JP2008276240A - 表示パネル及びこれの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】水分浸透を防止する表示パネルが開示される。
【解決手段】表示パネルは、第１基板、第２基板、液晶層、及びシールラインを含む。第１基板は、第１方向に形成されたゲート配線、第１方向と交差する第２方向に形成されたデータ配線、ゲート配線とデータ配線と電気的に接続され、表示領域に形成された画素部、及びゲート配線と電気的に接続され、表示領域の外郭を囲む周辺領域に形成されたゲート駆動部、を含む。第２基板は、第１方向への両端が第１基板の両端と互いに一致するように第１基板と対向して配置され、周辺領域と対応するように形成された遮光膜を有する。液晶層は、第１基板と第２基板との間に介在される。シールラインは、第１基板と第２基板との間に周辺領域に沿って形成されて液晶層を密封し、表示領域の外郭より遮光膜の外側端に近接するように配置される。これによって、第１基板と第２基板との間に水分が浸透することを防止することができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、表示パネル及びこれの製造方法に係り、より詳細には光透過率を調節しうる液晶層を含む液晶表示パネル及びこれの製造方法に関する。

代表的な平面表示装置である液晶表示装置は、薄くて軽いかつ電力消耗が低いという長所があり、モニター、ノートブック、携帯電話のみならず大型ＴＶにも広く用いられる。

前記液晶表示装置は、一般的に液晶の光透過率を用いて画像を表示する液晶表示パネル、前記液晶表示パネルの下部に配置され、前記液晶表示パネルに光を提供するバックライトアセンブリ、前記液晶表示パネルを駆動する印刷回路基板、及び前記印刷回路基板と前記液晶表示パネルとを電気的に接続させる可撓性回路フィルムを含む。

前記液晶表示パネルは、複数の画素部を含み、前記可撓性回路フィルムによって前記印刷回路基板と電気的に接続された第１基板、前記第１基板と対向して配置された第２基板、前記第１基板と第２基板との間に介在された液晶層、及び第１基板と第２基板との間に介在されて前記液晶層を密封するシールラインを含む。

前記可撓性回路フィルムは、一般的に前記第１基板にゲート信号を印加するためのゲート側回路フィルム及び前記第１基板にデータ信号を印加するためのデータ側回路フィルムを含むことができる。

前記ゲート側回路フィルムは、前記第１基板の左側端部に形成されたゲートパッドと電気的に接続され、前記データ側回路フィルムは、前記左側端部と垂直に連結される前記第１基板の上側端部に形成されたデータパッドと電気的に接続される。また、前記第１基板の左側端部には前記液晶表示パネルの特性及び履歴を示すネームマークが形成される。

このように、前記第１基板の左側端部には前記ゲートパッド及び前記ネームマークが形成され、前記第１基板の上側端部には前記データパッドが形成されることによって、前記第２基板は前記第１基板より小さいサイズを有する。即ち、前記第２基板は前記第１基板のうち、前記左側端部及び前記上側端部を露出させるために前記第１基板より小さいサイズに形成される。

一方、前記第１基板のうち、前記左側または前記上側端部上に外部から水分が形成される可能性がある。前記左側端部または前記上側端部上に形成された水分は、前記第１基板の表面に沿って横に広がって前記第１基板と第２基板との間に浸透するおそれがあり、それによって前記液晶表示装置の表示品質を低下させるおそれがある。

よって、本発明の技術的な課題はこのような従来の問題点を解決するためのものであって、本発明の目的は、外部の水分が第１基板と第２基板との間に浸透することを防止して画像の表示品質を向上させた表示パネルを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記表示パネルを製造するための製造方法を提供することにある。

前記本発明の目的を達成するための一実施例による表示パネルは、第１基板、第２基板、液晶層、及びシールラインを含む。
前記第１基板は、第１方向に形成されたゲート配線、前記第１方向と交差する第２方向に形成されたデータ配線、前記ゲート配線と前記データ配線と電気的に接続された画素部、及び前記ゲート配線と電気的に接続されたゲート駆動部、を含み、前記画素部が形成された表示領域及び前記表示領域の外郭を囲み前記ゲート駆動部が形成された第１周辺領域に区分される。前記第２基板は、前記第１方向への両端が前記第１方向への両端と互いに一致するように前記第１基板と対向して配置され、前記第１周辺領域と対応するように形成された遮光膜を有する。前記液晶層は、前記第１基板と第２基板との間に形成される。前記シールラインは、前記第１基板と第２基板との間に前記第１周辺領域に沿って形成されて前記液晶層を密封し、前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接するように配置される。

ここで、前記シールラインの前記第１方向への一端、すなわち前記シールラインの第２方向に沿う２辺のうちの一辺は、前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接するように形成することができる。前記シールラインの前記第１方向への外側端は、前記遮光膜の外側端と実質的に一致することが望ましい。

前記画素部は、前記ゲート配線と前記データ配線と電気的に接続された薄膜トランジスタ、及び前記薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極を含み、前記ゲート駆動部は、前記薄膜トランジスタと同時に形成された駆動トランジスタと、を含むことができる。ここで、前記ゲート駆動部は、前記表示領域を基準に前記第１方向への両側のうち、少なくとも一側に形成されることが可能である。前記ゲート駆動部は、前記シールラインと前記表示領域との間に形成することができる。

前記本発明の他の目的を達成するための一実施例による表示パネルの製造方法は、第１方向に形成されたゲート配線、前記第１方向と交差する第２方向に形成されたデータ配線、前記ゲート配線と前記データ配線と電気的に接続され、前記表示領域に形成された画素部、及び前記ゲート配線と電気的に接続され、前記表示領域の外郭を囲む周辺領域に形成されたゲート駆動部を含む第１母基板を形成する段階と、遮光膜を有する第２母基板を形成する段階と、前記第１及び第２母基板のうち、一基板上に前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接に配置されるようシールラインを形成する段階と、前記第１及び第２母基板のうち、一基板上に液晶を滴下する段階と、前記周辺領域と前記遮光膜とが対応するように前記第１及び第２母基板を互いに結合して、前記液晶を密封する段階と、前記第１母基板の一部を切断して、前記ゲート配線、前記データ配線、前記画素部、及び前記ゲート駆動部を含む第１基板を形成する段階と、前記第２母基板の一部を切断して、前記第１方向への両端が前記第１基板の前記第１方向への両端と互いに一致するように前記第１基板と対向して配置された第２基板を形成する段階と、を含む。

前記シールラインを形成する段階では、前記シールラインの第１方向への一端、すなわち前記シールラインの第２方向に沿う２辺のうちの一辺が、前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接するように形成することができる。望ましくは、前記シールラインを形成する段階では、前記シールラインの前記第１方向への一端が前記遮光膜の外側端と実質的に一致するように形成されることができる。

本実施例によると、前記第２基板の前記第１方向への両端が前記第１基板の前記第１方向への両端と一致することによって、外部の水分が前記第１基板の外郭周辺領域上に形成されることを防止することができる。

このような本発明によると、第２基板が第１基板の外郭周辺領域をカバーするように第１基板と対向して配置することによって、外郭周辺領域上に外部の水分が形成されることを防止することができ、それによって前記水分が第１基板と第２基板との間に浸透することを防止して画像の表示品質をより向上させることができる。また、前記水分の浸透を防止するための別途の水分浸透防止部材が外郭周辺領域上に形成されることを省略して、製造コストを節減し、作業の効率性を増加させることができる。

一方、第２基板が第１基板の外郭周辺領域をカバーするように第１方向に延長されることによって、シールラインの少なくとも一部の位置を従来の場合に比べて外郭周辺領域側の方向に移動することができる。その結果、シールラインと表示領域との間隔が増加して、シールラインのうち、硬化されない部分が表示部分まで拡散され、表示領域内の液晶層を汚染させることを防止することができる。

また、シールラインの少なくとも一部が外郭周辺領域側の方向に移動する場合、表示領域の中心部におけるセルギャップと表示領域の枠部におけるセルギャップとの差を減少して画像の表示品質をより向上させることができる。

以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離脱することなく、本発明を修正または変更できる。

以下、図面を参照して本発明の望ましい実施例をより詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施例による表示パネルを示した斜視図である。
図１を参照すると、本実施例による表示パネル（ＰＬ）は、第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、及びシールライン４００を含む。

前記第１基板１００は、複数の画素部及び前記画素部と電気的に接続された信号線を含む。前記第２基板２００は、前記第１基板の一部分を露出させるように前記第１基板と対向して配置される。前記液晶層３００は、前記第１基板１００と第２基板２００との間に介在され、前記第１基板１００と第２基板２００との間に形成された電場によって配列が変更される。前記シールライン４００は、前記第１基板１００と第２基板２００との間に形成され、前記液晶層３００が外部に流出されないように前記液晶層３００を密封する。

図２は、図１の表示パネルを示した平面図であり、図３は、図１の第１基板を複数の領域に区分された状態を示した平面図である。
図２及び図３を参照すると、本実施例における第１基板１００は、画像を表示するための表示領域（ＡＲ１）と前記表示領域（ＡＲ１）を囲むように前記表示領域（ＡＲ１）の外郭に形成された周辺領域とに区分される。前記周辺領域（ＡＲ２）は、遮光領域（ＢＡ）、外郭周辺領域（ＭＡ）、及びパッド領域（ＰＡ）に区分することができる。

前記遮光領域（ＢＡ）は、前記表示領域（ＡＲ１）を囲むように前記表示領域（ＡＲ１）の外郭と接して形成される。前記外郭周辺領域（ＭＡ）は、前記周辺領域（ＡＲ２）のうち、第２基板（２００）の左側一部に該当し、具体的に前記遮光領域（ＢＡ）の左側に形成される。前記パッド領域（ＰＡ）は、前記周辺領域（ＡＲ２）のうち、第２基板２００の上側一部に該当し、具体的に前記遮光領域（ＢＡ）に隣接するように形成される。前記パッド領域（ＰＡ）は、前記外郭周辺領域（ＭＡ）の一端と接するように前記第２方向に延長した形状を有する。

前記表示領域（ＡＲ１）、前記遮光領域（ＢＡ）、前記外郭周辺領域（ＭＡ）及び前記パッド領域（ＰＡ）も長方形の形状を有することが望ましい。
一方、前記表示領域（ＡＲ１）には、複数の画素部（図示せず）を形成することができ、前記外郭周辺領域（ＭＡ）にはネームマーク１４０を形成することができ、前記パッド領域（ＰＡ）には複数の接続パッド（図示せず）を形成することができる。また、前記遮光領域（ＢＡ）には前記第２基板２００の遮光膜２２０及び第１基板１００と第２基板２００との間に介在されたシールライン４００を形成することができる。より具体的な内容は、別途の図面を用いて後述する。

図４は、図１で第２基板とシールラインとの位置関係を説明するための平面図であり、図５は、図１のＩ−Ｉ’に沿って見た断面図である。
図２、図３、図４、及び図５を参照すると、本実施例による表示パネル（ＰＬ）は、第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００、シールライン４００、及びセルギャップ維持部材５００を含む。

まず、前記第１基板１００は、第１ベース基板１１０、画素部１２０、信号線（図示せず）、ゲート駆動部１３０、ネームマーク１４０、及び第１保護膜１５０、及び第１配向膜１６０を含む。

前記第１ベース基板１１０は、透明な物質、一例として、ガラス、石英、合成樹脂などからなる。前記第１ベース基板１１０は、プレート形状を有し、平面的に見たとき、実質的に長方形の形状を有する。前記第１ベース基板１１０は、前記表示領域（ＡＲ１）、及び前記周辺領域（ＡＲ２）に区分され、前記周辺領域（ＡＲ２）は前記遮光領域（ＢＡ）、前記外郭周辺領域（ＭＡ）、及び前記パッド領域（ＰＡ）に区分される。

前記画素部１２０は、前記表示領域（ＡＲ１）内に形成され、具体的に複数個がマトリクス形態で形成することができる。前記画素部１２０は、薄膜トランジスタ及び前記薄膜トランジスタのドレイン端子と電気的に接続された画素電極とを含むことができる。前記画素電極は透明な導電性で形成することができる。

前記信号線は、前記表示領域（ＡＲ１）及び前記周辺領域（ＡＲ２）上に複数個が形成され、前記薄膜トランジスタと電気的に接続される。前記信号線は、前記第１方向に沿って形成され、前記薄膜トランジスタのゲート端子と電気的に接続されたゲート配線及び前記第２方向に沿って形成され、前記薄膜トランジスタのソース端子と電気的に接続されたデータ配線を含む。

前記ゲート駆動部１３０は、前記周辺領域（ＡＲ２）に形成され、具体的に前記表示領域（ＡＲ１）を基準として前記第２方向への両側のうち、少なくとも一側に形成される。前記ゲート駆動部１３０は、前記周辺領域（ＡＲ２）のうち、前記遮光領域（ＢＡ）に形成されることが望ましいが、前記遮光領域（ＢＡ）及び前記外郭周辺領域（ＭＡ）にかけて形成することもできる。即ち、前記ゲート駆動部１３０は、少なくとも一部分が前記遮光領域（ＢＡ）内の遮光膜２２０によってカバーされる。

前記ゲート駆動部１３０は、前記ゲート配線と電気的に接続され、前記ゲート配線にゲート信号を印加する。前記ゲート信号は、前記ゲート配線を通じて前記薄膜トランジスタに印加され、前記薄膜トランジスタをターンオンまたはターンオフさせる。前記ゲート駆動部１３０は前記薄膜トランジスタとともに形成され、ゲート配線のスイッチングを行う複数の駆動トランジスタを含む。

前記ネームマーク１４０は、前記周辺領域（ＡＲ２）のうち、前記外郭周辺領域（ＭＡ）に形成される。前記ネームマーク１４０は、前記外郭周辺領域（ＭＡ）のうち、前記パッド領域（ＰＡ）に対して反対側である前記第２方向への一端部に形成されることが望ましい。前記ネームマーク１４０は、前記表示パネル（ＰＬ）についての各種情報を示すためのマークである。一例として、前記ネームマーク１４０は、前記薄膜トランジスタなどのような前記表示パネル（ＰＬ）の構成要素に対する特性情報、及びモデル名、製造場、製造時点などのような前記表示パネル（ＰＬ）の製造履歴についての情報を含むことができる。

前記第１保護膜１５０は、前記画素部１２０及び前記ゲート駆動部１３０を覆うように前記第１ベース基板１１０上に形成される。前記第１保護膜１５０は一例として、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）などを含むことができる。

前記第１配向膜１６０は、前記第１保護膜１５０上に配置され、具体的に前記表示領域（ＡＲ１）をカバーするように前記第１保護膜１５０上に形成することができる。即ち、前記第１配向膜１６０は、図２に示したように、前記表示領域（ＡＲ１）を完全カバーするように前記表示領域（ＡＲ１）より広い面積を有することが望ましい。

一方、前記第１ベース基板１１０の前記パッド領域（ＰＡ）には複数の接続パッド（図示せず）を形成することができる。前記接続パッドは、前記第２方向に沿って並列に配置することができる。前記接続パッドは、前記第２方向に沿って並列に配置することができる。前記接続パッドそれぞれは、前記データ配線と電気的に接続され、前記薄膜トランジスタにデータ信号を印加する。また、前記接続パッドの一部は、前記ゲート駆動部１３０と電気的に接続され、前記ゲート駆動部１３０にゲート制御信号を印加することができる。ここで、前記接続パッドは、可撓性回路基板（図示せず）と電気的に接続されるかあるいは駆動チップ（図示せず）と電気的に接続することができる。

前記第２基板２００は、前記第２ベース基板２１０、遮光膜２２０、カラーフィルタ２３０、第２保護膜２４０、及び第２配向膜２５０を含む。

前記第２ベース基板２１０は、透明な物質、一例として、ガラス、石英、合成樹脂などからなる。前記第２ベース基板２１０は、プレート形状を有し、平面的に見たとき、実質的に長方形の形状を有する。

前記第２ベース基板２１０は、前記ネームマーク１４０をカバーするように前記第１ベース基板１１０と対向して配置される。具体的に、前記第２ベース基板２１０は、前記第２方向への両端が前記第１基板１００の前記第２方向への両端と互いに一致し、前記第１基板１００の前記パッド領域（ＰＡ）を露出する形状をすることができる。

ここで、前記第２ベース基板２１０が透明物質からなることによって、前記外郭周辺領域（ＭＡ）が前記第２ベース基板２１０によってカバーされても、前記ネームマーク１４０は外部から観測することがある。

一方、前記第１基板１００の前記外郭周辺領域（ＭＡ）には、前記ゲート駆動部１３０を制御するための別途のパッドが形成されない。このように、前記外郭周辺領域（ＭＡ）に別途のパッドが形成されないことによって、前記第２ベース基板２１０は、前記表示領域（ＡＲ１）及び前記遮光領域（ＢＡ）のみならず前記外郭周辺領域（ＭＡ）までカバーすることができる。

前記遮光膜２２０は、前記第１基板１００と向い合うように前記第２ベース基板２１０上に形成される。前記遮光膜２２０は、光を遮断しうる有機物または無機物からなることができる。

前記遮光膜２２０は、前記ネームマーク１４０と重ならないように前記表示領域（ＡＲ１）の外郭に沿って形成される。具体的に、前記遮光膜２２０は、前記遮光領域（ＢＡ）と同一の面積で前記遮光領域（ＢＡ）と対応するように形成することができ、前記遮光領域（ＢＡ）より若干小さい面積で前記遮光領域（ＢＡ）と対応するように形成することができる。また、前記遮光膜２２０は、前記遮光領域（ＢＡ）のみならず前記外郭周辺領域（ＭＡ）の一部分まで形成することができる。

前記遮光膜２２０は、平面的に見たとき、前記表示領域（ＡＲ１）部分が開口された長方形の帯形状を有することができる。前記遮光膜２２０の幅は、一例として、約３ｍｍ〜４ｍｍの範囲を有することができる。前記遮光膜２２０は、位置によって互いに同一の幅を有してもよく、互いに異なる幅を有してもよい。例えば、前記遮光膜２２０のうち、前記外郭周辺領域（ＭＡ）と向い合う左側部分の幅が前記遮光膜２２０のうち、前記左側部分と対向する右側部分の幅より大きくてもよい。なぜなら、前記第２ベース基板２１０が前記表示領域（ＡＲ１）及び前記遮光領域（ＢＡ）のみならず前記外郭周辺領域（ＭＡ）までカバーするように延長されることによって、前記遮光膜２２０のうち、前記左側部分の幅が従来の場合より増加することができるためである。

前記カラーフィルタ２３０は、前記第１基板１００と向い合うように前記第２ベース基板２１０上に形成される。具体的に、前記カラーフィルタ２３０は、前記画素部１２０と対応するように複数個が形成される。前記カラーフィルタ２３０は、一例として、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタを含むことができる。一方、本実施例では、前記カラーフィルタ２３０が前記第２ベース基板２１０上に形成されることと説明したが、これとは違って、前記第１ベース基板１１０上に形成してもよい。

前記第２保護膜２４０は、前記遮光膜２２０及び前記カラーフィルタ２３０を覆うように前記第２ベース基板上に形成される。前記第２保護膜は、一例として、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）などを含むことができる。

前記第２配向膜２５０は、前記第２保護膜２４０上に形成され、具体的に、前記表示領域（ＡＲ１）をカバーするように前記第２保護膜２４０上に形成することができる。即ち、前記第２配向膜２５０は、図２に示したように、前記表示領域（ＡＲ１）を完全カバーするように前記表示領域（ＡＲ１）より広い面積を有することができる。一方、前記第２配向膜２５０は、前記第１配向膜１６０と同一の面積及び形状を有することが望ましい。

前記液晶層３００は、前記第１基板１００と第２基板２００との間に介在される。具体的に、前記液晶層３００は、前記第１配向膜１６０と第２配向膜２５０との間に配置され、前記第１配向膜１０６０と第２配向膜２５０によって一定の方向に配向される。

前記シールライン４００は、前記第１基板１００と第２基板と２００の間に前記周辺領域（ＡＲ２）と対応して配置される。前記シールライン４００は、前記表示領域（ＡＲ１）から離隔されかつ前記表示領域（ＡＲ１）の外郭に沿って配置され、少なくとも一部分が前記遮光膜２２０と重なるように配置される。前記シールライン４００は、前記第１基板１００と第２基板２００とを互いに結合させるだけでなく前記液晶層３００が外部に抽出されないように前記液晶３００を密封する。

前記シールライン４００は、図４に示したように平面的に見たとき、第１シールライン部４１０、第２シールライン部４２０、第３シールライン部４３０、及び第４シールライン部４４０を含む。

前記第１シールライン部４１０は、前記外郭周辺領域（ＭＡ）と向い合うように前記表示領域（ＡＲ１）の前記第１方向への一側(図中左側)に形成される。前記第２シールライン部４２０は、前記第１シールライン部４１０と対向するように前記表示領域（ＡＲ１）の前記第１方向への他側(図中右側)に形成される。前記第３シールライン部４３０は、前記パッド領域（ＰＡ）と向い合うように前記表示領域（ＡＲ１）の前記第２方向への一側(図中上側)に形成される。前記第４シールライン部４４０は、前記第３シールライン部４３０と対向するように前記表示領域（ＡＲ１）の前記第２方向への他側(図中下側)に形成される。

前記シールライン４００の幅は位置によって互いに同一であってもよいが、互いに異なってもよい。即ち、前記第１、第２、第３、及び第４シールライン部（４１０、４２０、４３０、４４０）それぞれの幅は、互いに同一であってもよく、互いに異なってもよい。前記シールライン４００の幅は一例として、約１．１ｍｍ〜１．３ｍｍの範囲を有してもよい。

前記第１、第２、第３、及び第４シールライン部（４１０、４２０、４３０、４４０）それぞれは、前記表示領域（ＡＲ１）の外郭より前記遮光膜２２０の外郭に近接するように配置することが望ましい。一例として、前記第１、第２、第３、及び第４シールライン部（４１０、４２０、４３０、４４０）それぞれと前記表示領域（ＡＲ１）の外郭との距離は、約１．５ｍｍ〜２．３ｍｍの範囲を有することができる。

具体的に、前記第１、第２、第３、及び第４シールライン部（４１、４２０、４３０、４４０）それぞれと前記表示領域（ＡＲ１）の外郭との距離は互いに同一であってもよく、異なってもよい。例えば、前記第１シールライン部４１０と前記表示領域（ＡＲ１）との距離が前記第２シールライン４２０と前記表示領域（ＡＲ２）との距離より長くてもよい。なぜなら、前記第２ベース基板２１０が前記表示領域（ＡＲ１）及び前記遮光領域（ＢＡ）のみならず前記外郭周辺領域（ＭＡ）までカバーするように延在することによって、前記第１シールライン部４１０をよりいっそう外側方向に移動して配置することができるためである。

一方、前記シールライン４００、即ち、第１、第２、第３、及び第４シールライン部（４１０、４２０、４３０、４４０）それぞれは、前記第１基板１００と第２基板２００とを離隔させるシールスペーサ４０２、及びシールスペーサ４０２の外郭を囲んで前記第１基板１００と第２基板２００とを互いに結合させるシーラント４０４を含むことができる。

前記セルギャップ維持部材５００は、前記第１基板１００と第２基板２００との間に介在され、前記第１基板１００と第２基板２００とのセルギャップを維持させる。具体的に、前記セルギャップ維持部材５００は、前記表示領域（ＡＲ１）内に複数個を配置することができる。前記セルギャップ維持部材５００は、一例として、弾性を有するドットスペーサを含むことができる。前記ドットスペーサは、前記シールスペーサ４０２と同一の大きさ及び形状を有することができる。

本実施例で、前記ゲート駆動部１３０は、前記第１シールライン部４１０と前記表示領域（ＡＲ１）との間に形成することができる。ここで、前記ゲート駆動部１３０は、前記第１シールライン部４１０の少なくとも一部と重なることもできるが、前記第１シールライン部４１０と重ならなくてもよい。

これと違って、前記ゲート駆動部１３０は、前記第１シールライン部４１０と前記表示領域（ＡＲ１）との間及び前記第２シールライン部４２０と前記表示領域（ＡＲ１）との間の両側に形成することもできる。前記ゲート駆動部１３０は、前記第１シールライン部４１０及び第２シールライン部４２０の少なくとも一部に重なってもよいが、前記第１シールライン部４１０及び第２シールライン部４２０と重ならなくてもよい。

図６は、図２のＩＩ−ＩＩ’に沿って見た断面図である。
図６を参照すると、第３シールライン部４３０は、図５の第１シールライン部４１０のようにシールスペーサ４０２及びシーラント４０４を含む。

図２、図３、及び図６を参照すると、本実施例による表示パネル（ＰＬ）は、水分浸透防止部材６００を更に含むことができる。
前記水分浸透防止部材６００は、前記パッド領域（ＰＡ）上に前記第２基板２００と隣接するように前記第２基板２００の一端に沿って形成される。即ち、前記水分浸透防止部材６００は、前記第１基板１００と第２基板２００との間の入口を遮断するように前記第１方向に沿って形成される。前記水分浸透防止部材６００は、一例として、シリコンを含むことができる。

一方、前記水分浸透防止部材６００が前記第１基板１００と第２基板２００との間の入口を遮断することによって、前記パッド領域
（ＰＡ）上に形成された水分１０が前記第１基板と第２基板との間に浸透することを防止することができる。

図７は、図５とは異なる実施例を示した断面図であり、図８は、図５とは異なる実施例を示した断面図である。
図７を参照すると、シールスペーサ４０２’及びシーラント４０４’を含む第１シールライン部（４１０’）の前記第１方向への外側端は前記遮光膜２２０’の前記第１方向への外側端と一致するように形成することができる。

また、図３及び図８を参照すると、シールスペーサ４０２”及びシーラント４０４”を含む第１シールライン部４１０”は少なくとも一部分が前記外郭周辺領域（ＭＡ）と重なるように配置することができる。即ち、前記第１シールライン部４１０”は、前記遮光領域（ＢＡ）及び前記外郭周辺領域（ＭＡ）にかけて配置することもでき、前記外郭周辺領域（ＭＡ）にのみ配置することができる。ここで、前記第１シーライン部４１０”は、前記ネームマーク１４０をカバーしないように前記ネームマーク１４０から離隔して配置することが望ましい。

本実施例によると、前記第２基板２００が前記第１基板１００の前記外郭周辺領域（ＭＡ）をカバーするように前記第１基板１００と対向して配置されることによって、前記外郭周辺領域（ＭＡ）上に外部の水分が形成されることを防止することができる。それによって、前記水分が前記第１基板１００と第２基板２００との間に浸透することを源泉的に防止することができる。また、前記水分の浸透を防止するための別途の水分浸透防止部材が前記外郭周辺領域上に形成されることを省略して、製造コストを節減し、作業の効率性を増加させることができる。

一方、本実施例によると、前記第２基板２００が前記第１基板１００の前記外郭周辺領域（ＭＡ）をカバーするように前記第１方向に延長されることによって、前記第１シールライン部４１０の位置を従来の場合に比べて前記外郭周辺領域（ＭＡ）側に移動することができる。

このように、前記第１シールライン部４１０が前記外郭周辺領域（ＭＡ）側方向に移動される場合、前記第１シールライン部４１０のうち、硬化されない部分が前記表示領域（ＡＲ１）にまで拡散して前記表示領域（ＡＲ１）内に配置された前記液晶層３００を汚染させることを防止することができる。

また、前記シールライン部４１０が前記外郭周辺領域（ＭＡ）側方向に移動する場合、前記表示領域（ＡＲ１）の中心部におけるセルギャップと前記表示領域（ＡＲ１）の枠部におけるセルギャップとの差をより減少させることができる。図を用いて下記のように前記の効果を具体的に説明する。

図９及び図１０は、図１の表示装置内の位置によるセルギャップの変化を示した図である。即ち、図９は、従来のセルギャップの変化を示し、図１０は、本発明におけるセルギャップの変化を示したものである。即ち、図９及び図１０では、遮光領域（ＢＡ）からの距離とセルギャップとの関係を示す。

図２、図３、及び図９を参照すると、従来には、例えば、前記第１基板１００と第２基板２００とのセルギャップは、前記表示領域（ＡＲ１）の枠部にて約４．２ｕｍであり、前記枠部にて前記表示領域（ＡＲ１）の中心部に移動するほど減少し、前記表示領域（ＡＲ１）の中心部で約４．１ｕｍであった。即ち、従来における前記枠部と前記中心部との前記セルギャップの差（ＣＧ１）は約０．１ｕｍであった。

このように、前記枠部におけるセルギャップと前記中心部におけるセルギャップとが異なるようになるのは、前記シールライン４００が前記表示パネル（ＰＬ）の外郭に配置され、前記セルギャップ維持部材５００が前記表示パネル（ＰＬ）の中央に複数個が互いに離隔して配置されるためである。一方、前記枠部と前記中心部との前記セルギャップ差（ＣＧ１）が相対的に大きい場合、前記枠部での画像と前記中心部での画像とが互いに異なるようになり、画像の表示品質を低下させるおそれがある。

図２、図３、及び図１０を参照すると、本実施例では前記第１シールライン部４１０が前記外郭周辺領域（ＭＡ）側方向に移動することによって、約４．２ｕｍのセルギャップを有する位置が図９における場合より前記外郭周辺領域（ＭＡ）側方向に移動することができる。

それによって、前記第１基板１００と第２基板２００とのセルギャップは、前記表示領域（ＡＲ１）の枠部において約４．１５ｕｍであってもよく、前記枠部において前記表示領域（ＡＲ１）の中心部に移動するほどしだいに減少して、前記表示領域（ＡＲ１）の中心部において約４．１ｕｍであってもよい。即ち、本実施例の前記枠部と前記中心部との前記セルギャップの差（ＣＧ２）は、約０．０５ｕｍであってもよい。

第１シールライン部４１０が外郭周辺領域側方向に移動することによって、遮光領域から表示領域方向への距離を横軸に取ったときのセルギャップの変化率が緩やかになる。そのため、画像の表示品質を向上させることができる。

一方、前記第１シールライン部４１０が前記外郭周辺領域（ＭＡ）側方向に移動する場合、前記表示領域（ＡＲ１）を従来に比べて前記外郭周辺領域（ＭＡ）側方向に移動させることもできる。

図１１は、本発明の一実施例による表示パネルの製造方法を示す順序図である。
図１ないし図８、及び図１１を参照して本実施例による表示パネルの製造方法を簡単に説明する。

まず、表示領域（ＡＲ１）に形成された画素部１２０及び前記表示領域（ＡＲ１）を囲む周辺領域（ＡＲ２）のうち、前記第１方向への一端部である外郭周辺領域（ＭＡ）に形成されたネームマークを有する第１母基板を形成する（Ｓ１０）。ここで、前記第１母基板は少なくとも一枚の第１基板１００を形成するための大型基板であってもよい。前記第１母基板は、前記第１方向に形成されたゲート配線（図示せず）、前記第２方向に形成されたデータ配線（図示せず）、ゲート駆動部１３０、ネームマーク１４０、第１保護膜１５０、及び第２方向膜１６０を更に含むことができる。他の実施例として、ゲートラインが第２方向に延長され、データラインが第１方向に延長することができる。

前記第１母基板と対応する第２母基板を形成する（Ｓ２０）。ここで、前記第２母基板は少なくとも一枚の第２基板を形成するための大型基板であってもよい。前記第２母基板は、遮光膜２２０、カラーフィルタ２３０、第２保護膜２４０、及び第２配向膜２５０を含むことができる。前記遮光膜２２０は、前記周辺領域（ＡＲ２）に対応するように形成することができる。

ここで、前記第１母基板を形成する段階（Ｓ１０）及び前記第２母基板を形成する段階（Ｓ２０）は、互いに独立的に行われる。即ち、前記第１母基板を形成する段階（Ｓ１０）を先に行い、前記第２母基板を形成する段階（Ｓ２０）を後で行ってもよく、前記第２母基板を形成する段階（Ｓ２０）を先に行い、前記第１母基板を形成する段階（Ｓ１０）を後で行ってもよく、前記第１母基板を形成する段階（Ｓ１０）と前記第２母基板を形成する段階（Ｓ２０）とを同時に行ってもよい。

その後、前記第１及び第２母基板のうち、一基板上にシールライン４００を形成する（Ｓ３０）。ここで、前記シールライン４００は、前記表示領域（ＡＲ１）から離隔するように前記表示領域（ＡＲ１）の外郭に沿って形成される。前記シールライン４００は、前記表示領域（ＡＲ１）の外郭より前記遮光膜２２０の外側端に近接して配置されるようシールラインを形成する。具体的に、前記シールラインの第２方向への一端が前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接して形成することができる。望ましくは、前記シールラインの第２方向への一端が前記遮光膜の外側端と実質的に一致するように形成することができる。

前記第１及び第２母基板のうち、一基板上に液晶を滴下する（Ｓ４０）。ここで、シールライン４００を形成する段階（Ｓ３０）及び前記液晶を滴下する段階（Ｓ４０）は、互いに独立的に行われる。即ち、前記シールライン４００を形成する段階（Ｓ３０）を先に行い、前記液晶を滴下する段階（Ｓ４０）を後で行ってもよく、前記液晶を滴下する段階（Ｓ４０）を先に行い、前記シールライン４００を形成する段階（Ｓ３０）を後で行っても良く、前記シールライン４００を形成する段階（Ｓ３０）と前記液晶を滴下する段階（Ｓ４０）とを同時に行ってもよい。

一方、前記シールライン４００及び前記液晶は互いに同一の基板上に形成することもでき、互いに異なる基板上に形成することもできる。
その後、前記第１及び第２母基板を互いに結合して、前記液晶を密封する（Ｓ５０）。ここで、前記第１及び第２母基板を互いに結合した後、前記シールライン４５０を赤外線または紫外線を通じて硬化することが望ましい。このように、前記液晶が前記第１基板と第２母基板との間に介在されて密封されることによって、前記第１母基板と第２母基板との間に液晶層３００が形成される。

続いて、前記第１母基板の一部を切断して前記第１基板１００を形成する（Ｓ６０）。具体的に、前記第１母基板の一部を切断して、前記画素部１２０、前記ゲート配線、前記データ配線、前記ゲート駆動部１３０、前記ネームマーク、前記第１保護膜１５０、及び前記第１配向膜を含む前記第１基板１００を前記第１母基板から分離する。

前記第２母基板の一部を切断して前記第２基板を形成する（Ｓ４０）。具体的に、前記第２母基板の一部を切断して、前記ネームマークをカバーするように前記第１基板１００と対向して配置され、前記遮光膜２２０、前記カラーフィルタ２３０、前記第２保護膜２４０、及び前記第２配向膜２５０を含む前記第２基板２００を前記第２母基板から分離させる。

ここで、前記第２基板２００は、前記第２方向への両端が前記第１基板１００の前記第２方向への両端と互いに一致し、前記周辺領域（ＡＲ２）のうち、前記第２方向に垂直する第１方向の一端部であるパッド領域（ＰＡ）を露出させる形状を有することができる。

一方、本実施例で、前記第１基板１００を形成した後で前記第２基板２００を形成することが望ましいが、これとは違って前記第２基板２００を先に形成した後、前記第１基板１００を形成することもできる。

最後に、本実施例による表示パネル（ＰＬ）の製造方法は、前記パッド領域（ＰＡ）上に前記第２基板と隣接するように前記第２基板の一端に沿って水分浸透防止部材６００を形成する段階を更に含むことができる。しかし、前記第２基板２００が前記外郭周辺領域（ＭＡ）をカバーするので、前記外郭周辺領域（ＭＡ）上には、ベッドの水分浸透防止部材が形成されない。

一方、本実施例では、前記第１及び第２母基板を結合させた後、前記第１及び第２母基板の一部を切断して前記第１基板１００及び第２基板２００を形成することと説明したが、これとが違って、前記第１及び第２母基板の一部をそれぞれ切断して前記第１基板１００及び第２基板２００を形成した後、前記第１基板１００と第２基板２００とを互いに結合することもできる。

本発明の一実施例による表示パネルを示した斜視図である。 図１の表示パネルを示した平面図である。 図１の第１基板を複数の領域に区分された状態を示した平面図である。 図１で第２基板及びシールラインの位置関係を説明するための平面図である。 図１のＩ−Ｉ’に沿って見た断面図である。 図１のＩＩ−ＩＩ’に沿って見た断面図である。 図５とは異なる実施例を示した断面図である。 図５と更に他の実施例を示した断面図である。 図１の表示装置内の位置によるセルギャップの変化を示した図面である。 図１の表示装置内の位置によるセルギャップの変化を示した図面である。 本発明の一実施例による表示パネルの製造方法を示した順序図である。

符号の説明

１００ 第１基板
１２０ 画素部
１３０ ゲート駆動部
１４０ ネームマーク
２００ 第２基板
２２０ 遮光膜
２３０ カラーフィルタ
３００ 液晶層
４００ シールライン
５００ セルギャップ維持部材
６００ 水分浸透防止部材
ＰＬ 表示パネル
ＡＲ１ 表示領域
ＡＲ２ 周辺領域
ＢＡ 遮光領域
ＭＡ 外郭周辺領域
ＰＡ パッド領域

Claims (20)

1. 表示領域及び前記表示領域を囲む第１周辺領域が形成され、第１方向に形成されたゲート配線、前記第１方向と交差する第２方向に形成されたデータ配線、前記表示領域内で前記ゲート配線と前記データ配線と電気的に接続された画素部、及び前記第１周辺領域内で前記ゲート配線と電気的に接続されたゲート駆動部、を含む第１基板と、
   前記第１方向への第１及び第２端が前記第１基板の前記第１方向への第１及び第２端と互いに一致するように前記第１基板と対向して配置され、前記第１周辺領域と対応するように形成された遮光膜を有する第２基板と、
   前記第１基板と第２基板との間に形成された液晶層と、
   前記第１及び第２基板との間に前記第１周辺領域に沿って形成されて前記液晶層を密封し、前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接するように配置されたシールラインと、を含む表示パネル。
2. 前記第２方向に沿う前記表示領域の２辺のうち一方とシールラインとの間の最短距離である第１距離は、前記２辺の他方とシールラインとの間の最短距離である第２距離より大きい、請求項１に記載の表示パネル。
3. 前記表示領域と第１距離にある前記シールラインの外側端は、前記遮光膜の外側端と一致する、請求項２に記載の表示パネル。
4. 前記第１基板の前記画素部は、前記ゲート配線と前記データ配線とに電気的に接続された薄膜トランジスタ、及び前記薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極、を含み、
   前記ゲート駆動部はゲート配線のスイッチングを行う駆動トランジスタを含む、請求項１に記載の表示パネル。
5. 前記ゲート駆動部は、前記表示領域を基準に前記第１方向への前記第１基板の第１及び第２側のうち、少なくとも一側に形成される、請求項４に記載の表示パネル。
6. 前記ゲート駆動部は、前記第１基板の前記シールラインと前記表示領域との間に形成される、請求項５に記載の表示パネル。
7. 前記第１基板には、前記遮光膜と重ならない第２周辺領域が更に形成されている、請求項１に記載の表示パネル。
8. 前記シールラインは、
   前記第２周辺領域と向い合うように前記表示領域の前記第１方向に沿う一辺に沿って形成された第１シールライン部と、
   前記第１シールライン部と前記表示領域を挟んで対向し前記第１方向に沿って形成された第２シールライン部と、
   前記表示領域の前記第２方向に沿う一辺に沿って形成され、前記第１及び第２シールライン部の一端を連結する第３シールライン部と、
   前記第３シールライン部と前記表示領域を挟んで対向し前記第２方向に沿って形成され、前記第１及び第２シールライン部の他端を連結する第４シールライン部と、
   を含む請求項７に記載の表示パネル。
9. 前記第１シールライン部と前記表示領域との距離は、前記第２シールラインと前記表示領域との距離より長い、請求項８に記載の表示パネル。
10. 前記第１シールライン部の外側端は、前記遮光膜の外側端と一致する、請求項８に記載の表示パネル。
11. 前記ゲート駆動部は、前記第１シールラインと前記表示領域との間に形成されている、請求項８に記載の表示パネル。
12. 前記ゲート駆動部の第１部分は、前記第１シールライン部と前記表示領域との間に形成され、前記ゲート駆動部の第２部分は前記第２シールライン部と前記表示領域との間に形成されている、請求項８に記載の表示パネル。
13. 前記第１基板には、前記第２周辺領域に形成され、前記第２基板によって覆われたネームマークが更に形成されている、請求項７に記載の表示パネル。
14. 前記第１基板と第２基板との間に設けられ、前記第１基板と第２基板との間のセルギャップを維持するセルギャップ維持部材を更に含む、請求項１に記載の表示パネル。
15. 前記セルギャップ維持部材は、弾性を有するドットスペーサを用いて形成されている、請求項１４に記載の表示パネル。
16. 前記第１基板上には、前記第２基板によって覆われることなく露出され、前記表示領域から前記第２方向に沿って延設された第３周辺領域が更に形成され、
    前記第３周辺領域には、パッド領域と前記パッド領域に設けられたパッド部とがさらに形成されている、請求項１に記載の表示パネル。
17. 前記第１基板には水分浸透防止部材がさらに形成され、
    前記水分浸透防止部材は、前記第３周辺領域のパッド領域上に前記第２基板と隣接するように前記第２基板の一端に沿って形成され、前記パッド領域上に形成された水分が前記第１基板と第２基板との間に浸透することを防止する、請求項１６に記載の表示パネル。
18. 表示領域及び前記表示領域を囲む周辺領域を含む表示パネルの製造方法において、
    第１方向に形成されたゲート配線、前記第１方向と交差する第２方向に形成されたデータ配線、前記ゲート配線と前記データ配線と電気的に接続され、前記表示領域に形成された画素部、及び前記ゲート配線と電気的に接続され前記周辺領域に形成されたゲート駆動部、を含む第１母基板を形成する段階と、
    遮光膜を有する第２母基板を形成する段階と、
    前記第１及び第２母基板のうち、一基板上に前記表示領域の外郭より前記遮光膜の外側端に近接に配置されるようシールラインを形成する段階と、
    前記第１及び第２母基板のうち、一基板上に液晶を滴下する段階と、
    前記周辺領域と前記遮光膜とが対応するように前記第１母基板及び第２母基板を互いに結合して、前記液晶を密封する段階と、
    前記第１母基板の一部を切断して、前記ゲート配線、前記データ配線、前記画素部、及び前記ゲート駆動部を含む第１基板を形成する段階と、
    前記第２母基板の一部を切断して、前記第１方向への第１端及び第２端が前記第１基板の前記第１方向への第１端及び第２端と互いに一致するように前記第１基板と対向して配置された第２基板を形成する段階と、
    を含む表示パネルの製造方法。
19. 前記シールラインを形成する段階では、
    前記第２方向に沿う前記表示領域の２辺のうち一方とシールラインとの間の最短距離である第１距離が、前記２辺の他方とシールラインとの間の最短距離である第２距離より大きくなるようシールラインの位置を調整する、請求項１８に記載の表示パネルの製造方法。
20. 前記シールラインを形成する段階では、
    前記表示領域と第１距離にある前記シールラインの外側端を前記遮光膜の外側端と一致する位置に調整する、請求項１９に記載の表示パネルの製造方法。
    
    
    
    
    
    
    
    
    

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