CN104766856A - 一种mcpcb基板led集成光源及其生产方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种MCPCB基板LED集成光源,包括MCPCB基板、LED芯片阵列和荧光粉硅胶层,所述MCPCB基板与所述荧光粉硅胶层之间设有高反射涂层。本发明的优点是:既能提高光源光效,也能延长光源寿命。
Description
技术领域
本发明涉及一种LED集成光源技术,尤其涉及一种MCPCB基板LED集成光源及其生产方法。
背景技术
如图1所示,MCPCB基板结构由阻焊层1(白油层)、电路层2(铜箔层)、导热绝缘层3和金属基层4(铝基板)组成。电路层2要求具有很大的载流能力,从而应使用较厚的铜箔,厚度一般35μm~280μm;导热绝缘层3是PCB铝基板核心技术之所在,它一般是由特种材料构成,热阻小(导热系数从1w/mK到280w/mk),粘弹性能优良,具有抗热老化的能力,能够承受机械及热应力。金属基层4是铝基板的支撑构件,要求具有高导热性,一般是铝板,也可使用铜板(其中铜板能够提供更好的导热性),适合于钻孔、冲剪及切割等常规机械加工。
采用MCPCB基板的LED集成光源,目前一般分为阻焊层作为反射层或镀银作为反射层两种方式。
如图2所示,阻焊层作为反射层的MCPCB基板LED集成光源,由荧光粉硅胶层5、阻焊层1(白油层)、电路层2(铜箔层)、导热绝缘层3和金属基层4(铝基板)、LED芯片阵列6组成。阻焊层1一般为白色油墨,主要功能是保护电路层不暴露在空气中,防止电路层的线路之间的爬电,短路;同时,在半导体元器件(电阻,电容,集成芯片等)回流焊贴片过程中,用于限制当焊锡27熔化呈液态状时的流动范围,使之局限在MCPCB基板10设定的连接半导体器件的管脚焊盘上。但是,阻焊白油的反射率很低,一般的对应于450nm到700nm波长之间反射率在83%~90%。所以,用阻焊层1作为反射层的LED集成光源的光效低,光效在85流明/瓦(3000K,RA80)左右。
如图3所示,镀银作为反射层的MCPCB基板LED集成光源,由荧光粉硅胶层5、镀银反射层7、阻焊层1(白油层)、电路层2(铜箔层)、导热绝缘层3和金属基层4(铝基板)、LED芯片阵列6组成。银的反射率很高,对应于450nm到700nm波长之间反射率达到大于95%。但是,银在空气中是非常不稳定的化学元素,很容易被氧化和硫化,产生黑色的氧化银和硫化银。用银作为反射层的LED集成光源起始光效很高,可以达到100流明/瓦(3000K,RA80)。但是,在长时间(几个星期到几个月)的应用点亮中,空气会渗透穿过覆盖在银层表面的荧光粉硅胶层,和银产生硫化和氧化的化学反应,导致银层表面发黑,从而导致银层的对可见光的反射率降低,造成LED集成光源的光通量衰减。使得LED集成光源在长时间点亮后的光效,降低至起始光效的70%甚至50%。
发明内容
本发明解决的技术问题是,提供一种既能提高光源光效,也能延长光源寿命的MCPCB基板LED集成光源。
为了解决上述问题,本发明提供一种MCPCB基板LED集成光源,包括MCPCB基板、LED芯片阵列和荧光粉硅胶层,所述MCPCB基板与所述荧光粉硅胶层之间设有高反射涂层。
进一步,所述MCPCB基板由下向上依次包括金属基层、导热绝缘层、电路层、阻焊层。
进一步,所述高反射涂层的材料为对450nm到700nm光波长反射率达95%以上的材料。
进一步,所述高反射涂层材质是硅胶类,环氧树脂类。
进一步,所述涂层厚度从1微米到500微米。
进一步,所述高反射涂层通过用印刷的方式,如喷涂印刷,针筒点胶法,钢网印刷,丝网印刷等方法制备。
进一步,所述金属基层为铝板或铜板;所述导热绝缘层为热阻小、粘弹性能优良、具有抗热老化的能力特种材料;所述电路层为铜箔;所述阻焊层为白色油墨;所述LED芯片阵列为GaN芯片阵列。
本发明还提供一种生产所述采用MCPCB基板制作的LED光源的方法,包括如下步骤:
(a)在所述LED芯片阵列周边涂覆上高反射涂层,烘烤成型;
(b)在MCPCB基板上焊接LED芯片阵列;
(c)用荧光粉硅胶对所述LED芯片阵列及高反射涂层进行覆盖。
进一步,所述步骤(a)中的高反射涂层为对450nm到700nm光波长反射率达95%以上的材料;所述高反射涂层材质是硅胶类,环氧树脂类;所述高反射涂层通过用印刷的方式,如喷涂印刷,针筒点胶法,钢网印刷,丝网印刷等方法制备。
所述步骤(b)中的LED芯片阵列为GaN芯片阵列;
所述步骤(b)中的焊接方式,是通过针筒点胶法,或沾胶法,或钢网印刷法把锡膏印到MCPCB的焊脚上,通过高温回流焊方式完成GaN芯片阵列和MCPCB的焊接。
本发明的优点是:
既能提高光源光效,也能延长光源寿命。
附图说明
图1为MCPCB基板结构示意图LED封装。
图2为阻焊层作为反射层的MCPCB基板LED集成光源结构示意图。
图3为镀银作为反射层的MCPCB基板LED集成光源结构示意图。
图4为本发明实施例的MCPCB基板LED集成光源结构示意图。
图5为本发明实施例的MCPCB基板LED集成光源顶视图。
具体实施方式
下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
实施例一:
本发明提供了如附图4所示的一种MCPCB基板LED集成光源,包括MCPCB基板、LED芯片阵列6和荧光粉硅胶层5,MCPCB基板与荧光粉硅胶层5之间设有高反射涂层8。
MCPCB基板10由下向上依次包括金属基层4、导热绝缘层3、电路层2、阻焊层1。
高反射涂层8的材料为对450nm到700nm光波长反射率达95%以上的材料。高反射涂层8材质是硅胶类,环氧树脂类。高反射涂层8厚度从1微米到500微米。高反射涂层8通过用印刷的方式,如喷涂印刷,针筒点胶法,钢网印刷,丝网印刷等方法制备。
金属基层4为铝板或铜板;导热绝缘层3为热阻小、粘弹性能优良、具有抗热老化的能力特种材料;电路层2为铜箔;阻焊层1为白色油墨;LED芯片阵列6为GaN芯片阵列。正、负极通过焊锡27焊接在电路层2上。
如附图5所示,LED芯片阵列由多颗芯片6串联、并联组成;芯片6串并线路连接通过MCPCB线路层。荧光粉硅胶层5设置在围坝胶30圈定的范围内。
芯片固晶通过焊锡来完成;焊锡固晶的实现,是通过针筒点胶法,或沾胶法,或钢网印刷法把锡膏印到MCPCB的焊脚上,通过高温回流焊方式完成固晶。
本发明还提供一种生产采用MCPCB基板制作的LED光源的方法,包括如下步骤:
(a)在LED芯片阵列6周边涂覆上高反射涂层8,烘烤成型;
(b)在MCPCB基板上焊接LED芯片阵列6;
(c)用荧光粉硅胶对LED芯片阵列6及高反射涂层8进行覆盖。
步骤(b)中的高反射涂层8为对450nm到700nm光波长反射率达95%以上的材料;高反射涂层8材质是硅胶类,环氧树脂类;高反射涂层8通过用印刷的方式,如喷涂印刷,针筒点胶法,钢网印刷,丝网印刷等方法制备。
所述步骤(b)中的LED芯片阵列为GaN芯片阵列;
所述步骤(b)中的焊接方式,是通过针筒点胶法,或沾胶法,或钢网印刷法把锡膏印到MCPCB的焊脚上,通过高温回流焊方式完成GaN芯片阵列和MCPCB的焊接。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种MCPCB基板LED集成光源,包括MCPCB基板、LED芯片阵列和荧光粉硅胶层,其特征在于:
所述MCPCB基板与所述荧光粉硅胶层之间设有高反射涂层。
2.如权利要求1所述的一种MCPCB基板LED集成光源,其特征在于:
所述MCPCB基板由下向上依次包括金属基层、导热绝缘层、电路层、阻焊层。
3.如权利要求1或2所述的一种MCPCB基板LED集成光源,其特征在于:
所述高反射涂层的材料为对450nm到700nm光波长反射率达95%以上的材料。
4.如权利要求3所述的一种MCPCB基板LED集成光源,其特征在于:
所述高反射涂层材质是硅胶类,环氧树脂类。
5.如权利要求4所述的一种MCPCB基板LED集成光源,其特征在于:
所述涂层厚度从1微米到500微米。
6.如权利要求5所述的一种MCPCB基板LED集成光源,其特征在于:
所述高反射涂层通过用印刷的方式,如喷涂印刷,针筒点胶法,钢网印刷,丝网印刷等方法制备。
7.如权利要求6所述的一种MCPCB基板LED集成光源,其特征在于:
所述金属基层为铝板或铜板;所述导热绝缘层为热阻小、粘弹性能优良、具有抗热老化的能力特种材料;所述电路层为铜箔;所述阻焊层为白色油墨;所述LED芯片阵列为GaN芯片阵列。
8.一种生产如权利要求1所述采用MCPCB基板制作的LED光源的方法,其特征在于,包括如下步骤:
(a)在所述LED芯片阵列周边涂覆上高反射涂层,烘烤成型;
(b)在MCPCB基板上焊接LED芯片阵列;
(c)用荧光粉硅胶对所述LED芯片阵列及高反射涂层进行覆盖。
9.如权利要求8所述的一种生产采用MCPCB基板制作的LED光源的方法,其特征在于:
所述步骤(a)中的高反射涂层为对450nm到700nm光波长反射率达95%以上的材料;所述高反射涂层材质是硅胶类,环氧树脂类;所述高反射涂层通过用印刷的方式,如喷涂印刷,针筒点胶法,钢网印刷,丝网印刷等方法制备。
所述步骤(b)中的LED芯片阵列为GaN芯片阵列;
所述步骤(b)中的焊接方式,是通过针筒点胶法,或沾胶法,或钢网印刷法把锡膏印到MCPCB的焊脚上,通过高温回流焊方式完成GaN芯片阵列和MCPCB的焊接。
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