CN105103012B - 微拼接式棱柱立体角制品 - Google Patents

Abstract

本发明公开了立体角制品，该立体角制品诸如逆向反射片材利用在拼接式构造中的多个立体角阵列，每个瓦包括倾斜立体角元件的一个阵列。所述瓦可以是长且窄的，并且至少两个或三个相邻的瓦中的每个瓦的阵列或者甚至每个瓦中的阵列可以包括至少一个纵向沟槽，所述纵向沟槽平行于所述瓦的边缘且平行于固定的平面内轴。每个瓦可以具有窄的(例如，0.2mm到5mm)且与纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度，以避免或减少沿所述瓦边缘的无效的碎片化的立体角。每个阵列可以具有倾斜平面和入射倾斜度初级平面，并且多个瓦的入射倾斜度初级平面可以比倾斜平面更均匀地分布在方位角中。

Description

微拼接式棱柱立体角制品

技术领域

本发明一般涉及包含立体角元件的逆向反射片材和相关制品，特别应用于此类制品：相对于只包含一个立体角阵列的制品，在此类制品中不同的立体角阵列被布置到多个瓦中以提供改进的逆向反射性能。本发明还涉及包含此类立体角制品的制品和系统，以及制作和使用此类制品的方法。

背景技术

逆向反射立体角制品是已知的。此类制品包含立体角元件，每个此类立体角具有三个近似地相互垂直的高反射率的面。反射面与光相互作用致使每个立体角元件将入射光重定向在其初始的总体方向上，无论光的入射角度如何。该功能在需要增强的可视化的应用中是有用的，例如街道和公路标志、用于放置在道路中和沿道路放置的交通控制圆筒和锥体，以及用于从事夜间交通工作或其他活动的人的背心或其他衣物制品。可以通过全内反射或者通过涂覆到该面上的一层金属或其它反射材料来提供该面的反射率。还已知设计该立体角使得在三个反射面之间的二面角略微偏离完全垂直，使得逆向反射光略微偏离入射光的方向。通过这种方式，更多的逆向反射光有可能被相对于入射光的方向眼睛对向小但非零角度的人看见。就这一点而言，参考美国专利4,775,219(Appeldorn等人)。

使用具有结构化表面的工具制造给定的立体角制品是已知的。立体角制品的结构化表面可以通过由工具的结构化表面进行微复制而制成。因此，工具的结构化表面是给定的立体角制品的结构化表面的颠倒型式复制品或反向的复制品。同样地，该工具也包括多组三个近似地相互垂直的面，以及不管该工具本身是否提供光的任何逆向反射性，它可以被认为是立体角制品。

还已知提供具有拼接式构造的立体角制品，其中不同的立体角阵列被布置在本文中被称为瓦的相邻区域或区的图案中。拼接法通常改变制品的入射和取向性能。可商购获得的逆向反射立体角片材使用在平面图中具有长条形或矩形区域(包括正方形)的形状的瓦，该形状的最小基准尺寸为大约0.150英寸(3.8mm)或更大。立体角元件的取向在任何两个相邻的瓦之间是不同的。

现在将讨论三个已知的采用拼接法的逆向反射立体角制品。

图1、图1A和图1B与在美国专利5,936,770(Nestegard等人)中讨论的拼接式逆向反射制品有关。图1描述了逆向反射立体角片材110的结构化表面的一部分的放大视图，其被设计成在正好两个初级平面中的高入射角表现出改进的逆向反射性能，并且在每个所述两个初级平面中的不同入射角表现出基本上相似的逆向反射性能。结构化表面包括多个交替区，所述交替区包括立体角元件112的阵列。立体角元件112被设置为片材的一侧上的阵列中的光学反向的配对。每个立体角元件112具有三面体棱柱形状，所述三面体棱柱形状带有三个暴露的平面端面122。在所述端面122之间的二面角是约90°，但如在‘219Appeldorn专利中讨论的可以略微偏离90°。立体角元件112优选具有如在美国专利4,588,258(Hoopman)中公开的倾斜的几何形状。此类倾斜限定在高入射角的具有改进的逆向反射性能的单个初级平面，以及在高入射角的具有改进的逆向反射性能的单个次级平面。立体角元件的轴如在美国专利5,565,151(Nilsen)中讨论的可以在“向后的”或“逆向的”方向上倾斜，或者如在‘258Hoopman专利中讨论的在“向前的”或“正向的”方向上倾斜。

片材110的结构化表面包括以约90°取向设置的多个立体角阵列的多个交替区(“瓦”)。因此，片材110特征可在于其包括第一区106和第二区108，该第一区106包括在第一取向上被设置在所述片材上的立体角元件的阵列，该第二区108具有在第二取向上被设置在所述片材上的立体角元件，以限定在高入射角的具有改进的逆向反射性能的第一初级平面和在高入射角的具有改进的逆向反射性能的第二初级平面，所述第二初级平面垂直于所述第一平面。

第一区106基本上平行于片材110的纵向边缘延伸。第一区106包括由三组相互交叉的沟槽形成的立体角元件112的阵列，该三组相互交叉的沟槽包括两个次级沟槽组126、128和初级沟槽组130。形成在阵列中的单独的立体角元件112，使得它们的光轴在垂直于初级沟槽130的平面中是倾斜的。因此，第一区106中的立体角阵列表现出具有改进的逆向反射性能的初级平面，该初级平面垂直于初级沟槽130且垂直于片材110的纵向边缘延伸。所述单独的立体角元件相对于与所述立体角元件的基部正交的轴倾斜经过约8.15度的角度，以限定55.5°、55.5°和69°的基三角形夹角。第二区108沿所述片材的长度基本上平行于第一区106延伸，并且包括基本上与设置在第一区106中的阵列相同的立体角元件112的阵列，不同的是相对于第一区106中的阵列以90°取向设置第二区中的阵列。据说，通过将反向的立体角元件倾斜经过在约7°和约15°之间的角度(参见例如，‘258Hoopman专利)可以获得优势，但可以使用改变的倾斜度数和改变的立体大小。

图1A根据‘258Hoopman专利描述了单个立体角阵列的逆向反射特性。此类立体角阵列表现出单个主平面和辅平面。所述主平面在高入射角表现出改进的逆向反射性能，由延伸穿过等亮度轮廓的两个最宽瓣的平面表示；所述辅平面在高入射角表现出改进的逆向反射性能，由延伸穿过等亮度轮廓的两个较短瓣的平面表示。因此，被制造成具有此类单个立体角阵列的片材具有单个优选的取向。据说，图1的实施例通过提供在高入射角表现出改进的逆向反射性能的两个平面来克服该局限性。如在PCT公开WO 96/42025(Smith等人)中所公开的，向后地倾斜的立体可以被构造(例如，50°、65°、65°的基本角)成具有两个相似的优选的入射倾斜度平面。两个优选的入射倾斜度平面不一定是互相垂直的。

图1B是根据图1从双取向片材的样本中取得的逆向反射亮度读数的等亮度轮廓图。在ASTM E-808-93b，Standard Practice for Describing Retroreflection(用于描述逆向反射的标准实践)(其被指定是ASTM-E-808-01(2009)的更当前的版本)中提供了逆向反射测试几何形状和测量角度的描述，并且结合图4在下面也讨论了相关的角度和其他几何因素。在固定的0.33°观察角和固定的90°展示角取得了图1B的测量。入射角在0°和80°之间改变，并且片材旋转通过360°取向角范围。在图1B中，入射角由同心圆表示，而取向角由围绕示图径向延伸的数字表示。同心等亮度轮廓表示逆向反射光的相对逆向反射；最大的逆向反射由示图上的中心点和同心等亮度轮廓表示，所述同心等亮度轮廓表示以坎德拉/勒克斯/米²为单位测量的相对于所述最大的逆向反射的5％减小。

参考图1B，图1的逆向反射片材在高入射角正好表现出具有改进的逆向反射性能的四个宽瓣。这四个瓣发生在开始于0°取向角的90°间隔处(例如，在0°、90°、180°和270°取向角处)。这四个瓣在高入射角限定具有改进的逆向反射性能的两个初级平面：第一平面延伸穿过以0-180取向的片材的平面，并且第二平面延伸穿过以90-270取向的片材。另外，据说片材横跨在这两个平面内改变的入射角表现出基本上相似的逆向反射性能。在使用中，片材可以在两个不同的取向中的任何一个上进行取向，以使片材提供最佳的逆向反射性能。

对于逆向反射制品诸如图1的逆向反射制品的另外的设计细节和变型形式，读者可参见‘770Nestegard专利。

图2是采用拼接法的另一个立体角逆向反射片材270的示意性平面图。拼接式片材270由伊利诺伊州奈尔斯的Stimsonite公司(Stimsonite Corporation of Niles,IL)以商品名STIMSONITE高性能等级反射片材(Lot1203W，产品编号8432170)在商业中进行销售。拼接式片材270采用配对的向后倾斜的立体角元件的多个拼接式阵列。片材270的结构化表面包括相对于片材270的纵向边缘272以多个不同取向定位的多组立体角元件配对阵列。取向立体角阵列使得阵列的主沟槽位于相对于片材270的纵向边缘272以0°、30°、60°和90°的取向定位的平面中。

对于拼接式片材270的另外的细节以及其他拼接式逆向反射制品的描述，读者可参见美国专利5,822,121(Smith等人)。

图3是在专利申请公布US 2011/0013281(Mimura等人)中讨论的拼接式立体角制品310。立体角制品310具有结构化表面，在该结构化表面中其面分别地形成被布置到交替条瓦312-1、312-2中的第一立体角阵列313-1和第二立体角阵列313-2。所述结构化表面限定了示出为笛卡尔x-y-z坐标系的x-y平面的参考平面。第一立体角阵列313-1具有立体角314-1和315-1。这些立体角是倾斜的。即，每个立体角的光轴(有时称为对称轴)相对于平面的法向轴即相对于z轴是偏斜的。第二立体角阵列313-2具有立体角314-2和315-2，这些立体角也是倾斜的。在附图中将各立体角的光轴在x-y平面上的投影分别示为立体角314-1、315-1、314-2、315-2的光轴314d-1、315d-1、314d-2和315d-2。

Mimura参考描述了实施例，在该实施例中立体角314-1和315-1具有基三角形，该基三角形的有序内角或基本角是(54.918°，66.659°，58.423°)，并且其中立体角314-2和315-2具有基三角形，该基三角形的有序内角是(54.918°,58.423°,66.659°)。在下面提供了基三角形和其有序角的另外的讨论。因为立体角314-1如果绕z轴旋转180°，那么产生具有与立体角315-1相同的立体几何形状和相同的立体取向的立体角，所以立体角314-1中给定的一个和立体角315-1中相邻的一个形成配对的立体角。因为相同的原因，立体角314-2中给定的一个和立体角315-2中相邻的一个也形成配对的立体角。然而，在阵列313-1内任何给定的立体角不具有与在阵列313-2内任何立体角相同的立体几何形状，并且不与阵列313-2内的任何立体角形成配对。

发明内容

我们已经开发了一系列立体角制品，其中结构化表面包括结合在拼接式构造中的不同的立体角阵列。不同的立体角阵列的设计特征(可选地结合它们各自的瓦的设计特征)经选择提供一个或多个有利的产品特性，诸如对于逆向反射光的改进的取向均匀性、结构化表面的改进的明显的空间均匀性，较少的碎片化的立体角元件(或者增加的非碎片化的立体角元件的表面覆盖率)，特别是沿瓦的延伸的边缘，并且便于制造，同时如果需要的话，能够在具有高的总体逆向反射性的薄柔性立体角片材中实现这些有利特性中的一个、一些或全部。便于制造具有至少两个可能的方面。一个方面涉及逆向反射立体角膜可以被制造的速度，通过为大多数或全部瓦设计立体角阵列以具有平行于膜幅的顺维方向的一个沟槽组(且优选地也平行于各自的瓦的边缘)，使得可迫使可固化的材料更容易地和快速地进入工具的结构化表面中，可以提高该速度。第二方面涉及在制造立体角工具中降低成本和增加简单性，其可以通过使用能够只用一组三个或更少的切割工具切割的立体角阵列来实现，使得对于一个阵列的立体几何形状与在不同取向的阵列中的立体几何形状相同，和/或者是在不同取向的阵列中的立体几何形状的重排。

本文中我们尤其公开立体角制品，诸如利用在拼接式构造中的多个立体角阵列的逆向反射片材，每个瓦包含倾斜的立体角元件的一个阵列。所述瓦可以是长且窄的，即延伸的，并且在至少两个或三个相邻的瓦中的每个中的阵列，或者甚至在所述制品的大多数的瓦或每个瓦中的阵列可以包括至少一个纵向沟槽，所述纵向沟槽平行于所述瓦的边缘且平行于固定的平面内轴，该平面内轴可以是所述制品的顺维方向。每个瓦可以具有窄(例如，0.2mm到5mm，或者小于1mm，或者0.2mm到1mm)且与纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度，以避免或减少沿所述瓦边缘的无效的碎片化的立体角和垂直表面。每个阵列可以具有倾斜平面和入射倾斜度初级平面，并且多个瓦的所述入射倾斜度初级平面可以比所述倾斜平面更均匀地分布在方位角中。

本申请还尤其公开具有限定参考平面的结构化表面的制品，所述参考平面具有平面内轴，所述结构化表面包括被布置到多个瓦中的多个立体角阵列，所述多个瓦包括第一瓦、第二瓦和第三瓦。所述第一瓦、第二瓦和第三瓦由各自的第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列限定，所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列具有各自的第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面和第三入射倾斜度初级平面，每个入射倾斜度初级平面相对于所述平面内轴的取向不同。所述第一瓦、第二瓦和第三瓦各自包括一个平行于所述平面内轴的瓦边缘。每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。

所述第一瓦、第二瓦和第三瓦在可平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。对于每个所述第一瓦、第二瓦和第三瓦来说，所述给定的沟槽可以是限定纵向沟槽间距的多个纵向沟槽中的一个纵向沟槽，并且所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦可以具有与各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自可在0.2mm到5mm，或者0.2mm到1mm，或者0.5mm到1mm的范围内。所述多个瓦可以包括除了所述第一瓦、第二瓦和第三瓦之外的额外的瓦，所述额外的瓦具有对应的额外的立体角阵列，并且所有的额外的立体角阵列可以包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。

每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的立体角可以是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且所述第一立体角阵列和第二立体角阵列的两组有序基本角可以是彼此相等的，并且所述第一立体角阵列和第三立体角阵列的两组有序基本角可以是彼此的重排。在下面另外讨论一组有序基本角的概念。

所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的三组有序基本角可以任选地彼此相等。然后，所述多个瓦还可以包括由第四立体角阵列限定的第四瓦，并且所述第四立体角阵列可以具有不平行于所述第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面或第三入射倾斜度初级平面中的任一个的第四入射倾斜度初级平面，并且在所述第四立体角阵列中的立体角可以是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，所述一组有序基本角是所述第一立体角阵列的一组有序基本角的重排。所述第四瓦可以在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的，并且所述第四立体角阵列可以包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽。

在所述多个立体角阵列中的所有立体角阵列可以具有各自的入射倾斜度初级平面，所述入射倾斜度初级平面可以限定相对于所述平面内轴的至少4个独特的取向。与所述至少4个独特的取向相关的所述立体角阵列各自可包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽，并且可以特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。所述入射倾斜度初级平面也可以限定相对于所述平面内轴的至少5个独特的取向。与所述至少5个独特的取向相关的所述立体角阵列特征可以在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。所述入射倾斜度初级平面也可以限定相对于所述平面内轴的至少6个独特的取向。与所述至少6个独特的取向相关的所述立体角阵列特征可以在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

所述第一瓦和第二瓦可以具有沿边界会合的瓦边缘，并且所述第一瓦上的靠近边界的一排立体角的面和所述第二瓦上的靠近边界的一排立体角的面可以共同地形成复合沟槽，所述复合沟槽平行于所述平面内轴。所述复合沟槽可以具有复合沟槽角，所述复合沟槽角不同于所述第一立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角，并且也不同于所述第二立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角。

所述结构化表面可以提供至少4，或至少5，或至少6的在30°入射角的均匀性指数。所述结构化表面可以提供至少2，或至少3，或至少4，或至少5的在40°入射角的均匀性指数。

本申请也公开了具有结构化表面的制品，该结构化表面包括被布置到对应的多个瓦中的多个立体角阵列，该结构化表面限定具有平面内轴的参考平面。所述多个瓦中的每个瓦的所述立体角阵列具有给定的沟槽组，所述给定的沟槽组的沟槽平行于所述平面内轴延伸，多个瓦中的每个瓦的所述立体角阵列具有与其相关的倾斜平面和入射倾斜度初级平面。所述多个瓦的所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面与倾斜平面中的独特的倾斜平面相比更均匀地分布在方位角中。

所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面可以具有最小角距PhiMin1，并且所述倾斜平面中的独特的倾斜平面可以具有最小角距PhiMin2，并且PhiMin1可以大于PhiMin2，或者PhiMin1可以是PhiMin2的至少2倍。所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面具有最大角距PhiMax1，并且所述倾斜平面中的独特的倾斜平面可以具有最大角距PhiMax2，并且PhiMax1可以小于PhiMax2。所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面的角分布度量PhiADM1(在下面描述)可以大于所述倾斜平面中的独特的倾斜平面的对应角分布度量PhiADM2(也在下面描述)。

所述多个瓦可以在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。所述瓦可以具有各自的宽度，所述宽度在0.2mm到5mm，或0.2mm到1mm，或0.5mm到1mm的范围内。每个瓦的所述给定的沟槽组可以是此瓦的纵向沟槽组。所述结构化表面可以具有分别地与所述立体角阵列的N个独特的立体角阵列相关的N个独特的入射倾斜度初级平面，并且N可以是4、5或6。所述多个瓦可以包括第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一瓦、第二瓦和第三瓦包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列，并且所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列可以具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的。对于所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个来说，所述给定的沟槽组可以是限定纵向沟槽间距的纵向沟槽组，并且所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦可以具有与各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。

所述结构化表面可以提供至少4，或至少5，或至少6的在30°入射角的均匀性指数。所述结构化表面可以提供至少2，或至少3，或至少4，或至少5的在40°入射角的均匀性指数。

本申请也公开了具有结构化表面的制品，所述结构化表面被分割成多个瓦，包括至少第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一瓦、第二瓦和第三瓦包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列。所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的。在所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的立体角特征在于具有各自的第一组有序基本角、第二组有序基本角和第三组有序基本角的基三角形，并且所述第一组有序基本角和第二组有序基本角可以是彼此相等的，并且所述第一组有序基本角和第三组有序基本角可以是彼此的重排。

所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个可以具有沟槽组，所述沟槽组的沟槽平行于其各自的瓦的边缘延伸。所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个可以由彼此相交以形成立体角的三组平行的沟槽限定。所述制品也可以包括第四瓦，所述第四瓦包括第四倾斜立体角阵列，并且所述第四阵列可以具有与其相关的第四倾斜平面，所述第四倾斜平面不平行于所述第一倾斜平面、第二倾斜平面或第三倾斜平面中的任一个。所述第四阵列特征可在于具有第四组有序基本角的基三角形，并且所述第四组有序基本角可以是与所述第三组有序基本角相同的。所述结构化表面可以提供至少4，或至少5，或至少6的在30°入射角的均匀性指数。所述结构化表面可以提供至少2，或至少3，或至少4，或至少5的在40°入射角的均匀性指数。

也讨论了相关的方法、系统和制品。

从下面的详细描述，本申请的这些和其他方面将显而易见。然而，在任何情况下都不应将上述发明内容理解为是对要求保护的主题的限制，该主题仅由如在审查期间可以进行修改的所附权利要求书限定。

附图说明

图1是已知的拼接式逆向反射片材的结构化表面的前视图或平面图；

图1A是示出来自图1的片材的立体角阵列或瓦中的一个立体角阵列或瓦的逆向反射性能的等亮度图；

图1B是示出图1的片材的逆向反射性能的等亮度图；

图2是已知的另一个拼接式逆向反射片材的示意性平面图；

图3是在公布的专利申请中公开的多向元件组；

图4是逆向反射制品的透视图，其示出与照明和观察几何形状相关的某些参数；

图5是布置的示意性前视图或平面图，在该布置中可以结合不同取向的三个立体角阵列；

图6是结构化表面的示意性前视图或平面图，该结构化表面包括被布置到三个对应的瓦中的三个不同的立体角阵列诸如图5的那些立体角阵列；

图6A是图6的立体角制品的示意性侧视图或正视图；

图7A是具有三个薄板的逆向反射制品的示意性前视图或平面图，在所述薄板上形成了或者可以在所述薄板上形成各自的不同的立体角阵列，并且图7B是相同的逆向反射制品的示意性侧视图或正视图；

图8是两个延伸的薄板的示意性前视图或平面图，示出沟槽组中的沟槽如何可以平行或基本上平行于所述薄板的主边缘；

图9是由观察者查看的拼接式逆向反射制品的示意性透视图；

图10是包括多个细长的瓦的逆向反射制品的示意性前视图或平面图；

图11A是示出单个倾斜立体角阵列的建模总光返回(TLR)对取向角的示图；

图11B是示出具有不同取向的三个倾斜立体角阵列诸如图5和图6的那些立体角阵列的拼接式逆向反射制品的建模TLR对取向角的示图；

图12是示出具有不同取向的三个倾斜立体角阵列的另一个拼接式逆向反射制品的建模TLR对取向角的示图；

图13是单独的立体角元件的示意性顶视图或平面图，以展示诸如立体几何形状、立体取向、倾斜平面和入射倾斜度初级平面之类的概念；

图14是具有六个不同的倾斜立体角阵列的拼接式立体角制品的示意性顶视图或平面图；

图15是来自图14的立体角阵列的代表性的单独的立体角元件的示意性顶视图或平面图，该图也示出了倾斜平面和入射倾斜度初级平面；

图16是图14的立体角阵列的倾斜平面和入射倾斜度初级平面的示意图；

图17是图14的逆向反射制品在各种入射角的建模TLR的示图，其假设该制品由折射率1.586的材料构成；

图18是类似于图17的建模图，但其中该制品被假设由折射率1.5的材料构成；

图18是在公布的专利申请中公开的多方向元件组；

图19是与图3的多方向元件组的光学模拟相关的来自上述公布的专利申请的示图；

图20是图3的结构化表面的在各种入射角的建模TLR的示图，其假设该制品由折射率1.586的材料构成；以及

图21是其中来自图17和图20的数据被重绘为作为入射角的函数的均匀性指数的示图。

在附图中，类似的附图标号指示类似的元件。

具体实施方式

根据公开的设计特征有多少和哪些在立体角制品中或在其制造中被使用，我们已经开发了一系列可以提供许多有利的产品特性的立体角制品。

在更详细地讨论设计特征之前，我们首先转向图4以查看与逆向反射体的照明和观察几何形状相关的某些参数。在附图中，制品450具有前表面430。制品450可以是逆向反射片材，或者是可以具有结构化表面(例如，在物体的背部或背面)以提供逆向反射性的其他逆向反射体。所述制品被假设大体位于参考平面。在附图中示出了笛卡尔x-y-z坐标系，并且假设所述参考平面对应于x-y平面。需注意，如果给定的制品是弯曲的，或换句话讲是不平坦的，那么可以认为小到足以近似于平面的所述制品的一部分是被分离的。制品450和参考平面也限定表面法向轴448，该轴垂直于所述参考平面且因此平行于z轴。我们也可以限定特定的平面内轴465，其有时被称为基准标记。平面内轴465当然是垂直于法向轴448，并且与所述法向轴在所述前表面或者制品450的另一个相关部分上相交于一点。平面内轴465可以被选择为制品450的平面内关注的特定方向，例如，顺维方向、特定沟槽组的沟槽方向，或者所述制品的边缘或所述制品的瓦的边缘。

制品450被光源416照射，并且检测器466测量被制品450反射的光的亮度或强度。光源416和检测器466被示出在相对于制品450的任意位置。从光源416延伸到制品450的照明轴相对于法向轴448成角度β。所述照明轴和法向轴448限定入射面，该入射面垂直于所述x-y平面且相对于所述平面内轴465成角度ω。从检测器466延伸到制品450的观察轴相对于所述照明轴成角度α。所述观察轴和所述照明轴限定了一个平面，并且该平面相对于照明平面成角度γ。这些角度被称为如下：

α-观察角；

β-入射角；

γ-展示角；以及

ω-取向角。

除非另外指明，本文讨论的这些角度和其他角度以圆弧的度为单位表示。

制品诸如制品450的反射亮度(另选地被称为反射、逆向反射，或是简单地被称为是亮度)被命名为R_A，并且一般来讲是所有四个角度α、β、γ和ω的函数。所述反射亮度是所述制品的反射发光强度除以法向照度且除以所述制品的表面面积(或其正在测试的部分)，并且以坎德拉每勒克斯每平方米和缩写cd/(luxπm²)或cd/lx/m²为单位表示。如果α、β、γ和ω的值是未指定的，那么典型假设0.2°的观察角α、-4°的入射角β、0的展示角γ和0的取向角ω。制品诸如制品450的总光返回(TLR)是指立体角和射线强度的百分比或者分数有效面积的乘积。除非另外指明，所述TLR通过将由所述制品反射的所有的光积分到半球中进行计算，所述半球的基部与所述制品的所述前表面(参见图4中的前表面430)重合，参考图4的所述坐标系，在所述半球内的每个方向矢量具有非负的z分量。所述半球限定了全范围的观察角α和全范围的展示角γ。然而，在一些情况下，所述TLR可以基于反射到所述半球的仅一部分中的光进行计算，所述半球的仅一部分例如对应于对向锥的检测器的一部分，所述锥的半角是在观察角α中的4°。因此，一般来讲，所述TLR仅是所述入射角β和所述取向角ω的函数。制品诸如制品450的等亮度轮廓图，也被称为等强度曲线图是示图诸如图1A或图1B的那些示图，其中所述制品的反射性能(其通常由所述TLR表示，但如果需要可以代替地由在特定的展示角γ(通常0°)处的逆向反射R_A表示，并且观察角α(通常0.2°))以轮廓线的形式作为入射角β和取向角ω的函数进行绘制。

制品诸如制品450的入射倾斜度初级平面是指入射面(例如，以取向角ω进行限定)，其中等亮度轮廓图表现出最大程度的瓣。例如，上述图1A的示图具有一个对应于取向角90、270的入射倾斜度初级平面，并且上述图1B的示图具有两个入射倾斜度初级平面，一个对应于取向角90、270，另一个对应于取向角0、180。在只有一个入射倾斜度初级平面的情况下，此平面也可以被称为入射倾斜度主导平面。因此，例如，在图1A中的入射倾斜度初级平面也是入射倾斜度主导平面，因为没有其他入射倾斜度初级平面；入射倾斜度次级平面(对应于取向角0、180)具有比入射倾斜度初级平面的那些瓣更小程度的瓣。

制品诸如制品450的均匀性指数(“UI”)是作为所述取向角ω函数的所述制品的所述TLR改变多少的量度。出于本文档的目的，所述UI通过以在全范围的取向角ω上的预定义的增量诸如10°或15°评估所述TLR进行计算。确定所有此TLR值的最小值、最大值和平均值。然后，所述UI经计算等于平均TLR值除以在最大TLR值和最小TLR值之间的差值。所述UI只是入射角β的函数。

我们现在返回到我们的拼接式立体角制品的设计特征的讨论，我们发现该拼接式立体角制品的设计特征可以独特的组合使用以提供许多有利的产品特性。如上所述，先前已经公开了很多具有拼接式构造的立体角制品。许多此类制品也已经在商业中进行制造、销售和使用。同样地，大量的用户已经发现它们对于他们的预期目的是令人满意的。

虽然在市场中大体上拼接式立体角产品被普遍接受，但是我们已经考虑了对更广泛地采用此类制品是否存在任何挑战或障碍。我们所识别的挑战和障碍不一定被别人认为是与拼接式立体角制品相关的“问题”。在这个工作的过程中，我们也意识到可以通过使用设计特征的独特的组合获得的优势或益处，如本文其他地方所解释的，但再一次这些优势或益处不一定与由别人认为的任何特定的“问题”有关。

我们所认识到的一个挑战是相对于取向角的等强度曲线图的不均匀性的程度。例如，对于与图1B的等强度曲线图有关的拼接式立体角片材，在垂直和水平入射面中的入射倾斜度(通常对应于0和90取向)是非常相似的。然而，在其他取向上，诸如与水平面成45°角度，获得非常不同的入射倾斜度。此类拼接式片材在取向角的全范围0°到180°上表现出不均匀的逆向反射性能，特别是在与利用一层玻璃珠而不是立体角元件来提供逆向反射的片材相比中。珠状逆向反射片材仍然被用于很多应用中，并且为了更多的拼接式立体角片材可以替换珠状片材考虑的一个挑战是获得作为取向角函数的逆向反射性能中的更好的均匀性。由于玻璃珠的圆对称，因此珠状片材通常在全范围取向角上在其逆向反射性能中具有高均匀性。

另一个挑战，特别是如果有人考虑在当前使用珠状逆向反射片材的应用中使用拼接式立体角制品，与该制品的明显的空间均匀性有关。珠状片材通常具有高度的空间均匀性；即，甚至在相对靠近的查看距离，此类片材通常在横跨所述片材表面的不同位置的视觉外观中表现出很少差异或无显著的差异。然而，当从比大约10英尺到20英尺(3米到6米)更靠近的距离查看时，拼接式立体角制品诸如与图1B相关的拼接式立体角制品具有明显地空间不均匀(条纹状)的视觉外观。在很多应用中，此类空间不均匀性不被认为是有异议的或有问题的，但我们已经观察到它可能对拼接式立体角制品的更广泛的应用构成挑战或障碍。更靠近的查看距离，即，比大约10英尺到20英尺(3米到6米)更靠近的查看距离，当珠状片材的买家结合购买决策评估所述片材时可以常常发生，例如，在片材被用于机动车辆牌照的情况下。在更靠近距离的视觉非均匀性是部分地由于单独的瓦的宽度或者其他特性最小横向尺寸。大多数拼接式立体角产品具有至少0.150英寸(3.8mm)，并且更典型地为0.375英寸(9.5mm)的瓦宽度。较小的尺寸和较窄的瓦，例如，0.040英寸(1mm)或更小的宽度可以被用于帮助提供更加视觉均匀的外观。然而，当使用常规的电火花加工(EDM)以将结构化表面工具切割成单独的条带，并且使用常规的铺设技术将这些条带铺放成彼此并排放置以产生拼接式立体角工具时，此类窄宽度可难以起作用。此类单独窄条带的横截面纵横比(高度或厚度除以宽度)可以实现约1或更小的值，并且因此，所述单独的条带可以类似于线材并像线材一样起作用。同样地，它们可以趋于卷曲或弯曲，并且因此在铺设过程中与其他窄条或瓦保持紧密配准是困难的。

也有助于拼接式立体角制品的视觉非均匀性的另一个挑战与在相邻的瓦中沟槽的取向不同的程度有关。如由人类观察者所注意到的，在相邻的瓦中沟槽的取向的极差可以放大在此瓦之间的视觉外观中的感知差异。相比之下，在相邻瓦内提供具有相同或类似的取向的沟槽，例如，平行于瓦的边缘且平行于特定的平面内轴，可以减小在瓦之间的视觉外观的差异，从而提高了拼接式制品的视觉均匀性，并且降低了拼接式制品的视觉非均匀性。

另一个挑战与在准备铺设拼接式工具中切割单独的瓦的方式(无论是通过EDM或任何其他适合的技术)有关，切割的方式影响沿着瓦的边缘定位的立体角的完整性和有效性。例如，参考图1中的瓦或区106。在那些瓦中，与阵列中的其他立体角相比，与瓦的延伸边缘相邻定位的结构拥有立体角的少于所有三个的完全完整的面。此类结构在本文中被称为“碎片化的立体角元件”。与阵列中的完整的(非碎片化的)立体角相比，缺失的面(或其部分)致使此类结构是完全地或部分地无效。以产生多个碎片化的立体角元件的方式切割一些或许多瓦，即，结构与在阵列中的其他地方的立体角元件相同，不同的是所述立体角元件的一部分在瓦的边缘处被切断且因此从该瓦缺失，因为两点原因这是不可取的。第一，与由所述碎片化的立体角所占据的拼接式制品的总体表面积的分数或百分比成比例，所述碎片化的立体角减损所述拼接式制品的逆向反射亮度。第二，沿所述瓦的边缘在所述碎片化的立体角元件中创建垂直或近似垂直的壁。当制造或镀覆后续的多代模具副本时，此类垂直的壁可以导致分离问题。

上面已经关于视觉非均匀性提出的在相邻的瓦中沟槽的取向不同的程度还对与便于制造相关的另一个挑战具有影响。因此，我们已经发现设计拼接式制品使得大多数或所有的瓦具有与特定的平面内方向对齐的一个沟槽组，并且实施制造，以使平面内方向平行于可固化材料(诸如可流动的聚合物或聚合物前体)流入立体角空腔工具的方向，所述立体角空腔工具拥有拼接式几何形状(诸如带有适当构造的外部表面的圆筒或滚筒)，所述可固化的材料可以更容易地以高保真度可靠地并完全地，并且因此与其他情况相比也以更快的线速度填充或复制所述结构。所述可固化材料的流动方向可以由在所述工具和流体源(例如，涂层模具或流体材料的滚动料堆)之间的相对运动的方向限定，该方向也优选地是制造的立体角片材或其他制品的顺维方向。所述平面内方向也优选地平行于在制品中的大多数或所有瓦的至少一个边缘。

公开的拼接式立体角制品不需要包含设计用于解决上面或本文其他地方提到的每一个挑战的产品特性；相反，它们可以只包含一些此类特性。一些特性是协同的。例如，如果所述拼接式制品被设计使得大多数或所有的瓦具有与特定的平面内方向对齐的一个沟槽组，那么也可以提高视觉均匀性，并且可以更容易和更快地制造产品。此外，如果所述制品也被设计使得所述平面内方向与大多数或所有瓦的边缘对齐，然后通过使瓦的宽度等于与所述瓦边缘对齐的沟槽间距的整数倍，并且通过使每个瓦的外部沟槽顶点与所述瓦边缘重合，可以避免或最小化沿那些边缘的碎片化的立体角形成。

因此，可以实施立体角工具制造以解决一些或所有上述挑战。

在一个方法中，可以使用单一类型的立体几何形状来生成三种不同类型的瓦，所述三种不同类型的瓦的阵列分别具有三个不同的立体取向。就这一点而言，参考图5的布置510。如下面进一步讨论的，根据与所述一个或多个立体角相关的基三角形的有序角，通过立体几何形状，我们是指立体角或配对的立体角或此立体角的阵列的特性。图5的所述布置510具有三个立体角阵列：513-1、513-2和513-3。在这些阵列的每一个中，立体角由相交的三组平行沟槽形成或限定。在阵列513-1中，全部都平行于沟槽方向517A的沟槽517-1与全部都平行于沟槽方向518A的沟槽518-1相交，并且也与全部都平行于沟槽方向519A的沟槽519-1相交。在描述的实施例中，沟槽方向和间距被选择以形成配对的向前倾斜的立体，与沟槽方向518A、517A形成56°的角度，与沟槽方向517A、519A形成56°的角度并与沟槽方向519A、518A形成68°的角度。因此，在该阵列中的立体角具有(56,56,68)的立体几何形状。这些相交角度应被视为说明性的，但不是限制。此外，立体的光轴在被称为倾斜平面的平面(或者一组平行平面)中是倾斜的，在这种情况下其垂直于所述沟槽方向517A。当这个立体几何形状以折射率1.59的透明材料诸如聚碳酸酯实施时，结果是等强度曲线图502A。所述等强度曲线图表现出入射倾斜度初级平面503A；在这种情况下，该平面与阵列513-1的倾斜平面重合。

在阵列513-2中，全部都平行于沟槽方向517B的沟槽517-2与全部都平行于沟槽方向518B的沟槽518-2相交，并且也与全部都平行于沟槽方向519B的沟槽519-2相交。沟槽方向和间距再次被选择以形成配对的向前倾斜的立体，与沟槽方向518B、517B形成56°的角度，与沟槽方向517B、519B形成56°的角度并与沟槽方向519B、518B形成68°的角度。因此，在该阵列中的立体角具有(56,56,68)的立体几何形状，即，与阵列513-1的立体几何形状相同的立体几何形状，但是在如由在阵列513-1、513-2之间的相对的方位角旋转表现出的不同的取向中。在阵列513-2中的立体的光轴在被称为倾斜平面的平面(或者一组平行平面)中是倾斜的，在这种情况下其垂直于所述沟槽方向517B。当这个立体几何形状以折射率1.59的相同透明材料实施时，结果是等强度曲线图502B。所述等强度曲线图表现出入射倾斜度初级平面503B，其与对于阵列513-2的倾斜平面重合。

在阵列513-3中，全部都平行于沟槽方向517C的沟槽517-3，与全部都平行于沟槽方向518C的沟槽518-3相交，并且也与全部都平行于沟槽方向519C的沟槽519-3相交。沟槽方向和间距再次被选择以形成配对的向前倾斜的立体，与沟槽方向518C、517C形成56°的角度，与沟槽方向517C、519C形成56°的角度并与沟槽方向519C、518C形成68°的角度。因此，在该阵列中的立体角具有(56,56,68)的立体几何形状，即，与阵列513-1和513-2的立体几何形状相同的立体几何形状，但是在如由在阵列513-1、513-2和513-3之间的相对的方位角旋转表现出的不同的取向中。在阵列513-3中的立体的光轴在被称为倾斜平面的平面(或者一组平行平面)中是倾斜的，在这种情况下其垂直于所述沟槽方向517C。当这个立体几何形状以折射率1.59的相同透明材料实施时，结果是等强度曲线图502C。所述等强度曲线图表现出入射倾斜度初级平面503C，其与阵列513-3的倾斜平面重合。

通过用相同的立体几何形状但在不同的取向上形成所有三个阵列513-1、513-2和513-3，相同的沟槽角存在于所有的阵列中。就这一点而言，沟槽是指在倾斜表面之间形成的延伸的开放空间，所述倾斜表面基本上限定两个相交的平面，该两个平面沿对应于沟槽顶点(例如，基部或底部)的线相交。在这两个平面之间的二面角是沟槽的夹角，或“沟槽角”。由于在制造公差内的非预期的变化性和/或由于为了提供二阶设计特征的有意的变化性，因此可以存在关于相交平面中的一者或两者的来自完美平面性的小偏差，以及关于线或顶点的完美的直线度。从相关表面或线的图像或比例图直接视觉检测，任何此类小偏差通常是很小的不会被注意到。包含沟槽的结构化表面的颠倒复制品或反向复制品具有与沟槽的延伸的开放空间对应的延伸的实体空间，并且此类延伸的实体空间或“颠倒沟槽”也可以广义地被认为落入到术语“沟槽”的范围内，概括地讲，使得可以讨论沟槽及其特征，无论正向的结构或反向(颠倒)的结构是否在考虑下。在本文讨论的误差极限内，由于相同的多组沟槽角存在于图5的所有的阵列中(事实上只有两个独特的沟槽角存在于每个阵列中)，所述阵列可以都以第一实例进行制造，例如，用单组菱形工具或其他适合的切割工具，在铜或其他适合的材料的主基板上快速切削或剪裁。这有利于简化制造过程(例如，将菱形工具设置的数量最小化)和减少库存。

虽然图5的三个阵列及其各自的入射倾斜度初级平面在不同的方向上进行取向，但是该三个阵列以具体的方式进行取向使得每个阵列包括沟槽或沟槽组，所述沟槽或沟槽组的沟槽方向平行于特定的固定平面内轴。就这一点而言，我们假设阵列513-1、513-2、513-3都位于如图5所示的笛卡尔x-y-z坐标系的x-y平面中，或者平行于该平面延伸。所述阵列和所述坐标系已经被布置使得可以被认为是固定的平面内轴的y轴平行于在阵列513-1中的沟槽517-1的沟槽方向517A，并且平行于在阵列513-2中的沟槽519-2的沟槽方向519B，并且平行于在阵列513-3中的沟槽518-3的沟槽方向518C。当这三个阵列的倾斜平面以及这三个阵列的入射倾斜度初级平面都在不同的方向上取向时，满足这个条件。

可以对图5的阵列做出许多修改。例如，假设在三个阵列中的各自的沟槽组和立体角的沟槽间距、沟槽深度和立体高度是相同的；然而，不需要这样，并且一个阵列的沟槽间距、沟槽深度和立体高度可以相对于一个或两个其他阵列变化，所有阵列同时保持相同的立体几何形状诸如(56,56,68)和相同的各自的倾斜平面以及相同的各自的入射倾斜度初级平面。因此，在一个阵列中的立体角可以比在另一个阵列中的立体角更大(例如，更高和/或更宽)，并且也可以与在又一个阵列中的立体角大小相同或者也可以比在又一个阵列中的立体角更小(例如，更短和/或更窄)。在其他的实施例中，可以在相对于其他阵列的一者或两者的一个阵列中使用不同的立体几何形状，同时仍然保持每个阵列中的一个沟槽或沟槽组具有平行于指定的平面内方向诸如所述y轴的沟槽方向的条件。不同的立体几何形状可以具有正的或负的倾斜程度；此外，给定的立体阵列的倾斜平面可以或可以不与入射倾斜度初级平面重合，并且所述入射倾斜度初级平面可以是入射倾斜度主导平面，或者是多个入射倾斜度初级平面中的一个。虽然在图5中只示出了3个不同的立体角阵列，但是在可选的实施例中可以使用更大的数量的不同的立体阵列，例如，4、5、或6或更多。如果立体角阵列的组成立体角以任意实质的方式不同，例如，以立体几何形状、以立体取向和/或以立体大小，那么立体角阵列可以被称为是不同的。所述3个或更多个不同的立体角阵列也可以出现在重复序列的瓦中，使得每个阵列在所述拼接式制品中出现多次。另外，不同于在图5中示出的阵列，在一个、一些或所有阵列中的立体角不需要正好由相交的三组平行沟槽限定，并且因此所述立体角在平面图中可以具有不是简单的三角形的基部(虽然所述立体角的几何形状仍然可以依据与此类立体角相关的基三角形来限定)。就这一点而言，参考美国专利5,557,836(Smith等人)，5,914,813(Smith等人)，6,083,607(Mimura等人)，6,390,629(Mimura等人)和6,540,367(Benson等人)与PCT公开WO 2004/061489()，以及日本专利公布JP 11-305017(Mimura等人)。

概括地讲，在图5中示出的每个阵列可以被认为是由任何任意形状的瓦界定的。在附图中示出的菱形轮廓是此类可能的瓦形状的一种。在很多应用中，细长的条形型材具有作为瓦形状的特定的实用性和益处。一般来讲，然而，可以使用任何适合的瓦形状。就这一点而言，“瓦”是指单个有界区域，在所述单个有界区域内只有一个立体角阵列存在，所述一个立体角阵列延伸穿过所述区域，但是在所述区域的边界处被中止或者以其他方式被中断。继而，所述立体角阵列是指立体角的重复图案，所述重复图案基本上只具有一种类型的立体角，或者一种类型的配对立体角，其中“基本上”考虑到由于在制造公差内的非预期的变化性和/或者由于为了提供二阶设计特征的有意的变化性，因此可以存在来自在立体角或立体角对之间的同一性的小偏差。从所述立体角阵列的图像或比例图直接视觉检测，任何此类小偏差通常是很小的以致于不会被注意到。

在图6中示出了拼接式立体角制品610的结构化表面。所述结构化表面包括被布置到标记为A、B和C的三个对应的瓦中的三个不同的立体角阵列，诸如图5的那些。为了讨论简单和简洁，我们假设瓦A、B和C分别地包括来自图5的立体角阵列513-1，513-2，和513-3。上面已经讨论了那些阵列的特性并且在这将不重复，并且类似的附图标号指示如在图5和图6之间的类似的元件。上面讨论的所述立体角阵列的各种修改也被假设同样适用于该拼接式制品610及其变型。在阵列中的各种沟槽的取向被假设相对于平面内y轴是相同的，使得每个瓦的阵列具有一个沟槽或沟槽组，所述沟槽或沟槽组的沟槽方向平行于平面内方向。尽管这样，所述瓦具有入射倾斜度初级平面，参见平面503A、503B和503C，其具有在方位角中的不同的取向，使得所述拼接式制品作为整体在全范围取向角上可以具有更均匀的逆向反射性能，特别是在高入射角，例如，30°(或更大)、40°(或更大)或50°(或更大)的入射角。

每个所述瓦A、B、C具有平行于所述y轴的相对的瓦边缘，所述瓦边缘并且因此也平行于在其各自的阵列中的沟槽组中的一个组的沟槽方向。这些瓦边缘限定所述瓦A的瓦宽度WA、所述瓦B的瓦宽度WB和所述瓦C的瓦宽度WC。根据需要可以定制所述宽度，但是优选地它们是相对窄的，例如，0.2到5mm，或小于1mm，或0.2到1mm，以在中等至短查看距离内提供更加空间均匀性的外观。所述宽度WA、WB、WC可以但不需要是与彼此相等的。所述宽度WA、WB、WC也优选地被选择与横跨瓦的宽度的整数个立体角相等。换句话说，所述宽度WA、WB、WC优选地被选择与各自的瓦的纵向沟槽间距的整数倍相等-即，WA是沟槽517-1的间距的整数倍，WB是沟槽519-2的间距的整数倍，并且WC是沟槽518-3的间距的整数倍。纵向沟槽的间距从瓦到瓦可以是相同的，或者不同的，并且所述整数倍从瓦到瓦可以是相同的，或者不同的。在任何情况下，通过确保所述纵向沟槽的沟槽顶点基本上与各自的瓦的每个边缘重合，可以减少或消除碎片化的立体角。通过使所述纵向沟槽沿其延伸的瓦边缘尽可能的长，或者，至少比所述瓦的其他边缘(未在图6的局部视图中示出)更长，可以进一步减少碎片化的立体角。换句话说，所述瓦可以具有在所述平面内轴如图6中的所述y轴的方向上细长的形状。然而，在一些情况下，可以有设计所述瓦不细长(例如，正方形)或者甚至沿不同于所述y轴的平面内方向诸如沿图6中的x轴细长的正当理由。因此，给定的瓦的“纵向”沟槽或沟槽组可以是指至少标称地与长轴、短轴或所述瓦的任何边缘对齐的沟槽或沟槽组。

立体角制品610可以只具有在图6中示出的瓦A、B、C，或者其可以具有额外的瓦，例如，以重复图案A、B、C，A、B、C，…，或者以其他重复或非重复图案，包括这样的图案，所述图案包括具有与瓦A、B、C的立体几何形状相同的立体几何形状的立体角阵列，和/或者具有与瓦A、B、C的那些立体几何形状相比不同的立体几何形状的立体角阵列。

制品610可以是立体角工具，并且所述瓦A、B、C可以是在铺设拼接式工具的过程中已经被并排放置的原模或复制品工具的条带。所述条带可以通过EDM或另一种适合的精密切割技术从所述原模或复制品工具进行切割。为了提供宽度大约1mm或更小的条带，例如，在大约0.2mm到1mm的范围内，我们已经发现为了处理件且用最小限度的卷曲、弯曲或翘曲铺设它们从而以薄板的形式采用条带或瓦，所述条带特别有帮助。就这一点而言，薄板是指金属或其他适合的材料的薄型板，所述薄型板具有相对的主要表面和连接所述相对的主要表面的工作表面，所述工作表面以针对特定的瓦限定立体角阵列的方式被小平面化或结构化。适合的材料通常包括铜、黄铜或其合金，或者优选地用最小限度的去毛剌可加工的其他材料。由于薄板的物理高度要远大于其宽度，所以薄板具有提高的结构完整性，并且抗翘曲或卷曲。可以单独地加工薄板来在其工作表面上形成沟槽以限定适合的立体角阵列，并且然后成组的薄板可以被一起保持到或夹持到一块以限定拼接式结构化表面。也可以按组加工薄板，例如，通过当所述薄板被一起保持到一块时形成横跨多个工作表面的沟槽，并且然后从不同的此类块中选择薄板以形成新的一组限定所需的拼接式结构化表面的薄板。

图6A示出了立体角制品610的侧视图或正视图。在该视图中，一个人可以更容易地识别在所述结构化表面中的沟槽，其在本文是指复合沟槽，因为它们部分地由来自一个瓦的立体角的面并且部分地由来自相邻的瓦的立体角的面形成。在该侧视图中，在瓦A中识别立体角面614a、614b。在瓦A的中心部分中，多对的这些面形成沟槽617，其对应于图5中的沟槽517-1。相似地，在瓦B中识别立体角面624a、624b。在瓦B的中心部分中，多对的这些面形成沟槽619，其对应于图5中的沟槽519-2。在瓦C中识别立体角面634a、634b。在瓦C的中心部分中，多对的这些面形成沟槽618，其对应于图5中的沟槽518-3。然而，需注意，在瓦A和B的边缘会合的边界处，形成单个复合沟槽617619。复合沟槽617619由瓦A上的靠近边界的一排立体角的面614a和瓦B上的一排立体角的靠近相同的边界的面624b限定。复合沟槽617619沿与沟槽617和619的沟槽方向平行的沟槽方向延伸。相似地，在瓦B和C的边缘会合的边界处，形成单个复合沟槽619618。复合沟槽619618由瓦B上的靠近边界的一排立体角的面624a和瓦C上的一排立体角的靠近相同的边界的面634b限定。复合沟槽619618沿这样的沟槽方向延伸，所述沟槽方向与沟槽619和618的沟槽方向平行，并且也因此平行于沟槽617并平行于复合沟槽617619以及平行于所述y轴延伸。在图6的前视图或平面图中也可以看到复合沟槽617619和619618，但未在该附图中标记它们。

根据在各种阵列中使用的立体几何形状，给定的复合沟槽可以具有与沟槽组的沟槽角相同或者不同的沟槽角，所述沟槽组的沟槽与复合沟槽在其之间形成的两个相邻的瓦上的复合沟槽平行。例如，如果我们假设在图6a中的瓦A、B和C包含来自图5的立体几何形状是(56,56,68)的立体角阵列，然后沟槽617的沟槽角标称地为84.832，沟槽619的沟槽角标称地为62.938，并且沟槽618的沟槽角标称地为62.938，并且此外，复合沟槽617619的沟槽角标称地为73.885且复合沟槽617619的沟槽角标称地为62.938。因此，复合沟槽617619的沟槽角与沟槽617和619的那些沟槽角不同，但是复合沟槽619618与沟槽619和618的那些沟槽角相同。

在图7A和图7B中示意性地示出了可以对应于图6的立体角制品610或者对应于本文公开的其他拼接式立体角制品的一组薄板。三个单独的薄板701、702、703被夹持在一起或者以其他方式保持或者聚集到一起以形成立体角制品710。图7A是制品710的前视图或平面图，并且图7B是制品710的侧视图或正视图。在这些附图中提供了笛卡尔x-y-z坐标系用于参考，该坐标系至少在结构化表面位于x-y平面中或者平行于x-y平面延伸的衬底上也符合图5和图6。在所述薄板的工作表面中提供了沟槽和立体角(为简单说明未在图7A和图7B中示出)以限定制品710的总体结构化表面711，结构化表面711被分割成在薄板701的工作表面中的结构化表面711A、在薄板702的工作表面中的结构化表面711B和在薄板703的工作表面中的结构化表面711C。结构化表面711A、711B、711C各自包含单个立体角阵列且限定结构化表面的不同的瓦。所述瓦在沿所述y轴的方向上都是细长的，其中长度L大于它们的各自的宽度WA、WB、WC中的任一个。每个瓦也具有相对的细长的瓦边缘，所述瓦边缘平行于所述(平面内)y轴。在示例性实施例中，结构化表面711A包含立体角阵列513-1，结构化表面711B包含立体角阵列513-2，并且结构化表面711C包含立体角阵列513-3，但如本文其他地方讨论的可以做出改变和修改。因此，来自图5和图6的沟槽方向517A、517B、517B被叠加在各自的薄板701、702、703的工作表面上，并且每个薄板的工作表面包含沟槽组，所述沟槽组的沟槽方向与各自的瓦的相对边缘平行。

在图7B的侧视图或正视图中，可以看到薄板701、702、703的端面，并且示出了所述薄板的高度H。如上所述，给定的薄板的高度远大于其宽度以提供相对于例如典型的镍工具切割的条带具有提高的结构完整性的薄板。横截面的纵横比，例如，薄板701的H/WA、薄板702的H/WB和薄板703的H/WC可以根据需要进行定制，但优选地是至少5，或者至少10，或者至少20。宽度WA、WB、WC也可以根据需要进行定制，但通常它们可以都在0.2mm到5mm，或者0.2mm到1mm的范围内；在一个特定的实施例中，它们可以都等于0.635mm(0.025英寸)，但也可以使用其他尺寸。

所述薄板或瓦的平面图纵横比也可以根据需要进行定制。该纵横比对于薄板701是L/WA，且对于薄板702是L/WB，并且对于薄板703是L/WC。长度尺寸L被假设与在制品中大多数或所有的瓦的纵向沟槽方向平行。该纵横比可以是至少10、至少50、至少100或至少150，但也可以使用包括甚至在0和1之间的值的其他值。就这一点而言，如上所述，“纵向”沟槽或沟槽组是指至少标称地与长轴、短轴或其相关的瓦或薄板的任一个边缘对齐的沟槽或沟槽组。

在图8中，示意性地示出拼接式立体角制品810的一部分。只示出了制品810的两瓦，其瓦可以对应于如图7A中的各自的单独薄板。因此，薄板801和802具有各自的工作表面811A、811B，其中各自的立体角阵列根据本文的教导内容形成，为在附图中减少混乱对于每个薄板在附图中只示出来自这些阵列的一个沟槽组。如图所示，所述薄板具有各自的细长的相对的边缘801a、801b和802a、802b，其也可以被认为是细长的瓦边缘。这些边缘位于所述薄板的工作表面与其主要(侧)表面的交汇处。

图8展示无论是由于在制造公差内的非预期的变化性和/或由于为了提供二阶设计特征的有意的变化性，来自准确的平行度的小偏差可以存在于薄板或瓦中的一个或多个中，并且此类小的偏差不使本文讨论的设计特征无效。因此，可以说每个薄板801、802的结构化表面具有一个纵向沟槽或一组纵向沟槽，所述一个纵向沟槽或一组纵向沟槽的沟槽方向与所述薄板或瓦的边缘平行。在薄板801中，此类沟槽组是一组沟槽817；在薄板802中，此类沟槽组是一组沟槽819。具有沟槽间距p2的沟槽819被绘制成完全平行于边缘802a、802b。相比之下，具有沟槽间距p1的沟槽817被绘制成包括来自准确的平行度的小偏差。沟槽817偏移了与在所述薄板或瓦的整个长度L上的沟槽间距(p1)相等的量(在示出的情况下)。此类偏差，虽然是不理想的，但是仍提供很多与保持一些功能的边缘相邻的立体角，即使它们是碎片化的。在描述的实施例中，为靠近薄板801的顶端和底端定位的此类立体角保留了更多的功能。在长度L是100mm且具有0.2mm或0.1mm的沟槽间距p1的典型的薄板的情况下，这分别地对应于在任一边缘801a、801b之间的角度偏差和约0.11°或0.057°或者约0.1°或更小的沟槽方向。

甚至在准确的平行度的情况下，类似的小的平移偏差可以发生在相对于所述薄板或瓦的边缘放置沟槽顶点中。例如，在薄板802中，沟槽819的最左边的沟槽顶点被绘制成精确地与边缘802a重合，并且最右边的沟槽顶点被绘制成精确地与边缘802b重合。来自此类重合的小偏差，例如，典型的小于纵向沟槽间距的30％或20％或10％的偏差，可以发生而不使本文讨论的设计特征无效。此类小偏差也可以致使比率WB/p1非常略微地偏离准确的整数，例如，通过小于0.2或小于0.1。在沟槽顶点与薄板或瓦的边缘不准确的配准的情况下，所述边缘特征可在于非常窄的平坦的或斜的边缘，或特征可在于碎片化立体角的非常窄的条带。

我们包括图9以展示关于明显的制品空间均匀性的瓦的宽度W或最小横向尺寸和查看距离D的效果。人P从距离D观察或评估立体角制品910，诸如逆向反射片材。制品910具有结构化表面911，其位于所述x-y平面中或者平行于所述x-y平面延伸。所述结构化表面包括被布置到多个瓦中的不同的立体角阵列，所述多个瓦包括瓦912。所述瓦可以平行于平面内轴诸如所述y轴延伸，并且可以具有特征宽度W。人P观察或注意单独的瓦的程度对制品的明显的空间均匀性有直接影响。如上，通过在相邻的瓦之间提供相同的或类似取向的沟槽，和/或通过减小瓦的特征最小横向尺寸(宽度W)来增强空间均匀性。减小瓦的宽度W减小了由单独的瓦在给定的查看距离D对向的角度，其趋于提高明显的空间均匀性。为了在更靠近于大约3米到6米(10英尺到20英尺)的查看距离D处提供良好的空间均匀性，期望提供小于1mm或在0.2mm到1mm的范围内的瓦宽度W。如上所述在薄板上形成立体角阵列可以帮助在很多实际的实施例中实现此类小宽度。

拼接法的多个阶段可以被用于制造拼接式立体角制品，特别是关于可以非常宽和非常长的逆向反射立体角片材。图10中此类立体角制品的示例被示为制品1010。如本文所讨论的，制品1010具有结构化表面1011，所述结构化表面1011包括被布置到多个瓦1012中的不同的立体角阵列。所述瓦在沿在这里示出为所述y方向的平面内方向上都是细长的。所述y方向可以对应于制品1010的制造的顺维方向，并且大多数或所有的瓦可以具有一个纵向沟槽或沟槽组，所述纵向沟槽或沟槽组的沟槽方向平行于所述y方向。

可以通过在多个薄板或其他适合的条带或工具件中形成立体角阵列，并然后将那些件中不同的件布置成一组或一束以形成初始的拼接式表面来制作瓦1012。在结构化表面1011的矩形节段1011B中示出了此类的一组。为了制作结构化表面要比此类节段更大的制品，例如，在聚合物膜制造线上制作的逆向反射片材，可以制作所述节段的多个复制品且将所述节段的多个复制品彼此并排铺设。此类过程的结果提供了具有相邻的节段1011A至1011F的制品1010，节段1011A至1011F各自可以具有如节段1011B所示的单个瓦1012的相同布置。在节段之间的边界处，立体角阵列通常被小间隙或间断所中断，即使相同类型的立体角阵列存在于所述边界的相对侧上。

单个立体角阵列的逆向反射性能作为取向角的函数与图11A和图11B中的示例性拼接式立体角制品的逆向反射性能进行了比较。图11A绘出了所述单个立体角阵列的建模的或计算的总光返回(TLR)。该阵列被假设由彼此以57°、57°和66°的角度相交的三个沟槽组形成。因此，在该阵列中的立体角具有(57,57,66)的立体几何形状。这些立体是向前倾斜的，并且在倾斜平面中具有入射倾斜度初级平面。假设制品由折射率1.5的透明材料制成，该阵列的TLR作为取向角和入射角的函数被计算，并且结果在图11A中绘出。在示图中，各种曲线用与入射角度数相等的数字进行标记。因此，在图11a中的曲线0是0°的入射角，在相同的附图中的曲线10是10°的入射角，等等。示图的检测显示出单个阵列提供了作为0°和10°的入射角的取向角的函数的相当均匀的逆向反射。对于更大的入射角，特别是20°和更大的入射角，非均匀性变得愈加明显。

在图11B中示出了在一些方面与图11A的立体角阵列相似的拼接式立体角阵列的逆向反射性能。如上面图5和图6所示，拼接式制品使用被布置到三个对应的瓦中的三个不同的立体角阵列。因此，在所述三个瓦中的所述立体角阵列具有不同的取向，并且每个包含纵向沟槽组，所述纵向沟槽组的沟槽方向平行于平面内轴，但所述立体角阵列均利用立体几何形状(57,57,66)与图11A的单个立体角阵列相同的立体角。再次假设折射率1.5的透明材料，拼接式制品的TLR作为取向角和入射角的函数被计算，并且结果在图11B中绘出。正如图11A，在图11B中的各种曲线再次用与入射角度数相等的数字进行标记。通过比较这两个附图中的示图，一个人可以看到在20°和30°两者的入射角的大大改进的取向均匀性，以及在甚至更高的入射角的稍微改进的取向均匀性。

来考虑另一种拼接式立体角制品。在假设该制品正好包含被布置到等宽度的细长的瓦中的三个立体角阵列的范围内，该制品与图11B的制品相似，并且对于每个阵列，三个沟槽组中的一个沟槽组被取向使得它的沟槽方向平行于细长的平面内轴。然而，每个阵列的三个沟槽组被制成以不同的角度相交，使得三个阵列包含立体几何形状与图11B的立体几何形状不同的倾斜立体角，即，(50,62.1,67.9)的立体几何形状。每个该三个阵列包含该几何形状的倾斜的立体，但由于所述三个立体角阵列的不同的方位角取向，所以在该阵列中的立体角具有不同的取向。所述(50,62.1,67.9)立体几何形状与不等边的而不是等边的基三角形相关。再次假设折射率1.5的透明材料，修改的拼接式立体角制品的TLR作为取向角和入射角的函数被计算，并且结果在图12中绘出。正如图11A和图11B，在图12中的各种曲线用与入射角度数相等的数值进行标记。在该实施例中，取向均匀性相对于图11B的拼接式制品进一步被改进，至少在40°的入射角的范围内，在图12中的所述TLR在0°到90°取向角全范围上更均匀。

图11A、图11B和图12的结果假设立体角制品由折射率1.5的透明材料制成，并且具有如上所解释的结构化表面。增大折射率一般加宽改进的入射倾斜度的区的宽度。例如，图1A中改进的入射倾斜度的水平区将随着增大的折射率变得更宽(即，在垂直方向上其宽度将增大)。从而，拼接三个不同的取向随着折射率增大将相对于取向变得更均匀。一般来讲，本文讨论的设计特征可以被应用于任何适合的折射率的立体角制品。此外，不管在阵列中依赖的反射机制，它们可以被施用于立体角制品，即，无论是否立体角的面被涂覆有反射金属(例如，铝，银，镍或其合金)或其他适合的材料，或者无论是否立体角的面是未被涂覆的(例如，暴露于空气或真空)且使用全内反射(TIR)现象反射光。

到目前为止的描述，各种立体角元件的立体几何形状及其配对和阵列已经被提到和讨论。结合图13，为清楚起见，我们提供了立体角和其几何形状和取向的更有条理的讨论。因此，我们在附图中呈现具有假设的结构化表面1311的假设的立体角制品1310的平面图，所述结构化表面1311位于笛卡尔x-y-z坐标系的x-y平面中或者平行于笛卡尔x-y-z坐标系的x-y平面延伸。为了比较和讨论，示出表面1311包含不同的单独的立体角1320、1330、1340、1350、1360和1370。在实践中，这些立体角中任何给定的一个将通常存在于在由相交的三组平行的沟槽形成的单个立体角阵列的情况下的给定的瓦的结构化表面上，该阵列也包含其他相同或相似的立体角，包括与图13中关注的给定的单独的立体角形成配对的立体角。

在附图中的每个立体角由三个非二面角边缘界定(在立体角阵列中其可以与沟槽顶点重合)，所述非二面角边缘形成基三角形。(在一些情况下，在给定的阵列中的立体角可以不具有形成可辨识基三角形的三个非二面角边缘；在此类情况下，通过认为所述立体角的端面是平面，并然后通过认为由那些平面与参考平面相交形成的三角形与结构化表面的平面平行，例如所述x-y平面，基三角形还可以与此类立体角相关。)我们按照相关的基三角形的三个内角表征所述立体角的立体几何形状，所述内角可以被称为基本角。然而，如下面所示，我们表达这三个基本角的次序可以是重要的。因此，为了本文档以特定的次序列出基三角形的内角，我们采用惯例，即，我们先列出最小的角度，并然后我们相对于此最小的角度以顺时针的方式(当从给定的一致的平面图透视查看基三角形时，例如图13的透视，其中立体顶点投影到附图的平面中)列出剩余的角度。我们将所得的角度组或群称作一组有序基本角，或者更简单地称为有序组或称为有序角。如果基三角形是两个角小于第三角的等腰三角形，那么我们首先在有序组中列出首先两个(最小的)基本角。使用该惯例，与图13中所示的立体角相关的基三角形的有序角，即，此类立体角的立体几何形状，如下：

立体角1320：(50.8,58.73,70.47)；

立体角1330：(50.8,58.73,70.47)；

立体角1340：(50.8,58.73,70.47)；

立体角1350：(50.8,70.47,58.73)；

立体角1360：(54.616,54.616,70.768)；以及

立体角1370：(46.2,66.9,66.9)。

每个这些立体角是倾斜的，即，其光轴不与结构化表面的平面正交。因此，所述光轴相对于z轴是偏斜的，并且不平行于所述z轴。倾斜的几何形状为立体角(并为其可以是阵列的一部分的阵列)限定倾斜平面，所述倾斜平面包含所述立体角的光轴和所述结构化表面的法向，即，所述z轴。参考黑色粗箭头在图13中可以为每个立体角识别倾斜平面，所述黑色粗箭头表示给定的立体角的光轴在所述x-y平面上的投影。因此，例如，示出立体角1320具有表示其光轴的投影的黑色粗箭头；垂直于所述x-y平面且包含所述黑色粗箭头的平面表示此立体角1320的倾斜平面。因为倾斜平面不垂直于基三角形的任一侧，所以可以说立体角1320、1330、1340和1350是侧向倾斜的。可以说立体角1360是向前倾斜的。可以说立体角1370是向后倾斜的。

如上面所讨论的，倾斜的几何形状也向每个立体角(以及其可以是阵列的一部分的阵列)提供了入射倾斜度初级平面。已经为图13中示出的每个立体角计算了一个或多个入射倾斜度初级平面，并且在图13中通过叠加在对应的立体角上的一条或多条虚线示出了此类一个或多个平面的方向。因此，例如，立体角1320、1330、1340和1350各自只具有一个入射倾斜度初级平面，并且在每个这些情况下，该平面不平行于立体角的倾斜平面。立体角1360只具有一个入射倾斜度初级平面，并且其平行于倾斜平面。立体角1370具有两个入射倾斜度初级平面，两个中没有一个平行于倾斜平面。

立体角1320、1330和1340都具有相同的立体几何形状，因为它们的这几组有序基本角彼此相等。这些立体角中的立体角1320和1330也具有相同的立体取向，尽管事实上它们具有不同的立体大小和不同的立体高度。立体角1320和1340具有相同的立体大小和立体高度，但具有不同的立体取向，因为它们的各自的倾斜平面彼此不平行。

立体角1320和1360具有带有不同组的有序基本角的不同的立体几何形状，但如果它们的各自的倾斜平面彼此平行，那么它们可以具有相同的取向。

立体角1320和1350具有相同的立体大小和高度，但具有不同的立体几何形状。虽然每个这些立体角具有一个50.8°的基本角，和另一个58.73°的基本角，以及另一个70.47°的基本角，即，虽然一个立体角元件的每个基三角形基本角可以在另一个立体角元件的基三角形中发现，但是它们仍然具有不同的立体几何形状。通过检测附图以及通过比较它们不匹配的各自的多组有序基本角，可以看到不同的立体几何形状。需注意，如果一个人方位上旋转立体角1320(绕z轴)，使得其倾斜平面平行于立体角1350的倾斜平面，那么这些立体角的各自的入射倾斜度初级平面将彼此不平行。因此，立体角1320的立体几何形状(50.8,58.73,70.47)与立体角1350的立体几何形状(50.8、70.47、58.73)不同。

可以通过注意到一个立体角(或者此类立体角的阵列)的一组有序基本角是其他立体角(或此类其他立体角的阵列)的一组有序基本角的重排来表示在立体角1320、1350之间的独特的关系。例如，有序组(50.8,70.47,58.73)是有序组(50.8,58.73,70.47)的重排，因为这些有序组包含相同的但不同次序的角度--同时遵守如上所述的我们的术语“有序组”的描述。具有该关系的立体角的阵列，至少当它们由相交的三组平行的沟槽形成时，具有相同的沟槽角且可以用单组切割工具形成。换句话说，可以使用三个菱形切割工具来形成需要用以形成像立体角1320那样的立体阵列的三组平行沟槽，并且那些相同的三个菱形切割工具(当以不同的次序使用时)可以被用于形成需要用以形成像立体角1350那样的立体阵列的三组平行沟槽，虽然立体角1350具有与立体角1320不同的立体几何形状。利用这种关系，我们可以在立体角制品的单独的瓦中提供多达6个不同的立体角阵列，每个阵列具有不同的取向，并且每个阵列具有纵向沟槽，所述纵向沟槽的沟槽方向平行于给定的平面内轴，并且所有这些阵列能够用单组三个沟槽切割工具制造。在图14中描述了此类实施例。

在图14中，在示意性顶视图或平面图中示出了立体角制品1410。制品1410可以是逆向反射片材或与其制造有关的工具。制品1410具有带有被布置到一堆6个相邻的瓦中的6个不同的立体角阵列的结构化表面1411，所述瓦标记为A、B、C、D、E、F。所述瓦在平行于平面内y轴的方向上都是细长的，并且每个瓦具有相对的细长的边缘，所述边缘也平行于所述y轴。在可选的实施例中，所述瓦不需要在沿所述y轴的方向上都是细长的，和/或不需要具有平行于所述y轴的边缘。每个瓦具有一个由相交的三组平行的沟槽形成的倾斜立体角元件的阵列。对于每个瓦，其三组沟槽中的一组沟槽是一组纵向沟槽，所述纵向沟槽的沟槽方向平行于所述y轴。每个瓦也具有与其纵向沟槽的纵向沟槽间距的整数倍相等的瓦宽度(在x方向上测量的)，使得碎片化的立体角基本上不存在于所述瓦的细长的边缘。所述瓦宽度不是均匀的。瓦A和D具有彼此相等但比瓦B、C、E和F的瓦宽度更大的瓦宽度，所述瓦B、C、E和F的瓦宽度也是彼此相等的。

为在附图中参考，在每个瓦的右方示出了一个放大的配对的立体角。在每个实例中，所述放大的配对代表在其相关的立体角阵列中的配对的立体角元件。在每个放大的配对中包括粗黑箭头以与图13类似的方式指示立体角的光轴在x-y平面中的投影。因此，这些粗黑箭头提供每个阵列的倾斜平面的方向的指示。另外，与图12相一致，虚线被叠加在图14的每个放大的配对上以指示所述配对及其相关的阵列的入射倾斜度初级平面的方向。

瓦A、B和C的立体角都具有(49,61,70)的立体几何形状。瓦D、E和F的立体角都具有(49,70,61)的立体几何形状。因此，瓦A、B或C中的任一个的立体角的一组有序基本角是瓦D、E和F中的任一个的立体角的一组有序基本角的重排，并且反之亦然。此外，可以使用一组三个菱形切割工具来形成三组平行沟槽，所述三组平行沟槽被需要用以形成瓦A、B、C、D、E和F的每一个的立体阵列。

虽然未在图14中标记复合沟槽，但是在附图中可以容易看到。一个复合沟槽出现在瓦A和B的边界，另一个出现在瓦B和C的边界，另一个出现在瓦C和D的边界，另一个出现在瓦D和E的边界，以及另一出现在瓦E和F的边界。在每种情况下，这些复合沟槽平行于所述y轴，并且与每个瓦中的与给定的复合沟槽相邻的沟槽组的沟槽方向平行。此外，在每种情况下，复合沟槽具有与两个瓦中的每个瓦中的纵向沟槽的沟槽角不同的沟槽角，所述两个瓦界定给定的复合沟槽。

可以对立体角制品1410做出许多修改。可以改变瓦的宽度和形状。瓦可以以不同的次序重新排列。可以移除存在于制品1410中的瓦中的一个或多个，并且可以插入或者以其他方式添加具有不同的立体角阵列(包括一个或多个倾斜立体角阵列以及一个或多个非倾斜立体角阵列)的一个或多个瓦。在此类修改中，至少两个瓦可以具有立体角阵列，所述立体角阵列的立体几何形状是相同的但其取向是不同的，并且至少两个瓦可以具有立体，所述立体的一组基本角通过重排被相关。可以使用多组平行的沟槽的相交的不同角度，和立体角的不同的对应基本角。在给定的沟槽组中的沟槽的沟槽深度可以都是相同的，或者它们可以都是彼此不同的，或者一些可以是相同的且一些是不同的。可选地或另外，在第一沟槽组中使用的一个或多个沟槽深度可以与在第二沟槽组中使用的沟槽深度相同或不同，所述第二沟槽组与所述第一沟槽组相交。

在图15中，来自图14的每个瓦A、B、C、D、E、F的一个立体角被再现和放大，同时保持其几何形状和其相对于所述平面内y轴的取向。为了简单，来自图14的瓦A的立体角在图15中被标记为A，来自图14的瓦B的立体角在图15中被标记为B，等等。在该附图中，表示光轴在x-y平面中的投影的粗黑箭头，以及表示入射倾斜度初级平面的虚线，可以比在图14中更容易地看到。

在图16中，图14的所有瓦A、B、C、D、E、F的倾斜平面和入射倾斜度初级平面，并且因此还有图15的所有的立体角A、B、C、D、E、F的倾斜平面和入射倾斜度初级平面被示出相对于x轴和y轴彼此叠加，这些轴具有与图14和图15中相同的含义。对于每个立体角阵列(和对应的瓦)，在图16中的实线表示倾斜平面与其相对于所述x轴和y轴的取向，并且在图16中的虚线表示入射倾斜度初级平面与其相对于相同的x轴和y轴的取向。为了简单，这些实线和虚线用字母A、B、C、D、E、F进行标记以与在图14和图15中使用的相同的标记对应。例如，在图14中的瓦A和在图15中的立体A具有由在图16中的实线A表示的倾斜平面和由在图16中的虚线A表示的入射倾斜度初级平面。因此，在图16中的各种倾斜平面和入射倾斜度初级平面代表拼接式立体角制品1410和其组成部件(瓦)。在图16中的实线和虚线的长度是任意的，但实线被绘制成具有比虚线的均匀长度更大的均匀长度，所以读者可以更容易区分该两者。图16的检测显示出制品1410被构造使得其组成入射倾斜度初级平面比其组成倾斜平面更均匀地分布在方位角中。

对于通过简单地组合两个制品1410而制造的制品，二重的倾斜平面和二重的入射倾斜度初级平面将出现在类似于图16的表示的表示中。为了避免双重计数此类平面，我们可以更一般地规定拼接式的立体角制品被构造使得多个瓦的入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面比倾斜平面中的独特的倾斜平面更均匀地分布在方位角中。为了量化“更均匀地分布在方位角中”的概念，我们可以将角度PhiMin1定义为在所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面之间的最小角距，并且我们可以将角度PhiMin2定义为在所述倾斜平面中的独特的倾斜平面之间的最小角距。在图16中，PhiMin1是18.00°，并且PhiMin2是2.23°。我们也可以将角度PhiMax1定义为在所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面之间的最大角距，并且将PhiMax2定义为在所述倾斜平面中的独特的倾斜平面的最大角距。在图16中，PhiMax1是52.00°，并且PhiMax2是58.77°。我们可以还将角度PhiAvg1定义为在所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面之间的平均角距，并且我们可以将PhiAvg2定义为在所述倾斜平面中的独特的倾斜平面之间的平均角距。在图16中，PhiAvg1和PhiAvg2是相同的，每个均等于30.00°。我们可以定义角分布度量(“PhiADM”)等于PhiAvg/(PhiMax-PhiMin)。在图16中，入射倾斜度初级平面的角分布度量是PhiADM1＝0.882，并且倾斜平面的角分布度量是PhiADM2＝0.531。因此，为了量化“更均匀地分布在方位角中”的概念，我们可以规定以下关系中的任一个或一些(任两个或更多个的任何组合)或全部：

·PhiMin1>PhiMin2

·PhiMin1≥2*PhiMin2

·PhiMax1<PhiMax2

·PhiADM1>PhiADM2

基于图14中示出的建模了几个立体角制品。在第一种情况下，该模型假设上面讨论的相同的立体几何形状，即，瓦A、B和C的(49,61,70)与瓦D、E和F的(49,70,61)。该模型还假设立体角具有二阶设计特征以略微地将光从入射光的方向分散，如上面参考‘219Appeldorn专利所讨论的。所述二阶设计特征是假设沟槽角与将在正好90°的立体角面之间产生二面角的那些沟槽角非常略微地不同，沟槽角的差值合计为相对于产生正相交的它们的标称的方向偏离了2分的弧(0.033度)的立体角面。假设立体角制品由折射率1.586的透明聚碳酸酯构成，并且假设立体角被暴露于空气且通过全内反射来反射光，初始该模型对6个每个立体角阵列单独地计算总光返回(TLR)。所述TLR经计算作为一系列不同入射角的取向角的函数。然后，该模型为取向角和入射角的每个组合计算所述6个阵列的所述TLR的加权平均数。15％的权重值被用于瓦B、C、E和F的阵列，并且20％的权重值被用于瓦A和D的阵列。这些权重值与拼接式制品1410中的各自的瓦的相对宽度和相对表面积成比例。

在图17的等强度曲线图中示出了所述拼接式逆向反射制品的所得的计算的逆向反射性能。在附图中，计算的TLR的量值是在径向上，并且取向角是在方位角方向上。对于0°到70°的入射角以10°增量绘制了曲线，其中曲线1700表示0°入射角，曲线1710表示10°入射角，曲线1720表示20°入射角，等等。然后建模了第二拼接式立体角制品。该制品被假设与图17的制品相同，不同的是折射率被假设为1.50而不是1.586。用该修改，该拼接式制品的TLR以与上面结合图17描述相同的方式进行计算。在图18的等强度曲线图中示出了所得的计算的逆向反射性能，其具有与图17相同的格式。对于0°到60°的入射角以10°增量绘制了曲线，其中曲线1800表示0°入射角，曲线1810表示10°入射角，曲线1820表示20°入射角，等等。在这些曲线和图17的对应的曲线之间可以看到一些差异。此类差异展示立体角制品的折射率改变的效果。

为了比较，我们也调查了上面在图3中示出且在‘281Mimura公布中讨论的立体角制品。图19是在‘281Mimura公布中与立体角314-1和315-1具有(54.918,66.659,58.423)的有序基本角并且立体角314-2和315-2具有(54.918,58.423,66.659)的有序基本角的实施例相关的附图的再现，该实施例在以下被称为Mimura实施例。当使用光学仿真计算时，图19的示图被称为是该实施例的逆向反射性能。该图用以15°的取向角增量绘制的数据点示出了在5°(曲线1905)、15°(曲线1915)和30°(曲线1930)的入射角的性能。

为了确定在大于30°入射角的所述Mimura实施例的逆向反射性能，我们尝试重复Mimura的结果。在该努力中的一个障碍是缺少在‘281Mimura公布中关于为该实施例假设的折射率的信息。使用我们自己的光学建模软件，我们将用于所述Mimura实施例的立体角几何信息输入到我们的软件中，并且为许多不同的折射率在5°、15°和30°入射角生成该实施例的TLR的等强度曲线图。然后我们识别产生最接近匹配图19的曲线的曲线，特别是在30°入射角的曲线1930的折射率。这个过程指示我们该折射率等于或约为1.586。图20示出了使用由我们的光学建模软件为所述Mimura实施例计算的TLR的等强度曲线图，假设1.586折射率。该图用正如图19的以15°的取向角增量绘制的数据点示出了在5°(曲线2005)、15°(曲线2015)和30°(曲线2030)、40°(曲线2040)和50°(曲线2050)的入射角的性能。可以看到曲线2030近似图19中的曲线1930。图20特别是其曲线2040和2050的检测显示出作为取向角的函数的均匀性对于Mimura实施例在增加的入射角迅速下降。

假设1.586折射率，为所述Mimura实施例，并且为具有相同的折射率的图17的实施例(也参见图14、图15和图16)计算了上面讨论的均匀性指数UI。结果在图21中示出。在该附图中，曲线2101是用于Mimura实施例的UI，并且曲线2102用于图17的实施例。

用于形成逆向反射立体角制品的示例性材料包括但不局限于热塑性聚合物，诸如，例如，聚(碳酸酯)、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(对苯二甲酸乙二醇酯)、脂肪族聚氨酯，以及乙烯共聚物及其离聚物，以及它们的混合物。可以通过直接浇铸到膜上来制备立体角片材，诸如在美国专利5,691,846(Benson、Jr等人)中所描述的。用于辐射固化的立体角的聚合物包括交联的丙烯酸酯诸如多官能丙烯酸酯或环氧树脂、与单官能单体和多官能单体共混的丙烯酸酯化的聚氨酯，以及含氮聚合物，诸如在美国专利7,862,187(Thakkar等人)中所描述的那些，这些聚合物以引用方式并入本文。另外，立体角诸如先前所描述的那些可以被浇铸到增塑聚氯乙烯膜上，以获得更具柔性的浇铸立体角片材。这些聚合物按以下一个或多个原因是可取的，所述原因包括热稳定性、环境稳定性、透明度、从工具或模具脱离的优秀脱膜性，以及施加反射涂层到立体角面的能力。

镜面反射涂层或反射层可以被置于立体角元件的面上(例如，在立体角膜的背面上)以促进逆向反射。适合的反射涂层包括金属涂层诸如铝、银、镍或它们的合金，所述反射涂层可以由已知的技术诸如气相沉积或化学沉积进行施加。反射层也可以是或包括多层光学膜。可以将底漆层施用于立体角面以促进反射涂层或反射层的附着性。在没有反射涂层或反射层被用于立体角面上的情况下，它们可以被暴露于空气或真空，并且密封膜可以被用于提供保持空气界面且不让水、污垢等入内的密封单元或口袋。在美国专利7,611,251(Thakkar等人)中公开了用于逆向反射制品的示例性密封膜。在其他实施例中，包含阻隔材料的压敏粘合剂层可以被设置在立体角上，诸如例如的在专利申请公布US 2013/0034682(Free等人)中所公开的。

棱柱逆向反射片材可以被制造为整体材料，例如，通过冲压具有包含一个或多个立体角阵列的结构化表面的预制片材，或者通过将流体材料浇铸到适合的模具中。可选地，通过对预制的膜浇铸立体角元件或者通过将预制的膜层合到预制的立体角元件，逆向反射片材可以被制造为分层的产品。可以在约0.5毫米厚具有约1.59的折射率的聚碳酸酯膜上形成该立体角元件。用于制作逆向反射片材的有用的材料是尺寸上稳定的、耐用的、耐候性的和易于形成所需构造的材料。一般来讲，可以使用通常在加热和压力下可成形的任何光学透射材料。根据需要，该片材也可以包含着色剂、染料、紫外线(UV)吸收剂或单独的紫外线吸收层，以及其它添加剂。

除非另外指明，否则本说明书和权利要求书中用来表示数量、属性测量等的所有数值都应当理解为由术语“约”修饰。因此，除非有相反的指示，否则本说明书和权利要求书中示出的数值参数均为近似值，这些近似值可以根据本领域内的技术人员利用本申请的教导内容寻求获得的所需属性而改变。并不旨在将等同原则的应用限制在权利要求书的范围内，至少应该根据所记录的有效数位的数目且通过应用惯常的四舍五入法来解释每个数值参数。虽然给出本发明宽范围的数值范围和参数是近似值，但就本文所述具体示例中所示的任何数值来说，这些近似值是按尽量合理的精确程度记录。然而，任何数值可以很好地包含与测试或测量限制相关的误差。相似地，当在本文使用术语诸如“相等”、“平行”、“重合”等时，这些术语应当被理解为涵盖实施例，在该实施例中偏离精确的相等、平行、重合等的偏差在制造公差内，或换句话讲由于如本文其他地方讨论的二阶设计特征偏离此精确度。

在不偏离本发明的实质和范围的前提下，对本发明进行的各种修改和更改对于本领域内的技术人员来说将显而易见，并且应当理解，本发明不限于本文示出的示例性实施例。除非另外指明，否则读者应该假设一个公开的实施例的特征也可以应用于所有其它公开的实施例。还应该理解，所有本文引用的美国专利、专利申请公布及其他专利和非专利文档都以其不与上述公开抵触的程度通过引用的方式并入。

本文档公开许多实施例，包括但不局限于以下项目：

项目1是具有结构化表面的制品，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述结构化表面包括被布置到多个瓦中的多个立体角阵列，所述制品包括：

由各自的第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列限定的第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列具有各自的第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面和第三入射倾斜度初级平面，每个所述入射倾斜度初级平面相对于所述平面内轴的取向不同；

其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦包括一个平行于所述平面内轴的瓦边缘；并且

其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。

项目2是项目1的所述制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。

项目3是项目1的所述制品，其中对于每个所述第一瓦、第二瓦和第三瓦来说，所述给定的沟槽是限定纵向沟槽间距的多个纵向沟槽中的一个纵向沟槽，并且所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦具有与各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。

项目4是项目3的所述制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.2mm到5mm，或者0.2mm到1mm，或者0.5mm到1mm的范围内。

项目5是项目1的所述制品，其中所述多个瓦包括除了所述第一瓦、第二瓦和第三瓦之外的额外的瓦，所述额外的瓦具有对应的额外的立体角阵列，所有的额外的立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。

项目6是项目1的所述制品，其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且其中所述第一立体角阵列和第二立体角阵列的两组有序基本角是彼此相等的，并且所述第一立体角阵列和第三立体角阵列的两组有序基本角是彼此的重排。

项目7是项目1的所述制品，其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且其中所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的三组有序基本角是彼此相等的。

项目8是项目7的所述制品，其中所述多个瓦还包括由第四立体角阵列限定的第四瓦，所述第四立体角阵列具有不平行于所述第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面或第三入射倾斜度初级平面中的任一个的第四入射倾斜度初级平面，并且其中所述第四立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，所述一组有序基本角是所述第一立体角阵列的所述一组有序基本角的重排。

项目9是项目8的所述制品，其中所述第四瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的，并且所述第四立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽。

项目10是项目1的所述制品，其中所述多个立体角阵列中的所有立体角阵列具有各自的入射倾斜度初级平面，所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少4个独特的取向。

项目11是项目10的所述制品，其中与所述至少4个独特的取向相关的所述立体角阵列各自包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽且特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

项目12是项目10的所述制品，其中所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少5个独特的取向。

项目13是项目12的所述制品，其中与所述至少5个独特的取向相关的所述立体角阵列特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

项目14是项目12的所述制品，其中所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少6个独特的取向。

项目15是项目14的所述制品，其中与所述至少6个独特的取向相关的所述立体角阵列特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

项目16是项目1的所述制品，其中所述第一瓦和第二瓦具有沿边界会合的瓦边缘，并且其中所述第一瓦上的靠近边界的一排立体角的面和所述第二瓦上的靠近边界的一排立体角的面共同地形成复合沟槽，所述复合沟槽平行于所述平面内轴。

项目17是项目16的所述制品，其中所述复合沟槽具有复合沟槽角，所述复合沟槽角与所述第一立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角不同，并且也与所述第二立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角不同。

项目18是项目1的所述制品，其中所述结构化表面提供至少4，或至少5，或至少6的在30°入射角的均匀性指数。

项目19是项目1的所述制品，其中所述结构化表面提供至少2，或至少3，或至少4，或至少5的在40°入射角的均匀性指数。

项目20是具有结构化表面的制品，所述结构化表面包括被布置到对应的多个瓦中的多个立体角阵列，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，对于所述多个瓦中的每个瓦的所述立体角阵列具有给定的沟槽组，所述给定的沟槽组的沟槽平行于所述平面内轴延伸，所述多个瓦中的每个瓦的所述立体角阵列具有与其相关的倾斜平面和入射倾斜度初级平面，并且其中所述多个瓦的所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面与所述倾斜平面中的独特的倾斜平面相比更均匀地分布在方位角中。

项目21是项目20的所述制品，其中所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面具有最小角距PhiMin1，并且所述倾斜平面中的独特的倾斜平面具有最小角距PhiMin2，并且其中PhiMin1大于PhiMin2。

项目22是项目21的所述制品，其中PhiMin1是PhiMin2的至少2倍。

项目23是项目20的所述制品，其中所述瓦具有各自的宽度，所述宽度在0.2mm到5mm的范围内。

项目24是项目20的所述制品，其中每个瓦的所述给定的沟槽组是对于此瓦的纵向沟槽组。

项目25是项目20的所述制品，其中所述结构化表面具有分别与立体角阵列中的N个独特的立体角阵列相关的N个独特的入射倾斜度初级平面，并且其中N是4、5或6。

项目26是项目20的所述制品，其中所述多个瓦包括第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一瓦、第二瓦和第三瓦包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列，所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜的面中没有哪两个是彼此平行的。

项目27是项目26的所述制品，其中对于所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列来说中的每个倾斜立体角阵列来说，所述给定的沟槽组是限定纵向沟槽间距的纵向沟槽组，并且所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦具有与各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。

项目28是项目20的所述制品，其中所述结构化表面提供至少4，或至少5，或至少6的在30°入射角的均匀性指数。

项目29是项目20的所述制品，其中所述结构化表面提供至少2，或至少3，或至少4，或至少5的在40°入射角的均匀性指数。

项目30是项目20的所述制品，其中所述多个瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。

项目31是具有结构化表面的制品，所述结构化表面被分割成多个瓦，所述制品包括：

包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜的立体角阵列的第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的；

其中在所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的立体角特征在于具有各自的第一组有序基本角、第二组有序基本角和第三组有序基本角的基三角形；

其中所述第一组有序基本角和第二组有序基本角是彼此相等的；并且

其中所述第一组有序基本角和第三组有序基本角是彼此的重排。

项目32是项目31的所述制品，其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列具有沟槽组，所述沟槽组的沟槽平行于其各自的瓦的边缘延伸。

项目33是项目31的所述制品，其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列由相互交叉的三组平行的沟槽限定以形成立体角。

项目34是项目31的所述制品，其还包括：

包括第四倾斜立体角阵列的第四瓦，所述第四倾斜立体角阵列具有与其相关的第四倾斜平面，所述第四倾斜平面不平行于所述第一倾斜平面、第二倾斜平面或第三倾斜平面中的任一个。

项目35是项目34的所述制品，其中所述第四阵列特征在于具有第四组有序基本角的基三角形，所述第四组有序基本角与所述第三组有序基本角是相同的。

项目36是项目31的所述制品，其中所述结构化表面提供至少4、，或至少5，或至少6的在30°入射角的均匀性指数。

项目37是项目31的所述制品，其中所述结构化表面提供至少2，或至少3，或至少4，或至少5的在40°入射角的均匀性指数。

Claims (54)

1.一种具有结构化表面的制品，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述结构化表面包括被布置到多个瓦中的多个立体角阵列，所述制品包括：

由各自的第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列限定的第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列具有各自的第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面和第三入射倾斜度初级平面，每个所述入射倾斜度初级平面相对于所述平面内轴的取向不同，其中所述入射倾斜度初级平面是指以取向角ω进行限定的入射面，在所述入射面中等亮度轮廓图表现出最大程度的瓣；

其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦各自包括一个平行于所述平面内轴的瓦边缘；并且

其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。

2.根据权利要求1所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。

3.根据权利要求1所述的制品，其中对于每个所述第一瓦、第二瓦和第三瓦来说，所述给定的沟槽是限定纵向沟槽间距的多个纵向沟槽中的一个纵向沟槽，并且每个所述第一瓦、第二瓦和第三瓦具有与所述各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。

4.根据权利要求3所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.2mm到5mm的范围内。

5.根据权利要求3所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.2mm到1mm的范围内。

6.根据权利要求3所述的制品，其中所述第一瓦、第二瓦和第三瓦的宽度各自在0.5mm到1mm的范围内。

7.根据权利要求1所述的制品，其中所述多个瓦包括除了所述第一瓦、第二瓦和第三瓦之外的额外的瓦，所述额外的瓦具有对应的额外的立体角阵列，所有的所述额外的立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的给定的沟槽。

8.根据权利要求1所述的制品，其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且其中所述第一立体角阵列和第二立体角阵列的所述两组有序基本角是彼此相等的，并且所述第一立体角阵列和第三立体角阵列的所述两组有序基本角是彼此的重排。

9.根据权利要求1所述的制品，其中每个所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，并且其中所述第一立体角阵列、第二立体角阵列和第三立体角阵列的所述三组有序基本角是彼此相等的。

10.根据权利要求9所述的制品，其中所述多个瓦还包括由第四立体角阵列限定的第四瓦，所述第四立体角阵列具有不平行于所述第一入射倾斜度初级平面、第二入射倾斜度初级平面或第三入射倾斜度初级平面中的任一个的第四入射倾斜度初级平面，并且其中所述第四立体角阵列中的立体角是倾斜的且特征在于具有一组有序基本角的基三角形，所述一组有序基本角是所述第一立体角阵列的所述一组有序基本角的重排。

11.根据权利要求10所述的制品，其中所述第四瓦在平行于所述平面内轴的方向上是细长的，并且所述第四立体角阵列包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽。

12.根据权利要求1所述的制品，其中所述多个立体角阵列中的所有立体角阵列具有各自的入射倾斜度初级平面，所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少4个独特的取向。

13.根据权利要求12所述的制品，其中与所述至少4个独特的取向相关的所述立体角阵列各自包括一个平行于所述平面内轴的纵向沟槽且特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

14.根据权利要求12所述的制品，其中所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少5个独特的取向。

15.根据权利要求14所述的制品，其中与所述至少5个独特的取向相关的所述立体角阵列特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

16.根据权利要求14所述的制品，其中所述入射倾斜度初级平面限定相对于所述平面内轴的至少6个独特的取向。

17.根据权利要求16所述的制品，其中与所述至少6个独特的取向相关的所述立体角阵列特征在于各自的多组有序基本角，此多组有序基本角中的每两组有序基本角或者是彼此相等的或者是彼此的重排。

18.根据权利要求1所述的制品，其中所述第一瓦和第二瓦具有沿边界会合的瓦边缘，并且其中所述第一瓦上的靠近所述边界的一排立体角的面和所述第二瓦上的靠近所述边界的一排立体角的面共同地形成复合沟槽，所述复合沟槽平行于所述平面内轴。

19.根据权利要求18所述的制品，其中所述复合沟槽具有复合沟槽角，所述复合沟槽角与所述第一立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角不同，并且也与所述第二立体角阵列的所述给定的沟槽的沟槽角不同。

20.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

21.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

22.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少6的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

23.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少2的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

24.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少3的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

25.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

26.根据权利要求1所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为所述取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

27.一种具有结构化表面的制品，所述结构化表面包括被布置到对应的多个瓦中的多个立体角阵列，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述多个瓦中的每个瓦的立体角阵列具有给定的沟槽组，所述给定的沟槽组的沟槽平行于所述平面内轴延伸，所述多个瓦中的每个瓦的立体角阵列具有与其相关的倾斜平面和入射倾斜度初级平面，并且其中所述多个瓦的入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面与所述倾斜平面中的独特的倾斜平面相比更均匀地分布在方位角中。

28.根据权利要求27所述的制品，其中所述入射倾斜度初级平面中的独特的入射倾斜度初级平面具有最小角距PhiMin1，并且所述倾斜平面中的独特的倾斜平面具有最小角距PhiMin2，并且其中PhiMin1大于PhiMin2。

29.根据权利要求27所述的制品，其中PhiMin1是PhiMin2的至少2倍。

30.根据权利要求27所述的制品，其中所述瓦具有各自的宽度，所述各自的宽度在0.2mm到5mm的范围内。

31.根据权利要求27所述的制品，其中每个瓦的所述给定的沟槽组是此瓦的纵向沟槽组。

32.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面具有分别与所述立体角阵列中的N个独特的立体角阵列相关的N个独特的入射倾斜度初级平面，并且其中N是4、5或6。

33.根据权利要求27所述的制品，其中所述多个瓦包括第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一瓦、第二瓦和第三瓦包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列，所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的。

34.根据权利要求33所述的制品，其中对于所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列来说，所述给定的沟槽组是限定纵向沟槽间距的纵向沟槽组，并且所述第一瓦、第二瓦和第三瓦中的每个瓦具有与所述各自的纵向沟槽间距的整数倍相等的宽度。

35.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

36.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

37.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少6的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

38.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少2的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

39.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少3的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

40.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

41.根据权利要求27所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

42.根据权利要求27所述的制品，其中所述多个瓦在平行于所述平面内轴的方向上都是细长的。

43.一种具有结构化表面的制品，所述结构化表面限定具有平面内轴的参考平面，所述结构化表面被分割成多个瓦，所述制品包括：

包括各自的第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列的第一瓦、第二瓦和第三瓦，所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列具有与其相关的各自的第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面，所述第一倾斜平面、第二倾斜平面和第三倾斜平面中没有哪两个是彼此平行的；

其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的立体角特征在于具有各自的第一组有序基本角、第二组有序基本角和第三组有序基本角的基三角形；

其中所述第一组有序基本角和第二组有序基本角是彼此相等的；

其中所述第一组有序基本角和第三组有序基本角是彼此的重排；并且

其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列具有沟槽组，所述沟槽组的沟槽平行于所述平面内轴延伸。

44.根据权利要求43所述的制品，其中所述沟槽组的沟槽平行于其各自的瓦的边缘延伸。

45.根据权利要求43所述的制品，其中所述第一倾斜立体角阵列、第二倾斜立体角阵列和第三倾斜立体角阵列中的每个倾斜立体角阵列由相互交叉的三组平行的沟槽限定以形成立体角。

46.根据权利要求43所述的制品，所述制品还包括：

包括第四倾斜立体角阵列的第四瓦，所述第四倾斜立体角阵列具有与其相关的第四倾斜平面，所述第四倾斜平面不平行于所述第一倾斜平面、第二倾斜平面或第三倾斜平面中的任一个。

47.根据权利要求46所述的制品，其中所述第四阵列特征在于具有第四组有序基本角的基三角形，所述第四组有序基本角与所述第三组有序基本角是相同的。

48.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

49.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

50.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少6的在30°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

51.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少2的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

52.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少3的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

53.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少4的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。

54.根据权利要求43所述的制品，其中所述结构化表面提供至少5的在40°入射角的均匀性指数，其中所述均匀性指数是作为取向角ω函数的所述制品的总光返回改变多少的量度。