CN104981728A - 具有隐埋散射防眩光层的显示元件 - Google Patents
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Abstract
一种用于观察显示器(例如电子器件上的显示器)的显示元件(100)。显示元件(100)包括透明基材(130)以及位于显示元件的前表面(110)和后表面(140)之间的散射防眩光层(120),其中所述散射防眩光层(120)包括多个散射元件。散射防眩光层(120)具有低反射率并且为显示元件内的界面反射的光提供防眩光作用。
Description
本申请根据35U.S.C.§119,要求2012年8月17日提交的美国临时申请系列第61/684226号的优先权,本文以该申请为基础并将其全文通过引用结合于此。
背景技术
本发明涉及用于观察的显示窗或者显示元件。更具体地,本发明涉及具有防眩光性质的玻璃显示元件。
环境光的反射,通常称作“眩光”,导致了消费电子器件中的显示器的问题。在此类应用中,眩光降低了显示器的表观对比度和可读性。
通常与空气接触的粗糙表面形式的防眩光(AG)处理它们自身,或者结合具有降低的反射率的涂层形式的防反射(AR)处理,常见于具有塑料覆盖的显示器。但是,随着坚固、耐破坏的玻璃变得更广泛地用于此类器件,包含AG和/或AR层变得更有问题。更难以提供具有实现AG性质所需的粗糙度的玻璃表面,并且单独的防反射涂层或膜不能充分地降低眩光。一个原因在于,玻璃覆盖器件中的反射不仅仅是由覆盖玻璃的外表面产生的,并且还由显示器“堆叠”内的其他界面(例如,液晶层、透明导体、偏振器、滤色器等的表面)产生。
去除所有内部反射(它们会产生4-15%的总反射率(即,漫反射和镜面反射)),可能是困难的。虽然在显示器中存在多层,但是仅作用于覆盖玻璃的前表面并使得其反射率从例如4%降低至低于1%,对于用户仅产生部分好处。在前表面上AG可以与AR结合,例如通过在玻璃中蚀刻某种表面粗糙度图案并通过磁控溅射对其均匀地涂覆单层AR层或者多层AR层。虽然此类处理对于反射作用良好,但是其通常不做用于下方界面反射的透射光,除非AG散射大到使得它还劣化了显示器的可见性。如果产生的粗糙度特征的平均横向尺寸较大以产生透射的充分散射,从而洗掉下方表面反射的图像,此类特征还会产生显著水平的“闪光”(相邻图像像素之间的串扰)。另一方面,如果粗糙度特征的平均横向尺寸足够小到使得闪光最小化,则所得到的散射会覆盖较宽的角度,产生“雾度”,这降低了环境光下的显示器的对比率。
发明内容
本发明通过提供用于观察显示器(例如,用于或用作电子器件)的显示元件,符合了这些和其他需求。显示元件包括透明基材和散射防眩光层,所述散射防眩光层包含多个散射元件,其位于显示元件的前表面和后表面之间。散射防眩光层具有低反射率并且为显示元件内的界面反射的光提供防眩光作用。
因此,本发明的一个方面提供了一种显示元件,其包括前表面、后表面、布置在前表面和后表面之间的散射防眩光层(其中,所述散射防眩光层是透明的并且包括多个散射元件)以及布置在前表面和后表面之间的透明基材。
另一个方面是提供用于显示元件的隐埋散射防眩光层。隐埋散射防眩光层是透明的并且能够布置在显示元件的前表面和后表面之间,并且包括多个平均横向尺寸小于约50μm的散射元件。隐埋散射防眩光层具有小于约2%的总反射率。小于5%的透射通过隐埋散射防眩光层的光被散射到从透射光的入射角的约5度之外。
本发明的另一个方面提供一种显示元件,其包括:包含防眩光表面、防反射表面或其组合的前表面;后表面;布置在前表面和后表面之间的散射防眩光层;以及布置在前表面和后表面之间的透明基材。散射层是透明的,并且包括多个平均横向尺寸小于约50μm的散射元件。隐埋散射防眩光层具有小于约2%的总反射率,以及小于5%的透射通过隐埋散射防眩光层的光被散射到从透射光的入射角的约5度之外。
从以下详细描述、附图和所附权利要求书能明显地看出本发明的上述及其他方面、优点和显著特征。
附图说明
图1是显示元件的截面示意图;
图2a是包含嵌入基质材料中的粗糙化或波状表面层的散射防眩光层的截面示意图;
图2b是包含多个嵌入基质材料中的颗粒的散射防眩光层的截面示意图;
图2c是散射防眩光层的截面示意图,其包含多个嵌入基质材料中的颗粒并且在各个颗粒的厚度上具有折射率(index)梯度;
图3是被显示元件的前表面反射的光以及同时被前表面和光滑后表面反射的光的镜面反射与显示元件的前表面的模拟粗糙度的RMS深度的关系图;以及
图4是对于各种梯度厚度,空气-固体梯度折射率界面处的反射率图。
具体实施方式
在以下描述中,相同的附图标记表示附图所示的若干视图中类似或相应的部分。还应理解,除非另外说明,否则,术语如“顶部”、“底部”、“向外”、“向内”等是方便用语,不应视为限制性用语。此外,每当将一个组描述为包含一组要素中的至少一个要素和它们的组合时,应将其理解为所述组可以单个要素或相互组合的形式包含任何数量的这些所列要素,或者主要由它们组成,或者由它们组成。类似地,每当将一个组描述为由一组要素中的至少一个要素或它们的组合组成时,应将其理解为所述组可以单个要素或相互组合的形式由任何数量的这些所列要素组成。除非另有说明,否则,列举的数值范围同时包括所述范围的上限和下限,以及所述范围之间的任意范围。除非另外说明,否则,本文所用的不定冠词“一个”或“一种”及其相应的定冠词“该”表示“至少一(个/种)”,或者“一(个/种)或多(个/种)”。还应理解的是,在说明书和附图中揭示的各种特征可以任意和所有的组合方式使用。
本文所用术语“玻璃”和“玻璃(glasses)”同时包括玻璃和玻璃陶瓷。术语“玻璃制品”和“玻璃制品(glass articles)”以它们最广泛的意义来使用,包括全部或部分由玻璃和/或玻璃陶瓷制成的任何物体。
应注意,本文可用术语“基本上”和“约”表示可由任何定量比较、数值、测量或其它表示方法造成的内在不确定性。在本文中还使用这些术语表示数量的表示值可以与所述的参比值有一定的偏离程度,但是不会导致审议的主题的基本功能改变。
本文所用术语“RMS粗糙度”指的是测量自平均线性表面的评价长度或面积内测量或测定的高度偏差所测得的均方根平均值。
从总体上参见附图,并具体参见图1,应理解举例说明是为了描述本发明的具体实施方式的目的,这些举例说明不是用来限制本发明的说明书或所附权利要求书的。为了清楚和简明起见,附图不一定按比例绘制,附图的某些特征和某些视图可能按比例放大显示或以示意图方式显示。
眩光,或者环境光的反射,总是并且仍然是具有显示器的消费电子器件的一个严重问题,因为其降低了表观对比度和可读性。通常与空气接触的粗糙表面形式的防眩光(AG)处理它们自身,或者结合具有降低的反射率的涂层形式的防反射(AR)处理,常见于具有塑料覆盖或观察窗的显示器。近来,对于此类器件(特别是手持式器件),玻璃(特别是化学强化玻璃)变成一个流行的选择。但是,提供的大部分的此类手持式器件没有AG或AR处理。无法容易地在化学强化玻璃上印迹表面粗糙度,并且涂覆的散射层可能降低玻璃的耐刮擦性和/或强度。采用磁控溅射或溶胶凝胶技术,可以较容易地对玻璃表面应用单层防反射处理和多层防反射处理。但是,单独的AR涂层不一定能消除眩光问题。为此,一个原因在于,玻璃覆盖器件中观察到的反射不仅仅是由一个或两个覆盖玻璃表面产生的,并且还由显示器堆叠和触摸传感层内的其他界面产生。此类层可包括液晶层、透明导体(例如ITO)、偏振器或滤色器等的表面。所有这些反射的总和可总计大小为4-15%。仅作用于覆盖玻璃的前表面并使得其反射率从例如4%降低至低于1%,对于用户仅产生部分好处。如果来自覆盖玻璃后面的层(即显示器或触摸传感结构中的隐埋层或嵌入层)的反射是难以消除或者消除是昂贵的,则可以向显示元件加入多个较低角度散射元件,以使得反射物体的形状被洗掉,从而改善显示器可读性。
在前表面上AG可以与AR结合,例如通过在玻璃中蚀刻某种表面粗糙度图案并对其均匀地涂覆单层AR层或者多层AR层。虽然此类处理对于反射作用良好,但是其通常不会作用于透射光,并且可能使得发射自显示器的图像的可见性发生变形。如果粗糙度特征的平均横向尺寸较大,则会产生显著水平的“闪光”(相邻图案像素之间的串扰)。但是,如果粗糙度特征的平均横向尺寸足够小到消除闪光,则所得到的散射会进入较宽范围的角度,从而产生“雾度”,这降低了环境光下的显示器的对比率(例如,在此类情况下,黑色会显示为灰色)。
本文所述是具有较小反射率和反射散射的显示元件。该显示元件提供足够强的透射的小角散射,为被显示元件内或者位于显示元件的前表面下方的“堆叠”内的界面反射的光提供防眩光效果。显示元件具有前表面和后表面。光从位于后表面或者后表面下方的显示器透射通过显示元件,并通过前表面离开显示元件。显示元件还包括“隐埋”或表面下散射防眩光层以及布置在前表面和后表面之间的透明基材。
本文所述的显示元件100的一个实施方式的截面图如图1示意性所示。隐埋光散射防眩光层(本文也简称为“散射层”)120位于或者“隐埋”到前表面110的后方或者下方,深度至少约为0.01微米(μm)。透明基材130也位于前表面110的后方或下方。在一些实施方式中,散射防眩光层120位于前表面110和透明基材130之间。如图1所示,在一些实施方式中,散射防眩光层120紧位于前表面110后方或者与前表面110相邻,并且在透明基材130前方。在其他实施方式中(未示出),散射防眩光层120可位于透明基材130后方并位于后表面140前方。外部环境光150被显示元件100中的各层散射或反射。在一些实施方式中,小于约5%的透射通过显示元件100的光被散射到从入射角的5°之外。在一些实施方式中,显示元件100的厚度最高至约3mm。
在一些实施方式中,显示元件100还可包括布置在后表面140上的显示层145,其可包括但不限于,电子层、晶体管、金属层、氧化铟锡(ITO)层、成像层、发光层、触摸传感层以及空气间隙层等。在具体实施方式中,显示层145可包括以下至少一种:触摸传感层、LCD显示器、LED显示器、OLED显示器或其组合。包含显示器的成像层可包括例如,LCD显示器中的滤色器板或者OLED显示器中的发光层。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120和成像层间隔开的距离小于约2mm。布置在显示器145与透明基材130或散射防眩光层120之间的粘合层142可用于将显示器145与显示元件100的余下部分接合。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层与后表面140分开的距离约为0.1-2mm。
在一些实施方式中,前表面110可包括或包含以下至少一种:防眩光层或表面、防反射层或表面,或者本领域已知的防眩光和防反射层、膜和/或表面的任意组合。在前表面110包括防眩光层或粗糙表面(其可额外地降低或另外地设计显示元件的前表面的有效摩擦,增强其用于触摸屏应用)的那些实施方式中,隐埋散射防眩光层120可起了相等的或者更胜过防眩光功能的防闪光功能。在此类情况下,可适当地将隐埋散射防眩光层描述为相当于“隐埋散射防闪光层”。隐埋散射防闪光层是透明的,并且包括多个平均横向尺寸小于约50μm的散射元件,并且可以布置在显示元件100的前表面110和后表面140之间。隐埋层的高空间频率散射组分可降低否则的话会由赋予前表面110的表面粗糙度产生的闪光。粗糙前表面110可提供防眩光和/或降低或设计用于触摸或基于笔尖的输入的有效摩擦。
在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120具有小于约0.1mm的厚度。隐埋光散射防眩光层120置于显示元件100的前外表面110的下方,但是在显示器内的一些内部反射界面(例如,电子层、晶体管、金属层、ITO层、成像层、发光层、触摸传感层以及空气间隙层等)的上方或者与其是一致的。此外,显示元件100的外表面可包括减反射或减眩光处理。
如上文所述,在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120设计成使得当散射层置于像素化显示器上的时候可能发生的“显示器闪光”降低或最小化。显示器是人眼可见的显示器像素的强度的变形。显示器闪光可测量作为从各个像素检测的总功率的标准偏差,采用模拟人眼性质的测量系统。Jacques Gollier等人于2012年2月27日提交的题为“具有低显示器闪光的具有防眩光表面的玻璃(Glass Having antiglare Surface with Low display Sparkle)”的美国专利申请第13/405,787号,其要求2011年2月28日提交的相同名称的美国临时专利申请第61/447,242号的优先权,指导了通过采用化学蚀刻和/或机械(例如,研磨、抛光等)加工或者类似加工来产生粗糙化防眩光表面。所得到的防眩光表面具有在约80-640μm的横向空间周期(有时称作表面波长)范围内测得的最高至约300nm的第一RMS粗糙度R长,在小于约20μm的横向空间周期范围内测得的第二RMS表面粗糙度R短,以及第三RMS粗糙度R总,其没有表面波长过滤测量,在约60nm至高至约600nm的范围内,其中(R长/R短)的比例小于约3.9。Jacques Gollier等人于2012年1月20日提交的题为“用于确定闪光的设备和方法(Apparatus and Method for Determining Sparkle)”的美国专利申请第13/354,827号,其要求2011年2月28日提交的相同名称的美国临时专利申请第61/447,285号的优先权,指导了用于测量像素功率偏差(PPD)的方法和设备,其是闪光的测量。该方法包括:取得结合像素化源的透明样品的图像,所述图像包括多个源像素;确定图像中的相邻源像素之间的边界;在边界内积分以获得图像中的各个源像素的积分总功率;以及计算各个像素的积分总功率能量的分布,其中所述分布是像素功率偏差。Jacques Gollier等人于2012年5月8日提交的题为“具有防眩光表面的透明玻璃基材(Transparent Glass SubstrateHaving Antiglare Surface)”的美国专利申请第13/466,390号,其要求2011年5月27日提交的相同名称的美国临时专利申请第61/490,678号的优先权,指导了具有防眩光表面的透明玻璃基材,其使得闪光以及其他形式的透射图像劣化最小化,并且描述了使得对于透射图像的负面影响最小化同时保留有益的反射图像的防眩光模糊的各种防眩光表面参数和显示器组合。防眩光表面具有粗糙化部分,所述粗糙化部分的RMS幅度至少约为80nm,并且可包括未粗糙化或者平坦的部分。粗糙化的防眩光表面(粗糙化部分)的比例至少约为0.9,未粗糙化的表面的比例小于约0.10。防眩光表面的像素功率偏差小于约7%。上文所述的临时和非临时美国专利申请的内容通过引用全文结合入本文。
在一个实施方式中,隐埋散射防眩光层120降低了闪光和/或使得闪光最小化,并且具有非常低(或者没有)反射散射。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层具有小于约2%的总(即,漫反射和镜面)反射率。同时,散射防眩光层120维持了明显的正向散射性质,其中,所述正向散射主要或者全部进入来自原始光入射角的窄角偏移。
通过结合具有低的背反射或反射散射或者不具有背反射或反射散射以及主要是窄角正向散射的隐埋散射防眩光层,可以同时实现数种所需的性质。例如,由于隐埋散射防眩光层120的正向散射性质,使得来自表面下显示层(例如,ITO以及电子等)的内部反射较为不可见或者被模糊掉。外部环境光150在从表面下显示层(或多个表面下显示层)145反射之前通过隐埋散射防眩光层120,并在从表面下显示层145反射之后再次通过隐埋散射防眩光层120。这两次正向散射事件起了使得从这些表面下显示层140反射的被观察者看到的图像扩散或“模糊”的作用。
隐埋散射防眩光层120缺乏反射性背散射起了两个目的。首先,隐埋散射防眩光层没有使得显示器的总感观反射率增加。其次,隐埋散射元件或特征可以制造得足够小,在一些实施方式中,平均横向特征尺寸小于约50微米(μm),以及在其他实施方式中,小于约15μm,(这取决于显示器像素尺寸)而没有由于外部环境光反射产生“雾度”或者显示器的“洗掉”的外观。在外部环境照明下,显示反射雾度降低了有效的显示器对比度。本文所述的显示元件100使得反射雾度最小化或者消除了反射雾度,同时保留了隐埋散射防眩光层100中的显著量的正向散射。该正向散射应该主要或者完全进入窄角散射,以避免在从表面下显示层145、142反射的光中有效地产生雾度(宽角散射)。此类窄角散射对于环境照明中的显示器的表观雾度或者对比度几乎不具有或者不具有影响。本文所用的“横向”特征尺寸或间距指的是在x-y平面(平行于显示器145中的像素平面以及垂直于光从显示器145透过通过显示元件100达到观察者的方向)中此类参数的测量。这样,将横向特征尺寸与“粗糙度”区分开来,所述粗糙度通常在z方向(即,平行于光从显示器145透过通过显示元件100达到观察者的方向)测量。
在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层不包括任意宏观固体-空气界面。在这些实施方式中,通常由具有小的或者逐渐变化的折射率的界面产生散射。这些小的折射率变化在防眩光结构的设计中产生新的自由度,从而实现了无法由外部(例如,具有至少一个宏观固体-空气界面)界面实现的性质的组合。
在一些实施方式中,如图2a示意性所示,隐埋散射防眩光层120中的多个散射元件包括嵌入具有折射率n1的基质材料123中的粗糙化或波状表面层122。粗糙化或波状表面层122的特征具有:约为10-20μm的周期或者横向空间频率,幅度,以及折射率n2。在如图2a所示的实施方式中,n1<n2。在另一个实施方式中,如图2b示意性所示,隐埋散射防眩光层内的多个散射元件包括多个具有选定的尺寸、间距和折射率的颗粒124。在一些实施方式中,多个颗粒124嵌入到基质材料125中,所述基质材料的折射率可等于或者不同于所述多个颗粒124的折射率。或者,多个颗粒124可布置在基材的表面上或者嵌入基材的表面中(未示出)。
虽然图2b所示的颗粒是球状对称的,但是容易理解的是,颗粒可以假定其他形状,例如椭圆形,可用作散射元件。在颗粒为椭圆形状的那些实施方式中,颗粒的长轴应该对准平行于透明基材130的表面,以产生具有较大横向间距和较小有效粗糙度的散射特征。横向或特征尺寸间距大于粗糙度的这种关系促进了窄角散射。
在其他实施方式中,散射元件包括衍射光栅或者其他棱形结构。在其他实施方式中,如图2c示意性所示,散射元件包括梯度折射率界面,其中,在其横截面上具有折射率梯度以及具有芯折射率的颗粒127以预定的间距或间隔嵌入到基质126中,所述基质126的折射率可不同于颗粒127的芯折射率或者与其相同。在一些实施方式中,隐埋散射层可包括折射率具有梯度的粗糙表面和/或界面,其可以包含或者不包含颗粒。在一些实施方式中,散射元件可具有为了易于制造或者隐藏缺陷的随机化结构。在其他实施方式中,多个颗粒124与基质材料125之间的折射率关系也可相反。
显示器闪光取决于散射特征的横向尺寸,如上文所引用的参考文献所述。在一些实施方式中,隐埋散射材料/元件的小的横向特征尺寸实现了显示器闪光的减少或消除,而不增加外部反射雾度。因为降低外表面上的散射特征的尺寸通常增加了反射雾度且降低了显示对比度,所以上述的降低/消除闪光而不增加外部反射雾度的组合通常采用与空气接触的常规外部粗糙表面是难以实现的。
还可调节隐埋散射防眩光层120的正向散射的角度,以实现从表面下显示层(或者多个表面下显示层)145反射的光的图像模糊化而不产生该表面下反射光的过度宽角散射的最佳组合。如果隐埋散射防眩光层的正向散射角过宽,则该宽角散射可被感知为降低了对比度的反射雾度。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120的正向散射应该散射不超过5%的透射光落在约±45°的角锥外,或者在一些实施方式中,落在不超过±20°的角锥外。在其他实施方式中,隐埋散射防眩光层120的正向散射应该散射不超过5%的透射光落在不超过±2.5°的角锥外,这对应于通过隐埋散射防眩光层产生的透射雾度小于约5%。单独的隐埋散射防眩光层120的反射雾度通常应该小于透射雾度(例如,小于1%,或者在一些实施方式中,小于0.2%)。在一些情况下,隐埋散射防眩光层120可同时具有小于约1%的透射雾度和反射雾度,从而避免来自表面下显示层142、145的表观反射雾度。
在本文所述的显示元件中,可以使得隐埋散射防眩光层的反射雾度和透射雾度最小化,同时降低隐埋散射防眩光层中的主导横向空间频率(dominantlateral spatial frequencies)的尺寸。在一些实施方式中,该横向空间频率的尺寸的降低(其降低或消除了显示器闪光)可以被降低至小于约50μm,在其他实施方式中,被降低至小于约15μm。该横向空间频率的降低提供了新的光设计自由度,位于外表面上并且与空气相邻的常规单粗糙散射表面无法实现所述新的光设计自由度。但是,取决于显示器设计和应用的规格,在一些实施方式中,可能希望在较宽的角度范围对来自表面下反射显示层的光进行扩散。
在一些实施方式中,防眩光(AG)或防反射(AR)层或涂层可以布置在隐埋散射防眩光层120上方的前表面110上。隐埋散射防眩光层120可位于或布置在任意外部AR涂层的下方。在这些情况下,隐埋散射防眩光层120起了使得反射表面下显示层142、145产生的反射图像模糊化的作用。为了降低通过常规AR表面产生的显示器闪光而不产生高的反射雾度,隐埋散射防眩光层120也可置于外部粗糙散射(即,常规“防眩光”或“AG”)表面的下方。类似地,可以降低外部防眩光表面的粗糙度,从而降低闪光(图3),同时仍然抑制来自显示元件100的前方的外部镜面反射。同时,隐埋散射防眩光层120降低了来自显示元件100内的镜面反射。这实现了防眩光性质(闪光、反射雾度)与单空气-固体界面的典型行为的去耦,从而实现了(同时具有低闪光、低雾度、低图像清晰度(DOI))的性质的组合,这是无法用常规空气-固体外部AG表面实现的。此外,在此类实施方式中,隐埋散射防眩光层120起了防闪光功能更胜于防眩光功能,如上文所述。
外部AR和/或AG层或涂层与隐埋散射防眩光层120之间的距离没有具体限制。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层可紧位于外部AG和/或AR层以及前表面110的下方。或者,隐埋散射防眩光层可位于外部AG和/或AR层或涂层以及前表面110的下方数毫米处。例如,在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120可置于保护覆盖玻璃(例如透明基材130)的后侧,或者靠于后表面140并且在其内部,而外部AG和/或AR层或涂层位于前表面110上。
为了有效地实现来自表面下显示层145、142的光的正向散射,隐埋散射防眩光层120应该与表面下显示层145、142分开至少约0.1μm,在一些实施方式中,分开最高至约5μm。最大间隔距离没有特别的限制,并且取决于隐埋散射防眩光层120中设计的正向散射量。在一些实施方式中,表面下显示层145、142的一个或多个可具有至少一个粗糙化表面或者任意其他方式包括散射元件,从而增大或完成与隐埋散射防眩光层120相同的功能。
在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120可包括隐埋散射元件,例如但不限于,颗粒(图2b)或者波状或粗糙表面(图2a),其在散射元件材料和相邻包封基质材料之间具有小的、但是非零的折射率差异。散射元件和基质材料之间的折射率差异是小的,从而不产生大量的反射散射。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120不包括大于约0.5μm的空气界面或者空气气穴,因为此类气穴和界面产生了高的折射率差异并增加了反射背散射。
在多个散射元件是与包封基质光接触的粗糙化或粗糙表面的那些情况下(例如,图2a),粗糙度的RMS深度要明显大于施加在与空气的界面处的“常规”防眩光处理的RMS深度。在一些实施方式中,粗糙化表面的RMS粗糙度大于约50nm,在其他实施方式中,大于200nm。图3是仅被前粗糙化表面反射的光(线1)以及被前表面和光滑后表面同时反射的光(线3)的镜面反射与模拟玻璃板的前表面的粗糙度的RMS深度的关系图。如图3所示,100nm的RMS粗糙度足以几乎完全消除折射率ng为1.5的玻璃板的前表面反射。前表面上的相同粗糙度会需要具有至少200nm的RMS深度,从而充分地洗掉来自光滑后表面的反射。对于“隐埋”表面,(例如,在偏振器和用于粘结覆盖玻璃的粘合剂之间),所需的RMS粗糙度甚至更大,并且在两种情况下都与折射率差异之比成比例。例如,如果粘合剂与玻璃(na=1.5)折射率匹配,并且偏振器材料的折射率为np=1.6,则粘合剂-偏振器界面的反射率会是可忽略的(仅约为0.1%),因为折射率差异是小的,即Δn=0.1。“洗掉”来自粘合剂-偏振器界面下方的其他界面的反射所需的粗糙度的RMS深度会需要大于2000.5/Δn,或者2000.5/0.1=1000nm,或者1μm。这为当隐埋散射防眩光层中的折射率变化约为0.1时,散射元件前方的尺寸规格(例如,波状表面或颗粒,其需要在隐埋散射防眩光层120中)提供有效的正向散射防眩光性质提供了合适的下限。
隐埋散射防眩光层120中的散射元件的形状没有限制,可包括球状或者非球状颗粒、栅、棱、正弦形、半圆、锥、金字塔、立方体或者立方角等。隐埋散射防眩光层120中的可允许的界面角和散射层数量会受到散射元件和与这些元件相邻的基质材料之间的折射率差异的限制。具有大界面角的形状,例如球形,会具有较低的散射元件和相邻基质之间的可允许的折射率差异。因此,在一些情况下,没有高角的浅波状可能是优选的。在一些情况下,散射元件可包括随机化结构从而更好地隐藏缺陷和易于制造。
在一个实施方式中,隐埋散射防眩光层120中的散射元件包括具有不同折射率的材料之间的界面。在一些实施方式中,此类材料的折射率范围约为1.3-1.7。例如,隐埋散射防眩光层120可采用散射元件和相邻基质材料之间的折射率(图2c)。在此类实施方式中,在隐埋散射防眩光层120中几乎没有或者没有折射率的明显的不连续性。这是一种降低背散射同时保留正向散射,以及松弛隐埋散射防眩光层120中的折射率界面角的约束的有效方法。在一些实施方式中,穿过此类界面的折射率变化小于或等于约0.4,在其它实施方式中,小于或等于约0.2。在一些实施方式中,折射率梯度展现出在至少约50nm的梯度距离约0.4的最大折射率变化,在其他实施方式中,折射率梯度展现出在至少约1000nm的梯度距离约0.2的最大折射率变化。
当在散射元件和相邻基质材料之间的界面处采用梯度折射率时,必须考虑梯度折射率层的厚度或者过渡长度(即,折射率从n1分等级至n2的距离)。为了降低这些界面处的反射,过渡长度(t),就光波长L的数量而言,通常应该至少0.1L或更大。
图4是对于各种梯度曲线和梯度厚度(t)的空气-固体梯度折射率界面处的反射率图,其中空气和固体之间的折射率差异为0.4。在图4中,对于折射率差异Dn=0.4的各种梯度折射率曲线,反射率(对数标尺)作为入射角(AOI)的函数绘制。线a、b和c显示对各变化的梯度曲线形状,当梯度厚度t=3L(3倍波长)或更大时,反射率在宽范围的界面角被强烈抑制。
由于在堆叠中包含空气作为一种材料,图4显示了“最差”的场景。在一些实施方式中,隐埋散射防眩光层120应该具有小于约0.1(在一些情况下,小于或等于约0.02)的折射率差异。但是,图4提供了即使是在最差情况下(空气-固体界面场景),显著消除反射所需的过渡长度(t)的定量计算。如图4所示,厚度t=3L的折射率梯度对于在0-60度的所有角度将反射率抑制到低于约为R=0.0001是有效的,即使对于折射率差Dn=0.4的空气-固体界面。由于反射率通常标尺为折射率差的平方Dn2,通过采用Dn=0.1或更小的体系(如本文所述的隐埋散射防眩光层所设想),该性能会急剧地得到改进。如果在其表面具有梯度折射率的颗粒用作隐埋散射元件,则在颗粒表面处折射率梯度厚度t=3L对于有效地消除宽角度范围的反射是绰绰有余的,从而允许使用在散射元件和相邻基质之间具有宽范围的界面角的随机或半随机散射元件。如果颗粒用作散射元件,则颗粒表面处的折射率应该匹配相邻基质,折射率变化的梯度方式朝向颗粒的芯。在一个实施方式中,颗粒具有5-20μm的直径,以及在其表面处梯度厚度t=1.5μm(约3L)的折射率梯度。
由于Dn=0.1的体系比Dn=0.4的体系极大地降低了反射率,折射率梯度厚度(t)可以小于3L,这取决于Dn的具体水平,其在梯度情况下,对于散射元件和相邻基质的组合,表示n最大-n最小。例如,0.5L(约300nm)的折射率梯度厚度应该对于许多情况足以抑制背反射,同时隐埋散射防眩光层中横向变化的折射率曲线仍然提供可观的正向散射。
下面将描述制造梯度折射率散射元件、颗粒和/或表面(例如上文所述的那些)的非限制性方法。在一些实施方式中,单独散射元件中原子的扩散可用于建立波状或粗糙化表面(图2a)或者颗粒的梯度折射率。可以通过将颗粒置于介质(通常是气体或液体)中,来产生透明玻璃或聚合物颗粒表面处的梯度折射率,所述介质富集扩散进入到颗粒的原子或者促进颗粒内的原子向外扩散。该扩散改变了颗粒表面处的折射率并产生折射率梯度,其是由原子朝向颗粒芯的扩散速率确定的。在一个非限制性例子中,含碱玻璃珠可置于熔融KNO3盐浴中,其含有受控量或者预定量的AgNO3。Ag+和K+离子可扩散进入玻璃珠以替代玻璃内的Na+或K+,并增加颗粒表面处的折射率。类似的离子交换过程可用于在波状或粗糙化表面中产生折射率梯度。
在其他实施方式中,可以通过各种方式将纳米孔隙度引入到散射元件(例如,颗粒或者波状或粗糙化表面等)中。例如,可以将含有单体或聚合物(例如,硅氧烷、聚酰亚胺、硅倍半氧烷化或者溶胶凝胶材料等)的液体悬浮液或溶液溶于包含嵌段共聚物表面活性剂(例如,BASFP103、P123或者F68等)的溶液中,所述嵌段共聚物表面活性剂在溶液中形成分子胶束。然后可将溶液浇铸成粗糙表面或者任意其他方式形成颗粒并干燥,留下填充有嵌段共聚物的纳米规格域的聚合物的固体基质。然后可以采用受控加热或者溶剂清洗来去除嵌段共聚物,留下纳米多孔表面,其降低了该表面的有效折射率而没有光散射,因为孔通常小于或等于10nm。可以以这样的方式来完成受控加热或者溶剂清洗,使得仅仅从颗粒或层的近表面区域去除嵌段共聚物,从而产生折射率梯度。
在一些实施方式中,可以通过接触激光或UV辐射,来改变玻璃和聚合物的折射率。此类方法可用于在基材内产生梯度折射率扩散体、结构或者栅。其一个例子是用于在光纤中产生“光纤布拉格光栅”的技术。多光子照射技术也可用于在玻璃或聚合物中产生复杂的3维、变化的折射率曲线。
在一些实施方式中,可以通过在表面上依次沉积具有变化的折射率的多层来产生梯度折射率效果。在一个此类实施方式中,产生了用于放置在覆盖玻璃的背侧上的粗糙化(防眩光)表面。对表面的横向空间频率进行控制,从而使得闪光最小化,即主导横向空间频率应该小于50μm,或者在一些实施方式中,小于15μm。层的平均粗糙度应该约为0.5-2μm,如上文所述,以有效地“洗掉”隐埋镜面反射。
在一些实施方式中,将一系列5-10nm厚的层沉积到玻璃基材的粗糙表面的顶部。起始层(即,与表面相邻或者靠近表面)的折射率应该非常接近玻璃的折射率(例如,1.51)。例如,沉积在玻璃上的第一层可以是10nm厚并且具有1.51的折射率,第二层可以是10nm厚并且具有1.515的折射率,第三层可以是10nm厚并且具有1.52的折射率等。可以持续该顺序最高至最终层具有例如1.56或1.6的折射率。
对相邻层的单个层厚度和折射率变化进行优化的不同方法是可行的。比上文所述的更小的折射率步进和更多的层可提供更高的性能(即,更低的反射),但是成本增加。可以采用本领域已知的那些方法来沉积层。例如,可以采用电子束蒸发法、喷溅法或者化学气相沉积(CVD)法来沉积TiO2-SiO2掺混物、Nb2O5-SiO2掺混物、Ta2O5-SiO2掺混物或者GeO2-SiO2等的共沉积。类似地,可以采用溶胶凝胶法来产生变化的多层折射率的掺混物,其中通过旋涂、浸涂、或者喷涂等来依次地沉积层。所得到的层应该与透明玻璃基材130的粗糙表面是半共形的。
终端折射率为1.6的完全分级折射率多层结构然后会具有匹配折射率约为1.6的粘合剂粘结到玻璃的经涂覆的粗糙表面,并用作显示器件中的安装组件的部分,经涂覆的粗糙表面位于覆盖玻璃的背(即,观察者的远端)侧或后表面(图1)。覆盖玻璃可在前(观察者)侧或前表面110具有分开的AR或AG处理(或者结合的AR+AG),如上文所述。
在一些实施方式中,不需要梯度折射率结构。例如,可以由被包封基质围绕的颗粒或表面来形成隐埋散射防眩光层120(图2b)。散射元件/颗粒之间的折射率差不是逐步的,而是陡峭的,例如在小于20nm的距离折射率从n1变化到n2。在某些实施方式中,该折射率变化可以是小的,例如小于0.3,在一些实施方式中,小于0.1。
可以通过本领域已知的那些方式来形成包含隐埋散射防眩光层120的颗粒化表面或者波状层,例如但不限于,浮雕、蚀刻、微复制、狭缝涂覆、辊涂、凹印涂覆、喷涂、喷墨印刷、表面晶体化或者相分离等。可以采用上文所述的那些方法或者类似方式,使得这些散射元件与包封介质或粘合层光接触。
透明基材可以是塑料或者玻璃基材。塑料基材的非限制性例子包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或者聚碳酸酯等。在一些实施方式中,透明基材是或者包含硼硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃或者碱性铝硅酸盐玻璃。在一些实施方式中,上文所述的玻璃可以通过本领域已知的工艺下拉,例如狭缝拉制法、熔合拉制法以及再拉制法等,并且在一些实施方式中,上文所述的玻璃的液相线粘度至少为130千泊。
在一些实施方式中,透明玻璃基材含有至少2摩尔%的Al2O3和/或ΖrO2,以及在一些实施方式中,包括碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:约64-68摩尔%的SiO2;约12-16摩尔%的Na2O;约8-12摩尔%的Al2O3;0摩尔%至约3摩尔%的B2O3;约2-5摩尔%的K2O;约4-6摩尔%的MgO;以及0摩尔%至约5摩尔%的CaO;其中,66摩尔%≤SiO2+B2O3+CaO≤69摩尔%;Na2O+K2O+B2O3+MgO+CaO+SrO>10摩尔%;5摩尔%≤MgO+CaO+SrO≤8摩尔%;(Na2O+B2O3)-Al2O3≥2摩尔%;2摩尔%≤Na2O-A12O3≤6摩尔%;以及4摩尔%≤(Na2O+K2O)-Al2O3≤10摩尔%。该玻璃见Adam J.Ellison等人于2007年7月27号提交的题为“Down-Drawable,Chemically Strengthened Glass for Cover Plate(用于盖板的可下拉的化学强化玻璃)”的美国专利第7,666,511号所述,其要求2007年5月18号提交的美国临时专利申请第60/930,808号的优先权,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:氧化铝和氧化硼中的至少一种,以及碱金属氧化物和碱土金属氧化物中的至少一种,其中,-15摩尔%≤(R2O+R'O-A12O3-ZrO2)-B2O3≤4摩尔%,其中,R是Li、Na、K、Rb和Cs中的一种,以及R'是Mg、Ca、Sr和Ba中的一种。在一些实施方式中,碱性铝硅酸盐玻璃包含:约62-70摩尔%的SiO2;0摩尔%至约18摩尔%的Al2O3;0摩尔%至约10摩尔%的B2O3;0摩尔%至约15摩尔%的Li2O;0摩尔%至约20摩尔%的Na2O;0摩尔%至约18摩尔%的K2O;0摩尔%至约17摩尔%的MgO;0摩尔%至约18摩尔%的CaO;以及0摩尔%至约5摩尔%的ZrO2。该玻璃见Matthew J.Dejneka等人于2008年11月25号提交的题为“Glasses HavingImproved Toughness and Scratch Resistance(具有改善的粗糙度和耐刮擦性的玻璃)”的美国专利申请第12/277,573号所述,其要求2008年11月29号提交的美国临时专利申请第61/004,677号的优先权,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:约60-70摩尔%SiO2;约6-14摩尔%Al2O3;0摩尔%至约15摩尔%B2O3;0摩尔%至约15摩尔%Li2O;0摩尔%至约20摩尔%Na2O;0摩尔%至约10摩尔%K2O;0摩尔%至约8摩尔%MgO;0摩尔%至约10摩尔%CaO;0摩尔%至约5摩尔%ZrO2;0摩尔%至约1摩尔%SnO2;0摩尔%至约1摩尔%CeO2;小于约50ppm的As2O3;以及小于约50ppm Sb2O3;其中12摩尔%≤Li2O+Na2O+K2O≤20摩尔%,且0摩尔%≤MgO+CaO≤10摩尔%。该玻璃见Sinue Gomez等人于2009年2月25号提交的题为“Fining Agents for Silicate Glasses(用于硅酸盐玻璃的澄清剂)”的美国专利申请第12/392,577号所述,其要求2008年2月26号提交的美国临时专利申请第61/067,130号的优先权,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含SiO2和Na2O,其中所述玻璃具有粘度为35千泊(kpoise)时的温度T35kp,其中,锆石分解形成ZrO2和SiO2的温度T分 解高于T35kp。在一些实施方式中,碱性铝硅酸盐玻璃包含:约61-75摩尔%的SiO2;约7-15摩尔%的Al2O3;0摩尔%至约12摩尔%的B2O3;约9-21摩尔%的Na2O;0摩尔%至约4摩尔%的K2O;0摩尔%至约7摩尔%的MgO;以及0摩尔%至约3摩尔%的CaO。该玻璃参见Matthew J.Dejneka等人于2010年8月10号提交的题为“Zircon Compatible Glasses for Down Draw(用于下拉法的锆石相容的玻璃)”的美国专利申请第12/856,840号所述,其要求2009年8月29号提交的美国临时专利申请第61/235,762号的优先权,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:至少50摩尔%的SiO2以及至少一种选自碱金属氧化物和碱土金属氧化物的改性剂,其中[(Al2O3(摩尔%)+B2O3(摩尔%))/(∑碱金属改性剂(摩尔%))]>1。在一些实施方式中,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:50摩尔%至约72摩尔%的SiO2;约9-17摩尔%的Al2O3;约2-12摩尔%的B2O3;约8-16摩尔%的Na2O;以及0摩尔%至约4摩尔%的K2O。该玻璃见Kristen L.Barefoot等人于2010年8月18号提交的题为“Crack AndScratch Resistant Glass and Enclosures Made Therefrom(抗裂纹和刮擦玻璃及由其制造的外壳)”的美国专利申请第12/858,490号所述,其要求2009年8月21号提交的美国临时专利申请第61/235,767号的优先权,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:SiO2、Al2O3、P2O5以及至少一种碱金属氧化物(R2O),其中0.75≤[(P2O5(摩尔%)+R2O(摩尔%))/M2O3(摩尔%)]≤1.2,其中M2O3=Al2O3+B2O3。在一些实施方式中,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:约40-70摩尔%的SiO2;0摩尔%至约28摩尔%的B2O3;0摩尔%至约28摩尔%的Al2O3;约1-14摩尔%的P2O5;以及约12-16摩尔%的R2O;以及在一些实施方式中,约40-64摩尔%的SiO2;0摩尔%至约8摩尔%的B2O3;约16-28摩尔%的Al2O3;约2-12摩尔%的P2O5;以及约12-16摩尔%的R2O。该玻璃见Dana C.Bookbinder等人于2011年11月28号提交的题为“IonExchangeable Glass with Deep Compressive Layer and High Damage Threshold(具有深压缩层和高破坏阈值的可离子交换玻璃)”的美国专利申请第13/305,271号所述,其要求2010年11月30号提交的美国临时专利申请第61/417,941号的优先权,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:至少约4摩尔%的P2O5,其中(M2O3(摩尔%)/RxO(摩尔%))<1,其中M2O3=Al2O3+B2O3,并且其中,RxO是碱性铝硅酸盐玻璃中存在的单价和二价阳离子氧化物的总和。在一些实施方式中,单价和二价阳离子氧化物选自下组:Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO和ZnO。在一些实施方式中,玻璃包含0摩尔%的B2O3。该玻璃参见Timothy M.Gross等人于2011年11月16号提交的题为“IonExchangeable Glass with High Crack Initiation Threshold(具有裂纹引发阈值的可离子交换玻璃)”的美国临时专利申请第61/560,434号所述,其全文通过引用结合入本文。
在其他实施方式中,透明玻璃基材包含碱性铝硅酸盐玻璃或者由碱性铝硅酸盐玻璃构成,所述碱性铝硅酸盐玻璃包含:至少约50摩尔%的SiO2以及至少约11摩尔%的Na2O,并且压缩应力至少约900MPa。在一些实施方式中,玻璃还包含Al2O3,以及B2O3、K2O、MgO和ZnO中的至少一种,其中-340+27.1·Al2O3-28.7·B2O3+15.6·Na2O-61.4·K2O+8.1·(MgO+ZnO)≥0摩尔%。在具体实施方式中,玻璃包含:约7-26摩尔%的Al2O3;0摩尔%至约9摩尔%的B2O3;约11-25摩尔%的Na2O;0摩尔%至约2.5摩尔%的K2O;0摩尔%至约8.5摩尔%的MgO;以及0摩尔%至约1.5摩尔%的CaO。该玻璃见Matthew J.Dejneka等人于2011年7月1号提交的题为“Ion Exchangeable Glass with HighCompressive Stress(具有高压缩应力的可离子交换玻璃)”的美国临时专利申请第61/503,734号所述,其全文通过引用结合入本文。
在一些实施方式中,上文所述的玻璃基本不含(即含有0摩尔%的)锂、硼、钡、锶、铋、锑和砷中的至少一种。
虽然为了说明给出了典型的实施方式,但是前面的描述不应被认为是对本说明书或所附权利要求书的范围的限制。因此,在不偏离本说明书或者所附权利要求书的精神和范围的情况下,本领域的技术人员可想到各种改进、修改和替换形式。
Claims (34)
1.一种显示元件,所述显示元件包括:
a.前表面;
b.后表面;
c.布置在前表面和后表面之间的散射防眩光层,所述散射防眩光层是透明的并且包括多个散射元件;以及
d.布置在前表面和后表面之间的透明基材,其中所述透明基材包含塑料或者玻璃。
2.如权利要求1所述的显示元件,其特征在于,所述前表面是防眩光表面、防反射表面或其组合中的一种。
3.如权利要求1所述的显示元件,其特征在于,所述多个散射元件的平均横向特征尺寸小于约50μm。
4.如权利要求1所述显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层包括衍射光栅和棱形结构中的一种。
5.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层布置在前表面和透明基材之间。
6.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层布置在透明基材和后表面之间。
7.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层具有小于约2%的总反射率。
8.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层包括粗糙化表面,所述粗糙化表面的RMS粗糙度大于50nm。
9.如权利要求8所述的显示元件,其特征在于,所述粗糙化表面的RMS粗糙度大于200nm。
10.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,小于2%的透射通过显示元件的光被散射到从入射角的5度之外。
11.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述显示元件的透射雾度小于约5%。
12.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述显示元件的反射雾度小于约1%。
13.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,所述显示元件还包括布置在透明基材和前表面之间的偏光过滤器。
14.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,所述显示元件还包括布置在后表面上的显示层,所述显示层包括触摸传感层、LCD显示器、LED显示器、OLED显示器或其组合。
15.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,透明基材和散射防眩光层的至少一个包含碱性铝硅酸盐玻璃。
16.如权利要求15所述的显示元件,其特征在于,所述碱性铝硅酸盐玻璃是经离子交换的。
17.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述显示元件的厚度最高至约3mm。
18.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层的厚度小于约0.1mm。
19.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层距离后表面的间距约为0.1-2mm。
20.如权利要求1-4中任一项所述的显示元件,其特征在于,所述散射防眩光层与显示器间隔的距离小于约2mm。
21.一种用于显示元件的隐埋散射防眩光层,所述隐埋散射防眩光层是透明的并且能够布置在显示元件的前表面和后表面之间,所述隐埋散射防眩光层包括多个平均横向尺寸小于约50μm的散射元件,其中,所述隐埋散射防眩光层具有小于约2%的总反射率以及小于5%的透射通过隐埋散射防眩光层的光被散射到从透射光的入射角的约5度之外。
22.如权利要求21所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层包括粗糙化表面,所述粗糙化表面的RMS粗糙度至少约为50nm。
23.如权利要求21所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述多个散射元件包括多个布置在基材的表面上的多个颗粒。
24.如权利要求23所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述多个颗粒嵌入布置在基材上的基质中。
25.如权利要求23所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述多个颗粒嵌入在基材的表面中。
26.如权利要求21所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述多个散射元件包括衍射光栅或棱形结构。
27.如权利要求21所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层包括碱性铝硅酸盐玻璃或者塑料。
28.如权利要求21-27中任一项所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层具有小于约5%的透射雾度。
29.如权利要求21-27中任一项所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层具有小于约1%的反射雾度。
30.如权利要求21-27中任一项所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述多个散射元件具有在横向方向的约5-20μm的平均特征尺寸以及在平行于光透射通过隐埋散射防眩光层的方向的约0.1-5μm的平均特征尺寸。
31.如权利要求21-27中任一项所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层包括至少一个具有变化的折射率的材料之间的界面,并且其中,散射层在所述至少一个界面上的最大折射率变化最高至约0.2。
32.如权利要求21-27中任一项所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层包括至少一种具有变化的折射率和折射率梯度的材料,所述折射率梯度在至少约50纳米的梯度距离具有约0.4的最大折射率变化。
33.如权利要求32所述的隐埋散射防眩光层,其特征在于,所述隐埋散射防眩光层包括至少一种具有变化的折射率和折射率梯度的材料,所述折射率梯度在至少约1000纳米的梯度距离具有约0.2的最大折射率变化。
34.一种显示元件,所述显示元件包括:
a.前表面,所述前表面包括防眩光表面、防反射表面或其组合中的至少一种;
b.后表面;
c.布置在前表面和后表面之间的散射防眩光层,所述散射防眩光层是透明的并且包括多个散射元件,所述多个散射元件的平均横向尺寸小于约50μm,其中,所述散射防眩光层具有小于约2%的总反射率,以及其中,小于5%的透射通过隐埋散射防眩光层的光被散射到从透射光的入射角的约5度之外;以及
d.布置在前表面和后表面之间的透明基材,所述透明基材包含玻璃或者塑料。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151014 |