CN104977759A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示装置。近几年，出于对窄边框化的要求的提高，具有密封线宽度细线化的趋势，密封紧贴强度降低。在密封区域的基底的树脂层上形成1条或多条槽。优选将槽的形成方向(侧面)设为与外部应力垂直的方向。在密封直线区域中除了与密封件平行的方向以外，优选也沿垂直方向形成槽。另外，优选以在密封角区域中向朝向显示区域(有源区域)的方向描绘凸状曲线的方式形成槽。

Description

显示装置
技术领域
本发明涉及显示装置，例如能够适用于在密封区域的基底上具有树脂层的显示装置。
背景技术
液晶显示面板在上下2片基板间保持液晶，但当为了使上下基板贴合并粘接而形成单元时，为了将液晶密封在单元内而在基板周边配置密封材料(例如，日本特开2013-3305号公报)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013-3305号公报
发明内容
近几年，出于对窄边框化的要求的提高，有密封线宽度细线化的趋势，密封紧贴强度降低。
其它课题与新的特征从本发明的记述及附图得以明确。
本发明之中，如果简单地说明代表的概要，则如下述。即，显示装置具有：具有树脂层的第1基板；第2基板；配置有使上述第1基板与上述第2基板贴合的密封材料的密封区域。上述密封区域沿上述第1基板的外周配置。上述树脂层在与上述密封区域重叠的区域具有第1槽和与上述第1槽相比配置于上述外周侧的第2槽。上述第1槽及第2槽的长边方向设为各自沿上述外周的方向。
附图说明
图1A是表示实施例的显示装置的结构的俯视图。
图1B是图1A的A-A′线的剖视图。
图2A是图案1的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。
图2B是图2A的A-A′线的剖视图。
图2C是表示密封直线区域的图案尺寸的图。
图3A是图案1的显示装置的图1A的虚线D的位置的俯视图。
图3B是图3A的B-B′线的剖视图。
图3C是表示密封角区域的图案尺寸的图。
图4A是图案2的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。
图4B是图4A的A-A′线的剖视图。
图4C是表示密封直线区域的图案尺寸的图。
图5A是图案3的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。
图5B是图5A的A-A′线的剖视图。
图5C是表示密封直线区域的图案尺寸的图。
图6A是图案4的显示装置的图1A的虚线D的位置的俯视图。
图6B是图6A的A-A′线的剖视图。
图6C是表示密封角区域的图案尺寸的图。
图7A是在图案2的显示装置上附加了伪柱状间隔件(spacer)的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。
图7B是图7A的A-A′线的剖视图。
附图标记说明
3   密封
4   柱状间隔件
4a  伪柱状间隔件
5   树脂层
6   无机绝缘层
7a，7b，7c，7d，7e，7f，7g，7r   槽
8   黑矩阵层
10  显示装置
11  阵列基板(TFT基板)
12  对置基板(CF基板)
13  显示区域
14  密封形成区域
20  液晶层
BKL   背光源
DRV   半导体集成电路
PNL    显示面板
POL1，POL2    偏振板
具体实施方式
为了将显示面板的基板间间隙保持恒定，使用光刻技术在上下玻璃基板之中的某一方(对置基板或阵列基板)上形成柱状间隔件。柱状间隔件既形成于显示面板的显示区域也形成于密封形成区域。但是，为了尽量减少工序，通常在同一工序同时形成显示区域及密封形成区域这两个区域的间隔件。因此，虽然在两个区域中形成相同高度的柱状间隔件，但为了在显示区域与密封形成区域中相同地保持显示面板的单元间隙，在显示区域和密封形成区域中，需要使成为柱状间隔件的基底的层结构尽量形成为相同。
为了显示面板的显示区域的开口率提高和层差的调平(leveling)、导电层间的绝缘等，在显示区域中形成有厚度为几μm的树脂层，但在密封形成区域中也形成有相同的树脂层。而且，该树脂层也作为包含密封的周边区域中的布线的保护(防止由机械式的接触引起的损伤、防止由水分等引起的腐蚀、防止静电的侵入等)膜发挥作用。
今后窄边框化的要求加强，可预想到密封宽度也会从现行的0.6～0.9mm左右变细至0.2mm左右。尤其是在显示面板的边缘附近，在阵列基板与对置基板的贴合工序后的割断工序、半导体集成电路(IC芯片)和挠性布线基板的安装工序等会施加各种负荷，容易发生密封剥离。
另外，也能够预想到从外部向显示面板内的水分侵入变得容易，不能维持可靠性。
而且，在现状中通常使用点胶机(dispenser)来涂敷密封材料，但由于伴随着细线化，密封涂敷量变少，所以涂敷量的偏差基于线宽比变大，线宽度不容易稳定。
为了解决上述课题，从密封强度的观点来看，在密封区域的基底的树脂层上形成1条或多条槽。优选将槽的形成方向(侧面)设为与外部应力垂直的方向。在密封直线区域中除了与密封平行的方向以外，优选也沿垂直方向形成槽。另外，在密封角区域中，优选以沿朝向显示区域(有源区域)的方向描绘凸状曲线的方式形成槽。此外，树脂层可以包含例如平坦化膜等的有机绝缘膜，或包含取向膜。
另外，从减少水分侵入的观点来看，由于水分从形成于基板表面的各层的界面侵入的情况较多，所以优选尽量使界面凹凸而延长侵入路线。在该意义下，优选形成多条槽的结构。
进而，作为将密封线宽度稳定化的观点来看，由于柱状间隔件形成于树脂层的凸区域(不是槽的区域)，所以槽区域与间隙形成无直接关系，槽区域的面积越大密封涂敷量越多，越容易稳定。综合考虑到通常来说密封高度和树脂层膜厚均为几μm，认为通过形成槽所致的涂敷量增加的效果充分大。
另外担心由于形成槽，限制了密封区域的树脂层上能够设置柱状间隔件的区域，但综合考虑到即使在窄边框结构中密封宽度为0.2mm左右、使用光刻技术形成几十μm宽度的柱状间隔件，则认为能够充分地设置柱状间隔件。
进而，与形成在与密封平行的方向的槽不同，在沿垂直方向形成槽的情况下，每密封单位长度的槽容积根据密封形成位置而不同，在密封储存容量中产生偏差，所以担心密封线宽度不容易稳定。对于该问题，通过光刻形成柱状间隔件时，通过对树脂层的槽区域也设置伪柱状间隔件这样的措施等加以改进，能够缓和密封储存容量的偏差。
以上，关于形成于阵列基板上的树脂层进行了叙述，关于在对置基板上，在成为密封形成区域的基底的黑矩阵层或平坦化膜、彩色滤光片的R(红)、G(绿)、B(蓝)层上形成槽的结构也能够期待相同的效果。
以下，关于实施例及变形例，参照附图进行说明。此外，发明只不过是一个例子，在本领域技术人员中，关于保持发明的主旨的适当地变更能够容易地想到，当然是本发明的范围所包含的。另外，由于附图将说明更明确化，所以与实际的方式相比，会有关于各部分的宽度、厚度、形状等示意性地表示的情况，但只不过是一个例子，并不限定本发明的解释。另外，在本说明书与各图中，对关于之前的图与上述相同的要素标注相同的附图标记，适当省略详细的说明。
实施例
关于实施例的显示装置的结构，使用图1A及图1B进行说明。
图1A是表示实施例的显示装置的结构的俯视图。图1B是图1A的A-A′线的剖视图。
如图1B所示那样，显示装置10具有显示面板PNL、半导体集成电路DRV、背光源BKL。显示面板PNL具有TFT基板(阵列基板，第1基板或第2基板)11、液晶层20、CF基板(对置基板，第1基板或第2基板)12、偏振板POL1、POL2。
如图1A所示那样，阵列基板11及对置基板12在俯视下为矩形状，并分别具有四条边。在阵列基板11的用虚线包围的有源区域13中，形成有通过半导体集成电路DRV驱动的影像信号线和扫描线、像素电极、薄膜晶体管(TFT)等。在对置基板12上，在与阵列基板11的像素电极对应的位置形成有彩色滤光片等。如图1A所示那样，使阵列基板11与对置基板12贴合的密封形成区域14位于有源区域13的外侧，沿阵列基板11与对置基板12的外周配置。密封区域14具有图1A的虚线C的位置的直线区域与虚线D的位置的角区域。
研究通过形成于密封形成区域14的树脂层上的槽的形状(图案)所致的密封强度。
＜图案1＞
首先，以下参照图2A至图3C说明第1图案(图案1)。
图2A是图案1的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。图2B是图2A的A-A′线的剖视图。图2C是表示密封直线区域的图案尺寸的图。图3A是图案1的显示装置的图1A的虚线D的位置的俯视图。图3B是图3A的B-B′线的剖视图。图3C是表示密封角区域的图案尺寸的图。
如图2B及图3B所示那样，在阵列基板11上形成有由硅氮化膜等构成的无机绝缘层6，在其上形成有由平坦化膜等构成的树脂层5。另外，在对置基板12上形成有黑矩阵层8，在其上形成有柱状间隔件4。也存在在黑矩阵层上形成有彩色滤光片层和平坦化膜的情况，在本发明中，包含这些而称为黑矩阵层8。阵列基板11与对置基板12通过密封件3贴合。如图2A及图3A所示，在树脂层5上沿密封件3(密封形成区域14)的外周附近形成有一条槽7r，密封件3进入槽7r中而增加了密封强度。
在阵列基板2的制作工序中，实施了树脂层5的涂敷/图案形成(即树涂敷脂层5，经由掩膜UV曝光、显影、热固化)，此时，作为UV曝光时所使用的掩膜，准备如图2C及图3C所示那样的图案的掩膜而形成槽。以下，关于图案2、图案3也是相同的。
如图2C所示那样，密封直线区域的图案1-S中，密封件3的长边方向(Y方向)与槽7r的长边方向一致，密封件3与槽7r的一部分重叠。密封件3的宽度(Ws)为500μm且槽7r的宽度(Wr)为200μm。
如图3C所示那样，密封角区域的图案1-C中，密封件3的圆周方向与槽7r的圆周方向一致，密封件3与槽7r的一部分重叠。密封件3的宽度(Ws)为500μm且槽7r的宽度(Wr)为200μm。密封件3配置于相对于中心(O)而言的第1半径(R1)的圆弧与第2半径(R2)的圆弧之间。在此，R1＝1000μm，R2＝500μm，Ws＝R1-R2。槽7r也配置于相对于中心(O)而言的第3半径(R3)的圆弧与第4半径(R4)的圆弧之间。Wr＝R3-R4。
＜图案2＞
接下来，以下参照图4A至图4C说明第2图案(图案2)。
图4A是图案2的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。图4B是图4A的A-A′线的剖视图。图4C是表示图案尺寸的图。
如图4A及图4B所示，在阵列基板11上形成有无机绝缘层6，在其上形成有树脂层5。另外，在对置基板12上形成有黑矩阵层8，在其上形成有柱状间隔件4。阵列基板11与对置基板12通过密封件3贴合。在与密封件3(密封区域14)重合的树脂层5上形成有槽(第1槽)7b，沿密封件3(密封形成区域14)的外周附近形成有槽(第2槽)7a。密封件3进入到槽7a、7b中，增加了密封强度。
如图4C所示，密封直线区域的图案2-S中，除了与图案1-S的槽7r相同的槽7a以外，在与密封件3重叠的位置具有曲柄形状的槽7b。密封件3的长边方向(Y方向)与槽7a的长边方向一致，密封件3与槽7a的一部分重叠。密封件3的宽度(Ws)为500μm，槽7a的宽度(Wa)为100μm。密封件3的一端位于槽7a的中心线。槽7b具有与密封件3平行的方向(Y方向，长边方向)的第1线段和垂直方向(X方向)的第2线段。槽7b的宽度(Wb)为50μm，第1线段的长度(L1)为500μm，第2线段的长度(L2)为100μm。槽7a的中心线与最接近槽7a侧的槽7b的中心线的距离(D1)为200μm。
＜图案3＞
接下来，以下参照图5A到图5C说明第3图案(图案3)。
图5A是图案3的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。图5B是图5A的A-A′线的剖视图。图5C是表示图案尺寸的图。
图5A以及图5B所示那样，在阵列基板11形成有无机绝缘层6，在其上形成有树脂层5。另外，在对置基板12上形成有黑矩阵层8，在其上形成有柱状间隔件4。阵列基板11与对置基板12通过密封件3贴合。在与密封件3(密封区域14)重合的树脂层5上形成有槽(第3槽)7c及槽(第1槽)7d，沿密封件3(密封形成区域14)的外周附近形成有槽(第2槽)7a。密封件3进入槽7a、7c、7d，增加密封强度。
如图5C所示，密封直线区域的图案3-S中，除了与图案2-S相同的槽7a以外，在与密封件3重叠的位置具有与图案2-S的槽7b相同的曲柄形状的槽7c、7d。密封件3的长边方向(Y方向)与槽7a的长边方向一致，密封件3与槽7a的一部分重叠。密封件3的宽度(Ws)为500μm，槽7a的宽度(Wa)为100μm。密封件3的一端位于槽7a的中心线。槽7c具有与密封件3平行的方向(Y方向，长边方向)的第1线段和垂直方向(X方向)的第2线段。槽7c的宽度(Wb)宽度为50μm，第1线段的长度(L1)为500μm，第2线段的长度(L2)为100μm。槽7d具有与密封件3平行方向(Y方向，长边方向)的第1线段和垂直方向(X方向)的第2线段。槽7d的宽度(Wb)为50μm，第1线段的长度(L1)为500μm，第2线段的长度(L2)为100μm。槽7a的中心线与最接近槽7a侧的槽7c的中心线之间的距离(D2)为100μm。最接近槽7d侧的槽7c的中心线与最接近槽7c侧的槽7d的中心线之间的距离(D3)为100μm。密封件3的左端与最接近密封件3的左端侧的槽7d的中心线之间的距离(D4)为100μm。
＜图案4＞
接下来，以下参照图6A至图6C说明第4图案(图案4)。
图6A是图案4的显示装置的图1A的虚线D的位置的俯视图。图6B是图6A的A-A′线的剖视图。图6C是表示图案尺寸的图。
如图6A及图6B所示，在阵列基板11上形成有无机绝缘层6，在其上形成有树脂层5。另外，在对置基板12上形成有黑矩阵层8，在其上形成有柱状间隔件4。阵列基板11与对置基板12通过密封件3贴合。在与密封件3(密封区域14)重合的树脂层5上，在密封直线区域中形成有槽7a、7c、7d及在密封角区域中形成有槽(第4槽)7e、7f、7g，密封件3进入槽7a、7c、7d、7e、7f、7g中，增加密封强度。
如图6C所示，密封角区域的图案4-C中，3条槽7e、7f、7g的圆周方向配置成与密封件3的圆周方向为相反方向，密封件3与槽7e、7f、7g的一部分重叠。密封件3的宽度(Ws)为500μm，槽7e、7f、7g的宽度(Wc)为50μm。密封件3配置于相对于中心(O)而言的第1半径(R1)的圆弧与第2半径(R2)的圆弧之间。在此，R1＝1000μm，R2＝500μm。WS＝R1-R2。槽7e、7f、7g的中心线各自为相对于中心(O′)而言的第5半径(R5)的圆弧、第6半径(R6)的圆弧、第7半径(R7)的圆弧。R5＝650μm，R6＝800μm，R7＝950μm。
＜密封直线区域的图案＞
研究针对向将显示面板的密封件撕下的方向作用的应力的密封强度，所述显示面板是将阵列基板11和对置基板12贴合而成，阵列基板11中使用图案1-S、图案2-S、图案3-S这3种UV掩膜配置有厚度为2μm的树脂层5。
通常来说，针对加载于将密封件撕下的方向的应力，与应力垂直的方向的界面的面积对密封强度的贡献较大。
在应力加载于密封件的长边方向(Y方向)和垂直方向(X方向)的情况下，与应力垂直的方向的界面的每单位长度的面积在图案1-S、图案2-S、图案3-S中分别为2000μm2/1mm密封件(1000×2)，6000μm2/1mm密封件(3×1000×2)，10000μm2/1mm密封件(5×1000×2)。通过树脂层5的槽条数增加而界面数增加，与应力垂直的方向的界面的每单位长度的面积增加。当与应力垂直的方向的界面的每单位长度的面积增加时密封强度增加。此外，如图案2-S、图案3-S那样，即使不一定要沿与密封长边方向垂直的方向设置槽，密封强度也增加。
另一方面，在应力加载于密封的长边方向(Y方向)和平行方向(Y方向)的情况下，与应力垂直的方向的界面的面积在图案1-S、图案2-S、图案3-S中分别为0μm2/1mm密封件、600μm2/1mm密封件(4×75×2)，1200μm2/1mm密封件(8×75×2)。通过将树脂层5的槽设于密封的长边方向(Y方向)和垂直方向(X方向)，与应力垂直的方向的界面的每单位长度的面积增加。与应力垂直的方向的界面的每单位长度的面积增加时，密封强度增加。如图2A、图4A、图5A的箭头F所示，在密封件的直线区域中，在显示面板的长边方向(Y方向)或者短边方向(X方向)，即在密封件的与长边方向平行的方向(Y方向)或者垂直方向(X方向)上，从外部附加欲撕下的应力。因此，除了密封件的与长边方向平行的方向以外，优选也沿垂直方向形成槽。
如以上那样，在密封的直线形状区域中，通过使槽条数增加来提高密封紧贴强度，进而能够期待基于界面增加所致的来自外部的水分侵入量减少，通过槽成为缓冲容量所致的密封线宽度的稳定化。
此外，在本实施例中，设于密封区域的2条或3条槽各自相连，也可以该槽不相连，被间断为局部部分。会有在密封区域的树脂层的下层设置有各种电路、布线，进而在上层也设置有布线的情况。在这样的情况下容易地在树脂层上形成槽，则也存在上下布线、电路导通的情况，所以在这样的情况下，不一定需要将槽相连。
＜密封角区域的图案＞
在密封角区域中也相同地，优选沿与撕下密封的方向垂直的方向，在阵列基板11上的树脂层5形成槽。在密封角区域中，通常来说，被施加从显示面板PNL的角部朝向显示面板PNL的内侧(中央部)以45度的角度撕下密封件的应力，随着进入到显示面板PNL的里侧，分解为平行于显示面板PNL的长边的方向的力和平行于短边方向的力。
在图案1-C中，槽7r与密封件3平行地形成，在密封角区域中也以与密封件3的圆弧平行的方式形成有槽7r的圆弧，如图3A所示，在从角稍微进入到显示面板PNL的内侧的区域中，槽界面与应力方向立即变得平行。槽界面与应力方向在中央垂直，随着从中央离开平行成分增加，在密封直线区域之前完全地平行。
在图案4-C中，将树脂层5的槽设为将密封件3的外侧作为中心的圆弧形状，形成为能够尽量与应力方向垂直地设置界面。即，在与密封件3弯曲的区域重叠的区域具有槽。该槽向朝向显示面板PNL(阵列基板11)的中央部的方向以凸状曲线形成。在图案4-C中具有3条槽7e、7f、7g，1条和2条均可。
如以上那样，面板角区域的密封紧贴强度提高。
＜密封线宽度稳定性保持构成＞
图7A是图案2的显示装置上附加了伪柱状间隔件的显示装置的图1A的虚线C的位置的俯视图。图7B是图7A的A-A′线的剖视图。
在图案2至图案4中，与仅沿与图案1的密封件3的长边方向平行的方向形成的槽不同，由于沿垂直方向形成槽，所以每密封单位长度的槽容积根据密封形成位置而不同，担心会在密封储存容量中产生偏差，密封线宽度不容易稳定。对于该问题，通过光刻形成柱状间隔件时，如图7A及图7B所示，优选在树脂层5的槽区域上也设置伪柱状间隔件4a。此外，图7A及图7B仅在图4A及图4B的图案2上追加了柱状间隔件4a这一点不同，其他结构相同的。也可以在图案3及图案4上追加柱状间隔件4a。设于这些槽区域的柱状间隔件4a不支承上下基板，也对单元间隙形成没有贡献。由于柱状间隔件4a通过光刻技术形成，所以与槽形状、宽度相应地，其形状或大小具有一定程度的自由度，能够设计且能够缓和槽的密封材料储存容量的差异。
也可以将密封直线区域的三个图案(图案1-S、图案2-S、图案3-S)和密封角区域的两个图案(图案1-C、图案4-C)各自组合。即，通过组合构成6种图案。另外，也可以将柱状间隔件设于阵列基板上，也可以将槽设于形成于对置基板上的黑矩阵和平坦化膜上。

Claims (20)

1.一种显示装置，其特征在于，具有：
具有树脂层的第1基板；
第2基板；以及
配置有使所述第1基板与所述第2基板贴合的密封材料的密封区域，
所述密封区域沿着所述第1基板的外周配置，
所述树脂层在与所述密封区域重叠的区域具有第1槽和与所述第1槽相比配置于所述外周侧的第2槽，
所述第1槽及第2槽的长边方向设为各自沿所述外周的方向。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述第1槽具有与沿所述外周的长边方向垂直的方向成分。
3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，
所述第2基板在与所述密封区域重叠的区域具有第1柱状间隔件，
所述第1柱状间隔件配置于除了所述第1槽及第2槽上以外的区域。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，
所述第2基板在与所述密封区域重叠的区域具有第2柱状间隔件，
所述第2柱状间隔件配置于所述第1槽及第2槽上。
5.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，
所述树脂层在所述第1槽和第2槽之间具有第3槽，
所述第3槽的长边方向是沿所述外周的方向，
所述第3槽具有与沿所述外周的长边方向垂直的方向成分。
6.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，
所述树脂层在与所述密封区域弯曲的区域重叠的区域具有第4槽，
所述第4槽向所述第1基板的中央方向以凸状曲线的方式形成。
7.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，
所述第1基板为阵列基板且所述第2基板为对置基板。
8.根据权利要求1或2所述的显示装置，其特征在于，
在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶层。
9.一种显示装置，其特征在于，具有：
具有树脂层的第1基板；
第2基板；以及
配置有使所述第1基板与所述第2基板贴合的密封材料的密封区域，
所述密封区域沿所述第1基板的外周配置，
所述树脂层在与所述密封区域重叠的区域具有第1槽，
所述第1槽具有与沿所述外周的长边方向平行的方向成分和与所述长边方向垂直的方向成分。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，
所述树脂层在与所述密封区域重叠的区域具有与所述第1槽相比配置于所述外周侧的第2槽，
所述第2槽的长边方向设为沿所述外周的方向。
11.根据权利要求9或10所述的显示装置，其特征在于，
所述树脂层在与所述密封区域重叠的区域具有与所述第1槽相比配置于所述外周侧的第3槽，
所述第3槽的长边方向设为沿所述外周的方向，
所述第3槽具有与沿所述外周的长边方向垂直的方向成分。
12.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，
所述第2基板在与所述密封区域重叠的区域具有第1柱状间隔件，
所述第1柱状间隔件配置于除了所述第1槽及第2槽上以外的区域。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其特征在于，
所述第2基板在与所述密封区域重叠的区域具有第2柱状间隔件，
所述第2柱状间隔件配置于所述第1槽及第2槽上。
14.根据权利要求9或10所述的显示装置，其特征在于，
所述树脂层在与所述密封区域弯曲的区域重叠的区域具有第4槽，
所述第4槽向所述第1基板的中央方向以凸状曲线的方式形成。
15.根据权利要求9或10所述的显示装置，其特征在于，
所述第1基板是阵列基板且所述第2基板是对置基板。
16.根据权利要求9或10所述的显示装置，其特征在于，
在所述第1基板与所述第2基板之间夹持有液晶层。
17.一种显示装置，其特征在于，具有：
具有树脂层的阵列基板；
对置基板；以及
配置有使所述阵列基板和所述对置基板贴合的密封材料的密封区域，
所述阵列基板在俯视下是矩形形状，
所述密封区域沿所述阵列基板的外周配置，具有：沿着所述阵列基板的第1边的第1区域；沿所述阵列基板的第2边的第2区域；位于所述第1边和第2边之间的角部附近、且位于所述第1区域与第2区域之间的第3区域，
所述树脂层在与所述密封区域重叠的区域具有第1槽，
在所述第1区域中，所述第1槽具有与所述第1边垂直的方向成分。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其特征在于，
在所述第1区域中，所述第1槽具有长边方向与所述第1边平行的方向成分。
19.根据权利要求17或18所述的显示装置，其特征在于，
在沿所述密封区域的外周的位置，所述树脂层具有第2槽。
20.根据权利要求17或18所述的显示装置，其特征在于，在所述阵列基板与所述对置基板之间夹持有液晶层。
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