CN110232867B - 显示面板的母板曝光结构 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板的母板曝光结构，涉及显示面板制程领域，所述显示面板曝光结构包括多个曝光区，所述多个曝光区沿第一方向并排设置，每个所述曝光区沿所述第一方向的尺寸为d1，相邻两个所述曝光区之间的间距为d2，用于对所述显示面板母板进行曝光的掩膜板在所述第一方向上的尺寸为d，用于对所述显示面板母板及所述掩膜板进行定位的定位装置在所述显示面板母板上的投影区域为第一区域，所述第一区域在所述第一方向上的尺寸为d3，其中，所述d1、d2、d3和d满足下列关系式：d1+2*d2≤d，d2≥d3；通过对所述曝光区的尺寸及所述曝光区在所述显示面板母板上的布局进行如上安排配置，可以简化曝光制程的工序，提高生产效率。

Description

显示面板的母板曝光结构

技术领域

本发明涉及显示面板制程领域，尤其涉及一种显示面板的母板曝光结构。

背景技术

在显示面板的制程领域，会在一块显示面板母板上制作多块显示面板区域，最后对显示面板母板进行分割以形成多块显示面板。在显示面板制程中需要多次对显示面板母板进行曝光处理，如在显示面板母板上形成光阻层的曝光处理等。因此，曝光处理的使用时间直接影响着显示面板的生产效率。

使用曝光机对显示面板母板进行曝光处理的工序包括：母板移动、母板与掩膜板定位、定位装置退避、以及曝光窗口打开进行曝光。在现有技术下，上述曝光工序缺一不可，且每一道工序的优化程度已经达到极限，因此难以进一步提高曝光效率。然而，现代生产又要求不断提高生产效率，降低生产成本。

在整个曝光工序中，定位装置退避是一个相对耗时的步骤，若可以省去将会大大提高曝光效率；定位装置退避是为了防止定位装置遮挡曝光光线，造成母板曝光不良，因此，若要省去这一步，就需要对显示面板母板曝光结构进行重新设计，以满足曝光需求。

发明内容

基于上述现有技术中曝光工序效率低的问题，本发明通过对显示面板母板的曝光结构进行重新设计，在对显示面板母板进行曝光处理时，无需进行定位装置退避的动作，简化了生产工艺，提高了生产效率。

本发明提供了一种显示面板的母板曝光结构，包括多个曝光区，所述多个曝光区沿第一方向并排设置，每个所述曝光区沿所述第一方向的尺寸定义为d1，相邻两个所述曝光区之间的间距定义为d2，用于对所述显示面板母板进行曝光的掩膜板在所述第一方向上的尺寸定义为d，其中，所述d1、d2和d满足下列关系式：

d1+2*d2≤d。

根据本发明一实施例，用于对所述显示面板母板进行曝光的机台包括定位装置，对所述显示面板的母板进行曝光时，所述掩膜板设置于所述显示面板母板之上，所述定位装置设置于所述掩膜板之上，所述定位装置在所述显示面板母板上的垂直投影区为第一区域，所述第一区域在所述第一方向上的尺寸定义为d3，其中，所述d2与所述d3之间满足下列关系式：

d2≥d3。

根据本发明一实施例，所述第一区域与所述曝光区无重合。

根据本发明一实施例，所述定位装置包括显微镜和挡片，所述显微镜在所述显示面板母板上的垂直投影区为第二区域，所述挡片在所述显示面板母板上的垂直投影区为第三区域，所述第二区域与所述第三区域在所述第一方向上的尺寸分别定义为a1和a2，且满足：a1+a2＝d3。

根据本发明一实施例，所述显微镜具有圆形截面，所述第二区域为圆形区域，所述第二区域在所述第一方向上的尺寸是所述圆形区域的直径。

根据本发明一实施例，所述挡片具有矩形截面，所述第三区域为矩形区域，所述第三区域在所述第一方向上的尺寸是所述矩形区域的在所述第一方向上的边长。

根据本发明一实施例，所述掩膜板包括图案区和边缘区，所述图案区在所述显示面板母板上的投影覆盖所述曝光区。

根据本发明一实施例，所述显示面板母板包括第一标记，所述掩膜板包括第二标记，所述定位装置通过检测所述第一标记与所述第二标记的位置对所述显示面板母板与所述掩膜板进行定位。

根据本发明一实施例，所述曝光区的形状为矩形，所述曝光区在所述第一方向上的尺寸是所述曝光区的宽度方向的尺寸。

根据本发明一实施例，每个所述曝光区的形状相同。

本发明的有益效果是：本发明提供了一种显示面板的母板曝光结构，通过对曝光区的尺寸及曝光区在显示面板母板上的布局进行安排配置，在曝光处理时，定位装置不会对曝光光线形成遮挡，从而无需进行定位装置退避的动作，节省了曝光制成的时间，提高了生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的显示面板的母板曝光结构示意图；

图2是本发明实施例提供的掩膜板结构示意图；

图3是图2所示的掩膜板上的图案区投影至显示面板母板上的示意图；

图4是本发明实施例提供的掩膜板垂直投影到显示面板母板上的示意图；

图5是本发明实施例提供的进行曝光处理时显示面板母板、掩膜板及定位装置的位置关系示意图；

图6是本发明实施例提供的掩膜板及定位装置垂直投影到显示面板母板上的示意图；

图7是本发明实施例提供的包含显微镜和挡片的定位装置在显示面板母板上的垂直投影视图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明实施例提供了一种显示面板的母板曝光结构，所述显示面板母板曝光结构包括并排设置的多个曝光区，本发明实施例通过对所述曝光区的尺寸及所述曝光区在所述显示面板母板上的位置进行设计，在对所述显示面板母板进行曝光操作时，可以省去显微镜退避的工序，从而节约曝光制成的时间，提高生产效率，降低生产成本。

下面结合附图详细说明本发明实施例提供的显示面板的母板曝光结构：

如图1所示，是本发明一实施例提供的显示面板母板曝光结构示意图，所述显示面板母板曝光结构是在显示面板母板10上设置多个曝光区101，并对每个所述曝光区101的大小和位置进行重新安排配置。

如图1所示，定义一方向坐标系，所述方向坐标系包括第一方向H和与所述第一方向H垂直的第二方向V，使用曝光机对所述显示面板母板10进行曝光时，所述显示面板母板10在所述曝光机中的运动方向为所述第一方向H。多个所述曝光区101沿所述第一方向H并排设置。可选地，所述曝光区101沿所述第二方向V并排设置的数量可以是一个或多个。应当理解的是，在显示面板制造领域，每一块显示面板母板最终经过切割形成多块显示面板，其中，每一个所述曝光区101形成一块显示面板。

每个所述曝光区101沿所述第一方向的尺寸定义为d1，相邻两个所述曝光区101之间的间距定义为d2；可选地，所述曝光区101可以是矩形区域，所述曝光区101在所述第一方向H上的尺寸是所述曝光区101的宽度方向的尺寸；可选地，参考图1和图2所示，每个所述曝光区101的形状相同，因此，在对所述显示面板母板进行曝光操作时，使用同一块掩膜板20，从而省去频繁更换掩膜板20的操作，节省生产时间。

如图1和图2所示，对所述显示面板母板10进行曝光操作时，使用掩膜板20遮挡光线，所述显示面板母板10上的所述曝光区101中形成图案；所述掩膜板20在所述第一方向H上的尺寸定义为d；可选地，所述掩膜板20的形状为矩形，所述掩膜板20在所述第一方向H上的尺寸为所述掩膜板20的宽度；可选地，如图2和图3所示，所述掩膜板20包括图案区201和边缘区202，所述图案区201在所述显示面板母板10上的投影2011覆盖所述曝光区101。

所述曝光区101在所述第一方向H上的尺寸d1、相邻两所述曝光区101之间的间距d2及所述掩膜板20在所述第一方向H上的尺寸d满足下列关系式：

d1+2*d2≤d。

应当理解的是，对所述显示面板母板10进行曝光操作时，所述掩膜板20置于所述显示面板母板10上方以遮挡曝光光线，当所述d1、d2和d满足上述关系式时，保证所述掩膜板20对所述显示面板母板10上的所述曝光区101及所述曝光区101之间的间隙完全遮挡。参考图4所示，将所述掩膜板20垂直投影至所述显示面板母板10上形成的投影区为第四区域104，在满足上述关系式的前提下，所述第四区域104可覆盖单个所述曝光区101及所述曝光区101之间的间隙。

如图5及图6所示，根据本发明一实施例，对所述显示面板母板10进行曝光需要使用曝光机台，所述曝光机台包括定位装置30，所述定位装置30用于对所述显示面板母板10及所述掩膜板20进行定位操作。

如图5和图6所示，对所述显示面板母板10进行曝光时，所述掩膜板20设置于所述显示面板母板10之上，所述定位装置30设置于所述掩膜板20之上，所述定位装置30在所述显示面板母板10上的投影区为第一区域103，所述第一区域103在所述第一方向H的尺寸定义为d3，其中，所述曝光区101之间的间距d2及所述第一区域103在所述第一方向H上的尺寸d3之间满足下列关系式：

d2≥d3；

在所述d2与所述d3满足上述关系式的条件下，所述第一区域103可以处于所述曝光区101之间的间隙中。

进一步地，所述第一区域103与所述曝光区101无重合；在对所述显示面板的母板10进行曝光操作时，所述曝光机台向所述显示面板母板10发射曝光光线，在满足如上所述条件的前提下，所述定位装置30处于所述曝光区101的外侧，所述定位装置30不会对所述曝光光线形成遮挡，从而省去了在曝光操作前将所述定位装置30进行退避动作的工序，节约了曝光制程的时间，提高了生产效率。

需要说明的是，本发明实施例提供的示意图中，省略了曝光机台的结构，仅示出了会对曝光光线产生遮挡影响的定位装置，此处应当理解为所述定位装置30是与曝光机台组装在一起的。

进一步地，所述定位装置30用于对所述显示面板母板10及所述掩膜板20进行定位，具体方法是，参考图5所示，所述显示面板母板10包括第一标记105，所述掩膜板20包括第二标记203，所述定位装置30检测并定位所述第一标记105和所述第二标记203，使所述第一标记105与所述第二标记203垂直正对，从而保证曝光位置的精准；可选地，所述第一标记105可以包括多个，与所述第一标记105相对应的所述第二标记203也包括多个。

根据本发明一实施例，参考图5至图7所示，所述定位装置30包括显微镜301和挡片302，图7示出了所述定位装置30在所述显示面板母板10上的投影形状，其中，所述显微镜301在所述显示面板母板10上的投影区为第二区域1031，所述挡片302在所述显示面板母板10上的垂直投影区为第三区域1032，所述第二区域1031在所述第一方向H上的尺寸定义为a1，所述第三区域1032在所述第一方向上的尺寸定义为a2，所述a1、a2及d3满足：a1+a2＝d3。

进一步地，所述a1、a2及d2满足：d2≥a1+a2。

可选地，所述显微镜301具有圆形截面，所述第二区域1031为圆形区域，所述第二区域1031在所述第一方向H上的尺寸为所述圆形区域的直径。

可选地，所述挡片302具有矩形截面，所述第三区域1032为矩形区域，所述第三区域1032在所述第一方向H上的尺寸为所述矩形区域在所述第一方向H上的边长。

应当理解的是，所述显微镜301用于检测所述第一标记105及所述第二标记203的位置，以对所述显示面板母板10及所述掩膜板20进行定位；所述挡片302用于对所述曝光区101之间的间隙进行遮挡，以防止所述显微镜301定位至相邻曝光区对应的标记上造成曝光异常。

综上所述，本发明实施例提供了一种新型显示面板母板曝光结构，参考进行曝光操作需要用到的掩膜板及定位装置的尺寸，对所述显示面板母板上的曝光区的尺寸及所述曝光区的位置进行设计，以实现对所述显示面板母板进行曝光操作时，无需对所述定位装置进行退避操作，从而达到了简化曝光工序、节约制程时间、提高生产效率的目的。

需要说明的是，虽然本发明以具体实施例揭露如上，但上述实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定发范围为准。

Claims (8)

1.一种显示面板的母板曝光结构，其特征在于，包括多个曝光区，所述多个曝光区沿第一方向并排设置，每个所述曝光区沿所述第一方向的尺寸定义为d1，相邻两个所述曝光区之间的间距定义为d2，用于对所述显示面板母板进行曝光的掩膜板在所述第一方向上的尺寸定义为d；

用于对所述显示面板母板进行曝光的机台包括定位装置，对所述显示面板的母板进行曝光时，所述掩膜板设置于所述显示面板母板之上，所述定位装置设置于所述掩膜板之上，所述定位装置在所述显示面板母板上的垂直投影区为第一区域，所述第一区域在所述第一方向上的尺寸定义为d3，所述第一区域与所述曝光区无重合；

其中，所述d1、d2和d满足下列关系式：

d1+2*d2≤d；

所述d2与所述d3之间满足下列关系式：

d2≥d3。

2.根据权利要求1所述的母板曝光结构，其特征在于，所述定位装置包括显微镜和挡片，所述显微镜在所述显示面板母板上的垂直投影区为第二区域，所述挡片在所述显示面板母板上的垂直投影区为第三区域，所述第二区域与所述第三区域在所述第一方向上的尺寸分别定义为a1和a2，且满足：a1+a2＝d3。

3.根据权利要求2所述的母板曝光结构，其特征在于，所述显微镜具有圆形截面，所述第二区域为圆形区域，所述第二区域在所述第一方向上的尺寸是所述圆形区域的直径。

4.根据权利要求2所述的母板曝光结构，其特征在于，所述挡片具有矩形截面，所述第三区域为矩形区域，所述第三区域在所述第一方向上的尺寸是所述矩形区域的在所述第一方向上的边长。

5.根据权利要求1所述的母板曝光结构，其特征在于，所述掩膜板包括图案区和边缘区，所述图案区在所述显示面板母板上的投影覆盖所述曝光区。

6.根据权利要求1所述的母板曝光结构，其特征在于，所述显示面板母板包括第一标记，所述掩膜板包括第二标记，所述定位装置通过检测所述第一标记与所述第二标记的位置对所述显示面板母板与所述掩膜板进行定位。

7.根据权利要求1所述的母板曝光结构，其特征在于，所述曝光区的形状为矩形，所述曝光区在所述第一方向上的尺寸是所述曝光区的宽度方向的尺寸。

8.根据权利要求1所述的母板曝光结构，其特征在于，每个所述曝光区的形状相同。

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