助收集槽1270的打开的入口被收集。

如图6所示，在使用有机溶剂处理基板的工艺期间，有机溶剂可通过打开第三收集槽1250的入口被收集。为了收集有机溶剂，第三驱动器2550可将第三竖直载荷2315向上移动，以允许第三基部2150和与第三基部2150连接的第三收集槽1250向上移动。此时，由于第三收集槽1250上方的辅助收集槽1270的入口被关闭，因而仅第三收集槽1250的入口可被打开。此外，由于第一收集槽1210和第二收集槽1230与第三驱动器的连接无关联，第一收集槽1210和第二收集槽1230在第三驱动器2550操作时可不移动，因此第一收集槽1210和第二收集槽1230的入口可被关闭。有机溶剂可通过第三收集槽1250的打开的入口被收集。

图8为示意性示出图2的基板处理设备的另一实施例的示意图。参见图8，图8的基板处理设备可与图2的基板处理设备不同，不同在于图8的基板处理设备未提供辅助收集槽1270、辅助驱动器2570和第三轮缘2355，以及图8的基板处理设备包括三个收集槽。

本发明构思的实施例示例性地为基板处理设备包括四个收集槽。然而本发明构思的范围和精神不限于此。例如，本发明构思可应用于每个都包括多个收集槽的设备，上述收集槽的入口设置为叠放在彼此上，且升降单元分别与多个收集槽连接以独立驱动。

根据本发明构思的示例性实施例，可有效收集在基板处理工艺中使用的处理溶液。此外，可防止处理溶液流入不同于目标收集槽的收集槽中，而目标收集槽用于收集该处理溶液。此外，可简化能够在基板处理工艺中独立驱动收集槽的升降单元的结构。

虽然本发明构思已经参照示例性实施例进行了描述，但显而易见的，对于本领域技术人员而言，可在不脱离本发明构思的精神和范围下做出各种改变和变型。因此，应当理解的是，上述实施例不是限制性的，而是说明性的。

Claims (15)

1.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

处理容器，所述处理容器在其内具有处理空间，且包括围绕所述处理空间的多个收集槽，所述收集槽被设置为使得用于将流体输入到所述处理空间的入口竖直地叠放在彼此上；

支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑基板；

溶液供应单元，所述溶液供应单元将处理溶液供应到由所述支撑单元支撑的所述基板；以及

升降单元，所述升降单元分别与所述收集槽连接，且分别将所述收集槽升起和降下，

其中，所述升降单元的每一个包括：

基部，所述基部具有环形形状且与相应的收集槽连接；

升降载荷，所述升降载荷与所述基部连接；以及

驱动器，所述驱动器将所述升降载荷升起和降下。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，所述基部与所述收集槽的外壁固定连接，

其中，所述升降载荷包括：

竖直载荷，所述竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上；以及

轮缘，所述轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述竖直载荷延伸，以及

其中，所述驱动器安装在轮缘上，所述轮缘设置在各升降单元中与所述驱动器对应的升降单元不同的升降单元上。

3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其特征在于，设置在不同的升降单元上的轮缘为邻近于具有所述驱动器的升降单元、且设置在具有所述驱动器的升降单元下方的升降单元的轮缘。

4.根据权利要求3所述的基板处理设备，其特征在于，所述收集槽包括：

第一收集槽；以及

围绕所述第一收集槽的第二收集槽，

其中，所述基部包括：

第一基部，所述第一基部固定到所述第一收集槽的外壁上；以及

第二基部，所述第二基部被置于所述第一基部的内部，且固定到所述第二收集槽的外壁上，

其中，所述竖直载荷包括：

第一竖直载荷，所述第一竖直载荷与所述第一基部连接，所述第一竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上；以及

第二竖直载荷，所述第二竖直载荷与所述第二基部连接，且设置在从所述支撑单元到所述第一竖直载荷的方向上，所述第二竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上，以及

其中，所述轮缘包括：

第一轮缘，所述第一轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第一竖直载荷延伸。

5.根据权利要求4所述的基板处理设备，其特征在于，所述收集槽还包括围绕所述第二收集槽的第三收集槽，

其中，所述基部还包括第三基部，所述第三基部被置于所述第二基部的内部，且固定到所述第三收集槽的外壁上，

其中，所述竖直载荷还包括第三竖直载荷，所述第三竖直载荷与所述第三基部连接，且设置在从所述支撑单元到所述第二竖直载荷的方向上，所述第三竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上，以及

其中，所述轮缘还包括第二轮缘，所述第二轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第三竖直载荷延伸，且设置在所述第一轮缘的上方。

6.根据权利要求4所述的基板处理设备，其特征在于，所述驱动器包括：

第一驱动器，所述第一驱动器与所述第一竖直载荷的底面连接，且将所述第一收集槽向上和向下移动；以及

第二驱动器，所述第二驱动器与所述第二竖直载荷的底面连接，且与所述第一轮缘的上部固定连接以将所述第二收集槽向上和向下移动。

7.根据权利要求6所述的基板处理设备，其特征在于，所述收集槽还包括围绕所述第二收集槽的第三收集槽，

其中，所述基部还包括第三基部，所述第三基部被置于所述第二基部的内部，且固定到所述第三收集槽的外壁上，

其中，所述竖直载荷还包括第三竖直载荷，所述第三竖直载荷与所述第三基部连接，且设置在从所述支撑单元到所述第二竖直载荷的方向上，所述第三竖直载荷的长度方向设置在上、下方向上，

其中，所述轮缘还包括第二轮缘，所述第二轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第三竖直载荷延伸，且设置在所述第一轮缘的上方，以及

其中，所述驱动器还包括第三驱动器，所述第三驱动器与所述第三竖直载荷的底面连接，且与所述第二轮缘的顶端部固定连接以将所述第三收集槽向上和向下移动。

8.根据权利要求5所述的基板处理设备，其特征在于，所述第一基部包括：

第一内侧壁，所述第一内侧壁在长度方向上与所述第一收集槽的外壁的底端部连接；

第一外侧壁，所述第一外侧壁在远离所述支撑单元的方向上与所述第一内侧壁间隔分开，且平行于所述第一内侧壁；以及

第一底壁，所述第一底壁与所述第一内侧壁的底面和所述第一外侧壁的底面连接，且水平设置，

其中，所述第二基部包括：

第二内侧壁，所述第二内侧壁在长度方向上与所述第二收集槽的外壁的底端部连接；

第二外侧壁，所述第二外侧壁在远离所述支撑单元的方向上与所述第二内侧壁间隔分开，且平行于所述第二内侧壁；以及

第二底壁，所述第二底壁与所述第二内侧壁的底面和所述第二外侧壁的底面连接，且水平设置，

其中，所述第三基部包括：

第三内侧壁，所述第三内侧壁在长度方向上与所述第三收集槽的外壁的底端部连接；

第三外侧壁，所述第三外侧壁在远离所述支撑单元的方向上与所述第三内侧壁间隔分开，且平行于所述第三内侧壁；以及

第三底壁，所述第三底壁与所述第三内侧壁的底面和所述第三外侧壁的底面连接，且水平设置。

9.根据权利要求8所述的基板处理设备，其特征在于，所述第一基部具有顶端开放的第一空间，且所述第一空间由所述第一内侧壁、所述第一外侧壁和所述第一底壁围成，

其中，所述第二基部具有顶端开放的第二空间，且所述第二空间由所述第二内侧壁、所述第二外侧壁和所述第二底壁围成，

其中，所述第三基部具有顶端开放的第三空间，且所述第三空间由所述第三内侧壁、所述第三外侧壁和所述第三底壁围成，以及

其中，所述第二基部置于所述第一空间中，所述第三基部置于所述第二空间中。

10.根据权利要求1-6中任一项所述的基板处理设备，其特征在于，所述处理容器还包括：

基槽，所述基槽围绕所述收集槽，且以圆形的形式设置。

11.根据权利要求10所述的基板处理设备，其特征在于，所述收集槽包括用于将收集的溶液排放到外部的排出管线。

12.根据权利要求11所述的基板处理设备，其特征在于，所述排出管线从所述收集槽的底面连接到外部，以及

其中，在所述基槽中，排出管线连接到与设置所述收集槽的排出管线的位置相对的位置，且设置为连接到外部。

13.根据权利要求10所述的基板处理设备，其特征在于，还包括：

气流供应单元，所述气流供应单元将下降气流供应到所述处理空间，以及

其中，所述收集槽包括出口，所述出口通过由所述气流供应单元提供的下降气流将气流排出。

14.根据权利要求7所述的基板处理设备，其特征在于，还包括：

辅助收集槽，所述辅助收集槽被置于所述收集槽的外部；以及

辅助驱动器，所述辅助驱动器将所述辅助收集槽向上和向下移动。

15.根据权利要求14所述的基板处理设备，其特征在于，还包括：

辅助轮缘，所述辅助轮缘在远离所述支撑单元的方向上从所述第三竖直载荷延伸；以及

其中，所述辅助驱动器固定连接在所述辅助轮缘上。