CN105044941A - 光刻图形的尺寸检测方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其包括：获取检测图形的功能层参数以及位置参数；根据检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的厚度轮廓；根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓；以及对检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。本发明的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较高，从而提高了相应的液晶显示面板的显示品质。

Description

光刻图形的尺寸检测方法
技术领域
本发明涉及检测领域，特别是涉及一种光刻图形的尺寸检测方法。
背景技术
随着液晶显示面板的阵列基板上的曝光图形的尺寸越来越小，液晶显示面板的制作商以及用户对光刻图像的尺寸的要求也越来越高。
现有的阵列基板的制作工序中，会对光刻图形的设计尺寸进行检测，以保证光刻工艺的稳定性。但是由于实际阵列基板中的每一功能层的图形分别与该功能层的层厚以及周边图形相关，如功能层在某个区域内的厚度发生变化，可能导致该区域的图形的尺寸也产生相应的变化。或某个区域中的图形线条较多时，可能尺寸检测区域的边界难以确定，从而造成尺寸检测的准确性下降。如采用该光刻设计图形进行阵列基板的制作，可能会导致该阵列基板与设计差异较大，甚至导致该阵列基板报废。
故，有必要提供一种光刻图形的尺寸检测方法，以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种检测准确度较高的光刻图形的尺寸检测方法，以解决现有的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较低，从而导致相应的液晶显示面板的显示品质较低的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明实施例提供一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其包括：
获取检测图形的功能层参数以及位置参数；
根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓；
根据所述检测图形的厚度轮廓获取所述检测图形的平面轮廓；以及
对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述尺寸检测方法还包括步骤：
根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的周边图形；以及
获取所述检测图形的周边图形与所述检测图形的间距，并根据所述间距对所述周边图形进行图形修正。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：
如所述间距大于设定值，则不对所述周边图形进行图形修正
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：
如所述间距小于等于所述设定值，则对所述周边图形进行等比例缩小，以增大所述间距，并使所述间距大于所述设定值。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述设定值为2.5微米至3.5微米。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓的步骤包括：
将多个所述检测图形按设定矩阵进行排列；以及
根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取位于所述设定矩阵的中间位置的所述检测图形的厚度轮廓。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，相邻的所述检测图形之间的距离为相应的所述液晶显示面板的相邻像素单元之间的距离。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述设定矩阵为3*3矩阵。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述设定矩阵为9*3矩阵。
在本发明所述的光刻图形的尺寸检测方法中，所述对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测的步骤包括：
将所述检测图形的平面轮廓从所述光刻图形上移出；以及对移出后的所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
相较于现有的光刻图形的尺寸检测方法，本发明的光刻图形的尺寸检测方法根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓，提高了检测图形的实际平面轮廓的准确性，从而提高了尺寸检测的准确性；解决了现有的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较低，从而导致相应的液晶显示面板的显示品质较低的技术问题。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
图1为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的流程图；
图2为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S102的流程图；
图3为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S104的流程图；
图4为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的流程图；
图5A为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的步骤S404中对周边图形进行图形修正前的结构示意图；
图5B为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的步骤S404中对周边图形进行图形修正后的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图1，图1为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的流程图。本优选实施例的光刻图形的尺寸检测方法包括：
步骤S101，获取检测图形的功能层参数以及位置参数；
步骤S102，根据检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的厚度轮廓；
步骤S103，根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓；
步骤S104，对检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
下面详细说明本优选实施例的光刻图形的尺寸检测方法的各步骤的具体流程。
在步骤S101中，尺寸检测装置从光刻图形上获取检测图形的功能层参数以及位置参数。这里检测图形的功能层参数是指检测图形位于的功能层，如制作扫描线以及栅极的第一金属层、制作数据线、漏极以及源极的第二金属层、以及制作像素电极的透明金属层等。这里检测图形的位置参数是指检测图形在相应的功能层的具体位置，如可用坐标来表示等。随后转到步骤S102。
在步骤S102中，尺寸检测装置根据步骤S101获取的检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的厚度轮廓。由于现有的尺寸检测方法不会考虑检测图形的厚度轮廓，因此造成检测到的检测图形的尺寸不准确。在本优选实施例中，将检测图形的厚度轮廓作为检测尺寸的生成因素之一，从而可以避免厚度轮廓对检测尺寸的影响。请参照图2，图2为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S102的流程图。该步骤S102包括：
步骤S1021，将多个检测图形案按设定矩阵进行排列，其中相邻的检测图形之间的距离为相应的液晶显示面板的相邻像素单元之间的距离。这样可以较好的模拟相邻的像素单元对检测图形的厚度尺寸以及平面尺寸影响。该设定矩阵可为3*3矩阵，这里优选为9*3矩阵，这样可以将多级相邻的像素单元的影响考虑进来。
步骤S1022，根据检测图形的功能层参数以及位置参数，获取位于设定矩阵中间位置的检测图形的厚度轮廓。由于位于设定矩阵中间位置的检测图形受到不同方向的相邻的像素单元(或检测图形)的影响较为均一，可以提高该检测图形的尺寸准确性。随后转到步骤S103。
在步骤S103中，尺寸检测装置根据步骤S102获取的检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓。该检测图形的平面轮廓由于加入的厚度轮廓的因素，因此该平面轮廓的尺寸更加准确。随后转到步骤S104。
在步骤S104中，尺寸检测装置根对步骤S103获取的检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。具体请参照图3，图3为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S104的流程图，该步骤S104包括：
步骤S1041，将检测图形的平面轮廓从光刻图形上移出；
步骤S1042，对移出后的检测图形的平面轮廓进行尺寸检测，这样可以较好的避免周边图形的线条对检测图形的干扰，进一步提高了检测图形的检测尺寸的准确性。
这样即完成了本优选实施例的光刻图形的尺寸检测过程。
本优选实施例的光刻图形的尺寸检测方法根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓，提高了检测图形的实际平面轮廓的准确性。
请参照图4，图4为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的流程图。本优选实施例的光刻图形的尺寸检测方法包括：
步骤S401，获取检测图形的功能层参数以及位置参数；
步骤S402，根据检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的厚度轮廓；
步骤S403，根据检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的周边图形；
步骤S404，获取检测图形的周边图形与检测图形的间距，并根据间距对周边图形进行图形修正；
步骤S405，根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓；
步骤S406，对检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
下面详细说明本优选实施例的光刻图形的尺寸检测方法的各步骤的具体流程。
步骤S401和步骤S402与光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S101和步骤S102中的描述相同或相似，具体请参见光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S101和步骤S102中的相关描述。
在步骤S403中，尺寸检测装置根据步骤S401获取的检测图形的功能层参数以及位置参数，获取检测图形的周边图形。这里的检测图形的周边图形是指与检测图形相邻的图形，这些周边图形可能会对检测图形的检测尺寸产生影响，随后转到步骤S404。
在步骤S404中，尺寸检测装置获取检测图形的周边图形与检测图形的间距，该间距可为周边图形与检测图形的最短距离。随后根据该间距对周边图形进行图形修正，具体修正过程可包括：
判断间距是否大于设定值，这里的设定值为周边图形会影响检测图形的最小值，即周边图形上的线条与检测图形的最小距离小于该设定值，则可能会对检测图形的检测尺寸产生影响。这里的设定值的优选值为2.5微米至3.5微米。
如间距大于设定值，则周边图形不会对检测图形造成影响，则不对周边图形进行图形修正。如间距小于等于设定值，则周边图形可能会对检测图形造成影响，则对周边图形进行等比例缩小，以增大该间距，使该间距大于设定值。
具体请参照图5A和图5B，图5A为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的步骤S404中对周边图形进行图形修正前的结构示意图；图5B为本发明的光刻图形的尺寸检测方法的第二优选实施例的步骤S404中对周边图形进行图形修正后的结构示意图。图5A中的a为检测图形51与周边图形52之间的间距，该间距小于设定值，这时可对相应的周边图形52进行等比例缩小，缩小后如图5B所示，该检测图形51与缩小后的周边图形53之间的间距变为b，该间距大于等于设定值，这样可较好的保证周边图形52不会对检测图形51的检测尺寸造成影响。随后转到步骤S405。
步骤S405和步骤S406与光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S103和步骤S104中的描述相同或相似，具体请参见光刻图形的尺寸检测方法的第一优选实施例的步骤S101和步骤S102中的相关描述。
这样即完成了本优选实施例的光刻图形的尺寸检测过程。
在第一优选实施例的基础上，本优选实施例的光刻图形的尺寸检测方法通过对周边图形进行修正操作，进一步提高了检测图形的实际平面轮廓的准确性。
本发明的光刻图形的尺寸检测方法根据检测图形的厚度轮廓获取检测图形的平面轮廓，提高了检测图形的实际平面轮廓的准确性，从而提高了尺寸检测的准确性；解决了现有的光刻图形的尺寸检测方法的检测准确性较低，从而导致相应的液晶显示面板的显示品质较低的技术问题。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种光刻图形的尺寸检测方法，用于液晶显示面板的阵列基板的光刻设计图形的尺寸检测，其特征在于，包括：
获取检测图形的功能层参数以及位置参数；
根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓；
根据所述检测图形的厚度轮廓获取所述检测图形的平面轮廓；以及
对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
2.根据权利要求1所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述尺寸检测方法还包括步骤：
根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的周边图形；以及
获取所述检测图形的周边图形与所述检测图形的间距，并根据所述间距对所述周边图形进行图形修正。
3.根据权利要求2所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：
如所述间距大于设定值，则不对所述周边图形进行图形修正。
4.根据权利要求2所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述根据所述间距对所述周边图形进行图形修正的步骤包括：
如所述间距小于等于所述设定值，则对所述周边图形进行等比例缩小，以增大所述间距，并使所述间距大于所述设定值。
5.根据权利要求3或4所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述设定值为2.5微米至3.5微米。
6.根据权利要求1所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取所述检测图形的厚度轮廓的步骤包括：
将多个所述检测图形按设定矩阵进行排列；以及
根据所述检测图形的所述功能层参数以及所述位置参数，获取位于所述设定矩阵的中间位置的所述检测图形的厚度轮廓。
7.根据权利要求6所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，相邻的所述检测图形之间的距离为相应的所述液晶显示面板的相邻像素单元之间的距离。
8.根据权利要求6所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述设定矩阵为3*3矩阵。
9.根据权利要求6所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述设定矩阵为9*3矩阵。
10.根据权利要求1所述的光刻图形的尺寸检测方法，其特征在于，所述对所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测的步骤包括：
将所述检测图形的平面轮廓从所述光刻图形上移出；以及
对移出后的所述检测图形的平面轮廓进行尺寸检测。
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