CN205121533U - 一种内嵌式触摸屏及显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种内嵌式触摸屏及显示装置，在OLED面板的发光层之上设置呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，且各触控电极之间的间隙位于电致发光子像素区域的间隙处，各触控电极覆盖至少一个电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的电致发光子像素区域的阴极。本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏基于OLED面板，将其阴极进行分割后复用触控电极，以实现内嵌式触控，这样可以降低触控显示装置的厚度，利于产品的轻薄化设计。

Description

一种内嵌式触摸屏及显示装置

技术领域

本实用新型涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种内嵌式触摸屏及显示装置。

背景技术

有机电致发光显示面板(Organiclight-emittingdiodes，OLED)是一种利用有机材料封装成型的显示器件，其具有工作电压低、响应速度快、发光效率高、视角广和工作温度广等优点，利于显示器件的轻薄化、低功耗和曲面设计。目前，现有的基于OLED的触控产品大多数是采用如图1所示的外挂式触控结构，分别制作OLED显示面板01和触控面板02，利用胶材03将两个面板贴合后形成完整的触控显示装置，这种结构会导致OLED装置整体厚度增加，不利于产品的轻薄化设计。

内嵌式触摸屏是将触控电极设置在显示面板内部，大多需要对膜层进行分割和打孔设计，而现有的制成OLED的材料对于水氧条件较为严苛，因此，目前OLED大多采用真空蒸镀工艺制作，使得在OLED中进行过孔和图形分割工艺十分困难，且成本昂贵，不利于在OLED中实现内嵌式触控。

因此，如何基于OLED面板实现内嵌式触控，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种内嵌式触摸屏及显示装置，用以实现基于OLED面板的内嵌式触控。

因此，本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏，具有呈矩阵排列的多个电致发光子像素区域，各所述电致发光子像素区域包括：依次设置在衬底基板上的阳极和发光层，还包括：

设置在所述发光层之上的呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，各所述触控电极之间的间隙位于所述电致发光子像素区域的间隙处；

各所述触控电极覆盖至少一个所述电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的所述电致发光子像素区域的阴极。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，还包括：设置在所述衬底基板上用于分隔各所述触控电极的第一挡墙；以及用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的阳极的第二挡墙。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，设置于各所述触控电极之间间隙处的所述第一挡墙具有双层挡墙结构，在所述双层挡墙结构中间的缝隙处设置有与对应的所述触控电极连接的电极引出线。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；

除了所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙之外的其他第一挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述第二挡墙还用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的发光层。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述触控电极的图形中具有镂空区域；所述第二挡墙还用于形成各所述触控电极的图形中的镂空区域。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，在形成所述镂空区域处所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；

除了形成所述镂空区域处之外的所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极的厚度，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，各所述电致发光子像素区域还包括：设置于所述衬底基板与所述阳极之间的像素控制电路。

本实用新型实施例提供的一种显示装置，包括本实用新型实施例提供的上述任一种内嵌式触摸屏。

本实用新型实施例的有益效果包括：

本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏及显示装置，在OLED面板的发光层之上设置呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，且各触控电极之间的间隙位于电致发光子像素区域的间隙处，各触控电极覆盖至少一个电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的电致发光子像素区域的阴极。本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏基于OLED面板，将其阴极进行分割后复用触控电极，以实现内嵌式触控，这样可以降低触控显示装置的厚度，利于产品的轻薄化设计。

附图说明

图1为现有技术中基于OLED的触控产品的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏的结构示意图；

图3a和图3b分别为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏的侧视结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏中一个触控电极的俯视结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏的制作方法的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。

附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本实用新型内容。

本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏，如图2所示，具有呈矩阵排列的多个电致发光子像素区域100，图2中仅示出了一个电致发光子像素区域100，各电致发光子像素区域100包括：依次设置在衬底基板001上的阳极002和发光层003，还包括：

设置在发光层003之上的呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极004，各触控电极004之间的间隙位于电致发光子像素区域100的间隙处；

各触控电极004覆盖至少一个电致发光子像素区域100且复用作为被覆盖的电致发光子像素区域100的阴极。

值得注意的是，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中各电致发光子像素区域包含的发光层不仅包括由有机电致发光材料组成的单一发光膜层，还包括诸如电子传输层、空穴阻挡层、电子阻挡层、空穴传输层等功能膜层。

本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏基于OLED面板，将其阴极进行分割后复用触控电极，以实现内嵌式触控，这样可以降低触控显示装置的厚度，利于产品的轻薄化设计。

进一步地，为了控制各电致发光子像素区域的发光亮度以进行不同图像的显示，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中各电致发光子像素区域，如图2所示，一般还会包括：设置于衬底基板001与阳极002之间的像素控制电路005。

进一步地，由于触摸屏在使用时需要频繁的按压屏幕，因此，一般需要设置保护盖板对屏幕进行保护，因此，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，如图2所示，在触控电极004之上一般还会设置透明盖板006。该透明盖板006可以对屏幕进行保护之外，还可以阻隔水氧对于电致发光子像素区域100侵害而影响其显示功能。

进一步地，为了避免采用真空蒸镀工艺制作阴极时对阴极进行图形分割时工艺困难的问题，本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏在制作时可以采用喷墨打印的方式形成与阴极复用的触控电极004，进一步也可以采用喷墨打印的方式形成阳极002和发光层003。并且，为了实现在喷墨打印时实现图形化的触控电极004，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，如图3a和图3b所示，还可以包括：设置在衬底基板001上用于分隔各触控电极004的第一挡墙007；以及用于分隔被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100的阳极002的第二挡墙008。

在具体制作本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏时，可以在衬底基板001上制作完成像素控制电路005之后，首先形成上述第一挡墙007和第二挡墙008，之后利用第一挡墙007和第二挡墙008的不同高度，采用喷墨打印工艺依次形成阳极002、发光层003和复用阴极的触控电极004。或者，可以在衬底基板001上制作完成像素控制电路005和阳极002之后，首先形成上述第一挡墙007和第二挡墙008，之后利用第一挡墙007和第二挡墙008的不同高度，采用喷墨打印工艺依次形成发光层003和复用阴极的触控电极004。

在具体实施时，可以采用和制作像素控制电路005相类似的通过构图工艺形成第一挡墙007和第二挡墙008的图形，之后通过预先对阳极002、发光层003和阴极各层厚度以及打印所需的材料计量，设置喷墨打印设备按照设定的精度与速度进行喷墨制作这些膜层。由于各层的功能不同，其制作材料也不尽相同，因此需要按照设定顺序将各层材料打印在指定的位置，当然，具体地喷墨打印设备的喷头数量可以是单个也可以是多个，在此不做限定。

进一步地，为了便于对相互绝缘的各触控电极004在不同时刻施加不同的电信号，如图3a和图3b所示，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中一般还需要设置与对应的触控电极004连接的电极引出线009，这些电极引出线009具体可以设置在各触控电极004之间的间隙处。为了在制作触控电极004时同时可以制作出与对应的触控电极004连接的电极引出线009，在具体实施时，本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中的设置于各触控电极004之间间隙处的第一挡墙007可以具有双层挡墙结构，双层挡墙之间具有一定的缝隙，这样，可以将电极引出线009设置在双层挡墙结构中间的缝隙处，利用双层挡墙中高度较低处的位置连接电极引出线009与对应的触控电极004，并利用双层挡墙的其他位置隔断电极引出线009和两边相邻的触控电极004。例如在图3a和图3b中，电极引出线009均与左侧的触控电极004连接，并且，在具体实施时，可以控制在形成电极引出线009和触控电极004的区域的喷墨量的方式使两者相互连接。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中可以将第一挡墙007的不同位置处设置不同的高度，以实现其不同的功能。具体地，如图3a和图3b所示，可以将电极引出线007与触控电极004的连接处对应的第一挡墙007b的高度设置为大于或等于阳极002和发光层003的厚度之和，且小于阳极002、触控电极004和发光层003的厚度之和，以便于触控电极004在此处越过第一挡墙007a与电极引出线009连接。同时，将除了电极引出线009与触控电极004的连接处对应的第一挡墙007b之外的其他第一挡墙007的高度设置为大于或等于阳极002、触控电极004和发光层003的厚度之和，以避免电极引出线009与其他触控电极004连接，发生信号传输混乱的情况。

进一步地，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，可以基于彩色滤光片+发白光的发光层的结构实现OLED显示功能，此时，如图3a所示，在OLED中被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100中的发光层003可以不进行分割，即被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100中的发光层003为一体结构，此时，第二挡墙008可以仅用于分隔被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100的阳极002，如图3a所示，第二挡墙008的高度仅需要不小于阳极002的厚度即可。

同样，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，也可以基于发单色光的发光层的结构实现OLED显示功能，此时，在OLED中相邻的电致发光子像素区域100中使用的发光材料不同，因此，为避免串色需要对被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100中的发光层003进行分隔。此时，如图3b所示，第二挡墙008除了用于分隔被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100的阳极002之外，还用于分隔被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100的发光层003，即第二挡墙008的高度需要大于或等于阳极002和发光层003的厚度之和。

并且，进一步地，为了保证属于覆盖各电致发光子像素区域100的同一触控电极001的连续性，第二挡墙008的高度除了需要大于或等于阳极002和发光层003的厚度之和之外，还要保证小于阳极002、触控电极004和发光层003的厚度之和。

进一步地，为了减小触控电极004的寄生电容，提升触控性能，如图4所示，还可以将每个触控电极004进行局部镂空处理，即触控电极004具有镂空区域，利用第二挡墙008形成各触控电极004的图形中的镂空区域。

并且，为了保证在同一触控电极004的连续性，如图4所示，可以将在形成镂空区域处第二挡墙008a的高度设置为大于或等于阳极002、触控电极004和发光层003的厚度之和，这样，在此处进行喷墨打印时，由于第二挡墙008的高度以及喷墨溶液的重力作用，在此处不会形成触控电极004的图案而形成镂空区域。而除了形成镂空区域处之外的第二挡墙008b的高度大于或等于阳极002的厚度，且小于阳极002、触控电极004和发光层003的厚度之和，这样可以保证被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100的阳极002之间相互绝缘，且该触控电极004相对连续。

具体地，在本实用新型实施例提供的上述触摸屏中的各触控电极004可以采用互电容的方式进行触控检测，也可以采用自电容的方式进行触控检测。并且，对于各触控电极004的外轮廓形状并无明确限定，具体可以是矩形、三角形、菱形等形状。

基于同一实用新型构思，本实用新型实施例还提供了一种上述内嵌式触摸屏的制作方法，如图5所示，包括以下步骤：

S501、在衬底基板上的各电致发光子像素区域内依次形成阳极和发光层；

具体地，可以采用喷墨打印方式在衬底基板上的各电致发光子像素区域内依次形成阳极和发光层；

S502、在各电致发光子像素区域的发光层上，采用喷墨打印方式形成相互绝缘的复用作为阴极的触控电极。

在制作基于OLED面板的内嵌式触摸屏时，采用喷墨打印的方式形成复用作为触控电极的阴极，可以有效地简化基于OLED面板的触摸屏的制作工艺，降低生产成本。

进一步地，为了便于在采用喷墨打印方式形成图形化的膜层，在本实用新型实施例提供的上述制作方法中，如图5所示，在执行步骤S502之前，还可以包括以下步骤：

S500、通过构图工艺和刻蚀工艺，在衬底基板上同时形成用于分隔各触控电极的第一挡墙，以及用于分隔属于触控电极的各电致发光子像素区域的阳极的第二挡墙。

具体地，可以通过一次构图工艺和分次刻蚀工艺形成第一挡墙和第二挡墙的图形。其中，刻蚀工艺的次数与第一挡墙和第二挡墙的具体高度有关，若第一挡墙和第二挡墙仅包含两种高度，则需要两次刻蚀工艺形成两种高度的第一(二)挡墙。例如：各触控电极无镂空设计，第二挡墙用于分隔被同一触控电极覆盖的各电致发光子像素区域的阳极和发光层，第一挡墙具有两种高度，第二挡墙的高度与第一挡墙在电极引出线与对应的触控电极连接处的高度相同。又如：各触控电极具有镂空区域，第二挡墙用于分隔被同一触控电极覆盖的各电致发光子像素区域的阳极和发光层且还用于形成触控电极的镂空区域，第一挡墙和第二挡墙分别具有两种高度：在形成触控电极镂空区域处的第二挡墙的高度等于除了电极引出线与对应的触控电极连接处之外的其他第一挡墙的高度，在除了形成镂空区域处之外的第二挡墙的高度等于在电极引出线与对应的触控电极连接处的第一挡墙的高度。

若第一挡墙和第二挡墙包含三种高度，则需要三次刻蚀工艺形成三种高度的第一(二)挡墙。例如：各触控电极具有镂空区域，第二挡墙用于分隔被同一触控电极覆盖的各电致发光子像素区域的阳极且还用于形成触控电极的镂空区域，第一挡墙和第二挡墙分别具有两种高度：在形成触控电极镂空区域处的第二挡墙的高度等于除了电极引出线与对应的触控电极连接处之外的其他第一挡墙的高度，在除了形成镂空区域处之外的第二挡墙的高度等于阳极的厚度，在电极引出线与对应的触控电极连接处的第一挡墙的高度等于阳极和发光层的厚度之和。

在具体实施时，步骤S500可以执行于步骤S501之前，即在形成各电致发光子像素区域内的阳极之前形成第一挡墙和第二挡墙，这样便于在制作第一挡墙和第二挡墙之后统一采用喷墨打印设备依次制作阳极、发光层和阴极。或者，步骤S500也可以执行于形成各电致发光子像素区域的阳极之后，此时，一般采用和形成第一(第二)挡墙相类似的构图工艺和刻蚀工艺形成各电致发光子像素区域的阳极，之后统一采用喷墨打印设备依次制作发光层和阴极。

并且，在本实用新型实施例提供上述内嵌式触摸屏的制作方法中，在执行步骤S500之前，一般还会采用传统的构图工艺在衬底基板上形成像素控制电路，之后在像素控制电路上形成第一挡墙和第二挡墙的图形。

在具体实施时，可以采用和制作像素控制电路相类似的构图工艺形成第一挡墙和第二挡墙的图形，之后通过预先对阳极、发光层和阴极各层厚度以及打印所需的材料计量，设置喷墨打印设备按照设定的精度与速度进行喷墨制作这些膜层。由于各层的功能不同，其制作材料也不尽相同，因此需要按照设定顺序将各层材料打印在指定的位置，当然，具体地喷墨打印设备的喷头数量可以是单个也可以是多个，在此不做限定。

并且，在本实用新型实施例提供的上述制作方法的步骤S500中，通过刻蚀工艺使形成的第二挡墙在将要形成的触控电极的镂空区域的高度大于其他区域的高度。这样，在执行步骤S502时，可以根据需要形成的触控电极的镂空区域以及第二挡墙在各区域的高度，控制喷墨打印设备中的喷头在各第一挡墙围城的区域内进行设定计量液体的喷涂，之后进行烘干处理形成具有镂空区域的触控电极的图形。由于第二挡墙在将要形成的触控电极的镂空区域的高度大于其他区域的高度，这样，由于重力的作用喷涂的液体会从高度较高的第二挡墙处流向低处而形成镂空区域。

并且，在本实用新型实施例提供的上述制作方法的步骤S500中，形成的第一挡墙在与将要形成的触控电极之间的间隙对应位置具有双层挡墙结构；这样，在步骤S502形成触控电极的同时，可以在第一挡墙具有的双层挡墙结构中间的缝隙处形成与对应的触控电极连接的电极引出线。

在具体实施时，在本实用新型实施例提供的上述制作方法的步骤S500中，通过刻蚀工艺使形成的第一挡墙在将要形成的触控电极与电极引出线的连接处对应的区域的高度小于其他区域的高度。这样，在执行步骤S502时，可以根据需要形成的各触控电极和电极引出线所占区域的体积以及第一挡墙和第二挡墙在各区域的高度，控制喷墨打印设备中的喷头在各第一挡墙围城的区域内以及双层挡墙结构中间的缝隙处进行设定计量的液体喷涂，之后进行烘干处理形成所述触控电极和所述电极引出线的图形。

下面以一个实例具体说明本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏的制作方法中形成第一挡墙和第二挡墙的方式，在实例中，第二挡墙的高度与第一挡墙在电极引出线与对应的触控电极连接处的高度相同，其具体步骤如下：

1、在衬底基板上形成一挡墙材料膜层和光刻胶层；

2、利用掩膜板对光刻胶进行曝光显影，在光刻胶层中形成光刻胶完全去除区域，光刻胶完全保留区域，以及光刻胶部分保留区域；其中，光刻胶完全保留区域对应于非电极引出线与对应的触控电极连接处的第一挡墙的区域，光刻胶部分保留区域对应于电极引出线与对应的触控电极连接处的第一挡墙的区域以及第二挡墙的区域；

3、利用光刻胶层中光刻胶完全保留区域和光刻胶部分保留区域的遮挡，刻蚀掉光刻胶完全去除区域处的挡墙材料膜层；

4、对光刻胶层进行灰化处理，去除光刻胶部分保留区域的光刻胶层，并减薄光刻胶完全保留区域的光刻胶层；

5、利用光刻胶层中减薄处理后的光刻胶完全保留区域的遮挡，对光刻胶部分保留区域处的挡墙材料膜层进行刻蚀处理，在此处形成第二挡墙的图形，以及电极引出线和对应的触控电极连接处的第一挡墙的图形；

6、完全剥离光刻胶层，得到除了电极引出线和对应的触控电极连接处以外的第一挡墙的图形。

基于同一实用新型构思，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述内嵌式触摸屏的实施例，重复之处不再赘述。

本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏及显示装置，在OLED面板的发光层之上设置呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，且各触控电极之间的间隙位于电致发光子像素区域的间隙处，各触控电极覆盖至少一个电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的电致发光子像素区域的阴极。本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏基于OLED面板，将其阴极进行分割后复用触控电极，以实现内嵌式触控，这样可以降低触控显示装置的厚度，利于产品的轻薄化设计。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种内嵌式触摸屏，具有呈矩阵排列的多个电致发光子像素区域，各所述电致发光子像素区域包括：依次设置在衬底基板上的阳极和发光层，其特征在于，还包括：

设置在所述发光层之上的呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，各所述触控电极之间的间隙位于所述电致发光子像素区域的间隙处；

各所述触控电极覆盖至少一个所述电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的所述电致发光子像素区域的阴极。

2.如权利要求1所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，还包括：设置在所述衬底基板上用于分隔各所述触控电极的第一挡墙；以及用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的阳极的第二挡墙。

3.如权利要求2所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，设置于各所述触控电极之间间隙处的所述第一挡墙具有双层挡墙结构，在所述双层挡墙结构中间的缝隙处设置有与对应的所述触控电极连接的电极引出线。

4.如权利要求3所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；

除了所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙之外的其他第一挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

5.如权利要求2所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述第二挡墙还用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的发光层。

6.如权利要求5所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

7.如权利要求2所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，所述触控电极的图形中具有镂空区域；所述第二挡墙还用于形成各所述触控电极的图形中的镂空区域。

8.如权利要求7所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，在形成所述镂空区域处所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；

除了形成所述镂空区域处之外的所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极的厚度，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。

9.如权利要求1-8任一项所述的内嵌式触摸屏，其特征在于，各所述电致发光子像素区域还包括：设置于所述衬底基板与所述阳极之间的像素控制电路。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的内嵌式触摸屏。