CN103698932A - 显示面板母板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板母板及其制造方法,该显示面板包括:第一基板、第二基板以及隔垫物,第一基板包括若干个第一处理区域,第二基板包括与第一处理区域对应的第二处理区域,第一处理区域包括若干个阵列基板,第二处理区域包括与阵列基板对应的彩膜基板;阵列基板包括定位标识,定位标识用于记录阵列基板在第一处理区域中的位置;彩膜基板包括显示区域和非显示区域,彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量,本发明的技术方案通过彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物的特定数量来确定显示面板所属处理区域,通过阵列基板上的定位标识来判断显示面板在所属处理区域内的具体位置,从而实现对显示面板的识别。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及显示面板母板及其制造方法。
背景技术
在显示技术领域中,显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点被广泛地应用于现代数字信息化设备中。
显示面板是通过将显示面板母板进行切割形成,其中,显示面板母板上设置有切割线,切割线将显示面板母板划分为多个显示面板单元,在根据切割线完成对显示面板母板的切割后,一个显示面板单元对应一个显示面板。
对于大尺寸显示面板的生产,为了区分每一个显示面板,在制作显示面板母板过程中,会在每一个显示面板单元上设置一个标记,该标记占1cm×10cm的空间,且显示面板母板上每一显示面板单元上的标记都不同。
对于小尺寸显示面板的生产,一块显示面板母板需要切割出几百个显示面板,若采用现有大尺寸显示面板生产线中的标记方法进行标记时,标记会占用显示面板较大的空间,使得显示面板的小尺寸化难以实现;同时,在对全部显示面板进行逐个标记时,会耗费大量时间,影响产线的产能。为此,考虑到产线的产能问题,在生产小尺寸显示面板时不进行标记,然而,当后段制作工序中出现的问题时,便无法追溯前段工序。目前,如何对小尺寸生产线中的显示面板进行标记成为本领域急需解决的问题。
发明内容
本发明提供一种显示面板母板及其制造方法,在不影响产线的产能的情况下,实现了对小尺寸生产线中的显示面板进行标记。
为实现上述目的,本发明提供一种显示面板母板,该显示面板母板包括:相对设置的第一基板和第二基板以及位于所述第一基板和第二基板之间的隔垫物,所述第一基板包括若干个第一处理区域,所述第二基板包括与所述第一处理区域对应设置的第二处理区域,所述第一处理区域包括若干个阵列基板,所述第二处理区域包括与所述阵列基板对应设置的彩膜基板;
所述阵列基板包括定位标识,所述定位标识用于记录所述阵列基板在所述第一处理区域中的位置;
所述彩膜基板包括:显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域,所述彩膜基板的一侧的所述非显示像素区域内对应的所述隔垫物具有特定数量。
可选地,相同所述第一处理区域中不同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识不同,不同所述第一处理区域中相同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识相同。
可选地,不同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量不同;相同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量相同。
可选地,所述阵列基板与对应的所述彩膜基板之间设置有封框胶,所述定位标识位于所述封框胶的外侧。
可选地,所述阵列基板还包括:栅线、数据线和像素电极,所述定位标识与所述栅线同层设置;
或,所述定位标识与所述数据线同层设置;
或,所述定位标识与所述像素电极同层设置。
为实现上述目的,本发明提供一种显示面板母板的制造方法,该制造方法包括:
形成第一基板,所述第一基板包括若干个第一处理区域,所述第一处理区域包括若干个阵列基板,所述阵列基板上形成有定位标识,所述定位标识用于表示所述阵列基板在所述第一处理区域内的位置;
形成第二基板,所述第二基板包括若干个第二处理区域,所述第二处理区域包括若干个彩膜基板,所述第二处理区域与所述第一处理区域对应设置,所述彩膜基板与所述阵列基板对应设置,所述彩膜基板包括:显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域;
在所述第二基板上形成隔垫物,所述彩膜基板的一侧的所述非显示像素区域内对应的所述隔垫物具有特定数量。
可选地,相同所述第一处理区域中不同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识不同,不同所述第一处理区域中相同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识相同。
可选地,不同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量不同;相同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量相同。
可选地,所述阵列基板包括:栅线、数据线和像素电极,所述定位标识与所述栅线同层设置;
或,所述定位标识与所述数据线同层设置;
或,所述定位标识与所述像素电极同层设置。
可选地,所述在所述第二基板上形成隔垫物包括:
在所述第二基板上设置隔垫物基层;
在所述隔垫物基层涂布光刻胶层;
利用隔垫物掩模板按照设定顺序对第二基板上的第二处理区域进行曝光处理,使彩膜基板的一侧的所述非显示像素区域内对应的所述隔垫物具有特定数量。
本发明具有以下有益效果:
本发明提供了一种显示面板及其制造方法,在该显示面板母板上的阵列基板上形成有用于记录阵列基板在第一处理区域中的位置的定位标识,同时在该显示面板母板的彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量,本发明的技术方案通过彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物的特定数量来确定显示面板所属处理区域,通过阵列基板上的定位标识来判断显示面板在所属处理区域内的具体位置,从而实现了对显示面板的识别。
附图说明
图1为第一基板上不同的第一处理区域的示意图;
图2为第二基板上不同的第二处理区域的示意图;
图3为阵列基板的结构示意图;
图4为A1区域内彩膜基板的示意图;
图5为A2区域内彩膜基板的示意图;
图6为A3区域内彩膜基板的示意图;
图7为A4区域内彩膜基板的示意图;
图8为A5区域内彩膜基板的示意图;
图9为A6区域内彩膜基板的示意图;
图10为本发明实施例二提供的显示面板母板的制造方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的显示面板母板及其制造方法进行详细描述。
需要说明的是,本发明中所称的图案、图形指的是通过构图工艺形成的各种结构;本发明中所称的构图工艺包括光刻胶涂布、掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等部分或全部工艺,光刻胶以正性光刻胶为例,但是这并非对本发明的限制。
实施例一
本发明提供一种显示面板母板,该显示面板母板包括:相对设置的第一基板和第二基板以及位于第一基板和第二基板之间的隔垫物,第一基板包括若干个第一处理区域,第二基板包括与第一处理区域对应设置的第二处理区域,第一处理区域包括若干个阵列基板,第二处理区域包括与阵列基板对应设置的彩膜基板。其中,阵列基板包括定位标识,定位标识用于记录阵列基板在第一处理区域中的位置;彩膜基板包括:显示区域和位于显示区域周围的非显示区域,彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量。
本领域的技术人员应该清楚的是,在形成第一基板的过程中,需要利用构图工艺在衬底基板上形成各种图案,其中,在进行曝光工艺时,由于衬底基板的尺寸太大,需要将衬底基板进行分区域的曝光,即设定出若干个第一处理区域。同理,在形成第二基板的过程中,需要设定出若干个第二处理区域,以便进行分区域曝光。同时,为便于第一基板和第二基板的对位以及对位后进行切割,则会使第一处理区域与第二处理区域对应,阵列基板与彩膜基板对应。在完成对显示面板母板的切割后,一个阵列基板与对应的彩膜基板将构成一个显示面板。需要说明的是,本发明中提到的识别显示面板即是指确定该显示面板在显示面板母板中的具体位置;本发明中提到的显示面板的处理区域即是指第一处理区域或第二处理区域。
本发明的原理是,利用阵列基板上的定位标识以及彩膜基板上的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物的特定数量来实现对显示面板的标记。
在对显示面板进行识别时,可将待识别的显示面板置于高倍显微镜下,先通过观察彩膜基板上一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物的特定数量来确定该显示面板所属的处理区域(第一处理区域或第二处理区域),再通过观察阵列基板上的定位标识来确定显示面板在所属处理区域内的具体位置,进而可确定显示面板在显示面板母板中的具体位置。
下面结合附图对本发明的原理进行详细的描述。
图1为第一基板上不同的第一处理区域的示意图,图2为第二基板上不同的第二处理区域的示意图,如图1和图2所示,第一基板1上包含六个第一处理区域3,即A1、A2、A3、A4、A5和A6(在图1中未表示),且每一个第一处理区域3内包含九个阵列基板5,即S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8和S9。可选地,在S1位置的阵列基板5上的定位标识为S1,在S2位置的阵列基板5上的定位标识为S2,在S3位置的阵列基板5上的定位标识为S3,以此规律在阵列基板5上设置定位标识,从而使得相同第一处理区域3中不同位置的阵列基板5对应的定位标识不同,不同第一处理区域3中相同位置的阵列基板5对应的定位标识相同。
由于不同第一处理区域3中相同位置的阵列基板5对应的定位标识相同,因此在对不同的第一处理区域3进行曝光处理时,可采用同一块定位标识掩模板进行曝光,同时,由于每个第一处理区域3内的图像都是相同的,因此,可利用重复操作完成对所有第一处理区域3的构图工艺,从而提高了产线的生产效率。
图3为阵列基板的结构示意图,如图3所示,在阵列基板5与对应的彩膜基板6之间设置有封框胶7,定位标识8位于封框胶7的外侧。在显示面板中,封框胶7的外侧的区域不进行像素显示,将定位标识8设置在封框胶7的外侧不会影响显示面板的显示功能。具体地,定位标识8位于阵列基板5的电极端,即集成驱动电路9的一侧。
需要说明的是,本发明中的定位标识8是利用构图工艺形成,因此,可将定位标识8设计的较小,从而可优化显示面板周边区域的空间设计,适用于小尺寸显示面板生产线。
可选地,该阵列基板5包括:栅线10、数据线11和像素电极,定位标识8与栅线10同层设置,或者定位标识8与数据线11同层设置,或者定位标识8与像素电极同层设置。以定位标识8与栅线10同层设置的情况为例,可将原有的栅线掩模板进行改进,使得栅线掩模板与定位标识掩模板合二为一,即在形成栅线10的同时形成定位标识8。因此本发明在形成定位标识8的过程中,无需为产线增添单独的定位标识掩模板和单独的生产工序,从而保证了产线的生产效率。
第二基板2上包含六个第二处理区域4,即A1、A2、A3、A4、A5和A6,且每一个第二处理区域4内包含九个彩膜基板6,即S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8和S9(在图2中未示出)。可选地,不同第二处理区域4中的彩膜基板6对应的隔垫物13的特定数量不同;相同第二处理区域4中的彩膜基板6对应的隔垫物13的特定数量相同。
图4为A1区域内彩膜基板的示意图,图5为A2区域内彩膜基板的示意图,图6为A3区域内彩膜基板的示意图,图7为A4区域内彩膜基板的示意图,图8为A5区域内彩膜基板的示意图,图9为A6区域内彩膜基板的示意图,如图4至图9所示,以观察位于显示区域12上侧的非显示区域为例,即图中的B区域内的隔垫物13(图中B区域、C区域均位于非显示区域内)。假定在彩膜基板6上,每隔8个亚像素单元就设置一个隔垫物13,且每行亚像素单元内的隔垫物13数量为m,因此,A1区域内彩膜基板6的B区域对应的隔垫物13的特定数量为m,A2区域内彩膜基板6的B区域对应的隔垫物13的特定数量为2m,A3区域内彩膜基板6的B区域对应的隔垫物13的特定数量为3m,A4区域内彩膜基板6的B区域对应的隔垫物13的特定数量为4m,A5区域内彩膜基板6的B区域对应的隔垫物13的特定数量为5m,A6区域内彩膜基板6的B区域对应的隔垫物13的特定数量为6m。
识别从上述显示面板母板切割下的显示面板的过程如下:
首先,将该显示面板置于高倍显微镜下,并观察彩膜基板6,通过彩膜基板6上的黑矩阵识别出彩膜基板6的显示区域12和非显示区域。具体地,显示区域12内的黑矩阵呈现“框型”覆盖,而非显示区域内的黑矩阵呈现“整面型”覆盖。
然后,观察位于彩膜基板6的上侧的非显示区域内隔垫物13的行数,从而确定位于彩膜基板6的上侧的非显示区域内隔垫物13的数量,进而判断出该显示面板所属的处理区域(A1至A6中的一个)。
最后,观察位于阵列基板5上的定位标识8,根据定位标识8确定该显示面板在所属处理区域内的具体位置(S1至S9中的一个),从而实现了对该显示面板的识别。
另外,本发明中提到彩膜基板6的一侧的非显示像素区域不仅可以为本实施中提到的位于显示区域12上侧的非显示像素区域,还可以为位于显示区域12下侧的非显示像素区域,具体地,参考图4至图9中的C区域,此时A1区域内彩膜基板6的C区域对应的隔垫物13的特定数量为6m,A2区域内彩膜基板6的C区域对应的隔垫物13的特定数量为5m,A3区域内彩膜基板6的C区域对应的隔垫物13的特定数量为4m,A4区域内彩膜基板6的C区域对应的隔垫物13的特定数量为3m,A5区域内彩膜基板6的C区域对应的隔垫物13的特定数量为2m,A6区域内彩膜基板6的C区域对应的隔垫物13的特定数量为m。
需要说明的是,本实施例中,显示面板母板中处理区域的数量为6个,处理区域内包含9个显示面板的情况只起到示例性的作用,并不对本申请的技术方案产生限制。此外,在B区域内设置的隔垫物13的最大行数可大于6行,在C区域内设置的隔垫物13的最大行数也可以大于6行。
本发明实施例一提供了一种显示面板母板,在该显示面板母板上的阵列基板上形成有用于记录阵列基板在第一处理区域中的位置的定位标识,同时在该显示面板母板的彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量,本发明的技术方案通过彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物的特定数量来确定显示面板所属处理区域,通过阵列基板上的定位标识来判断显示面板在所属处理区域内的具体位置,从而实现了对显示面板的识别。
实施例二
图10为本发明实施例二提供的显示面板母板的制造方法的流程图,如图10所示,该制造方法包括:
步骤101:形成第一基板,第一基板包括若干个第一处理区域,第一处理区域包括若干个阵列基板,阵列基板上形成有定位标识,定位标识用于表示阵列基板在第一处理区域内的位置。
可选地,步骤101包括:
步骤1011:在第一衬底基板上形成栅线。
步骤1012:在第一衬底基板上形成数据线。
步骤1013:在第一衬底基板上形成像素电极。
步骤1014:在第一衬底基板上形成定位标识。
需要说明的是,步骤1014与步骤1011同时进行,可使得定位标识与栅线同层设置;或者步骤1014与步骤1011同时进行,可使得定位标识与数据线同层设置;步骤1014与步骤1011同时进行,可使得定位标识与像素电极同层设置。
以定位标识与栅线同层设置的情况为例,可将原有的栅线掩模板进行改进,使得栅线掩模板与定位标识掩模板合二为一,即在形成栅线的同时形成定位标识。因此,在形成定位标识的过程中,无需为产线增添单独的掩模板和单独的生成工序,从而保证了产线的生产效率。
可选地,相同第一处理区域中不同位置的阵列基板对应的定位标识不同,不同第一处理区域中相同位置的阵列基板对应的定位标识相同。
需要说明的是,本发明中的定位标识是利用构图工艺形成,因此,可将定位标识设计的较小,从而可优化显示面板周边区域的空间设计,适用于小尺寸显示面板生产线。
步骤102:形成第二基板,第二基板包括若干个第二处理区域,第二处理区域包括若干个彩膜基板,第二处理区域与第一处理区域对应设置,彩膜基板与阵列基板对应设置,彩膜基板包括:显示区域和位于显示区域周围的非显示区域。
步骤102的具体过程与现有技术相同,此处不再赘述。
步骤103:在第二基板上形成隔垫物,彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量。
可选地,步骤103包括:
步骤1031:在第二基板上设置隔垫物基层。
步骤1032:在隔垫物基层上涂布光刻胶层;
步骤1033:利用隔垫物掩模板按照设定顺序对第二基板上的第二处理区域4行曝光处理,使彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量。
可选地,不同第二处理区域中的彩膜基板对应的隔垫物的特定数量不同;相同第二处理区域中的彩膜基板对应的隔垫物的特定数量相同。具体地,以形成图4至图9所示的隔垫物分布情况为例,且曝光顺序由A1至A6。本发明中,假定隔垫物掩模板与第二处理区域对位后不再移动,则曝光形成的隔垫物的分布情况为图4所示,即B区域内隔垫物有1行,C区域隔垫物有6行。下面对A1至A6区域的曝光过程进行详细描述。
A1区域曝光过程,先将隔垫物掩模板与A1区域对位,再利用曝光机对A1区域曝光。此时,B区域内隔垫物有1行,C区域隔垫物有6行,即图4所示。
A2区域曝光过程,先将隔垫物掩模板与A2区域对位,再将隔垫物掩模板在水平面上向上平移一个像素单元的长度的距离,最后利用曝光机对A2区域曝光。此时,B区域内隔垫物有2行,C区域隔垫物有5行,即图5所示。
A3区域曝光过程,先将隔垫物掩模板与A3区域对位,再将隔垫物掩模板在水平面上向上平移两个像素单元的长度的距离,最后利用曝光机对A3区域曝光。此时,B区域内隔垫物有3行,C区域隔垫物有4行,即图6所示。
A4区域曝光过程,先将隔垫物掩模板与A4区域对位,再将隔垫物掩模板在水平面上向上平移三个像素单元的长度的距离,最后利用曝光机对A4区域曝光。此时,B区域内隔垫物有4行,C区域隔垫物有3行,即图7所示。
A5区域曝光过程,先将隔垫物掩模板与A5区域对位,再将隔垫物掩模板在水平面上向上平移四个像素单元的长度的距离,最后利用曝光机对A5区域曝光。此时,B区域内隔垫物有5行,C区域隔垫物有2行,即图8所示。
A6区域曝光过程,先将隔垫物掩模板与A6区域对位,再将隔垫物掩模板在水平面上向上平移五个像素单元的长度的距离,最后利用曝光机对A6区域曝光。此时,B区域内隔垫物有6行,C区域隔垫物有1行,即图9所示。
从上述过程可以看出,本发明的在形成隔垫物的过程中,在隔垫物掩模板与第二处理区域对位完成后,还需对隔垫物掩模板进行相应的平移,最后再进行曝光,从而使得彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物具有特定数量。
本发明实施例二提供了一种显示面板母板的制造方法,在该显示面板母板上的阵列基板上形成有用于记录阵列基板在第一处理区域中的位置的定位标识,同时在该显示面板母板的彩膜基板的一侧的非显示像素区域内形成具有特定数量的隔垫物,本发明的技术方案通过彩膜基板的一侧的非显示像素区域内对应的隔垫物的特定数量来确定显示面板所属处理区域,通过阵列基板上的定位标识来判断显示面板在所属处理区域内的具体位置,从而实现了对显示面板的识别。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种显示面板母板,其特征在于,包括:相对设置的第一基板和第二基板以及位于所述第一基板和第二基板之间的隔垫物,所述第一基板包括若干个第一处理区域,所述第二基板包括与所述第一处理区域对应设置的第二处理区域,所述第一处理区域包括若干个阵列基板,所述第二处理区域包括与所述阵列基板对应设置的彩膜基板;
所述阵列基板包括定位标识,所述定位标识用于记录所述阵列基板在所述第一处理区域中的位置;
所述彩膜基板包括:显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域,所述彩膜基板的一侧的所述非显示像素区域内对应的所述隔垫物具有特定数量。
2.根据权利要求1所述的显示面板母板,其特征在于,相同所述第一处理区域中不同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识不同,不同所述第一处理区域中相同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识相同。
3.根据权利要求1所述的显示面板母板,其特征在于,不同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量不同;相同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量相同。
4.根据权利要求1所述的显示面板母板,其特征在于,所述阵列基板与对应的所述彩膜基板之间设置有封框胶,所述定位标识位于所述封框胶的外侧。
5.根据权利要求1所述的显示面板母板,其特征在于,所述阵列基板还包括:栅线、数据线和像素电极,所述定位标识与所述栅线同层设置;
或,所述定位标识与所述数据线同层设置;
或,所述定位标识与所述像素电极同层设置。
6.一种显示面板母板的制造方法,其特征在于,包括:
形成第一基板,所述第一基板包括若干个第一处理区域,所述第一处理区域包括若干个阵列基板,所述阵列基板上形成有定位标识,所述定位标识用于表示所述阵列基板在所述第一处理区域内的位置;
形成第二基板,所述第二基板包括若干个第二处理区域,所述第二处理区域包括若干个彩膜基板,所述第二处理区域与所述第一处理区域对应设置,所述彩膜基板与所述阵列基板对应设置,所述彩膜基板包括:显示区域和位于所述显示区域周围的非显示区域;
在所述第二基板上形成隔垫物,所述彩膜基板的一侧的所述非显示像素区域内对应的所述隔垫物具有特定数量。
7.根据权利要求6所述的显示面板母板的制造方法,其特征在于,相同所述第一处理区域中不同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识不同,不同所述第一处理区域中相同位置的所述阵列基板对应的所述定位标识相同。
8.根据权利要求6所述的显示面板母板的制造方法,其特征在于,不同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量不同;相同所述第二处理区域中的所述彩膜基板对应的所述隔垫物的所述特定数量相同。
9.根据权利要求6所述的显示面板母板的制造方法,其特征在于,所述阵列基板包括:栅线、数据线和像素电极,所述定位标识与所述栅线同层设置;
或,所述定位标识与所述数据线同层设置;
或,所述定位标识与所述像素电极同层设置。
10.根据权利要求6所述的显示面板母板的制造方法,其特征在于,所述在所述第二基板上形成隔垫物包括:
在所述第二基板上设置隔垫物基层;
在所述隔垫物基层涂布光刻胶层;
利用隔垫物掩模板按照设定顺序对第二基板上的第二处理区域进行曝光处理,使彩膜基板的一侧的所述非显示像素区域内对应的所述隔垫物具有特定数量。
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