CN105060732A - 镀膜玻璃及其加工方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次镀有SIO2层、AL2O3层。本发明还公开了一种镀膜玻璃的加工方法，包括如下步骤：1)排列靶材；2)设定腔体温度为150度，电压设定为420V，电流15A；3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片的镀膜加工。本发明的镀膜玻璃具有低成本、高硬度、抗跌落、防指纹、抗油污的优点。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃，尤其是涉及一种低成本、高硬度、抗跌落、防指纹、抗油污的镀膜玻璃及其加工方法。
背景技术
触摸屏电子设备(如手机、平板电脑等)使用越来越被人们所接受，并成为目前电子设备的主流及未来的发展方向。而现有的触摸屏设备，触摸屏质量的好坏直接关系到其质量和制作成本。普通的触摸屏玻璃在硬度、强度和抗污上不足，或者是成本较高。
发明内容
为解决上述问题，本发明的目的在于提供一种低成本、高硬度、抗跌落、防指纹、抗油污的镀膜玻璃及其加工方法。
本发明通过以下技术措施实现的，一种镀膜玻璃，包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次镀有SIO2层、AL2O3层。
作为一种优选方式，所述玻璃基片为钠钙玻璃。
作为一种优选方式，玻璃基片的厚度为0.1mm--1.1mm，SIO2层的厚度为30--50nm，AL2O3的厚度为60--100nm。
作为一种优选方式，所述SIO2层的厚度为45nm，所述AL2O3的厚度为80nm。
作为一种优选方式，所述SIO2层和AL2O3层都为真空溅射镀膜层。
本发明还公开了一种镀膜玻璃的加工方法，包括如下步骤：
1)排列靶材：在真空溅射镀膜设备依次排列的8个腔体中分别设置有SIO2靶、SIO2靶、SIO2靶、AL2O3靶、AL2O3靶、AL2O3靶、AL2O3靶和AL2O3靶,每个设置SIO2靶的腔体中设定功率为6KW，每个设置AL2O3靶的腔体中设定功率为8KW；
2)所有腔体温度设定为150度，电压设定为420V，电流15A；
3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片的镀膜加工。
作为一种优选方式，所述真空溅射镀膜设备为CVD(化学气相淀积)真空溅射镀膜设备。
作为一种优选方式，所述SIO2靶和AL2O3靶的纯度在99.995％以上。
作为一种优选方式，所述腔体中的气体为纯度99.995％以上的氩气或纯度99.995％以上的氮气。
作为一种优选方式，所述玻璃基片为钠钙玻璃。
利用本发明生产出的镀膜玻璃具有以下优势：1、表面硬度可达到9H(钻石10H)，远大于目前采用化学或者物理强化所能达到的上限(一般物理或者化学强化硬度在7H左右)。2、抗跌落，抗跌落效果针对0.3mm玻璃，能够用68g钢球在30cm高度砸下，不会出现破碎现象；比化学或者物理强化工艺生产的产品抗跌落效果要强。3、具有防指纹、抗油污的效果；而目前通用工艺需要重新镀一层防指纹膜才有该效果。由于通过先在玻璃基片表面镀有SIO2层后再镀AL2O3层，从而保证了AL2O3层的牢固性，通过多次真空溅射镀膜，使镀层更均匀紧密。
附图说明
图1为本发明实施例的剖视图。
具体实施方式
下面结合实施例并对照附图对本发明作进一步详细说明。
一种镀膜玻璃及其加工方法，请参照图1，包括玻璃基片1，所述玻璃基片1的一表面依次镀有SIO2层2、AL2O3层3。
其加工方法，包括如下步骤：
1)排列靶材：在真空溅射镀膜设备依次排列的8个腔体中分别设置有SIO2靶、SIO2靶、SIO2靶、AL2O3靶、AL2O3靶、AL2O3靶、AL2O3靶和AL2O3靶,每个设置SIO2靶的腔体中设定功率为6KW，每个设置AL2O3靶的腔体中设定功率为8KW；
2)所有腔体温度设定为150度，电压设定为420V，电流15A；
3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片1的镀膜加工。
利用本方法生产出的镀膜玻璃具有以下优势：1、表面硬度可达到9H(钻石10H)，远大于目前采用化学或者物理强化所能达到的上限(一般物理或者化学强化硬度在7H左右)。2、抗跌落，抗跌落效果针对0.3mm玻璃，能够用68g钢球在30cm高度砸下，不会出现破碎现象；比化学或者物理强化工艺生产的产品抗跌落效果要强。3、具有防指纹、抗油污的效果；而目前通用工艺需要重新镀一层防指纹膜才有该效果。由于通过先在玻璃基片1表面镀有SIO2层2后再镀AL2O3层3，从而保证了AL2O3层3的牢固性，通过多次真空溅射镀膜，使镀层更均匀紧密。
本的镀膜玻璃效果测试：
1)表面强度测试：对镀膜后的产品用尖锐的金属如小刀等在上面来回摩擦100000个来回，不会产生可见的划痕；
2)抗跌落测试：用68g钢球在30cm高度跌落在产品的不同部位，跌落50次以上玻璃没有出现破碎现象；
3)防指纹测试：将水倒在产品表面，测试水珠的水滴角，大于120度；
4)透过率测试：大于99％。
本实施例的镀膜玻璃，请参考图1，在前面技术方案的基础上具体还可以是，玻璃基片1优选钠钙玻璃。
本实施例的镀膜玻璃，请参考图1，在前面技术方案的基础上具体还可以是，玻璃基片的厚度为0.1mm--1.1mm，SIO2层的厚度为30--50nm，AL2O3的厚度为60--100nm。其中在本实施例中，SIO2层的厚度为45nm，所述AL2O3的厚度为80nm。
本实施例的加工方法，在前面技术方案的基础上具体还可以是，真空溅射镀膜设备为CVD真空溅射镀膜设备。
本实施例的加工方法，在前面技术方案的基础上具体还可以是，SIO2靶和AL2O3靶的纯度在99.995％以上。
本实施例的加工方法，在前面技术方案的基础上具体还可以是，腔体中的气体为纯度99.995％以上的氩气或纯度99.995％以上的氮气。
以上是对本发明镀膜玻璃及其加工方法进行了阐述，用于帮助理解本发明，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，任何未背离本发明原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围的内。
Claims (10)
1.一种镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基片，所述玻璃基片的一表面依次镀有SIO2层、AL2O3层。
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片为钠钙玻璃。
3.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于：玻璃基片的厚度为0.1mm--1.1mm，SIO2层的厚度为30--50nm，AL2O3的厚度为60--100nm。
4.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于：所述SIO2层的厚度为45nm，所述AL2O3的厚度为80nm。
5.根据权利要求1或2所述的镀膜玻璃，其特征在于：所述SIO2层和AL2O3层都为真空溅射镀膜层。
6.一种镀膜玻璃的加工方法，其特征在于包括如下步骤：
1)排列靶材：在真空溅射镀膜设备依次排列的8个腔体中分别设置有SIO2靶、SIO2靶、SIO2靶、AL2O3靶、AL2O3靶、AL2O3靶、AL2O3靶和AL2O3靶,每个设置SIO2靶的腔体中设定功率为6KW，每个设置AL2O3靶的腔体中设定功率为8KW；
2)所有腔体温度设定为150度，电压设定为420V，电流15A；
3)按生产速度0.8m/min、生产节拍为2分钟每架进行玻璃基片的镀膜加工。
7.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于：所述真空溅射镀膜设备为CVD真空溅射镀膜设备。
8.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于：所述SIO2靶和AL2O3靶的纯度在99.995％以上。
9.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于：所述腔体中的气体为纯度99.995％以上的氩气或纯度99.995％以上的氮气。
10.根据权利要求6所述的加工方法，其特征在于：所述玻璃基片为钠钙玻璃。
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2015
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