CN104943305B - 一种高透明光学聚酯薄膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种高透明光学聚酯薄膜及其制备方法,所述高透明光学聚酯薄膜由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中所述A层为表面层,所述B层为夹芯层,所述C层为底层,所述A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%。本发明的高透明光学聚酯薄膜的各原料组分中无需添加现有技术中常用的不透明材质的抗粘连粒子(抗粘结剂),提高了薄膜的加工性能,同时克服了薄膜的发雾现象,提高了薄膜的透光率和光泽度。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学聚酯薄膜及其制备方法,尤其涉及一种高透明光学聚酯薄膜及其制备方法,所述高透明光学聚酯薄膜可用于光学领域中平板显示屏中的保护膜、反射膜、扩散膜以及增亮膜等。
背景技术
聚酯薄膜具有优良的机械性能、尺寸稳定性、耐化学性和电气绝缘性,现已被广泛应用于包装、电子电器、光学等不同领域。在光学领域,聚酯薄膜现已开始被大量用于平板显示屏中的保护膜、反射膜、扩散膜以及增亮膜等。平板显示屏用的聚酯薄膜通常对光学性能要求很高,如扩散膜和增亮膜的透光率通常要求能够高于90%以上,雾度低于2.0以下;相对而言,保护膜的透光率通常则要求能够高于94%以上,雾度则低于1以下。
普通聚酯薄膜生产过程中,由于采用的常规聚酯结晶速度较快,通常容易造成薄膜透光率降低和雾度增加,使之不能满足平板显示屏用的保护膜、反射膜、扩散膜和增亮膜的应用要求。此外,由于普通聚酯薄膜本身具有自粘性,通常容易造成聚酯薄膜之间相互粘结,因而往往会给聚酯薄膜的加工带来不便。为了改善聚酯薄膜的自粘性,通常主要解决方法是采用含有抗粘连粒子作为开口剂(滑爽剂)的聚酯母料切片,采用此类聚酯母料切片制备的聚酯薄膜可以有效增加聚酯薄膜的表面粗糙度,从而使之聚酯薄膜获得良好的滑爽性和收卷性。尽管如此,由于聚酯母料切片中所含的抗粘连粒子(如SiO2、BaSO4、TiO2)与聚酯折射率存在一定差异,且与聚酯的相容性不好,因此,在聚酯薄膜制备过程中,随着聚酯母料切片中上述抗粘连粒子含量的增加,不仅会致使聚酯薄膜透明度受到破坏,而且也会导致聚酯薄膜发雾程度增加,从而使生产的聚酯薄膜不能满足光学膜的使用要求。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种高透明光学聚酯薄膜及其制备方法,以减少或避免前面所提到的问题。
具体来说,本发明提供了一种高透明光学聚酯薄膜及其制备方法,所述高透明光学聚酯薄膜无需添加现有技术中通常采用的不透明材质的SiO2、BaSO4、TiO2粒子,只是采用添加透明材质的纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子,解决了高透明光学聚酯薄膜收卷时容易出现的自粘、易划伤的问题,提高了薄膜的加工性能,同时克服了薄膜的发雾现象,提高了薄膜的透光率和光泽度,使制备的高透明光学聚酯薄膜具有极佳的光学性能。
为解决上述技术问题,本发明提出了一种高透明光学聚酯薄膜,由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中所述A层为表面层,所述B层为夹芯层,所述C层为底层,所述A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%。
优选地,所述高透明光学聚酯薄膜的厚度为50~250μm,其中,所述A层、B层和C层的厚度比为:5~10∶80~90∶5~10。
优选地,所述A层和C层的所述膜用改性聚酯由苯二甲酸、乙二醇、环已烷二甲醇、催化剂和热稳定剂为原料制成;或者,所述A层和C层的所述膜用改性聚酯由对苯二甲酸、乙二醇、间苯二甲酸、催化剂和热稳定剂为原料制成。
优选地,所述B层的所述膜用超有光聚酯由对苯二甲酸与乙二醇为原料制成。
优选地,所述催化剂为Ti/Si系非重金属催化剂、三氧化二锑中的任一种化合物,其加入量为相对于所述膜用改性聚酯质量的0.01~0.09%。
优选地,所述热稳定剂为磷酸类化合物;所述磷酸类化合物包括磷酸、亚磷酸、多磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、磷酸三乙酯中的任一种。
优选地,所述纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的平均粒径在80~180nm之间。
本发明还提供了一种高透明光学聚酯薄膜的制备方法,所述高透明光学聚酯薄膜由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中所述A层为表面层,所述B层为夹芯层,所述C层为底层,所述A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;所述方法包括如下步骤:
(1)、切片预结晶、干燥:
以含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片和含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片为原料进行预结晶、干燥;
(2)、熔融、共挤:
将所述A、B、C层的组分按上述重量百分比分别投入到各自对应的双螺杆挤出机内,主挤出机和辅挤出机的加热区均加热至265~285℃,使原料熔融、挤出;
(3)、模头铸片:
从模头三层共挤出的熔体在铸片辊表面冷却固化成厚片;
(4)、纵向拉伸:
在纵向拉伸机上进行拉伸成基膜,拉伸温度为80~120℃,倍率为3.0~4.0:1,拉伸强度为200~300MPa;经过纵向拉伸的基膜进行热定型,定型温度为170~180℃,定型时间1~3秒;
(5)、横向拉伸:
基膜经纵向拉伸后进入横拉机,拉伸温度为80~120℃,横拉倍率为3.0~4.0:1,拉伸强度为200~300MPa,拉伸后的基膜进行热定型、冷却,定型温度170~180℃,定型时间1~2秒;
(6)、牵引切边:
横拉出口的基膜进入牵引站,牵引站中的边缘装置通过切边刀对基膜边缘进行切边休整,基膜的幅宽为250~8700mm,然后牵引至收卷机;
(7)、收卷:
通过收卷机将基膜收卷;收卷工位分布在分切辊两侧,在两侧的工位上间隔收卷;收卷制成的基膜厚度比为:5~10∶80~90∶5~10。
(8)、分切:
基膜从放卷架牵引至切刀处,过程中保证基膜的张力并展平,在分切辊处基膜被分切成需要的规格;
(9)、成品:将分切后获得的成品包装、称重后入库。
优选地,所述步骤(1)中含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片通过如下步骤制得:
以苯二甲酸、乙二醇、环已烷二甲醇、催化剂和热稳定剂为原料进行酯化;或者以对苯二甲酸、乙二醇、间苯二甲酸、催化剂和热稳定剂为原料进行酯化;
在酯化结束阶段加入纳米级聚甲基戊烯粒子—乙二醇分散体或纳米级丁苯树脂粒子—乙二醇分散体,之后进行缩聚反应,得到含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯;然后对所述膜用改性聚酯进行拉伸、造粒,最后得到含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片。
优选地,所述步骤(1)中含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片通过如下步骤制得:
以对苯二甲酸和乙二醇进行酯化;在酯化结束阶段加入磷酸类化合物构成的热稳定剂,之后经缩聚得到含有热稳定剂的膜用超有光聚酯;然后对所述膜用超有光聚酯进行拉伸、造粒,最后得到含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片。
本发明的高透明光学聚酯薄膜的各原料组分中无需添加现有技术中通常采用的不透明材质的SiO2、BaSO4、TiO2之类的抗粘连粒子,提高了薄膜的加工性能,同时克服了薄膜的发雾现象,提高了薄膜的透光率和光泽度。
附图说明
以下附图仅旨在于对本发明做示意性说明和解释,并不限定本发明的范围。其中,
图1显示的是根据本发明的一个具体实施例的高透明光学聚酯薄膜的结构示意图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本发明的具体实施方式。
正如前述,本发明提供了一种高透明光学聚酯薄膜及其制备方法,以解决高透明光学聚酯薄膜收卷时容易出现的自粘、易划伤的问题,提高薄膜的加工性能,同时克服薄膜的发雾现象,提高薄膜的透光率和光泽度。本发明通过改进的材料组分和优化的制备方法,使得制备的高透明光学聚酯薄膜具有极佳的光学性能,特别适用于对光学性能要求较高的平板显示屏中的保护膜、反射膜、扩散膜和增亮膜。
具体来说,如图1所示,其显示的是根据本发明的一个具体实施例的高透明光学聚酯薄膜的结构示意图,其中,本发明的高透明光学聚酯薄膜由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中A层为表面层,B层为夹芯层,C层为底层,A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%。
与现有技术显著不同的是,构成本发明的高透明光学聚酯薄膜的各原料组分中无需添加现有技术中通常采用的不透明材质的SiO2、BaSO4、TiO2之类的抗粘连粒子,从而避免了这些不透明的抗粘结剂粒子与聚酯折射率差异导致的聚酯薄膜透明度降低、聚酯薄膜发雾程度增加、光泽度不够的缺陷。
另外,为了提高本发明的光学聚酯薄膜的透光性以及降低雾度,本发明在薄膜表面层A和底层C中加入了纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子;由于所述纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子本身为透明材质,折射率与聚酯折射率近似,差异性小,完全不会出现类似现有技术的抗粘结剂(抗粘连粒子)添加的越多,制备的光学聚酯薄膜雾度和透光率越低,以及产品光学性能和质量越差的问题。更为重要的是,本发明技术人员通过对膜用改性聚酯中添加上述纳米级抗粘连粒子的研究发现,随着上述纳米级抗粘连粒子的添加,除了能够改善聚酯薄膜透明度、降低雾度之外,当纳米级的抗粘连粒子的添加量达到5%之后,本发明的高透明光学聚酯薄膜的自粘性问题也逐步得到了改善,随着添加量的增加,本发明的高透明光学聚酯薄膜的滑爽性和收卷性也随之提高,尤其是当添加量超过15%之后,本发明的高透明光学聚酯薄膜的透明度和雾度并不会随着添加量的增加发生变化,也就是本发明添加的上述纳米级抗粘连粒子的添加量更多并不会影响产品质量,只会增加成本而已。因此,本发明通过在表面层A和底层C中加入5~15%的纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子,可以获得最优的抗粘结性和光学性能以及获得优化的成本投入。
并且,作为承载A层和C层的夹芯层B,由于A层和C层已经解决了透光性和自粘性平衡的问题,因而夹芯层B中也无需添加抗粘结剂,同样消除了对产品透光度的影响,同时为了提高产品的光泽度,夹芯层B选择了膜用超有光聚酯作为主材,辅助以1~5%的热稳定剂,从而避免了夹芯层B在制备成型过程中由于芯层散热慢所导致的光学性能不稳定的缺陷。当然,由于热稳定剂也是不透明的,添加量需要严格控制在1~5%范围内,以防止其对夹芯层B的透光性造成不利的影响。
在一个优选实施例中,所述纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的平均粒径在80~180nm之间。
所述纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子可以首先进行表面改性处理(通过现有的物理表面改性处理或者化学表面改性处理,避免纳米粒子发生团聚,提高纳米粒子的分散性),然后通过高速离心搅拌、研磨,使其均匀分散于乙二醇液中制成纳米级聚甲基戊烯粒子—乙二醇分散体或纳米级丁苯树脂粒子—乙二醇分散体,上述分散体可以在聚合体酯化结束后直接加入,从而避免出现纳米级聚甲基戊烯粒子或丁苯树脂粒子直接加入容易发生团聚、分散不均匀、进而影响薄膜产品的质量的不良情况。
在另一个优选实施例中,所述高透明光学聚酯薄膜的厚度为50~250μm,其中,所述A层、B层和C层的厚度比为:5~10∶80~90∶5~10。本发明所述的光学聚酯薄膜每层的厚度主要是根据最终产品的使用要求而定,如反射膜、扩散膜和增亮膜等最终产品通常在厚度上有一定的差异,有的需要做得厚些,有的稍薄些。此外,在制备过程中,为了降低生产成本,在满足最终产品开口性、雾度、透光率、光洁度的前提下,通常可将夹芯层做得较厚,表面层和底层则做得相对薄些。
在又一个具体实施例中,所述A层和C层的所述膜用改性聚酯由苯二甲酸、乙二醇、环已烷二甲醇、催化剂和热稳定剂为原料制成;或者,所述A层和C层的所述膜用改性聚酯由对苯二甲酸、乙二醇、间苯二甲酸、催化剂和热稳定剂为原料制成。
其中,所述催化剂为Ti/Si系非重金属催化剂、三氧化二锑中的任一种化合物,其加入量为相对于所述膜用改性聚酯质量的0.01~0.09%。
在再一个优选实施例中,所述B层的所述膜用超有光聚酯由对苯二甲酸与乙二醇为原料制成。其中,A、B、C层制备过程中用到的所述热稳定剂可以选择为磷酸类化合物;所述磷酸类化合物包括磷酸、亚磷酸、多磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、磷酸三乙酯中的任一种。
下面参照附图详细说明本发明的高透明光学聚酯薄膜的制备方法,其中,所述高透明光学聚酯薄膜由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中所述A层为表面层,所述B层为夹芯层,所述C层为底层,所述A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%。
本发明的高透明光学聚酯薄膜的制备方法的具体步骤如下。
(1)、切片预结晶、干燥:
以含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片和含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片为原料进行预结晶、干燥。
其中,含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片通过如下步骤制得:
以苯二甲酸、乙二醇、环已烷二甲醇、催化剂和热稳定剂为原料进行酯化;或者以对苯二甲酸、乙二醇、间苯二甲酸、催化剂和热稳定剂为原料进行酯化。在一个具体实施例中,所述催化剂为Ti/Si系非重金属催化剂、三氧化二锑中的任一种化合物,其加入量为相对于所述膜用改性聚酯质量的0.01~0.09%。在另一个具体实施例中,所述热稳定剂为磷酸类化合物;所述磷酸类化合物包括磷酸、亚磷酸、多磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、磷酸三乙酯中的任一种。
在酯化结束阶段加入纳米级聚甲基戊烯粒子—乙二醇分散体或纳米级丁苯树脂粒子—乙二醇分散体,之后进行缩聚反应,得到含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯;然后对所述膜用改性聚酯进行拉伸、造粒,最后得到含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片。在一个具体实施例中,所述纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的平均粒径在80~180nm之间。
其中,含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片通过如下步骤制得:以对苯二甲酸和乙二醇进行酯化;在酯化结束阶段加入磷酸类化合物构成的热稳定剂,之后经缩聚得到含有热稳定剂的膜用超有光聚酯;然后对所述膜用超有光聚酯进行拉伸、造粒,最后得到含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片。在一个具体实施例中,作为热稳定剂的磷酸类化合物;所述磷酸类化合物包括磷酸、亚磷酸、多磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、磷酸三乙酯中的任一种。
(2)、熔融、共挤:
将所述A、B、C层的组分按上述重量百分比分别投入到各自对应的双螺杆挤出机内,主挤出机和辅挤出机的加热区均加热至265~285℃,使原料熔融、挤出。
在一个具体实施例中,各层原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子15%;B层:膜用超有光聚酯95%,热稳定剂5%;C层:膜用改性聚酯85%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子15%。
在另一个具体实施例中,各层原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯90%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子10%;B层:膜用超有光聚酯96%,热稳定剂4%;C层:膜用改性聚酯90%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子10%。
在有一个具体实施例中,各层原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5%;B层:膜用超有光聚酯97%,热稳定剂3%;C层:膜用改性聚酯95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5%。
(3)、模头铸片:
从模头三层共挤出的熔体在铸片辊表面冷却固化成厚片。
(4)、纵向拉伸:
在纵向拉伸机上进行拉伸成基膜,拉伸温度为80~120℃,倍率为3.0~4.0:1,拉伸强度为200~300MPa;经过纵向拉伸的基膜进行热定型,定型温度为170~180℃,定型时间1~3秒。
(5)、横向拉伸:
基膜经纵向拉伸后进入横拉机,拉伸温度为80~120℃,横拉倍率为3.0~4.0:1,拉伸强度为200~300MPa,拉伸后的基膜进行热定型、冷却,定型温度170~180℃,定型时间1~2秒。
(6)、牵引切边:
横拉出口的基膜进入牵引站,牵引站中的边缘装置通过切边刀对基膜边缘进行切边休整,基膜的幅宽为250~8700mm,然后牵引至收卷机。
在一个具体实施例中,基膜的幅宽为8700mm。在另一个具体实施例中,基膜的幅宽为1600mm。在又一个具体实施例中,基膜的幅宽为250mm。
(7)、收卷:
通过收卷机将基膜收卷;收卷工位分布在分切辊两侧,在两侧的工位上间隔收卷;收卷制成的基膜厚度比为:5~10∶80~90∶5~10。
其中,在一个具体实施例中,A层的厚度为20μm,B层的厚度为160μm,C层的厚度为20μm。在另一个具体实施例中,A层的厚度为10μm,B层的厚度为80μm,C层的厚度为10μm。在又一个具体实施例中,A层的厚度为5μm,B层的厚度为40μm,C层的厚度为5μm。
(8)、分切:
基膜从放卷架牵引至切刀处,过程中保证基膜的张力并展平,在分切辊处基膜被分切成需要的规格。
(9)、成品:
将分切后获得的成品包装、称重后入库。
本发明的上述方法制备的高透明光学聚酯薄膜与普通高透明光学聚酯薄膜相比,所述聚酯薄膜由含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的改性聚酯与含有热稳定剂超有光聚酯制备,开口性佳、雾度低、透光率高、光洁度好等出色的光学性能,其透光率高达95%以上,雾度低于0.5以下,可广泛应用于不同的行业,特别适用于对光学性能要求较高的平板显示屏中的保护膜、反射膜、扩散膜和增亮膜。
综上所述,本发明的高透明光学聚酯薄膜的各原料组分中无需添加现有技术中通常采用的抗粘结剂,并且加入了纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子,完全不会出现类似现有技术的抗粘结剂添加的越多,制备的光学聚酯薄膜雾度越低、透光率越低、产品光学性能和质量越差的问题,并配合改进的加工方法,提高了薄膜的加工性能,同时克服了薄膜的发雾现象,提高了薄膜的透光率和光泽度。
本领域技术人员应当理解,虽然本发明是按照多个实施例的方式进行描述的,但是并非每个实施例仅包含一个独立的技术方案。说明书中如此叙述仅仅是为了清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体加以理解,并将各实施例中所涉及的技术方案看作是可以相互组合成不同实施例的方式来理解本发明的保护范围。
以上所述仅为本发明示意性的具体实施方式,并非用以限定本发明的范围。任何本领域的技术人员,在不脱离本发明的构思和原则的前提下所作的等同变化、修改与结合,均应属于本发明保护的范围。
Claims (10)
1.一种高透明光学聚酯薄膜,由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中所述A层为表面层,所述B层为夹芯层,所述C层为底层,其特征在于,所述A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%。
2.如权利要求1所述的高透明光学聚酯薄膜,其特征在于,所述高透明光学聚酯薄膜的厚度为50~250μm,其中,所述A层、B层和C层的厚度比为:5~10∶80~90∶5~10。
3.如权利要求1或2所述的高透明光学聚酯薄膜,其特征在于,所述A层和C层的所述膜用改性聚酯由苯二甲酸、乙二醇、环已烷二甲醇、催化剂和热稳定剂为原料制成;或者,所述A层和C层的所述膜用改性聚酯由对苯二甲酸、乙二醇、间苯二甲酸、催化剂和热稳定剂为原料制成。
4.如权利要求1或2所述的高透明光学聚酯薄膜,其特征在于,所述B层的所述膜用超有光聚酯由对苯二甲酸与乙二醇为原料制成。
5.如权利要求3所述的高透明光学聚酯薄膜,其特征在于,所述催化剂为Ti/Si系非重金属催化剂、三氧化二锑中的任一种化合物,其加入量为相对于所述膜用改性聚酯质量的0.01~0.09%。
6.如权利要求3所述的高透明光学聚酯薄膜,其特征在于,所述热稳定剂为磷酸类化合物;所述磷酸类化合物包括磷酸、亚磷酸、多磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三苯酯、磷酸三乙酯中的任一种。
7.如权利要求3所述的高透明光学聚酯薄膜,其特征在于,所述纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的平均粒径在80~180nm之间。
8.一种高透明光学聚酯薄膜的制备方法,所述高透明光学聚酯薄膜由形成为一体的A、B、C三层层状结构构成,其中所述A层为表面层,所述B层为夹芯层,所述C层为底层,所述A、B、C三层的原料组份重量百分比为:A层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;B层:膜用超有光聚酯95~99%,热稳定剂1~5%;C层:膜用改性聚酯85~95%,纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子5~15%;其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)、切片预结晶、干燥:
以含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片和含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片为原料进行预结晶、干燥;
(2)、熔融、共挤:
将所述A、B、C层的组分按上述重量百分比分别投入到各自对应的双螺杆挤出机内,主挤出机和辅挤出机的加热区均加热至265~285℃,使原料熔融、挤出;
(3)、模头铸片:
从模头三层共挤出的熔体在铸片辊表面冷却固化成厚片;
(4)、纵向拉伸:
在纵向拉伸机上进行拉伸成基膜,拉伸温度为80~120℃,倍率为3.0~4.0:1,拉伸强度为200~300MPa;经过纵向拉伸的基膜进行热定型,定型温度为170~180℃,定型时间1~3秒;
(5)、横向拉伸:
基膜经纵向拉伸后进入横拉机,拉伸温度为80~120℃,横拉倍率为3.0~4.0:1,拉伸强度为200~300MPa,拉伸后的基膜进行热定型、冷却,定型温度170~180℃,定型时间1~2秒;
(6)、牵引切边:
横拉出口的基膜进入牵引站,牵引站中的边缘装置通过切边刀对基膜边缘进行切边休整,基膜的幅宽为250~8700mm,然后牵引至收卷机;
(7)、收卷:
通过收卷机将基膜收卷;收卷工位分布在分切辊两侧,在两侧的工位上间隔收卷;收卷制成的基膜厚度比为:5~10∶80~90∶5~10;
(8)、分切:
基膜从放卷架牵引至切刀处,过程中保证基膜的张力并展平,在分切辊处基膜被分切成需要的规格;
(9)、成品:
将分切后获得的成品包装、称重后入库。
9.如权利要求8所述的高透明光学聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片通过如下步骤制得:
以苯二甲酸、乙二醇、环已烷二甲醇、催化剂和热稳定剂为原料进行酯化;或者以对苯二甲酸、乙二醇、间苯二甲酸、催化剂和热稳定剂为原料进行酯化;
在酯化结束阶段加入纳米级聚甲基戊烯粒子—乙二醇分散体或纳米级丁苯树脂粒子—乙二醇分散体,之后进行缩聚反应,得到含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯;然后对所述膜用改性聚酯进行拉伸、造粒,最后得到含有纳米级聚甲基戊烯粒子或纳米级丁苯树脂粒子的膜用改性聚酯切片。
10.如权利要求8所述的高透明光学聚酯薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片通过如下步骤制得:
以对苯二甲酸和乙二醇进行酯化;在酯化结束阶段加入磷酸类化合物构成的热稳定剂,之后经缩聚得到含有热稳定剂的膜用超有光聚酯;然后对所述膜用超有光聚酯进行拉伸、造粒,最后得到含有热稳定剂的膜用超有光聚酯切片。
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