CN105112986A - 挂镀生产线及其生产工艺 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种挂镀生产线，其包括一种挂镀生产线，用于对待电镀产品进行电镀处理，所述挂镀生产线包括一上挂前处理区、一处理反应区及一下挂后处理区，待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区。本发明还提供了一种挂镀生产工艺，其包括一步骤：所述待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区进行电镀处理。采用本发明所公开的挂镀生产线及其生产工艺尤其适用于具有沙丁镍镀层及镍钴镀层的产品生产过程中，其可使获得电镀产品表面色泽及各镀层厚度保持均匀一致的电镀产品，并使电镀生产线结构简化、减低生产成本并提高生产效率。

Description

挂镀生产线及其生产工艺

【技术领域】

本发明涉及电镀领域，尤其涉及一种挂镀生产线及其生产工艺。

【背景技术】

电镀生产线按照电镀方式可以细分为挂镀生产线、滚镀生产线、连续镀生产线、刷镀生产线、环形电镀生产线、直线龙门电镀生产线及塑料电镀自动生产线等。其中，环形生产线是常用的一种生产线方式，而环形升降生产线在现有实际应用中存在问题，如由于产品工艺要求及工艺条件的限制，为了使环形生产线中的待电镀产品可以顺利进入不同电镀工段进行电镀，需要将待电镀产品重复升降并进出电镀液槽，此外，由于待电镀的产品的形状、大小不一，采用升降的方式进行电镀，所需电镀的产品自下而上进行电镀液中，悬挂于挂具上产品的下端与电镀液接触并反应的时间明显长于产品上端，这导致产品上端与下端的电镀时间相差较大，从而影响获得最终电镀产品的质量。

而直线龙门电镀生产线则是采用龙门吊车来吊运电镀零件，电镀用的各种缸体平行布置成一条直线或多条直线，采用吊车沿轨道做直线运动，利用吊车上的一对或两队升降吊钩来吊运，从而可实现直线式空门电镀生产，采用直线空门电镀生产线主要适用于镀槽长度较大的自动线。但是采用直线龙门电镀生产线占地较大，整个生产线的能耗较高，使电镀成本较高。

现有技术中电镀产品跳缸操作一般选用升降方式进行，采用上述的跳缸方式无法应用于如沙丁镍液等需要相对静止状态的电镀工艺生产线中。

【发明内容】

为克服目前电镀生产线上下移动所带来的系列问题，本发明提供一种结构简单、具有较佳电镀效果的挂镀生产线及其生产工艺。

本发明为解决技术问题提供一种挂镀生产线，用于对待电镀产品进行电镀处理，所述挂镀生产线包括一上挂前处理区、一处理反应区及一下挂后处理区，待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区。

优选地，所述挂镀生产线包括一传送带，所述待电镀产品装载于所述传送带上，所述传送带带动所述待电镀产品连续穿过所述上挂前处理区、所述处理反应区及所述下挂后处理区。

优选地，所述上挂前处理区与所述处理反应区之间设有一处理前翻转区，所述处理反应区与所述下挂后处理区之间设有一处理后翻转区，待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理前翻转区、处理反应区、处理后翻转区及下挂后处理区。

优选地，在所述处理前翻转区中，所述待电镀产品最低处位置逐渐提高，在所述处理后翻转区中，所述待电镀产品最低处位置逐渐降低。

优选地，所述处理前翻转区与所述处理反应区之间、及所述处理反应区与所述处理后翻转区之间均设有至少一过渡隔板，所述过渡隔板包括至少一过渡槽口，传送带经过该过渡槽口时，传送带倾斜，所述待电镀产品最低处位置上移。

优选地，所述过渡槽口设置有一倾斜边，所述倾斜边与垂直方向上的夹角为60°-85°，倾斜边上设有导轮。

优选地，所述过渡槽口的最低处高于所述处理前翻转区及所述处理后翻转区内的液体的最高液位。

优选地，所述上挂前处理区包括上挂段、除油段、活化段及预镀段，所述处理反应区包括镀沙丁镍段，所述下挂后处理区包括镀镍钴段、封孔段、硝挂段及下挂段，所述待电镀产品连续依次穿过上挂段、除油段、活化段、预镀段、镀沙丁镍段、镀镍钴段、封孔段、硝挂段及下挂段，所述处理前翻转区设于所述预镀段与所述镀沙丁镍段之间，所述处理后翻转区设于所述镀沙丁镍段与所述镀镍钴段之间。

本发明为解决技术问题提供又一种挂镀生产工艺，其包括一步骤：所述待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区进行电镀处理。

优选地，设置在所述上挂前处理区与所述处理反应区的处理前翻转区，及一设置在所述下挂后处理区的处理后翻转区，其包括以下步骤：S1，将待电镀产品连续穿过所述处理前翻转区及处理反应区，待电镀产品在处理前翻转区位置上移后穿入所述处理反应区；S2，镀沙丁镍层，待电镀产品进入所述处理反应区内进行镀沙丁镍层操作；及S3，将待电镀产品连续穿过所述处理反应区及处理后翻转区，待电镀产品在处理后翻转区位置下移。

相对于现有技术，首先本发明提供的挂镀生产线及其生产工艺可实现待电镀产品的连续电镀处理，其中，待电镀产品可连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区，与现有采用升降模式实现跳缸操作相比，本发明所提供的挂镀生产线不仅可以有效地减少待电镀产品跳缸操作中的钢带及其挂具提升的幅度，还可以减少采用现有升降跳缸操作对电镀缸体或电镀液槽装置中液体造成的扰动，从而保持电镀液的相对静止，有效地减少电镀液中有机成分的分解，因此，可以使其电镀产品表面色泽及电镀产品各镀层厚度保持均匀一致。

此外，本发明提供的挂镀生产线及其生产工艺中无需使用笨重的龙门吊或其他任何起吊装置，即可实现连续电镀，并使电镀生产线的传送装置结构大大简化，从而减低了生产成本，同时也提高了生产效率。

本发明所述的挂镀生产线及其生产工艺中，所述上挂前处理区与所述处理反应区之间设有一处理前翻转区，所述处理反应区与所述下挂后处理区之间设有一处理后翻转区，待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理前翻转区、处理反应区、处理后翻转区及下挂后处理区，并可在所述处理前翻转区与处理后翻转区上移或下移，具体地，在所述处理前翻转区中，所述待电镀产品最低处位置逐渐提高，在所述处理后翻转区中，所述待电镀产品最低处位置逐渐降低，从而可实现待电镀产品在进入或送出所述处理反应区时，均可平稳过渡，而不会出现急停或高度变化过快的情况，从而可以更进一步保持所述处理反应区内电镀液的相对静止状态。

在本发明所提供的挂镀生产线中，所述处理前翻转区与所述处理反应区之间、及所述处理反应区与所述处理后翻转区之间均设有至少一设有过渡槽口的过渡隔板，其中，传送带经过该过渡槽口时，由于导轮的作用，传送带倾斜，从而使所述待电镀产品最低处位置上移，使待电镀产品可以平稳、连续经过所述过渡隔板，从而实现从处理前翻转区向处理反应区之间的过渡。

在本发明中，所述过渡槽口的最低处高于所述处理前翻转区及所述处理后翻转区内的液体的最高液位，可使所述过渡槽口相对应的过渡隔板可将所述处理反应区与所述处理前翻转区及处理后翻转区隔开，从而有效避免所述处理反应区、所述处理前翻转区及所述处理后翻转区之间液体(电镀液)互相串流，从而影响电镀正常进行。

在本发明中，所述待电镀产品连续依次穿过上挂段、除油段、活化段、预镀段、镀沙丁镍段、镀镍钴段、封孔段、硝挂段及下挂段，所述处理前翻转区设于所述预镀段与所述镀沙丁镍段之间，所述处理后翻转区设于所述镀沙丁镍段与所述镀镍钴段之间，从而可在同一挂镀生产线中，实现镀冲击镍/铜层、镀沙丁镍层及镀镍钴合金层，获得具有特殊镀层结构的电镀产品，有效减少生产工序及生产成本，且可对产品质量进行有效的把控，提供电镀产品良品率。

本发明中所提供的挂镀生产线及其生产工艺尤其适用于沙丁镍电镀液中，特别适用于连续挂镀沙丁镍的工艺生产线中。由于沙丁镍电镀液需要保证电镀液的相对静止，采用本发明中所述挂镀生产线及其生产工艺，可以有效地在保证沙丁镍电镀液平稳、均匀循环过滤的过程中，也能保证沙丁镍电镀液的相对静止状态，从而减少沙丁镍电镀液由于过大的扰动而造成其有效成分的分解，而影响电镀产品的电镀效果的情况出现。

本发明提供的挂镀生产线及其生产工艺不仅可用于珍珠镍/镍钴合金的电镀工艺中，其特别适用于制备苹果公司(AppleInc.)所生产的电子产品中的部分电子元器件的制备过程中，还可适用于其它任一种可采用连续电镀的工艺中，具有实用性和市场应用价值。

【附图说明】

图1是本发明第一实施例挂镀生产线的结构示意图。

图2是本发明第一实施例挂镀生产线中处理前翻转区的立体结构示意图。

图3A是图2中所示处理前翻转区的沿I-I方向的剖面示意图。

图3B是图3A中A处所示放大结构示意图。

图3C是图3A中B处所示放大结构示意图。

图4是本发明第二实施例挂镀生产工艺的流程示意图。

图5是本发明第二实施例挂镀生产工艺的待电镀产品在处理前翻转区高度变化的轨迹示意图。

图6是本发明第二实施例挂镀生产工艺的待电镀产品在处理后翻转区高度变化的轨迹示意图。

【具体实施方式】

为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参见图1，本发明第一实施例提供了一种挂镀生产线10，该挂镀生产线10包括传送带110及依次连接的上挂前处理区20、处理前翻转区30、处理反应区40、处理后翻转区50及下挂后处理区60。该传送带110依次连续通过上挂前处理区20、翻转前处理区30、处理反应区40、翻转后处理区50及下挂后处理区60后，又回到上挂前处理区20，进行周而复始的循环运转，使所述挂镀生产线10形成连续生产的闭合结构。

本发明提供的挂镀生产线10还可以具有多种变形结构，如该挂镀生产线10中的钢带101可以为封闭的呈U形的双线折叠结构，也可以是封闭的双直线形或其他形式的双线循环结构。

所述上挂前处理区20与所述处理反应区40之间通过设置所述处理前翻转区30进行分区，所述处理反应区40与所述下挂后处理区60之间通过设置所述处理后翻转区50进行分区，其中，所述上挂前处理区20与所述处理反应区40，及所述处理反应区40与所述下挂后处理区60之间均独立运行。

所述上挂前处理区20包括依次连接的上挂段21、除油段22、活化段23及预镀段24。其中，所述传送带110在所述上挂段21进行待电镀产品111的装载操作，所述除油段23用于对装载在所述传送带110上的待电镀产品111进行除油处理。所述活化段23用于对所述待电镀产品111进行活化处理，即去除待电镀产品111表面的氧化膜，使其表面活化，从而保证镀层与待电镀产品之间有足够的附着力。

所述预镀段24可为镀冲击镍段，所述预镀段24用于改善镀层与待电镀产品111的基体的结合力，所述预镀段24可以使镀沙丁镍层工序中，沙丁镍层可以更加牢固地附着在所述待电镀产品111上。所述预镀段24包括至少一镀冲击镍/铜段、至少一预镀导电段及至少一水洗段，所述镀冲击镍/铜段包括第一镀冲击镍/铜段、第二镀冲击镍/铜段及第三镀冲击镍/铜段，所述预镀导电段包括第一预镀导电段、第二预镀导电段及第三预镀导电段，其中，第一至第三镀冲击镍/铜段及第一至第三预镀导电段按顺序依次交错设置，上述第一至第三镀冲击镍/铜段及第一至第三预镀导电段在图中均为示出。

请参阅图2，所述挂镀生产线10包括一槽体37、所述槽体37进一步包括一第一端板33、一第二端板53、一第一过渡隔板32及一第二过渡隔板52。所述第一过渡隔板32与第二过渡隔板52设置在所述第一端板33与第二端板53之间。其中，所述第一端板33与第二过渡隔板52设置在所述处理前翻转区30中，所述第二端板53与第二过渡隔板33设置在所述处理后翻转区50。在所述第一过渡隔板32及第二过渡隔板52之间还设有至少一第三过渡隔板42。

所述第一端板33与所述第二端板53上分别设有一第一凹型槽口331与第二凹型槽口531，该第一凹型槽口331与该第二凹型槽口531的宽度为5-10cm，所述第一凹型槽口331的最低处为所述第一凹型槽口底部332，第二凹型槽口531的最低处为所述第二凹型槽口底部532。所述第一凹型槽口底部332与所述槽体37底部之间的高度差优选为25-45cm，更优选为30-40cm，还可优选为32-36cm。第二凹型槽口底部532与所述槽体37底部之间的高度优选为20-40cm，更优选为25-35cm，还可优选为28-33cm。

此外，在所述第一凹型槽口331与第二凹型槽口321上还分别设有一第一导轮333、一第二导轮533，所述第一导轮333、第二导轮533分别与第一凹型槽口331、第二凹型槽口531的其中一侧壁贴合设置。

所述第一过渡隔板32、第二过渡隔板52及第三过渡隔板42上分别设有第一过渡槽口321、第二过渡槽口521及导向槽口421，其中所述第一过渡槽口321、第二过渡槽口521及导向槽口421的最低处分别定义为所述第一过渡槽口底部322、第二过渡槽口底部522及第二过渡槽口底部422。所述第一过渡槽口321、第二过渡槽口521及导向槽口421上还分别设有第一过渡导轮323、第二过渡导轮523及第三过渡导轮423，所述第一过渡导轮323、第二过渡导轮523及第三过渡导轮423分别与所述第一过渡槽口321、第二过渡槽口521及导向槽口421的其中一边贴合设置。所述第一过渡槽口321、第二过渡槽口521及导向槽口421上均设有一倾斜边(未标号)，所述第一过渡导轮323、第二过渡导轮523及第三过渡导轮423均分别设置在所对应槽口的倾斜边上，所述倾斜边与垂直方向上的夹角为60°-85°。所述第一过渡槽口底部322、第二过渡槽口底部522与所述槽体37底部的高度差大于第一凹型槽口底部332、第二凹型槽口底部532与所述槽体37底部的高度差。所述导向槽口底部422与所述槽体37底部的高度差小于所述第一过渡槽口底部322、第二过渡槽口底部522与所述槽体37底部的高度差。所述第一凹型槽口331、第一过渡槽口321、导向槽口421、第二过渡槽口521及第二凹型槽口531的沿着同一轴向设置。所述传送带110连续依次穿过所述第一凹型槽口331、第一过渡槽口321、导向槽口421、第二过渡槽口521及第二凹型槽口531。

第一端板33与所述第一过渡隔板32之间的空间界定为第一腔体31，所述第二过渡隔板52与所述第二端板53之间的空间界定为第二腔体51。即所述第一腔体31设置在所述处理前翻转区30中，所述第二腔体51设置在所述处理后翻转区40中。所述第一过渡隔板32与所述第二过渡隔板52之间的空间界定为第三腔体41，所述第三腔体41部分设置在所述处理反应区40中。所述第三过渡隔板42设置在所述第三腔体41内。所述传送带110垂直穿过第三腔体41。

请参阅图3A-3C，所述第一腔体31与第三腔体41之间由所述第一过渡隔板32分隔开，所述第一腔体31及所述第三腔体41内液体的液位高度均低于所述第一过渡隔板32的第一过渡槽口底部322的高度。

所述第三腔体41与第二腔体51之间由所述第二过渡隔板52分隔开，所述第二腔体41及所述第二腔体51内液体的液位高度均低于所述第二过渡隔板52的第二过渡槽口底部522的高度。

所述装载有待电镀产品111的传送带110穿过所述第一端板33的第一导轮333及第一过渡隔板32的第一过渡导轮323并由驱动装置(图未示)驱动带动，使待电镀产品111连续穿过所述第一端板33上第一导轮333导向并进入所述第一腔体31中后，所述待电镀产品111由相对于所述槽体37底部垂直90度设置，逐渐翻转倾斜，使所述待电镀产品111的最低位逐渐翻转提高，并使其通过所述第一过渡隔板32后，进入所述第三腔体41中进行镀沙丁镍的反应。

如图3B中所示，所述传送带110进一步包括一挂具112及钢带113，其中，所述挂具112与所述钢带113卡合连接，所述待电镀产品111装载在所述挂具112上。

待电镀产品111处于所述第一端板33时的最低处低于当待电镀产品111处于第一过渡隔板32时的最低处，两者之间的高度差为h1，而所述第一端板33上的第一凹型槽口底部332低于当所述第一过渡隔板32上的第一过渡槽口底部322，两者之间的高度差为h2，其中h1大于或等于h2。

在本发明及其它实施例中，所述第一凹型槽口底部332的高度与第一腔体31内液体的高度之间的关系不受限制。

所述装载有待电镀产品111的传送带110通过所述第一过渡隔板32进入所述第三腔体41中后，再通过所述第三过渡隔板42，所述待电镀产品由相对于所述槽体37底部倾斜一定角度，逐渐翻转至与所述槽体37底部垂直90度设置后，所述待电镀产品在所述第三腔体41中的所述处理反应区40进行镀沙丁镍操作。

所述待电镀产品为完成镀沙丁镍操作后，其连续向第二过滤隔板52方向移动，所述待电镀产品由相对于所述槽体37底部垂直90度设置，逐渐翻转至与所述槽体37底部倾斜一定角度。

所述装载有待电镀产品111的传送带110连续穿过所述第二过渡隔板52进入所述第二腔体51中后，所述待电镀产品111由相对于所述槽体37底部倾斜一定角度，逐渐翻转至与所述槽体37底部垂直90度设置，使所述传送带110上装载的待电镀产品111逐渐翻转，其最低位逐渐降低。

同样的，如图3C中所示，当待电镀产品111处于所述第二端板53时的最低处低于当待电镀产品111处于第二过渡隔板52时的最低处，两者之间的高度差为h3，而所述第二端板53上的第二凹型槽口底部532的高度低于所述第二过渡槽口底部522的高度，两者之间的高度差为h4，其中h3大于或等于h4。

其中，所述第一腔体31内液体的液位高度与所述第二腔体51内液体的液位高度之间关系不受限制。

在所述处理前翻转区，待电镀产品最低处逐渐上移，在所述处理后翻转区，待电镀产品最低处逐渐下移。

在本发明中，上述及以下所述“液体”定义为存在于所述挂镀生产线中的槽体结构内的电镀液和/或清洁废水等混合液体。

所述挂镀生产线10进一步包括一控制装置114，所述控制装置114用于对所述挂具112的翻转进行控制。

所述翻转前处理区30进一步包括一第一中和段31，所述第一中和段31设置在所述传送带110上所装载的待电镀产品进入所述第一端板321之间，所述第一中和段31用于将在上挂前处理区20进行处理后残留在待电镀产品表面的金属离子进行清洗，从而避免其对后续处理反应造成影响。

所述处理反应区40包括镀沙丁镍段41，所述沙丁镍段41用于对装载在所述传送带110上的待电镀产品进行镀沙丁镍液处理。所述沙丁镍段41可进一步包括一电镀液槽装置、一循环机构、一过滤机构及一水洗机构，其中，所述电镀液槽装置、循环机构、过滤机构及水洗机构在图中均未示出。

所述镀沙丁镍段41包括一沙丁镍电镀槽(图未示)、及至少一个阳极处理段(图未示)。装载有带电镀产品111的传送带110连续穿过所述镀沙丁镍段41的沙丁镍电镀槽中，待电镀产品111浸入所述沙丁镍电镀槽内的沙丁镍电镀药水内，并在阳极处理段中进行反应。

所述下挂后处理区60包括依次连接的第二中和段61、镀镍钴段62、封孔段63、水洗段64、干燥段65、下挂段66。所述装载有所述待电镀产品111的传送带110依次通过第二中和段61、镀镍钴段62、封孔段63、水洗段64、干燥段65及下挂段66，完成挂镀工艺的下挂后处理操作。

其中，所述第二中和段61用于将残留在进行前期电镀处理后待电镀产品111表面被腐蚀形成的微孔内的金属离子清洗干净，以防止对后续工序造成污染。

所述镀镍钴段62用于在所述待电镀产品111上镀上镍钴合金层。所述镀镍钴段62包括至少一导电段(图未示)、至少一镍钴电镀段(图未示)、至少一水洗段(图未示)。具体包括第一导电段至第六导电段及第一镍钴电镀段至第六镍钴电镀段，其中，第一导电段设置在第一镍钴电镀段之前，其后续依次连接有第二导电段、第二镍钴电镀段，后续的所述导电段及镍钴电镀段按照顺序交错设置，上述的第一导电段至第六导电段及第一镍钴电镀段至第六镍钴电镀段在图中均为示出。

所述封孔段63用于对待电镀产品111上可能存在的细小孔隙进行封闭。其中，细小孔隙来自于由于所述待电镀产品111的表面粗糙度过大或者局部表面镀层太薄以及前处理不合格，而造成镀层不完整或者存在极细小的空隙，

所述水洗段64中喷洗、超声波热纯水洗和热水洗等工段，其中，喷洗方式为采用喷洗清洁装置，通过对水流加压，使水喷射在所述待清洗的电镀产品上，从而清洗残留在所述待电镀产品上的电镀液；而所述超声波纯水洗则是通过将待电镀产品浸如热纯水中，通过超声波作用，使附着在所述待电镀产品及传送带上的电镀液或其它杂质可以分离并被清洗干净；所述热水洗则是采用热水对待电镀产品进行清洁处理，由于电镀液(如镍钴合金电镀液)中的成分会结晶物或者沉积物，采用热水洗可以有效将这部分残留物去除，从而避免对电镀产品带来不良影响。

所述干燥段65包括吹干装置(图未示)与烘干装置(图未示)，装载有所述待电镀产品111的传送带110依次通过吹干装置与烘干装置，进行对产品的干燥。

所述下挂段66中包括传送带翻转装置(图未示)，使传送带110在所述下挂段66中正向或反向翻转180°，挂具112位于所述传动带110的上方，将已完成电镀的产品卸下后，空载的挂具112恢复为位于传动带110下方并随着传动带110再进入所述上挂段21中，进行下一轮循环运转。

所述下挂后处理区60进一步包括硝挂段67及钢带活化段68，所述硝挂段67及所述钢带活化段68设置在所述下挂段66与所述上挂段21之间。

其中，所述硝挂段67用于对在电镀过程中与待电镀产品111一同被镀上金属层的挂具112进入硝酸液中进行硝挂处理，从而去除在前期电镀过程中，镀在挂具112上的金属镀层，以使所述挂具可重复应用于下一电镀循环过程中。

而钢带活化段68则是对在电镀处理过程中，钢带113局部易形成无法水洗干净的镀层或膜，通过活化处理清除，可将钢带113上残留的杂质清除干净，使钢带113具有良好的导电性且不会对产品电镀造成不良影响。

请参阅图4，本发明第二实施例提供了一种挂镀生产工艺，所述挂镀生产工艺采用本发明第一实施例中所提供的连续生产线进行，以下所涉及的结构标识请参考本发明第一实施例附图1-3C，其包括如下的步骤：

S10，提供一挂镀生产线11；该挂镀生产线11与本发明第一实施例提供的挂镀生产线11一致，其包括传送带110及依次连接的上挂前处理区20、处理前翻转区30、处理反应区40、处理后翻转区50及下挂后处理区60。

S20，对待电镀产品进行上挂、除油、活化及预镀处理；上述所有操作分别在所述上挂前处理区20中的上挂段21、除油段22、活化23及预镀段24中进行，其中，所述传送带110连续通过所述上挂前处理区20。

S30，进行镀沙丁镍前翻转处理。上述操作在所述处理前翻转区30中进行，所述传送带110连续穿过所述处理前翻转区30后，待电镀产品111由挂具112带动翻转倾斜一定角度，使待电镀产品111的最低处高度提升或下降，从而使所述待电镀产品111可通过所述处理前翻转区30的第一端板33及第一过渡隔板32。

S40，对待电镀产品进行镀沙丁镍处理，传送带110从所述处理前翻转区30连续穿过所述处理反应区进行镀沙丁镍处理。

S50，进行镀沙丁镍后翻转处理，上述操作在所述处理后翻转区50中进行，所述传送带110从所述处理反应区40连续垂直穿过所述处理后翻转区50中，待电镀产品111由挂具112带动翻转倾斜一定角度，使待电镀产品111的最低处高度提升或下降，从而使所述待电镀产品111可通过所述处理后翻转区30的第二过渡隔板52及第二端板53。

S60，对待电镀产品进行中和、镀镍钴合金、封孔、水洗、干燥及下挂处理，上述所有操作分别在所述下挂后处理区60中的中和段61、镀镍钴合金段62、封孔段63、水洗段64、干燥段65及下挂段66中进行，其中，所述传送带110从所述处理后翻转区50连续垂直穿过所述下挂后处理区60进行相关处理后，再连续垂直穿过所述上挂前处理区20，进行下一轮循环运转。

上述步骤S20可进一步细分为如下步骤：

S21：上挂，传送带110连续垂直进入上挂区21中，将待电镀产品110装载入传送带110的挂具112上；

S22：除油，载有待电镀产品110的传送带110继续运转并连续垂直穿过除油段22进行除油操作，去除附着与所述待电镀产品110上的油脂类物质；

S23：活化，载有待电镀产品110的传送带110继续运转并连续垂直进入活化段23进行活化处理，去除所述待电镀产品110表面的氧化膜，以使后续电镀反应顺利进行。

S24：镀冲击镍层，载有待电镀产品的钢带101继续运转并垂直进入冲击镍段13进行镀冲击镍层操作。

请参阅图5-6，待电镀产品111由传送带110的挂具112带动翻转倾斜一定角度，在所述处理前翻转区30中，所述待电镀产品111最低处位置逐渐提高，在所述处理后翻转区50中，所述待电镀产品111最低处位置逐渐降低。

上述步骤S60可进一步细分为如下步骤：

S61：中和处理，将载有待电镀产品111的传送带110继续运转并垂直送入所述第二中和段中，将残留在进行前期电镀处理后待电镀产品111表面被腐蚀形成的微孔内的金属离子清洗干净，以防止对后续工序造成污染。

S62：镀镍钴合金层，将待电镀产品111的传送带110继续运转并垂直送入所述镀镍钴段进行镀镍钴合金操作；

S63：清洗封孔，载有待电镀产品的钢带101继续运转并竖直进入清洗封孔段63进行清洗封孔操作，将待电镀产品111上可能存在的细小孔隙进行封闭；

S64：水洗，采用喷洗、超声波热纯水洗及热水洗对步骤S63中获得的电镀产品(未标号)进行清洗以去除电镀产品表面残留的电镀液、结晶物或沉积物；

S65：干燥，采用吹干和烘干的方式对电镀产品进行干燥处理；

S66：下挂，传送带110在所述下挂段66中正向或反向翻转180°，挂具112位于所述传动带110的上方，将已完成电镀的产品卸下后，空载的挂具112恢复为位于传动带110下方并随着传动带110再进入所述上挂段21中，进行下一轮循环运转。

在上述步骤S60中还可进一步包括：

S67：硝挂处理，载有待电镀产品的钢带101继续运转并竖直进入硝挂区17进行硝挂处理操作，以使在电镀过程中与待电镀产品111一同被镀上金属层的挂具112进入硝酸液中进行硝挂处理，从而去除在前期电镀过程中，镀在挂具112上的金属镀层(图未示)，以使所述挂具可重复应用于下一电镀循环过程中。

S68：钢带活化处理，以使钢带113局部生成无法处理的镀层或膜，通过活化处理清除。

其中，所述步骤S67与步骤S68可设置在所述步骤S66之前或之后。

上述步骤中的具体实验参数可根据具体所需电镀产品的质量要求进行调整。

与现有技术相比，采用本发明提供的挂镀生产线10，可使挂有待电镀产品111的传送带在进入不同功能区进行处理的过程中保持相对水平传送，无明显升降幅度，从而能有效减少由于传送带110带动待电镀产品111运转对电镀液造成的扰动，从而提高电镀液的使用寿命，还可以使采用本发明提供的挂镀生产线10及挂镀生产工艺制备的电镀产品表面色泽及电镀产品各镀层厚度都保持均匀一致。因此，可以使其电镀产品表面色泽及电镀产品各镀层厚度都保持均匀一致。在本发明中无需使用笨重的龙门吊或其他任何起吊装置，即可实现连续电镀，并使电镀生产线的传送装置结构大大简化，从而减低了生产成本，同时也提高了生产效率。

本发明中所提供的挂镀生产线10及其生产工艺尤其适用于沙丁镍电镀液中，特别适用于连续挂镀沙丁镍的工艺生产线中。由于沙丁镍电镀液需要保证电镀液的相对静止，采用本发明中所述挂镀生产线10及其生产工艺，可以有效地在保证沙丁镍电镀液平稳、均匀循环过滤的过程中，也能保证沙丁镍电镀液的相对静止状态，从而减少沙丁镍电镀液由于过大的扰动而造成其有效成分的分解，而影响电镀产品的电镀效果的情况出现。

本发明提供的挂镀生产线10及挂镀生产工艺不仅可用于珍珠镍/镍钴合金的电镀工艺中，其特别适用于制备苹果公司(AppleInc.)所生产的电子产品中的部分电子元器件的制备过程中，还可适用于其它任一种可采用连续电镀的工艺中，具有实用性和市场应用价值。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种挂镀生产线，用于对待电镀产品进行电镀处理，其特征在于：所述挂镀生产线包括一上挂前处理区、一处理反应区及一下挂后处理区，待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区。

2.如权利要求1中所述挂镀生产线，其特征在于：所述挂镀生产线包括一传送带，所述待电镀产品装载于所述传送带上，所述传送带带动所述待电镀产品连续穿过所述上挂前处理区、所述处理反应区及所述下挂后处理区。

3.如权利要求1中所述挂镀生产线，其特征在于：所述上挂前处理区与所述处理反应区之间设有一处理前翻转区，所述处理反应区与所述下挂后处理区之间设有一处理后翻转区，待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理前翻转区、处理反应区、处理后翻转区及下挂后处理区。

4.如权利要求1中所述挂镀生产线，其特征在于：在所述处理前翻转区中，所述待电镀产品最低处位置逐渐提高，在所述处理后翻转区中，所述待电镀产品最低处位置逐渐降低。

5.如权利要求4中所述挂镀生产线，其特征在于：所述处理前翻转区与所述处理反应区之间、及所述处理反应区与所述处理后翻转区之间均设有至少一过渡隔板，所述过渡隔板包括至少一过渡槽口，传送带经过该过渡槽口时，传送带倾斜，所述待电镀产品最低处位置上移。

6.如权利要求5中所述挂镀生产线，其特征在于：所述过渡槽口设置有一倾斜边，所述倾斜边与垂直方向上的夹角为60°-85°，倾斜边上设有导轮。

7.如权利要求5中所述挂镀生产线，其特征在于：所述过渡槽口的最低处高于所述处理前翻转区及所述处理后翻转区内的液体的最高液位。

8.如权利要求3-7中任一项所述挂镀生产线，其特征在于：所述上挂前处理区包括上挂段、除油段、活化段及预镀段，所述处理反应区包括镀沙丁镍段，所述下挂后处理区包括镀镍钴段、封孔段、硝挂段及下挂段，所述待电镀产品连续依次穿过上挂段、除油段、活化段、预镀段、镀沙丁镍段、镀镍钴段、封孔段、硝挂段及下挂段，所述处理前翻转区设于所述预镀段与所述镀沙丁镍段之间，所述处理后翻转区设于所述镀沙丁镍段与所述镀镍钴段之间。

9.一种挂镀生产工艺，提供一如权利要求1中所述挂镀生产线，其特征在于：其包括一步骤：所述待电镀产品连续穿过上挂前处理区、处理反应区及下挂后处理区进行电镀处理。

10.如权利要求9中所述挂镀生产工艺，其特征在于：提供一设置在所述上挂前处理区与所述处理反应区的处理前翻转区，及一设置在所述下挂后处理区的处理后翻转区，其包括以下步骤：

S1，将待电镀产品连续穿过所述处理前翻转区及处理反应区，待电镀产品在处理前翻转区位置上移后穿入所述处理反应区；

S2，镀沙丁镍层，待电镀产品进入所述处理反应区内进行镀沙丁镍层操作；及

S3，将待电镀产品连续穿过所述处理反应区及处理后翻转区，待电镀产品在处理后翻转区位置下移。