CN104981738B - 制造平版印刷版的方法 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 84
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 38
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 claims abstract description 9
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 claims abstract description 9
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 claims abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 15
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 claims description 15
- 241000209094 Oryza Species 0.000 claims description 8
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 claims description 6
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 178
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 48
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 48
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 31
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 15
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 13
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 11
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 10
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 8
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 8
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 5
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 5
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 5
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 5
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 5
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- 229940093476 ethylene glycol Drugs 0.000 description 5
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 5
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 5
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical group CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJJOZVFVARQUJV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexylphosphonic acid Chemical compound CCCCC(CC)CP(O)(O)=O JJJOZVFVARQUJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Natural products CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 2
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRIAEXORFWYRCZ-UHFFFAOYSA-N Butylbenzyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 IRIAEXORFWYRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007836 KH2PO4 Substances 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- YZXBAPSDXZZRGB-DOFZRALJSA-N arachidonic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCC(O)=O YZXBAPSDXZZRGB-DOFZRALJSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- QEYWFXYXWMGDGV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-disulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O QEYWFXYXWMGDGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid Chemical compound OC(=O)CC=C PVEOYINWKBTPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 2
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHMGJGNTMQDRQA-UHFFFAOYSA-N dotriacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC QHMGJGNTMQDRQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- ZQPPMHVWECSIRJ-MDZDMXLPSA-N elaidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 235000019197 fats Nutrition 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940083094 guanine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 2
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N heptanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N icosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N mellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O YDSWCNNOKPMOTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- ISYWECDDZWTKFF-UHFFFAOYSA-N nonadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O ISYWECDDZWTKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- VHOCUJPBKOZGJD-UHFFFAOYSA-N triacontanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VHOCUJPBKOZGJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N tridecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(O)=O SZHOJFHSIKHZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 2
- VPTUPAVOBUEXMZ-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxy-2-phosphonoethyl)phosphonic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)CP(O)(O)=O VPTUPAVOBUEXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTRGDWOPRCXRET-UHFFFAOYSA-N (9Z,11E,13E)-4-Oxo-9,11,13-octadecatrienoic acid Natural products CCCCC=CC=CC=CCCCCC(=O)CCC(O)=O DTRGDWOPRCXRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- DTRGDWOPRCXRET-SUTYWZMXSA-N (9e,11e,13e)-4-oxooctadeca-9,11,13-trienoic acid Chemical compound CCCC\C=C\C=C\C=C\CCCCC(=O)CCC(O)=O DTRGDWOPRCXRET-SUTYWZMXSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- ATNNLHXCRAAGJS-QZQOTICOSA-N (e)-docos-2-enoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC\C=C\C(O)=O ATNNLHXCRAAGJS-QZQOTICOSA-N 0.000 description 1
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical class CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroxypropan-2-yl formate Chemical compound OCC(CO)OC=O LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXKZIDYFAMKWSA-UHFFFAOYSA-N 1,6-dioxacyclododecane-7,12-dione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)OCCCCO1 AXKZIDYFAMKWSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 1-(1,2-Diphosphanylethyl)pyrrolidin-2-one Chemical compound PCC(P)N1CCCC1=O LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLPSARLYTKXVSE-UHFFFAOYSA-N 1-(1,3-thiazol-5-yl)ethanamine Chemical compound CC(N)C1=CN=CS1 RLPSARLYTKXVSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNKHYQYAZLEEP-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-yloxynaphthalene Polymers C1=CC=C2C(OC=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ARNKHYQYAZLEEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAAZUWWNSYWWHG-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC1=CC=CC=C1 OAAZUWWNSYWWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CICDSZCELMNDRA-UHFFFAOYSA-N 10-(2-ethylhexoxy)-10-oxodecanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CICDSZCELMNDRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=NC=CN1 XYHKNCXZYYTLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,2-thiazole Chemical compound C1NSC=C1 YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMIUUCWUOPOETN-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1-(2,4,5-triphenylimidazol-2-yl)imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC(N2C(=C(N=C2C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)N=C1C1=CC=CC=C1 GMIUUCWUOPOETN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYIPVSJHMKXWFN-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylpyridine pyrrolidin-2-one Chemical compound C(=C)C1=NC=CC=C1.N1C(CCC1)=O LYIPVSJHMKXWFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTTPFCJTQXRWHO-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dichloroanilino)cyclohex-2-en-1-one Chemical compound ClC1=CC=CC(NC=2CCCC(=O)C=2)=C1Cl OTTPFCJTQXRWHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 3-Methylbutanoic acid Natural products CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-n-[(prop-2-enoylamino)methyl]propanamide Chemical compound BrCCC(=O)NCNC(=O)C=C CDOUZKKFHVEKRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCNC1=O MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIFPCDRPHCQLSJ-WYIJOVFWSA-N 4,8,12,15,19-Docosapentaenoic acid Chemical compound CC\C=C\CC\C=C\C\C=C\CC\C=C\CC\C=C\CCC(O)=O PIFPCDRPHCQLSJ-WYIJOVFWSA-N 0.000 description 1
- LOVAOFAFMFWSKC-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-sulfonaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=C1CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=CC=CC=C12 LOVAOFAFMFWSKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGUVPEBGCAVWID-KETMJRJWSA-N 7-O-(beta-D-glucosyl)isovitexin Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC(C(=C1O)[C@H]2[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)=CC2=C1C(=O)C=C(C=1C=CC(O)=CC=1)O2 HGUVPEBGCAVWID-KETMJRJWSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- 241000931526 Acer campestre Species 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920000945 Amylopectin Polymers 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- SYBUMOIKKHDLBN-UHFFFAOYSA-N C(=C)S(=O)(=O)O.C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(=C)S(=O)(=O)O.C1=CC=CC=C1 SYBUMOIKKHDLBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PODHJIQSMSGBRQ-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=C1.P(O)(O)=O Chemical class C1=CC=CC=C1.P(O)(O)=O PODHJIQSMSGBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLYHVLWJJRLFJQ-UHFFFAOYSA-N CCC(CCCCC)(CC)P(O)(O)=O.OCC Chemical compound CCC(CCCCC)(CC)P(O)(O)=O.OCC QLYHVLWJJRLFJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PIFPCDRPHCQLSJ-UHFFFAOYSA-N Clupanodonic acid Natural products CCC=CCCC=CCC=CCCC=CCCC=CCCC(O)=O PIFPCDRPHCQLSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000168525 Croton tiglium Species 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000001293 FEMA 3089 Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021353 Lignoceric acid Nutrition 0.000 description 1
- CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N Lignoceric acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCC1=CC=C(O)C=C1 CQXMAMUUWHYSIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYQRGCZGSFRBAM-UHFFFAOYSA-N Triclofos Chemical compound OP(O)(=O)OCC(Cl)(Cl)Cl YYQRGCZGSFRBAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006579 Tsuji-Trost allylation reaction Methods 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010669 acid-base reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229940114079 arachidonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000021342 arachidonic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCDKDPWBBDERJB-UHFFFAOYSA-N azanium;prop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound [NH4+].OC(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C XCDKDPWBBDERJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- MIAUJDCQDVWHEV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O MIAUJDCQDVWHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N beta-methyl-butyric acid Natural products CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920003065 carboxyethylmethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 230000009920 chelation Effects 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N didodecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCC PUFGCEQWYLJYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043237 diethanolamine Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- DROMNWUQASBTFM-UHFFFAOYSA-N dinonyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCC DROMNWUQASBTFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIMDHDXOBDPUQW-UHFFFAOYSA-N dioctyl decanedioate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC MIMDHDXOBDPUQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWVQUJDBOICHGH-UHFFFAOYSA-N dioctyl nonanedioate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC XWVQUJDBOICHGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- YCZJVRCZIPDYHH-UHFFFAOYSA-N ditridecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCCC YCZJVRCZIPDYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001484 edetic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- LRMHFDNWKCSEQU-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;phenol Chemical compound CCOCC.OC1=CC=CC=C1 LRMHFDNWKCSEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007046 ethoxylation reaction Methods 0.000 description 1
- FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N ethyl (z)-3-(methylamino)but-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C(\C)NC FARYTWBWLZAXNK-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005469 ethylenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 125000005456 glyceride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003370 grooming effect Effects 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- VXZBFBRLRNDJCS-UHFFFAOYSA-N heptacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VXZBFBRLRNDJCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-N hexacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O XMHIUKTWLZUKEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 235000012907 honey Nutrition 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N iron(2+);1,10-phenanthroline;dicyanide Chemical compound [Fe+2].N#[C-].N#[C-].C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1.C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 YAQXGBBDJYBXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000021290 n-3 DPA Nutrition 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007764 o/w emulsion Substances 0.000 description 1
- WEAGGGHXTMXZQA-UHFFFAOYSA-N octadec-2-ynoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC#CC(O)=O WEAGGGHXTMXZQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002885 octadecanoids Chemical class 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000003209 petroleum derivative Substances 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 1
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N phthalic acid diheptyl ester Natural products CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003251 poly(α-methylstyrene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical compound OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- HGUVPEBGCAVWID-UHFFFAOYSA-N saponarin Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OC(C(=C1O)C2C(C(O)C(O)C(CO)O2)O)=CC2=C1C(=O)C=C(C=1C=CC(O)=CC=1)O2 HGUVPEBGCAVWID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical class [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N sulfadiazine Chemical class C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC=CC=N1 SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Polymers O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- GVZXZHWIIXHZOB-UHFFFAOYSA-N tariric acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC#CCCCCC(O)=O GVZXZHWIIXHZOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDBJCCBRRCYCEG-UHFFFAOYSA-N tariric acid Natural products CCCCCCCCCCCCC#CCCCC(O)=O GDBJCCBRRCYCEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003626 triacylglycerols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960001147 triclofos Drugs 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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Abstract
一种制造平版印刷版的方法，其包括以下步骤：a)依图像曝光平版印刷版前体，其包含具有亲水表面或带有亲水层的载体和在所述载体上的包含可光聚合的组合物的感光或感热涂层，b)用第一溶液，接着用第二溶液加工所述前体，由此从非印刷区中的载体上除去涂层，其中所述第一和第二溶液由级联系统提供，其中所述第二溶液溢流到所述第一溶液中且所述第一溶液溢流到容器中以进一步作为废物处理，其中通过以至少5毫升/平方米处理的前体和最多100毫升/平方米处理的前体的比率添加补充溶液或补充溶液的混合物来使所述第二溶液再生，其中所述第一和第二溶液分别通过第一和第二液体输送系统循环，其中所述第一液体输送系统中存在的第一溶液具有分别通过公式1和公式2限定的至少Vmin和最多Vmax的体积，Vmin=[A+(加工宽度/0.95米)].升 (公式1)；Vmax=[B+(加工宽度/0.95米)].升 (公式2)。其中Vmin和Vmax分别代表所述第一液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A和B代表分别为2和15的恒定值，且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。
Description
发明领域
本发明涉及制造平版印刷版的方法，由此将平版印刷版前体依图像（image-wise）曝光并在级联系统中提供的第一和第二显影液中显影。
发明背景
在平版印刷中，将所谓的印刷母版，如印刷版安装在印刷机的滚筒上。母版在其表面上带有平版图像并通过将油墨施加到所述图像上然后将油墨从母版转移到接受材料（其通常是纸）上来获得印刷复制品。在传统的所谓“湿”平版印刷中，将油墨以及润版水溶液（也称作润版液）供应到由亲油（或疏水，即受墨、拒水）区以及亲水（或疏油，即受水，拒墨）区构成的平版图像上。在所谓的“无水胶印”印刷中，平版图像由受墨和憎墨（拒墨）区构成，并在无水胶印过程中，对母版仅供应油墨。
印刷母版通常通过所谓的计算机直接制片（computer-to-film）（CtF）法获得，其中以数字方式实现各种印前步骤，例如字样选择、扫描、分色、加网、陷印、套版（layout）和拼版（imposition），并使用图像照排机将各个颜色选择转移到制版胶片上。在处理后，可以使用该胶片作为被称作版前体的成像材料曝光用的掩模，并在印版处理后，获得可用作母版的印刷版。自大约1995年来，所谓的“计算机直接制版”（CtP）法已获得大量的关注。这种方法，也称作“直接制版”，避开了胶片的制造，因为数字文件借助所谓的制版机直接转移到印刷版前体上。用于CtP的印刷版前体通常被称作数字印版。
数字印版可大致分成三类：（i）银版，其根据银盐扩散转移机制工作；（ii）含有在曝光时硬化的可光聚合组合物的光聚合物版和（iii）热版，其成像机制由热或由光-热转化引发。主要使热版对在830纳米或1064纳米发射的红外激光感光。可以使光聚合物对蓝光、绿光或红光（即450至750纳米波长范围）、紫光（即350至450纳米波长范围）或红外光（即750至1500纳米波长范围）感光。越来越多地使用激光源使对相应激光波长感光的印刷版前体曝光。通常，可以使用Ar激光器（488纳米）或FD-YAG激光器（532纳米）使对可见光感光的光聚合物版曝光。最初为借助DVD的数据存储开发的低成本蓝光或紫光激光二极管的大规模可得性使得能够生产以较短波长工作的制版机。更具体地，已经使用InGaN材料实现发射350至450纳米的半导体激光器。也可以使用发射大约830纳米的红外激光二极管或发射大约1060纳米的Nd-YAG激光器。
在依图像曝光后，用显影液加工印刷版前体以从处于非印刷区的载体上除去涂层，暴露出基底的下方亲水表面。这些非印刷区是阴图制版（negative-working）的印刷版前体的未曝光区和正性工作的印刷版前体的曝光区。阴图制版的印刷版前体的未曝光区中的涂层未硬化，并且正性工作的印刷版前体的曝光区中的涂层在显影剂中的溶解度比未曝光区中高。除去非印刷区中的涂层的最常见方式是使依图像曝光的前体与显影液接触。显影液，下文也称作显影剂，可以是水溶液或溶剂基溶液。通常，该显影剂是碱性水溶液或在单个步骤中同时用于印版的显影和涂胶的胶溶液。
在加工过程中，显影剂开始载有在显影过程中脱除的涂层组分，且随着更多的前体显影，显影剂中的材料量增加。由于显影剂中的材料量增加，显影剂的活性降低，以致除去依图像曝光的前体的非印刷区的能力改变。这意味着，随着越多的前体显影，前体越无法以相同方式显影，以致印刷版的平版印刷性质改变。
对高品质印刷制版系统而言重要的是，每块加工的版的平版印刷性质尽可能处于恒定水平。这意味着当用新鲜显影剂开始显影过程时，显影剂活性也具有恒定活性水平或在使有限数量的版显影后达到恒定活性水平。
发明概述
本发明的一个目的是提供一种制造平版印刷版的方法，其中显影液在加工过程中具有改进的活性水平稳定性。通过权利要求1中规定的方法实现这一目的，其具体特征在于依图像曝光的平版印刷版前体用第一显影液，接着用第二显影液显影，其中这两种溶液都在级联系统中提供并分别通过第一和第二液体输送系统循环，其中通过以至少5毫升/平方米和最多100毫升/平方米的比率添加补充溶液或补充溶液的混合物来使第二溶液再生，且其中第一液体输送系统中存在的第一溶液具有分别通过公式1和公式2限定的至少Vmin和最多Vmax的体积。
由于通过添加少量再生剂（regenerator）来使第二溶液再生，其中第二溶液溢流到第一溶液中且第一溶液进一步溢流到容器中以作为废物处理，该方法具有使用少量显影液的经济优点和仅生成少量废液的生态优点。
在从属权利要求中规定了本发明的其它具体实施方案。
发明详述
根据本发明，提供一种制造平版印刷版的方法，其包括以下步骤：
a) 依图像曝光平版印刷版前体，其包含具有亲水表面或带有亲水层的载体和在其上的包含可光聚合的组合物的感光或感热涂层，
b) 用第一溶液，接着用第二溶液加工所述前体，由此从处于非印刷区的载体上除去涂层，
其中所述第一和第二溶液由级联系统提供，其中所述第二溶液溢流到所述第一溶液中且所述第一溶液溢流到容器中以进一步作为废物处理，
其中通过以至少5毫升/平方米处理的前体和最多100毫升/平方米处理的前体的比率添加补充溶液或补充溶液的混合物来使所述第二溶液再生，
其中所述第一和第二溶液分别通过第一和第二液体输送系统循环，
其中所述第一液体输送系统中存在的第一溶液具有分别通过公式1和公式2限定的至少Vmin和最多Vmax的体积，
Vmin = [A + (加工宽度/0.95米)].升 (公式1)
Vmax = [B + (加工宽度/0.95米)].升 (公式2)
其中Vmin和Vmax分别代表所述第一液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A和B代表分别为2和15的恒定值，且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。
感光或感热涂层
在本发明中，印刷版前体借助制版机，即适合使前体依图像曝光的激光曝光装置脱机（off-press）依图像曝光。本发明的方法中所用的前体是阴图制版的，其中该感光或感热涂层在曝光区中硬化。在此，“硬化”是指该涂层变成对于显影液不可溶或不可分散的。
在本发明中，所述载体上的感光或感热涂层包含图像记录层和任选在所述载体与所述图像记录层之间的中间层。该感光或感热涂层还可包含在所述感光或感热涂层上的顶层。所述载体上的感光或感热涂层包含可光聚合的组合物，其中这些硬化涂层区可通过该涂层的聚合和/或交联获得。该可光聚合的组合物包含可聚合化合物、聚合引发剂和粘合剂，以及任选增粘化合物。可聚合化合物、聚合引发剂和粘合剂优选存在于所述图像记录层中。增粘化合物可存在于所述图像记录层中或所述中间层中或这两个层中。
该可聚合化合物可以是具有至少一个末端乙烯基（ethylenic group）的烯键式不饱和化合物，下文也称作“可自由基聚合的单体”，且所述引发剂是能在曝光时，任选在敏化剂存在下生成自由基的化合物，所述引发剂在下文也称作“自由基引发剂”。合适的可自由基聚合的单体包括例如多官能(甲基)丙烯酸酯单体（如乙二醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇、乙氧基化乙二醇和乙氧基化三羟甲基丙烷的(甲基)丙烯酸酯、多官能氨酯化（urethanated）(甲基)丙烯酸酯和环氧化(甲基)丙烯酸酯）和低聚胺二丙烯酸酯。该(甲基)丙烯酸单体除(甲基)丙烯酸酯基团外还可具有其它双键或环氧基。该(甲基)丙烯酸酯单体还可含有酸性（如羧酸）或碱性（如胺）官能团。可以使用能在曝光时直接或在敏化剂存在下生成自由基的任何自由基引发剂作为本发明的自由基引发剂。优选地，可使用六芳基双咪唑（HABI；三芳基咪唑的二聚物）化合物作为自由基光聚合引发剂。该可聚合化合物也可以是包含环氧基或乙烯基醚官能团的化合物，且用于这类可聚合化合物的引发剂是能在曝光时，任选在敏化剂存在下生成游离酸的布朗斯台德酸发生剂，所述引发剂在下文也称作“阳离子光引发剂”或“阳离子引发剂”。
该增粘化合物是能与所述载体相互作用的化合物，优选是具有可加聚的烯键式不饱和键和能与载体相互作用的官能团，更优选能与粒化和阳极化的铝载体相互作用的官能团的化合物。“相互作用”被理解为是导致在该官能团与该载体之间形成键的各类物理和/或化学反应或过程，所述键可以是共价键、离子键、络合键、配位键或氢桥键并且其可通过吸附过程、化学反应、酸-碱反应、络合物形成反应或螯合基团或配体的反应形成。该增粘化合物可选自如EP-A 851 299第3页第22行至第4页第1行、EP-A 1 500 498第7页第[0023]段至第20页第[0052]段、EP-A 1 495 866第5页第[0030]段至第11页第[0049]段、EP-A 1 091251第3页第[0014]段至第20页第[0018]段和EP-A 1 520 694第6页第[0023]段至第19页第[0060]段中描述的至少一种低分子量化合物或聚合化合物。
该可光聚合的组合物还可包含共引发剂。通常，共引发剂与自由基引发剂和/或阳离子引发剂结合使用。在US 6,410,205、US 5,049,479、EP 1079276、1369232、EP 1369231、EP 1341040、US 2003/0124460、EP 1241002、EP 1288720和参考书，包括引用的参考文献：Chemistry & Technology UV & EB formulation for coatings, inks & paints – 第3卷 – Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerisation by K.K.Dietliker – 由P.K.T. Oldring编辑 – 1991 – ISBN 0 947798161中公开了用在光聚合物涂层中的特定共引发剂。
该可光聚合的组合物还可包含抑制剂。在US 6,410,205、EP 1288720和未公开的专利申请EP-A 04101955（6/5/2004提交）中公开了用在光聚合物涂层中的特定抑制剂。
该可光聚合的组合物还可包含粘合剂。该粘合剂可选自广泛的一系列有机聚合物。也可以使用不同粘合剂的组合物。可用的粘合剂包括例如氯化聚烯（特别是氯化聚乙烯和氯化聚丙烯）、聚甲基丙烯酸烷基酯或烯基酯（特别是聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、聚(甲基)丙烯酸丁酯、聚(甲基)丙烯酸异丁酯、聚(甲基)丙烯酸己酯、聚(甲基)丙烯酸(2-乙基己基)酯，和(甲基)丙烯酸烷基酯或烯基酯与其它可共聚单体（特别是与(甲基)丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、苯乙烯和/或丁二烯）的聚(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物、聚氯乙烯（PVC、氯乙烯/(甲基)丙烯腈共聚物、聚偏二氯乙烯(PVDC)、偏二氯乙烯/(甲基)丙烯腈共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡咯烷酮或烷基化乙烯基吡咯烷酮的共聚物、聚乙烯基己内酰胺、乙烯基己内酰胺的共聚物、聚(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯腈/苯乙烯共聚物、(甲基)丙烯酰胺/(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物、(甲基)丙烯腈/丁二烯/苯乙烯（ABS）三元共聚物、聚苯乙烯、聚(α-甲基苯乙烯)、聚酰胺、聚氨酯、聚酯、甲基纤维素、乙基纤维素、乙酰纤维素、羟基-(C1-C4-烷基)纤维素、羧甲基纤维素、聚乙烯醇缩甲醛和聚乙烯醇缩丁醛。典型的粘合剂是具有乙烯基己内酰胺、乙烯基吡咯烷酮或烷基化乙烯基吡咯烷酮作为单体单元的聚合物。可通过将α-烯烃接枝到乙烯基吡咯烷酮聚合物骨架上获得烷基化乙烯基吡咯烷酮聚合物。此类产品的典型实例是可商购自ISP的AgrimerAL接枝聚合物。烷基化基团的长度可以为C4至C30不等。其它可用的粘合剂是含羧基的粘合剂，特别是含有α,β-不饱和羧酸的单体单元或α,β-不饱和二羧酸（优选丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、乙烯基乙酸、马来酸或衣康酸）的单体单元的共聚物。术语“共聚物”在本发明的上下文中被理解为是含有至少2种不同单体的单元的聚合物，因此也包括三元共聚物和更高级的混合聚合物。可用的共聚物的特定实例是含有(甲基)丙烯酸单元和(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯和/或(甲基)丙烯腈单元的共聚物以及含有巴豆酸单元和(甲基)丙烯酸烷基酯和/或(甲基)丙烯腈单元的共聚物和乙烯基乙酸/(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物。含有马来酸酐或马来酸单烷基酯单元的共聚物也是合适的共聚物。
该可光聚合的组合物可进一步包含表面活性剂（以赋予或增强该涂层的可显影性）、敏化剂、着色剂和顶层。该顶层可充当存在于前体的感光或感热涂层之上的阻氧层。顶层中可用的优选粘合剂是聚乙烯醇和22/09/2003提交的EP-A-3103498、US 6,410,205和EP1 288 720（包括这些专利和专利申请中引用的参考文献）中公开的聚合物。用于顶层的最优选粘合剂是聚乙烯醇。该聚乙烯醇优选具有74摩尔%至99摩尔%的水解度。
可通过本领域中已知的任何涂布技术在载体上施加感光或感热涂层。在施加该涂层后，所施加的一个或多个层如本领域中公知的那样干燥。
载体
特别优选的平版印刷载体是电化学粒化和阳极化的铝载体。铝载体的粒化和阳极化是公知的。用于粒化的酸可以是例如硝酸或硫酸。用于粒化的酸优选包含氯化氢。也可以使用例如氯化氢与乙酸的混合物。一方面电化学粒化和阳极化参数，例如电极电压、酸电解质的性质和浓度或功率消耗与另一方面在Ra和阳极重量（在铝表面上形成的Al2O3的克/平方米）方面的所得平版印刷质量之间的关系是公知的。关于各种生产参数与Ra或阳极重量之间的关系的更多细节可见于例如F. R. Mayers的文章"Management of Change in theAluminium Printing Industry"，出版在ATB Metallurgie Journal中, 第42 nr. 1-2卷(2002)第69页。
可以对该阳极化的铝载体施以所谓的后阳极处理以改进其表面的亲水性质。例如，铝载体可通过用硅酸钠溶液在升高的温度，例如95℃下处理其表面来硅酸化。或者，可以实施磷酸盐处理，其包括用可进一步含有无机氟化物的磷酸盐溶液处理氧化铝表面。此外，氧化铝表面可以用柠檬酸或柠檬酸盐溶液冲洗。这种处理可以在室温下进行，或可以在大约30至50℃的略微升高的温度下进行。另一有用的处理包括用碳酸氢盐溶液冲洗氧化铝表面。再另外，氧化铝表面可以用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯、和通过与磺酸化脂族醛反应形成的聚乙烯醇的缩醛来处理。
另一可用的后阳极处理可以用聚丙烯酸或包含至少30摩尔%丙烯酸单体单元的聚合物（例如GLASCOL E15，一种可商购自ALLIED COLLOIDS的聚丙烯酸）的溶液进行。
该粒化和阳极化的铝载体可以是片状材料，如板，或其可以是圆筒元件，如可围绕印刷机的印刷滚筒滑动的套筒。
该载体也可以是挠性载体，其可带有亲水层，在下文中称作“基层”。挠性载体是例如纸、塑料膜或铝。塑料膜的优选实例是聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜、乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。该塑料膜载体可以是不透明或透明的。该基层优选是由用硬化剂，如甲醛、乙二醛、多异氰酸酯或水解原硅酸四烷基酯交联的亲水粘合剂获得的交联亲水层。后者特别优选。该亲水基层的厚度可以为0.2至25微米不等，且优选为1至10微米。基层的优选实施方案的更多细节可见于例如EP-A 1 025 992。
曝光
在制版机，即适合通过激光器，如发射大约830纳米的激光二极管、发射大约1060纳米的NdYAG激光器、发射大约400纳米的紫光激光器或气体激光器（如Ar激光器），或通过数字调制的UV曝光，例如借助数字镜子装置，或通过与掩模接触的传统曝光法使前体依图像曝光的曝光装置中，脱机（off-press）进行依图像曝光步骤。使用发射具有大约700至大约1500纳米波长的近红外辐射的激光器，例如半导体激光二极管、Nd:YAG或Nd:YLF激光器。可以在用具有250 mJ/cm2或更低，更优选150 mJ/cm2或更低，最优选100 mJ/cm2或更低的在前体表面处测得的能量密度的红外辐射依图像曝光印刷版前体时获得平版印刷图像。借助印刷版上的有效平版印刷图像，在纸上的至少1 000个印刷物（print）上2%的点（在200 lpi下）完全可见。
预热
在这种依图像曝光步骤后，前体可以在预热单元中优选在大约80℃至150℃的温度下和优选大约5秒至1分钟的停留时间的条件下预热。这种预热单元可包含加热元件，优选红外灯、紫外灯、加热空气或加热辊。这样的预热步骤通常用于增强或加速聚合和/或交联反应。
在本发明的另一实施方案中，该前体在依图像曝光步骤之后不预热。
加工
在成像步骤或预热步骤（当存在预热步骤时）后，处理版前体，即显影，其中将显影液施加到前体的涂层上，由此从载体上除去可溶涂层区，暴露出载体的亲水表面。该显影液可以是水溶液或溶剂基溶液。在平版印刷版前体的加工中通常使用碱性水溶液。
术语水性包括水或水与水混溶性有机溶剂，如醇类，例如甲醇、乙醇、2-丙醇、丁醇、异戊醇、辛醇、鲸蜡醇、苄醇、苯氧基丙醇等；二醇类，例如乙二醇；甘油；N-甲基吡咯烷酮；甲氧基丙醇；和酮类，例如2-丙酮和2-丁酮；等的混合物。水混溶性有机溶剂可以以最多50重量%，优选小于20重量%，更优选小于10重量%存在于这些混合物中，最优选在该水溶液中不存在有机溶剂。该水溶液可进一步包含溶解或分散在水或水与水混溶性溶剂的混合物中的化合物。此类化合物可选自如下所述的胶溶液的化合物。
目前，大多数商业平版印刷版在将曝光的版显影之后和在将其置于印刷机上之前需要额外的涂胶过程，以保护该版免受例如由氧化、指纹、脂肪、油或灰尘带来的污染或免受例如由版装卸过程中的划痕带来的破坏。
在本发明的一个优选实施方案中，仅用胶溶液处理该平版印刷版前体。用胶溶液显影的额外益处在于，由于在未曝光区中留在版上的胶料，不需要额外的涂胶步骤来保护非印刷区中的载体表面。因此，该前体在单个步骤中加工并涂胶，且版上的所得平版印刷图像不受环境日光或污染的影响。在印刷步骤中，将该版安装在印刷机的印版滚筒上并启动印刷过程。
胶溶液
胶溶液通常是包含一种或多种能够保护印刷版的平版印刷图像免受例如由氧化、指纹、脂肪、油或灰尘带来的污染或例如由版装卸过程中的划痕带来的破坏的表面保护化合物的水性液体。此类化合物的合适实例是成膜亲水聚合物或表面活性剂。在用胶溶液处理后留在版上的层优选包含0.005至20克/平方米，更优选0.010至10克/平方米，最优选0.020至5克/平方米的表面保护化合物。
在本说明书中，除非另行指明，胶溶液中存在的化合物的所有浓度以相对于即用胶溶液的重量百分比（wt.%或% w/w）表示。胶溶液通常作为浓缩溶液供应，其在使用前由最终用户根据供应商的指示用水稀释成即用胶溶液，通常1份胶用1份至10份水稀释。
用作胶溶液中的保护性化合物的优选聚合物是阿拉伯树胶、支链淀粉、纤维素衍生物，如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素或甲基纤维素、(环)糊精、聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、多糖、丙烯酸、甲基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物、乙烯基甲基醚和马来酸酐的共聚物、乙酸乙烯酯和马来酸酐的共聚物或苯乙烯和马来酸酐的共聚物。高度优选的聚合物是含有羧酸基、磺酸基或膦酸基或其盐的单体，例如(甲基)丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸或丙烯酰胺基丙磺酸的均聚物或共聚物。
用作表面保护剂的表面活性剂的实例包括阴离子表面活性剂或非离子表面活性剂或两性离子表面活性剂。该胶溶液还可包含一种或多种上述亲水聚合物作为表面保护剂，和另外一种或多种表面活性剂以改进涂层的表面性质。该胶溶液的表面张力优选为20至50 mN/m。
该胶溶液优选包含阴离子表面活性剂，更优选其中阴离子基团为磺酸基的阴离子表面活性剂。
阴离子表面活性剂的实例包括脂族酸盐（aliphate）、松香酸盐、羟基链烷磺酸盐、链烷磺酸盐、二烷基磺基丁二酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚的盐、N-甲基-N-油酰基牛磺酸钠、N-烷基磺基丁二酸单酰胺二钠、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛脂油、脂族烷基酯的硫酸酯的盐、烷基硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂族单酸甘油酯的硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯的盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯的盐、烷基磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯的盐、苯乙烯马来酸酐共聚物的部分皂化化合物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化化合物、和萘磺酸盐福尔马林缩合物。这些阴离子表面活性剂中特别优选的是二烷基磺基丁二酸盐、烷基硫酸酯的盐和烷基萘磺酸盐。
合适的阴离子表面活性剂的具体实例包括十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化萘磺酸钠盐、亚甲基-二萘-二磺酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、磺酸化烷基-二苯醚、全氟烷基磺酸铵或全氟烷基磺酸钾和二辛基磺基丁二酸钠。
非离子表面活性剂的合适的实例包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基芳基醚（其中芳基可以是苯基、萘基或芳族杂环基团）、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物、甘油脂族酸的偏酯、失水山梨糖醇脂族酸的偏酯、季戊四醇脂族酸的偏酯、丙二醇单脂族酸酯、蔗糖脂族酸的偏酯、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂族酸的偏酯、聚氧乙烯山梨糖醇脂族酸的偏酯、聚乙二醇脂族酸酯、聚甘油脂族酸的偏酯、聚氧乙烯化蓖麻油、聚氧乙烯甘油脂族酸的偏酯、脂族酰二乙醇胺（aliphaticdiethanolamide）、N,N-双-2-羟基烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂族酯和三烷基胺氧化物。这些非离子表面活性剂中特别优选的是聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯烷基萘基醚和聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物。此外，可以类似地使用含氟（fluorinic）和含硅（siliconic）的阴离子型和非离子型表面活性剂。
两性离子表面活性剂的合适的实例包括Raluphon DCH（即椰油烷基，大约53%C12）。
可以结合使用两种或更多种上述表面活性剂。例如，两种或更多种不同的阴离子表面活性剂的组合或阴离子表面活性剂与非离子表面活性剂的组合可以是优选的。此类表面活性剂的量不受具体限制，但优选为0.01至30重量%，更优选0.05至20重量%。
根据本发明，该胶溶液具有优选3至9，更优选4.5至8.5，最优选5至7的pH值。通常用0.01至15重量%，优选0.02至10重量%的量的无机酸、有机酸或无机盐调节该胶溶液的pH。无机酸的实例包括硝酸、硫酸、磷酸和偏磷酸。尤其使用有机酸作为pH控制剂和作为减感剂。有机酸的实例包括羧酸、磺酸、膦酸或其盐，例如丁二酸盐、磷酸盐、膦酸盐、硫酸盐和磺酸盐。有机酸的具体实例包括柠檬酸、乙酸、草酸、丙二酸、对甲苯磺酸、酒石酸、苹果酸、乳酸、乙酰丙酸、植酸和有机膦酸。
该胶溶液进一步优选包含无机盐。无机盐的实例包括硝酸镁、磷酸二氢钠、磷酸氢二钠、硫酸镍、六偏磷酸钠和三聚磷酸钠。磷酸二氢碱金属盐，如KH2PO4或NaH2PO4为最优选。可以使用其它无机盐作为缓蚀剂，例如硫酸镁或硝酸锌。无机酸、有机酸或无机盐可以单独或与其中一种或多种结合使用。
根据本发明的另一实施方案，在版前体的加工中作为显影剂的胶溶液优选包含阴离子表面活性剂和无机盐的混合物。在这种混合物中，阴离子表面活性剂优选是具有磺酸基的阴离子表面活性剂，更优选是单-或二烷基取代的二苯基醚-磺酸的碱金属盐，且无机盐优选是一元或二元磷酸盐，更优选是磷酸二氢碱金属盐，最优选是KH2PO4或NaH2PO4。
根据本发明的另一实施方案，包含阴离子表面活性剂与无机盐的混合物的胶溶液具有优选3至9，更优选4至8，最优选5至7的pH值。
除上述组分外，胶溶液中还可存在润湿剂，如乙二醇、丙二醇、二缩三乙二醇、二缩三丙二醇、丁二醇、己二醇、一缩二乙二醇、一缩二丙二醇、甘油、三羟甲基丙烷和双甘油。润湿剂可以单独或与其中一种或多种结合使用。一般而言，上述润湿剂优选以1至25重量%的量使用。
此外，胶溶液中可存在螯合化合物。稀释水中所含的钙离子和其它杂质可能对印刷产生不利影响并因此造成印刷品的污染。可以通过在稀释水中加入螯合化合物来消除这一问题。这种螯合化合物的优选实例包括有机膦酸或膦酰基链烷三羧酸。具体实例是以下酸的钾盐或钠盐：乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、次氮基三乙酸、1-羟基乙烷-1,1-二膦酸和氨基三(亚甲基膦酸)。除了这些螯合剂的这些钠盐或钾盐外，也可用有机胺盐。这种螯合剂的优选添加量为相对于稀释形式的胶溶液的0.001至5重量%。
此外，胶溶液中可存在防腐剂和防沫剂。此类防腐剂的实例包括：酚、其衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、脱氢乙酸钠、4-异噻唑啉-3-酮衍生物、苯并异噻唑啉-3-酮、苯并三唑衍生物、脒胍衍生物、季铵盐、吡啶衍生物、喹啉衍生物、胍衍生物、二嗪、三唑衍生物、噁唑和噁嗪衍生物。此类防腐剂的优选添加量为使其可以对细菌、真菌、酵母或类似物发挥稳定作用的量。尽管取决于细菌、真菌和酵母的种类，但其优选为相对于稀释形式的胶溶液的0.01至4重量%。此外，优选可结合使用两种或更多种防腐剂以对各种真菌和细菌发挥灭菌作用。防沫剂优选为有机硅防沫剂。在这些防沫剂中，可以使用乳液分散型或增溶型防沫剂。此类防沫剂的适当添加量为稀释形式的胶溶液的0.001至3.0重量%。
除上述组分外，如果需要，胶溶液中还可存在吸墨剂（ink receptivity agent）。此类吸墨剂的实例包括：松节油、二甲苯、甲苯、低庚烷（low heptane）、溶剂石脑油、煤油、石油溶剂油、烃（例如沸点为大约120℃至大约250℃的石油馏分），邻苯二甲酸二酯（例如邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二庚酯、邻苯二甲酸二正辛酯、邻苯二甲酸二(2-乙基己基)酯、邻苯二甲酸二壬酯、邻苯二甲酸二癸酯、邻苯二甲酸二月桂酯、邻苯二甲酸丁基苄酯）、二元脂族酸酯（例如己二酸二辛酯、己二酸丁二醇酯、壬二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、癸二酸(2-乙基己基)酯、癸二酸二辛酯）、环氧化甘油三酯（例如环氧大豆油）、磷酸酯（例如磷酸三甲苯酯、磷酸三辛酯、磷酸三氯乙酯）和在一个大气压下具有15℃或更低的凝固点和300℃或更高的沸点的增塑剂，如苯甲酸酯（例如苯甲酸苄酯）。可以与这些溶剂结合使用的其它溶剂的实例包括：酮类（例如环己酮）、卤代烃（例如二氯乙烷）、乙二醇醚（例如乙二醇单甲醚、乙二醇单苯醚、乙二醇单丁醚）、脂族酸（例如己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一烷酸、十二烷酸、十三烷酸、十四烷酸、十五烷酸、十六烷酸、十七烷酸、十八烷酸、十九烷酸、二十烷酸、二十二烷酸、二十四烷酸、二十六烷酸、二十七烷酸、二十八烷酸、三十烷酸、三十二烷酸、异戊酸）和不饱和脂族酸（例如丙烯酸、巴豆酸、异巴豆酸、十一烷酸（undecyclicacid）、油酸、反油酸、二十二碳烯酸、芥酸、丁烯二酸（butecidic acid）、山梨酸、亚油酸、亚麻酸、花生四烯酸、丙炔酸、十八碳炔酸、二十二碳五烯酸、塔日酸、十八碳三烯-4-酮酸）。优选地，其是在50℃的温度下为液体的脂族酸，更优选具有5至25个碳原子，最优选具有8至21个碳原子。该吸墨剂可以单独使用或与其中一种或多种结合使用。吸墨剂优选以0.01至10重量%，更优选0.05至5重量%的量使用。前述吸墨剂可以作为水包油乳状液存在或可以借助增溶剂增溶。
可以通过添加增粘化合物，如聚(环氧乙烷)或聚乙烯醇（例如，具有104至107的分子量）来将胶溶液的粘度调节至例如1.7至5 mPa.s的值。此类化合物可以以0.01至10克/升的浓度存在。
烤版胶具有如上所述的类似组成，另外优选的是在常规烘烤温度下不蒸发的化合物。烤版胶溶液或烤版涂胶溶液可以是十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化萘磺酸、磺酸化烷基二苯醚、亚甲基二萘磺酸等的水溶液。另一些涂胶溶液含有亲水聚合物组分和有机酸组分。再另一些烤版涂胶溶液含有羟基亚乙基二膦酸的钾盐。再另一些烤版涂胶溶液含有磺基琥珀酰胺酸盐化合物和磷酸。
优选通过添加至少一种表面活性剂来降低烤版胶溶液与印版之间的接触角。优选的表面活性剂是非离子聚二醇和全氟化脂族聚酯丙烯酸酯。
在另一实施方案中，该烤版涂胶溶液包含(a) 水、(b) 至少一种亲水性聚合物和(c) 至少一种选自含有至少两个酸官能的水溶性有机酸的组分，其选自苯羧酸、苯磺酸、苯膦酸、链烷膦酸及其水溶性盐。根据本发明溶解在水溶液中的上述化合物(b)和(c)使得它们不会在常规烘烤温度下蒸发。所形成的保护层即使在烘烤后也保持水溶性，并可在不破坏印刷版的情况下容易地除去。组分(b)特别包含下列亲水聚合物：N-聚乙烯基-吡咯烷酮、聚乙烯基甲醚、含有乙烯单元和马来酸酐单元的共聚物、含有乙烯基膦酸单元、乙烯基甲基次膦酸单元和/或丙烯酸单元的均聚物或共聚物和/或聚亚烷基二醇，如聚乙二醇。组分(c)特别包含：苯二磺酸、具有3至6个羧基的苯聚羧酸、在链烷基团中具有1至3个碳原子的链烷二膦酸、在链烷基团中具有5至9个碳原子的含羧基的链烷二膦酸、和/或这些酸的水溶性盐之一（优选碱金属盐或铵盐）。组分(c)的具体实例包括苯-1,3-二磺酸、苯-1,2,4-三甲酸（苯偏三酸）、苯1,2,4,5-四甲酸（苯均四酸）、苯六甲酸（蜜腊酸）、甲烷二膦酸（二膦酰基甲烷）、4,4-二膦酰基-庚烷-1,7-二酸（3,3-二膦酰-庚二酸）和这些酸的钠盐。在另一些实施方案中，所用的烤版涂胶溶液可另外含有羟基-聚羧酸，如柠檬酸和/或其盐，具有至少4个碳原子的水溶性链烷二醇，如己二醇-(1,6)和表面活性剂（优选阴离子型或非离子型表面活性剂），如烷基芳基磺酸盐、烷基酚醚磺酸盐和天然表面活性剂（例如皂草苷）。合适的烤版胶溶液、其成分和浓度的具体实例可见于例如EP-A 222 297、EP-A 1 025 992、DE-A 2626 473和US 4,786,581。
加工方法
根据本发明，依图像曝光的前体用第一溶液，接着用第二溶液显影，由此从处于非印刷区的载体上除去涂层。这两种溶液由级联系统提供，其中第二溶液溢流到第一溶液中且所述第一溶液溢流到容器中以进一步作为废物处理或进一步通过过滤、倾析或离心等处理，以使其可至少部分作为显影液和/或补充溶液再生。
第一和第二溶液分别通过第一和第二液体输送系统循环。这些液体输送系统各自包含槽（bath）、泵、一组管道以使该溶液循环。在自动装置中通过喷涂、喷射、浸渍或涂布技术（包括旋涂、辊涂、狭缝涂布或凹版涂布）使这些溶液各自与依图像曝光的前体接触。喷涂、喷射、浸渍或涂布技术是优选的，喷涂或喷射更优选。
在加工过程中，优选在将第一和第二溶液各自施加到该涂层上的同时用至少一个辊摩擦和/或刷涂该前体的涂层。第一和第二溶液各自由存在该溶液的槽提供，且其中可以收集施加在前体上的溶液并导向循环泵并数次用于使前体显影。
显影步骤中使用的第一和第二溶液优选具有15℃至85℃，更优选18℃至65℃，最优选20℃至55℃的温度。
根据本发明，第一液体输送系统中存在的第一溶液具有分别通过公式1和公式2限定的至少Vmin和最多Vmax的体积，
Vmin = [A + (加工宽度/0.95米)].升 (公式1)
Vmax = [B + (加工宽度/0.95米)].升 (公式2)
其中Vmin和Vmax分别代表所述第一液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A和B代表分别为2和15的恒定值，且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。在本发明的一个优选实施方案中，B的值是10，更优选8，最优选6。
根据本发明，通过添加补充溶液或补充溶液的混合物来使第二溶液再生。重要的是，添加到第二溶液中的外加补充溶液的量必须小以限制在加工过程中生成的废显影剂的量。因此，补充率为至少5毫升一种或多种补充溶液的总量/平方米处理的前体和最多100毫升一种或多种补充溶液的总量/平方米处理的前体，优选至少20毫升/平方米和最多85毫升/平方米，更优选至少50毫升/平方米和最多75毫升/平方米。
在本发明的一个优选实施方案中，通过具有与初始第二溶液相同组成的补充溶液来使第二溶液再生。在本发明的另一实施方案中，通过具有相比初始第二溶液中存在的活性组分浓度较高浓度的组成的补充溶液来使第二溶液再生。在另一实施方案中，通过补充溶液的混合物使第二溶液再生。这样的补充溶液的混合物可包含至少一种其中仅存在初始第二溶液组合物的一种或两种或三种活性组分（任选具有与初始第二溶液中存在的浓度不同的浓度）的溶液，该混合物的其它一种或多种溶液可包含第一补充溶液中不存在的其它一种或多种活性组分，任选具有与初始第二溶液中存在的浓度不同的浓度。当使用补充溶液的混合物时，补充溶液之一可以是水。
可以通过测量至少一个下列参数，如显影的版前体的数量和面积、显影时间段、各显影槽中的体积（最小水平和最大水平）、溶液的粘度（或粘度提高）、溶液的pH（或pH变化）、溶液的密度（或密度提高）和溶液的电导率（或电导率提高）或其中至少两项的组合，优选显影的版前体的面积来调节补充溶液的添加，即补充溶液的类型和量。可以用PAAR密度计测量溶液的密度（或密度提高）。当通过参数的测量调节补充溶液的添加时，在达到或超过该参数的预定阈值时，可以连续或以分批形式添加补充剂。每次添加的批量取决于预定阈值。在本发明的一个实施方案中，这一测量参数是加工前体的平方米数并每次在加工了固定的前体面积后以分批形式加入预定量的补充剂。加工前体的这一固定面积是优选为0.5至20平方米加工前体，更优选0.8至10平方米加工前体，最优选1至5平方米加工前体的值。
该前体首先用第一溶液显影，然后接着用第二溶液显影。由此，用第一溶液除去该前体的大部分可溶涂层部分，脱除的材料积聚在第一溶液中，以致该溶液的显影活性改变。由于将补充溶液添加到第二溶液中和由于与第一溶液级联的第二溶液的溢流，第一溶液中的脱除材料浓度达到恒定水平。重要的是，在以新鲜显影液开始时，为获得脱除材料的这一恒定浓度水平而使加工的印版数尽可能小，因为显影活性的变化可能造成不同的平版印刷性质。因此，第一液体输送系统中存在的第一溶液的体积必须尽可能小。根据本发明，这一体积为至少Vmin和最多Vmax，如分别通过公式1和公式2限定的那样，
Vmin = [A + (加工宽度/0.95米)].升 (公式1)
Vmax = [B + (加工宽度/0.95米)].升 (公式2)
其中Vmin和Vmax分别代表所述第一液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A和B代表分别为2和15，优选分别为2和10，更优选分别为2和8，最优选分别为2和6的恒定值，且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。
在本发明的另一实施方案中，第二液体输送系统中存在的第二溶液的体积具有分别通过公式3和公式4限定的至少Vmin和最多Vmax的体积，
Vmin = [A' + (加工宽度/0.95米)].升 (公式3)
Vmax = [B' + (加工宽度/0.95米)].升 (公式4)
其中Vmin和Vmax分别代表所述第二液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A' 和B' 代表分别为2和15，优选分别为2和10，更优选分别为2和8，最优选分别为2和6的恒定值，且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。在本发明的另一优选实施方案中，第二液体输送系统中存在的第二溶液的体积与第一液体输送系统中存在的第一溶液的体积相同。
可通过添加补充溶液或补充溶液的混合物来使第一溶液再生。重要的是，添加到第一溶液中的外加补充溶液的量必须小以限制在加工过程中生成的废显影剂的量。因此，补充率为至少5毫升一种或多种补充溶液的总量/平方米处理的前体和最多100毫升一种或多种补充溶液的总量/平方米处理的前体，优选至少20毫升/平方米和最多85毫升/平方米，更优选至少50毫升/平方米和最多75毫升/平方米。在本发明的另一实施方案中，通过具有与初始第一溶液相同的组成或具有相比初始第一溶液中存在的活性组分浓度较高浓度的组成的补充溶液使第一溶液再生。在另一实施方案中，通过补充溶液的混合物使第一溶液再生。这样的补充溶液的混合物可包含至少一种其中仅存在初始第一溶液组合物的一种或两种或三种活性组分（任选具有与初始第一溶液中存在的浓度不同的浓度）的溶液，该混合物的其它一种或多种溶液可包含第一补充溶液中不存在的其它一种或多种活性组分，任选具有与初始第一溶液中存在的浓度不同的浓度。当使用补充溶液的混合物时，补充溶液之一可以是水。在一个更优选的实施方案中，通过添加水来使第一溶液再生。
根据另一高度优选的实施方案中，通过如上定义的方法制造平版印刷版，其中第一和第二溶液是胶溶液，由此在单个步骤中将印版显影和涂胶，且其中用具有与第一和第二溶液的初始胶溶液相同的组成的胶溶液使第二溶液再生，任选其中用水使第一溶液再生。
根据本发明，本发明的处理机还可包含如EP 2 221 670 A2的自动显影装置中规定的导辊和刷辊的构造。
干燥
根据本发明的另一实施方案，可以在该加工步骤后在干燥单元中干燥该印版。在一个优选实施方案中，通过在可含有选自红外灯、紫外灯、加热金属辊或加热空气的至少一个加热元件的干燥单元中加热印版来干燥印版。在本发明的一个优选实施方案中，如典型显影机的干燥段中已知的那样，用加热空气来干燥印版。
烘烤
根据本发明的另一实施方案，可以在烘烤单元中加热该印版，任选在使该印版干燥之后。在本发明的一个优选实施方案中，当在烘烤单元中加热印版时，使用烤版胶使前体显影并优选通过添加补充的烤版胶来补充胶溶液。所述补充的烤版胶是可选自初始烤版胶（即具有与显影开始时使用的烤版胶相同组成的溶液）、浓缩烤版胶或稀释烤版胶（即分别具有相比初始烤版胶较高或较低的添加剂浓度和水的溶液）的溶液。
该烘烤单元可含有选自红外灯、紫外灯、加热金属辊或加热空气的至少一个加热元件。印版优选在烘烤单元中在高于110℃和低于涂层分解温度，更优选200℃至295℃，最优选250℃至290℃的温度下加热。当使用较低加热温度时，通常使用较长加热时间，且当使用较高加热温度时，使用较短加热时间。印版优选加热少于10分钟，更优选少于5分钟，最优选少于2分钟的时间段。
在本发明的一个优选实施方案中，印版通过如EP-A 1 506 854中描述的方法加热。在本发明的另一优选实施方案中，印版通过如WO 2005/015318中描述的方法加热。
在本发明的另一实施方案中，干燥步骤和加热步骤可以合并在单个步骤中，其中印版在显影步骤后在集成的干燥-烘烤台中进行干燥和加热。
单一装置
根据本发明的另一实施方案，第一显影槽和第二显影槽通过机械印版传送装置联接在一起。如果需要预热步骤，第一显影槽可通过机械印版传送装置进一步联接到预热单元上。第二显影槽可通过机械印版传送装置进一步联接到干燥单元上。任选地，当在干燥前将印版涂胶时，第二显影槽可通过机械印版传送装置联接到冲洗单元（如果存在）上并进一步联接到涂胶单元上；涂胶单元然后进一步联接到干燥单元上。干燥单元可通过机械印版传送装置进一步联接到烘烤单元上。第二显影槽或涂胶单元（如果存在）也可以通过机械印版传送装置进一步联接到集成的干燥-烘烤单元上。
根据本发明的再一优选实施方案，联接到所述第一显影槽上的所述预热单元可通过机械印版传送装置（其中将前体与环境光屏蔽）进一步联接到所述制版机上。
实施例
本发明的实施例1和对比例1中使用的印刷版前体是：N94-VCF——可商购自AGFA的紫光感光的印刷版，并且这两个实验中使用的加工溶液是可商购自AGFA的Violet CFGum-NP。
在本发明的实施例1中，1600平方米的未曝光前体：N94-VCF在处理机P-1中显影，其中该印版首先用存在于第一显影槽中的6.2升溶液Violet CF Gum-NP，并接着用存在于第二显影槽中的7.0升溶液Violet CF Gum-NP加工。处理机P-1的这两个显影槽在级联系统中互相连接，其中第二胶溶液溢流到第一显影槽中，且该第一槽与罐相连，过量的用过的胶溶液溢流到该罐中以作为废物处理。通过以50毫升/平方米加工的版前体的比率添加相同的Violet CF Gum-NP溶液，以使第二胶溶液再生。第一和第二槽各自带有泵和一组管道以分别循环第一和第二胶溶液并将第一和第二胶溶液各自传导到喷杆上。这种喷杆带有喷嘴并存在于该处理机的总宽度上方以润湿前体的涂布面。处理机的加工宽度具有0.95米的值。在第一和第二显影槽各自的上方，在该喷杆旁边，存在两个刷辊以刷拭前体的涂布面，从而增强印版的加工。胶溶液的温度保持在22℃，显影速度计为1.2米/分钟。在加工过程中，从载体上除去该涂层的可溶部分，并且每加工25平方米前体就测定积聚在第一显影液中的这种材料的浓度。由于在脱除的涂层中存在蓝色组分（注意该版前体包含HeliogeneBlue，其是可商购自BASF的酞菁染料），通过测量该胶液在滤纸上的干燥10微升斑点的青色吸收（用Gretag D129C光密度计测量）来测定这些组分的浓度。所用滤纸是Macherey-Nagel, MN1670, Duren, Germany。这种青色吸收也是脱除的材料的总浓度的良好量度。注意，当使用具有另一种非酞菁着色剂的其它印刷版前体时，可以在另一波长或波长范围，例如在与该着色剂的吸收最大值或该着色剂的主要吸收范围最匹配的波长或波长范围测量脱除的层的浓度。
在对比例1中，用具有与P-1相同构造的处理机P-2重复如上文对本发明的实施例1描述的这种加工实验，但只是在第一槽中提供60升Violet CF Gum-NP而非6.2升。
本发明的实施例1的结果证实，在加工了大约1300平方米的印刷版前体：N94-VCF后，显影液达到0.48的青色吸收恒定值，而在对比例1中，在加工相同量的前体后的青色吸收为大约0.15，这在加工更大量的印刷版前体时仍继续提高。青色吸收的这一恒定值表明在该溶液中也达到脱除材料浓度的恒定水平，实现了显影液的恒定活性水平。仍继续提高的青色吸收值表明该溶液中的脱除材料浓度仍继续提高，并且在加工了大约1300平方米的印刷版前体后没有达到显影液的恒定活性水平。
Claims (10)
1.一种制造平版印刷版的方法，其包括以下步骤：
a) 依图像曝光平版印刷版前体，其包含具有亲水表面或带有亲水层的载体和在所述载体上的包含可光聚合的组合物的感光或感热涂层，
b) 用第一溶液，接着用第二溶液加工所述前体，由此从处于非印刷区的载体上除去涂层，
其中所述第一和第二溶液由级联系统提供，其中所述第二溶液溢流到所述第一溶液中且所述第一溶液溢流到容器中以进一步作为废物处理，
其中通过以至少5毫升/平方米处理的前体和最多100毫升/平方米处理的前体的比率添加补充溶液或补充溶液的混合物来使所述第二溶液再生，
其中所述第一和第二溶液分别通过第一和第二液体输送系统循环，
其中所述第一液体输送系统中存在的第一溶液具有分别通过公式1和公式2限定的至少Vmin和最多Vmax的体积，
Vmin = [A + (加工宽度/0.95米)].升 (公式1)
Vmax = [B + (加工宽度/0.95米)].升 (公式2)
其中Vmin和Vmax分别代表所述第一液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A代表2的恒定值且B代表15、10、8或6的恒定值，并且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。
2.根据权利要求1的方法，其中通过以至少20毫升/平方米处理的前体和最多85毫升/平方米处理的前体的比率添加补充溶液或补充溶液的混合物来使所述第二溶液再生。
3.根据权利要求1或2的方法，其中通过以至少50毫升/平方米处理的前体和最多75毫升/平方米处理的前体的比率添加补充溶液或补充溶液的混合物来使所述第二溶液再生。
4.根据权利要求1或2的方法，其中所述第二液体输送系统中存在的所述第二溶液具有分别通过公式3和公式4限定的至少Vmin和最多Vmax的体积，
Vmin = [A' + (加工宽度/0.95米)].升 (公式3)
Vmax = [B' + (加工宽度/0.95米)].升 (公式4)
其中Vmin和Vmax分别代表所述第二液体输送系统中存在的最小体积和最大体积，它们各自以升表示，其中A' 和B' 代表分别为2和15的恒定值，且其中所述加工宽度代表加工装置内的与加工方向垂直的以米表示的宽度，其可用于横跨其宽度以均一方式加工版前体。
5.根据权利要求1或2的方法，其中所述第二液体输送系统中存在的所述第二溶液的体积与所述第一液体输送系统中存在的所述第一溶液的体积相同。
6.根据权利要求1或2的方法，其中通过添加补充溶液或补充溶液的混合物或水来使所述第一溶液再生。
7.根据权利要求1的方法，其中所述第一和第二溶液都是胶溶液，由此在单个步骤中将所述前体显影和涂胶。
8.根据权利要求7的方法，其中通过添加新鲜胶溶液，使所述第二溶液再生。
9.根据权利要求1的方法，其中所述载体上的所述感光或感热涂层包含图像记录层和任选地，在所述感光或感热涂层之上的顶层。
10.根据权利要求9的方法，其中所述载体上的所述感光或感热涂层进一步包含在所述载体与所述图像记录层之间的中间层。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP13150972.1A EP2755088B1 (en) | 2013-01-11 | 2013-01-11 | Method of making a lithographic printing plate |
| EP13150972.1 | 2013-01-11 | ||
| US201361752462P | 2013-01-15 | 2013-01-15 | |
| US61/752462 | 2013-01-15 | ||
| PCT/EP2014/050122 WO2014108385A1 (en) | 2013-01-11 | 2014-01-07 | Method of making a lithographic printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104981738A CN104981738A (zh) | 2015-10-14 |
| CN104981738B true CN104981738B (zh) | 2019-11-15 |
Family
ID=47552892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201480004489.8A Active CN104981738B (zh) | 2013-01-11 | 2014-01-07 | 制造平版印刷版的方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9354520B2 (zh) |
| EP (1) | EP2755088B1 (zh) |
| CN (1) | CN104981738B (zh) |
| BR (1) | BR112015016653A2 (zh) |
| ES (1) | ES2588075T3 (zh) |
| PL (1) | PL2755088T3 (zh) |
| WO (1) | WO2014108385A1 (zh) |
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| JP2010197620A (ja) | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版の自動現像装置及び処理方法 |
-
2013
- 2013-01-11 PL PL13150972.1T patent/PL2755088T3/pl unknown
- 2013-01-11 ES ES13150972.1T patent/ES2588075T3/es active Active
- 2013-01-11 EP EP13150972.1A patent/EP2755088B1/en active Active
-
2014
- 2014-01-07 US US14/654,598 patent/US9354520B2/en active Active
- 2014-01-07 CN CN201480004489.8A patent/CN104981738B/zh active Active
- 2014-01-07 BR BR112015016653A patent/BR112015016653A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2014-01-07 WO PCT/EP2014/050122 patent/WO2014108385A1/en active Application Filing
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1637599A (zh) * | 2004-01-09 | 2005-07-13 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版前体以及使用其的平版印刷方法 |
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| CN103797421A (zh) * | 2011-09-08 | 2014-05-14 | 爱克发印艺公司 | 制备平版印刷印版的方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20150355548A1 (en) | 2015-12-10 |
| CN104981738A (zh) | 2015-10-14 |
| PL2755088T3 (pl) | 2016-12-30 |
| WO2014108385A1 (en) | 2014-07-17 |
| ES2588075T3 (es) | 2016-10-28 |
| BR112015016653A2 (pt) | 2017-07-11 |
| EP2755088A1 (en) | 2014-07-16 |
| EP2755088B1 (en) | 2016-07-27 |
| US9354520B2 (en) | 2016-05-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: Belgian Mo Applicant after: Agfa Co.,Ltd. Address before: Belgian Mo Applicant before: AGFA GRAPHICS N.V. |
|
| CB02 | Change of applicant information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
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