CN105037773A - 离型膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种离型膜及其制备方法。该离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基的树脂涂层。本发明通过在基材原膜和离型层之间增加中间层，并利用中间层来改善本发明提供的离型膜的密着性和耐久性，并使离型膜具有光学外观良好、便于产线线上监控的特点，从而提高了产品的使用寿命，降低了产品的造价。
Description
技术领域
本发明涉及薄膜技术领域，具体而言，涉及一种离型膜及其制备方法。
背景技术
目前，市场上的离型膜多用于半导体元器件、液晶面板、PDP和有机EL等显示器材的保护膜，或用于不干胶、胶带、止痛膏和风湿膏等的背贴，用来防止上述物品的保护膜或者上述物品自行粘连在一起。离型膜通常是在薄膜基材的一面或者是双面涂布上硅系或氟系离型树脂所构成。
近些年来，随着显示器材向着大尺寸化和高精细化的发展，对离型膜的品质要求也越来越高，主要体现在需要离型膜上没有异物并保证一定的清洁度，以防止异物在生产过程中转移到产品当中。与此同时，随着人们生活品质的不断提高，对不干胶、胶带、止痛膏和风湿膏等的洁净程度要求也越来越高，离型膜上没有异物这一要求也纳入了用户要求。
对上述离型膜的异物或者缺陷的检查，通常是通过生产线上的图像分析检测装置来完成的。有时候，也会通过人眼目视来进行检测。特殊情况下，还会出现上述产品带着背贴(离型膜)来进行在线检测。然而，人眼目视检测会因为生产线速度过快，从而出现漏检或误检，还很容易出现检测疲劳。所以，生产线上的图像分析检测装置来完成检测是现在的生产主流。但是，这就要求离型膜要具有很好的光学特性(较低的反射率，干涉条纹等)，才能最大限度的减少检测装置的误判，漏检或过度检测。
同时，随着分工的细化、产地的多元化以及运输距离的延长，在库调整时期的延长等因素的影响，对离型膜的耐久性也有了更高的要求，尤其是不干胶、胶带、止痛膏和风湿膏等使用寿命长的产品。为了延长离型膜的寿命，改善离型膜的离型效果，很多厂家采用加厚硅胶涂层的做法，这样一来，增加了成本，同时又带来了干涉条纹增多的风险。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种离型膜及其制备方法，以提高离型膜的光学性能和耐久性。
为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种离型膜，该离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基团的树脂涂层。
进一步地，中间层还包含羟基。
进一步地，中间层为含硅或含氟的树脂涂层。
进一步地，中间层的结构式如式Ⅰ或式Ⅱ所示，其中，
式Ⅰ为
式Ⅱ为且m、n均为大或于等于1的整数，R1、R2和R3独立地选自H、C1-C8的烷基或者C1-C8的烷基的氟代烷基；R4选自H、C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基；R5和R6独立地选自CH2或CF2；R7选自C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基。
进一步地，中间层为由第一硅烷和第二硅烷在酸性环境下反应形成的树脂涂层，其中，第一硅烷为环氧基硅烷或环氧基氟硅烷，第二硅烷为不饱和官能基硅烷或不饱和官能基氟硅烷。
进一步地，环氧基硅烷选自环氧基-甲氧基硅烷、环氧基-乙氧基硅烷或环氧基-丙氧基硅烷；不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-乙氧基硅烷或不饱和官能基-丙氧基硅烷；环氧基氟硅烷选自环氧基-甲氧基氟硅烷、环氧基-乙氧基氟硅烷或环氧基-丙氧基氟硅烷；不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基氟硅烷、不饱和官能基-乙氧基氟硅烷或不饱和官能基-丙氧基氟硅烷。
进一步地，中间层为由20％～75％wt的第一硅烷、20％～75％wt的第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～75％wt的第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～70％wt的第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～75％wt的第二硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～70％wt的第二硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层。
进一步地，离型层为含有不饱和官能基的离型涂层。
进一步地，离型层为含硅的离型涂层或者含氟的离型涂层。
进一步地，中间层的厚度小于50纳米，优选为1～20纳米。
进一步地，离型层的厚度小于50纳米，优选为1～30纳米。
进一步地，基材原膜的厚度小于或等于500微米，优选为10～100微米。
根据本申请的另一方面，提供了一种上述的离型膜的制备方法，该制备方法包括：制备中间层涂布用材料；在基材原膜上涂布述中间层涂布用材料，干燥后得到中间层，中间层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层；在中间层的表面上形成离型层。
进一步地，制备中间层涂布用材料的步骤包括：将环氧基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-甲氧基硅烷和盐酸按配比混合，并用有机溶剂溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。
进一步地，形成中间层的步骤包括：将中间层涂布用材料置于基材原膜的一侧表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟后，得到中间层；形成离型层的步骤包括：将离型涂料助于述中间层的表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟后，得到离型层。
应用本发明的技术方案，本发明通过在基材原膜和离型层之间增加中间层，并利用中间层来改善本发明提供的离型膜的密着性和耐久性，并使离型膜具有光学外观良好、便于产线线上监控的特点，从而提高了产品的使用寿命，降低了产品的造价。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1示出了根据本发明实施方式提供的离型膜的示意图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
现有离型膜的光学性能和耐久性较差。为了解决此问题，本发明提供了一种离型膜，如图1所示：该离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基的树脂涂层。优选地，中间层还包含羟基。
本发明在利用中间层改善了产品密着性和耐久性的同时，使得按照本发明提供的离型膜产品具有光学外观良好的同时，又具有很好的密着性和耐久性。增加中间层的主要目的在于(1)改善离型涂层与基材的密着性；(2)提高离型膜的耐久性。含有羟基和环氧基主要是基于对基材密着性的考虑。羟基和环氧基中的H原子，O原子，C-O与基材原膜中含有的OH，C-O官能基有一定的亲和作用，能够改善界面的密着性。而密着性的提高以及中间层的插入，使得本发明所制备出的离型膜比其他没有中间层的离型膜具有更耐久的特性。含有不饱和官能基则是基于对上层离型层的密着性和整体离型膜耐久性的考虑。中间层表面的不饱和官能基可以和上层的离型层中的不饱和官能基反应，增强与离型层的密着性；与此同时，中间层内部的不饱和官能基之间的反应也会增强中间层的机械性能。离型层下表面的不饱和官能基可以和中间层的不饱和官能基反应，增强与中间层的密着性；与此同时，离型层内部，外表面的不饱和官能基之间的反应也会增强离型层的机械性能。
优选地，中间层的结构式如式Ⅰ或式Ⅱ所示，其中，
式Ⅰ为
式Ⅱ为且m、n均为大或于等于1的整数，R1、R2和R3独立地选自H、C1-C8的烷基或者C1-C8的烷基的氟代烷基；R4选自H、C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基；R5和R6独立地选自CH2或CF2；R7选自C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基。
下面将更详细地描述根据本发明提供的离型膜的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。
在本发明的第一种示例性实施方式中，离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，中间层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层，且中间层还含有硅。不饱和官能基是指含有不饱和键的官能团，不饱和键可以为双键或三键等。例如，不饱和官能基可以为烯烃基或炔烃基等。
优选地，中间层为由环氧基硅烷和不饱和官能基硅烷在酸性环境下反应形成的树脂涂层。酸性环境可以为pH值为2～6的环境，酸性环境可以通过加入盐酸溶液、硫酸溶液或硝酸溶液等方式实现。环氧基硅烷可以选自环氧基-甲氧基硅烷、环氧基-乙氧基硅烷或环氧基-丙氧基硅烷；所述不饱和官能基硅烷可以选自不饱和官能基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-乙氧基硅烷或不饱和官能基-丙氧基硅烷。例如，中间层可以为由环氧基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-甲氧基硅烷和盐酸溶液反应形成的树脂涂层。其中，环氧基-甲氧基硅烷是指含有环氧基和甲氧基的硅烷，例如3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷；不饱和官能基-甲氧基硅烷是指含有不饱和官能基和甲氧基硅烷的硅烷，例如3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷。而且，甲氧基硅烷在遇到盐酸溶液(含有水)时会发生分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷。
中间层中各组分的含量可以根据实际工艺需求进行设定。例如，中间层为由20％～75％wt的环氧基硅烷、20％～75％wt的官能基硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层。优选的，中间层为由20％～70％wt的所述环氧基硅烷、20％～75％wt的官能基硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的环氧基硅烷、20％～70％wt的官能基硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的环氧基硅烷、20％～75％wt的官能基硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的环氧基硅烷、20％～70％wt的官能基硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层。
该中间层的厚度为小于50纳米，最适膜厚在1～20纳米，中间层的厚度主要是依据不易产生干涉条纹和不改变物性的前提下降低成本的考虑而设定的范围。如果中间层的厚度大于50纳米，容易产生干涉条纹；如果中间层的厚度小于1纳米，则涂层的物性要求很难满足。
上述离型层是可以是本领域中常见的含硅的离型涂层或者含氟的离型涂层。优选地，离型层为含有不饱和官能基的离型涂层，且离型层中的不饱和官能基与中间层中的不饱和官能基相同。此时，离型层下表面的不饱和官能基可以和中间层的不饱和官能基反应，增强与中间层的密着性；与此同时，离型层内部，外表面的不饱和官能基之间的反应也会增强离型层的机械性能。
离型层的厚度主要是依据不易产生干涉条纹和不改变物性的前提下降低成本的考虑而设定的范围。如果离型层的厚度大于30纳米，比较容易产生干涉条纹，主要是会增加生产成本，而如果离型层的厚度小于1纳米，则涂层的物性要求很难满足。离型层的最适膜厚在1～30纳米。
上述基材原膜是指可适用于卷对卷生产加工的塑料薄膜，例如PET薄膜。基材原膜的厚度不超过500微米，最适膜厚在10～100微米。基材原膜的厚度低于10为微米会导致基材过薄，现有的生产工艺很难应对，而厚度超过500微米则会引起收卷困难，同时，因为基材厚度变厚会导致产品价格上涨。优选地，10微米<基材原膜的厚度<100微米，这是充分考虑了现有生产状况和生产成本后，所制定出来的合理范围。
本实施方式提供的离型膜可由以下方法制备：将环氧基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-甲氧基硅烷和盐酸溶液按配比混合，并用有机溶剂溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料；在基材原膜上涂布述中间层涂布用材料，干燥后得到中间层，中间层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层；在中间层的表面上形成离型层。需要注意的是，利用本发明所提供的方法制备出来的离型膜，不管其应用于哪个方面，都应受到本专利的权利保护。
在采用了上述方法后，制备出来的离型膜具有光学外观，密着性良好的特性。并且，耐久性较普通方法制备出来的产品有很大的提高。完全可以应用于现有的离型膜量产之中。
其中，制备中间层涂布用材料的步骤中，环氧基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-甲氧基硅烷和盐酸的比例可以为20％～75％wt：20％～75％wt：1％～20％wt。发明中，中间层和离型层的加工，可以通过湿法涂布工艺进行生产。涂工方式不做特殊的界定。只要能够满足本发明所指定的膜厚即可。
进一步地，形成中间层的步骤包括：将中间层涂布用材料置于基材原膜的一侧表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟后，得到中间层；形成离型层的步骤包括：将离型涂料助于述中间层的表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟后，得到离型层。
在本发明的第二种示例性实施方式中，离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，中间层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层，且中间层还含有氟。不饱和官能基是指含有不饱和键的官能团，不饱和键可以为双键或三键等。例如，不饱和官能基可以为烯烃基或炔烃基等。
优选地，中间层为由第一硅烷和第二硅烷在酸性环境下反应形成的树脂涂层。酸性环境可以为pH值为2～6的环境，酸性环境可以通过加入盐酸溶液、硫酸溶液或硝酸溶液等方式实现。第一硅烷为环氧基氟硅烷，第二硅烷为不饱和官能基硅烷或不饱和官能基氟硅烷；或者所述第一硅烷为环氧基硅烷，所述第二硅烷为不饱和官能基氟硅烷。作为示例，环氧基硅烷选自环氧基-甲氧基硅烷、环氧基-乙氧基硅烷或环氧基-丙氧基硅烷；不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-乙氧基硅烷或不饱和官能基-丙氧基硅烷；环氧基氟硅烷选自环氧基-甲氧基氟硅烷、环氧基-乙氧基氟硅烷或环氧基-丙氧基氟硅烷；不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基氟硅烷、不饱和官能基-乙氧基氟硅烷或不饱和官能基-丙氧基氟硅烷。
其中，环氧基-甲氧基硅烷是指含有环氧基和甲氧基的硅烷，例如3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷；不饱和官能基-甲氧基硅烷是指含有不饱和官能基和甲氧基硅烷的硅烷，例如3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷。而且，甲氧基硅烷在遇到盐酸溶液(含有水)时会发生分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷。
中间层中各组分的含量可以根据实际需求进行设定。例如，中间层为由20％～75％wt的第一硅烷、20％～75％wt的第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～75％wt的第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～70％wt的第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～75％wt的第二硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，中间层为由20％～70％wt的第一硅烷、20％～70％wt的第二硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层。
该中间层的厚度为小于50纳米，最适膜厚在1～20纳米，中间层的厚度主要是依据不易产生干涉条纹和不改变物性的前提下降低成本的考虑而设定的范围。如果中间层的厚度大于50纳米，容易产生干涉条纹；如果中间层的厚度小于1纳米，则涂层的物性要求很难满足。
上述离型层是可以是本领域中常见的含硅的离型涂层或者含氟的离型涂层。优选地，离型层为含有不饱和官能基的离型涂层，且离型层中的不饱和官能基与中间层中的不饱和官能基相同。此时，离型层下表面的不饱和官能基可以和中间层的不饱和官能基反应，增强与中间层的密着性；与此同时，离型层内部，外表面的不饱和官能基之间的反应也会增强离型层的机械性能。
离型层的厚度主要是依据不易产生干涉条纹和不改变物性的前提下降低成本的考虑而设定的范围。如果离型层的厚度大于30纳米，比较容易产生干涉条纹，主要是会增加生产成本，而如果离型层的厚度小于1纳米，则涂层的物性要求很难满足。离型层的最适膜厚在1～30纳米。
上述基材原膜是指各生产厂家所生产的可适用于卷对卷生产加工的塑料薄膜。基材原膜的厚度不超过500微米，最适膜厚在10～100微米。基材原膜的厚度低于10为微米会导致基材过薄，现有的生产工艺很难应对，而厚度超过500微米则会引起收卷困难，同时，因为基材厚度变厚会导致产品价格上涨。优选地，10微米<基材原膜的厚度<100微米，这是充分考虑了现有生产状况和生产成本后，所制定出来的合理范围。
本实施方式提供的离型膜可由以下方法制备：将环氧基-甲氧基氟硅烷、不饱和官能基-甲氧基氟硅烷和盐酸按配比混合，并用有机溶剂溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料；在基材原膜上涂布述中间层涂布用材料，干燥后得到中间层，中间层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层；在中间层的表面上形成离型层。需要注意的是，利用本发明所提供的方法制备出来的离型膜，不管其应用于哪个方面，都应受到本专利的权利保护。
在采用了上述方法后，制备出来的离型膜具有光学外观，密着性良好的特性。并且，耐久性较普通方法制备出来的产品有很大的提高。完全可以应用于现有的离型膜量产之中。
其中，制备中间层涂布用材料的步骤中，环氧基-甲氧基氟硅烷、不饱和官能基-甲氧基氟硅烷和盐酸的比例可以为20％～75％wt：20％～75％wt：1％～20％wt。发明中，中间层和离型层的加工，可以通过湿法涂布工艺进行生产。涂工方式不做特殊的界定。只要能够满足本发明所指定的膜厚即可。
进一步地，形成中间层的步骤包括：将中间层涂布用材料置于基材原膜的一侧表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟干燥后，得到中间层；形成离型层的步骤包括：将离型涂料助于述中间层的表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟干燥后，得到离型层。
下面将结合实施例进一步说明本发明提供的离型膜及其制备方法。
本发明的基材原膜，选用厂家为：帝人公司两轴拉伸75微米PET；本发明的中间层选用材料为：3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷，3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷，催化剂0.1N盐酸和有机溶剂。离型层材料则选用东丽道琼斯康宁公司制硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25或者是SolvaySolexis公司的FluorolinkMD700氟系离型涂料。
实施例1
将中间层材料3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷，3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和催化剂0.1N盐酸按40wt：40％wt：20％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为100纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为120纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)，环氧基(3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷)以及不饱和官能基(3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷)的中间层材料，使得该中间层对基材PET具有良好密着性的同时，对上层的硅胶离型层也具有良好的密着性。随着密着性的显著提高，耐久性也得到了一定的保障。但是，中间层和离型层的厚度超出了最优选范围，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响较大，从而产生了干涉条纹，影响了该离型膜的外观。
实施例2
将中间层材料3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷，3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和催化剂0.1N盐酸按20％wt：60％wt：20％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为25纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)，环氧基(3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷)以及不饱和官能基(3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷)的中间层材料，使得该中间层对基材PET具有良好密着性的同时，对上层的硅胶离型层也具有良好的密着性。随着密着性的显著提高，耐久性也得到了一定的保障。中间层和离型层的厚度维持在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响很小，保证了抑制干涉条纹的效果。
实施例3
将中间层材料3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷，3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和催化剂0.1N盐酸按75％wt：24％wt：1％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为25纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)，环氧基(3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷)以及不饱和官能基(3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷)的中间层材料，使得该中间层对基材PET具有良好密着性的同时，对上层的硅胶离型层也具有良好的密着性。随着密着性的显著提高，耐久性也得到了一定的保障。中间层和离型层的厚度维持在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响很小，保证了抑制干涉条纹的效果。
实施例4
将中间层材料3-(2,3-环氧丙氧)丙基二甲氧基氟硅烷，3-(甲基丙烯酰氧)丙基二甲氧基氟硅烷和催化剂0.1N盐酸按75％wt：24％wt：1％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为25纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将FluorolinkMD700氟系离型涂料和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)，环氧基(3-(2,3-环氧丙氧)丙基二甲氧基氟硅烷)以及不饱和官能基(，3-(甲基丙烯酰氧)丙基二甲氧基氟硅烷)的中间层材料，使得该中间层对基材PET具有良好密着性的同时，对上层的硅胶离型层也具有良好的密着性。随着密着性的显著提高，耐久性也得到了一定的保障。中间层和离型层的厚度维持在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响很小，保证了抑制干涉条纹的效果。
实施例5
将中间层材料3-(甲基丙烯酰氧)丙基三乙氧基硅烷，3-(2,3-环氧丙氧)丙基三丙氧基硅烷和催化剂0.1N盐酸按75％wt：24％wt：1％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为25纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)，环氧基(3-(2,3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷)以及不饱和官能基(3-(甲基丙烯酰氧)丙基三丙氧基硅烷)的中间层材料，使得该中间层对基材PET具有良好密着性的同时，对上层的硅胶离型层也具有良好的密着性。随着密着性的显著提高，耐久性也得到了一定的保障。中间层和离型层的厚度维持在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响很小，保证了抑制干涉条纹的效果。
对比例1
将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为120纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于没有采用中间层，使得硅胶离型层与基材PET之间的密着性不良。从而影响了耐久性。同时，离型层的厚度超出本专利所指定的范围，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉有明显的影响，导致了干涉条纹的出现，影响了该离型膜的外观。
对比例2
将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于没有采用中间层，使得硅胶离型层与基材PET之间的密着性不良。从而影响了耐久性。但是，离型层的厚度在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响轻微，没有出现明显的干涉条纹。
对比例3
将中间层材料3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷和催化剂0.1N盐酸按75％wt:25％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在上述PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为25纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于只采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)和不饱和官能基(3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷)的中间层材料，使得该中间层虽然对上层的硅胶离型层具有良好的密着性，但是对基材PET缺乏密着性。使得离型膜整体密着性不足。从而也影响了耐久性。另一方面，中间层和离型层的厚度维持在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响很小，保证了抑制干涉条纹的效果。
对比例4
将中间层材料3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和催化剂0.1N盐酸按75％wt：25％wt的比例混合，并用有机溶剂丁酮和乙酸乙酯稀释，溶解，加热搅拌后，得到中间层涂布用材料。在上述PET基材的一侧表面上，将上述中间层涂布用材料利用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为25纳米的中间层薄膜。
在中间层上，将硅系离型涂料LTC750A和催化剂NC-25的混合物用用线棒进行刮涂，经过100℃1分钟干燥后，得到膜厚为15纳米的离型薄膜。
实验评价及结果：干涉条纹测试为三波长灯光下，利用反射光来目视评测干涉条纹，判断等级如下：最差到最好的顺序排列为：×，△，□，○；密着性测试按照百格刀测试方法和标准；耐久性测试：85℃，85％RH72小时后，用橡皮擦试10个来回，看有无脱落。测试结果请见表1。
原因分析：由于只采用了含有羟基(中间层材料甲氧基硅烷在遇到催化剂盐酸时会发生加水分解化学反应从而产生出含有羟基的硅烷)和环氧基(3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷)的中间层材料，使得该中间层虽然对下层的基材PET具有良好的密着性，但是由于没有不饱和官能基，因此对上层的离型层缺乏足够的密着性。其结果和实施例1一样，使得离型膜整体密着性不足。从而也影响了耐久性。另一方面，中间层和离型层的厚度维持在本专利所指定的范围之内，使得该离型膜因为涂层厚度对干涉影响很小，保证了抑制干涉条纹的效果。
表1
从以上实施例可以看出，本发明上述的实例实现了如下技术效果：本发明在利用中间层改善了产品密着性和耐久性的同时，使得按照本发明提供的离型膜产品具有光学外观良好的同时，又具有很好的密着性和耐久性。增加中间层的主要目的在于(1)改善离型涂层与基材的密着性；(2)提高离型膜的耐久性。含有羟基和环氧基主要是基于对基材密着性的考虑。羟基和环氧基中的H原子，O原子，C-O与基材原膜中含有的OH，C-O官能基有一定的亲和作用，能够改善界面的密着性。而密着性的提高以及中间层的插入，使得本发明所制备出的离型膜比其他没有中间层的离型膜具有更耐久的特性。含有不饱和官能基则是基于对上层离型层的密着性和整体离型膜耐久性的考虑。中间层表面的不饱和官能基可以和上层的离型层中的不饱和官能基反应，增强与离型层的密着性；与此同时，中间层内部的不饱和官能基之间的反应也会增强中间层的机械性能。离型层下表面的不饱和官能基可以和中间层的不饱和官能基反应，增强与中间层的密着性；与此同时，离型层内部，外表面的不饱和官能基之间的反应也会增强离型层的机械性能。
以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (15)
1.一种离型膜，其特征在于，所述离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，所述中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基团的树脂涂层。
2.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述中间层还包含羟基。
3.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述中间层为含硅或含氟的树脂涂层。
4.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述中间层的结构式如式Ⅰ或式Ⅱ所示，其中，
式Ⅰ为
式Ⅱ为且m、n均为大或于等于1的整数，R1、R2和R3独立地选自H、C1-C8的烷基或者C1-C8的烷基的氟代烷基；R4选自H、C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基；R5和R6独立地选自CH2或CF2；R7选自C1-C20的烷基或者氟代烷基、C1-C20的酯基或者氟代酯基、C1-C20的醚基或者氟代醚基。
5.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述中间层为由第一硅烷和第二硅烷在酸性环境下反应形成的树脂涂层，其中，所述第一硅烷为环氧基硅烷或环氧基氟硅烷，所述第二硅烷为不饱和官能基硅烷或不饱和官能基氟硅烷。
6.根据权利要求5所述的离型膜，其特征在于，所述环氧基硅烷选自环氧基-甲氧基硅烷、环氧基-乙氧基硅烷或环氧基-丙氧基硅烷；所述不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-乙氧基硅烷或不饱和官能基-丙氧基硅烷；所述环氧基氟硅烷选自环氧基-甲氧基氟硅烷、环氧基-乙氧基氟硅烷或环氧基-丙氧基氟硅烷；所述不饱和官能基硅烷选自不饱和官能基-甲氧基氟硅烷、不饱和官能基-乙氧基氟硅烷或不饱和官能基-丙氧基氟硅烷。
7.根据权利要求5所述的离型膜，其特征在于，所述中间层为由20％～75％wt的所述第一硅烷、20％～75％wt的所述第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，所述中间层为由20％～70％wt的所述第一硅烷、20％～75％wt的所述第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，所述中间层为由20％～70％wt的所述第一硅烷、20％～70％wt的所述第二硅烷和1％～20％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，所述中间层为由20％～70％wt的所述第一硅烷、20％～75％wt的所述第二硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层；优选的，所述中间层为由20％～70％wt的所述第一硅烷、20％～70％wt的所述第二硅烷和1％～15％wt的盐酸溶液反应形成的树脂涂层。
8.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述离型层为含有所述不饱和官能基的离型涂层。
9.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述离型层为含硅的离型涂层或者含氟的离型涂层。
10.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述中间层的厚度小于50纳米，优选为1～20纳米。
11.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述离型层的厚度小于50纳米，优选为1～30纳米。
12.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述基材原膜的厚度小于或等于500微米，优选为10～100微米。
13.一种权利要求1至12中任一项所述的离型膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
制备中间层涂布用材料；
在基材原膜上涂布述中间层涂布用材料，干燥后得到中间层，所述中间层为包含羟基、环氧基和不饱和官能基的树脂涂层；
在所述中间层的表面上形成离型层。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，制备所述中间层涂布用材料的步骤包括：将环氧基-甲氧基硅烷、不饱和官能基-甲氧基硅烷和盐酸按配比混合，并用有机溶剂溶解，加热搅拌后，得到所述中间层涂布用材料。
15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，
形成所述中间层的步骤包括：将所述中间层涂布用材料置于所述基材原膜的一侧表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟后，得到所述中间层；
形成所述离型层的步骤包括：将离型涂料助于述中间层的表面上进行刮涂，经过80～120℃的条件下干燥0.5～5分钟后，得到所述离型层。
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