CN104760456A - 实现表面拉丝纹的方法、外壳及便携式终端 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种实现表面拉丝纹的方法、外壳及便携式终端。该方法包括以下步骤：在基材之上覆盖UV面漆层。对所述UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使所述凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在所述UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。外壳包括基材和位于基材之上的UV面漆层，所述UV面漆层上的至少部分区域通过镭雕形成凹点阵，所述凹点阵在视觉上形成线形。便携式终端包括上述外壳。本发明能够具有明显的拉丝纹效果并且提高了质感。

Description

实现表面拉丝纹的方法、外壳及便携式终端

技术领域

本发明涉及外壳加工工艺领域，特别是涉及实现表面拉丝纹的方法、外壳及便携式终端。

背景技术

镭雕是指激光雕刻，是通过激光束的光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图形、文字。

便携式终端，如手机、平板电脑等常采用塑胶材料作为外壳，为了提高产品档次，通常会在外壳表面做出各种装饰效果，例如拉丝纹是比较常见的一种装饰效果，当前，拉丝纹是在塑胶基材上直接采用模具加工的方法来实现。

采用模具加工的方法形成的拉丝纹在后期做表面喷涂或其它处理之后，塑胶基材上的拉丝纹很容易被填平，或者变得不明显而达不到装饰效果，同时也难以在手感上体现出拉丝纹，因而导致降低了拉丝纹的质感。

发明内容

本发明提供了一种实现表面拉丝纹的方法、外壳及便携式终端，以解决现有技术中存在的拉丝纹容易被填平而不明显导致质感低的问题，其能够具有明显的拉丝纹效果并且提高了质感。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种实现表面拉丝纹的方法，该方法包括以下步骤：在基材之上覆盖UV面漆层。对所述UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使所述凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在所述UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

其中，所述镭雕过程以逐行扫描打点的方式进行。

其中，所述在基材之上覆盖UV面漆层的步骤之前还包括：在基材上覆盖色漆，以形成色漆层的步骤，所述UV面漆层覆盖在所述色漆层上。

其中，所述在基材之上覆盖UV面漆层的步骤之前还包括：在基材上电镀以形成镀膜层，所述UV面漆层覆盖在所述镀膜层上。

其中，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之前还包括：在所述基材表面进行预处理，所述预处理的步骤具体包括：喷涂UV底漆以在基材之上形成UV底漆层。

其中，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之后还包括在所述镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区，所述镭雕区贯穿所述镀膜层。

其中，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之前还包括：在基材上覆盖色漆，以形成色漆层的步骤。

其中，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之后还包括：在所述镀膜层上覆盖保护漆层。并且，在所述镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区的步骤中，同时对所述保护漆层进行镭雕；所述镭雕区贯穿所述保护漆层和所述镀膜层。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种表面具有拉丝纹的外壳，该外壳包括基材和位于基材之上的UV面漆层，所述UV面漆层上的至少部分区域通过镭雕形成凹点阵，所述凹点阵在视觉上形成线形。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种便携式终端，所述便携式终端包括上述表面具有拉丝纹的外壳。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明实现表面拉丝纹的方法通过在面漆层进行镭雕形成的凹点阵来实现视觉上的拉丝纹效果，并且不再在面漆上再进行喷涂或者覆盖作业，从而使得凹点阵裸露在面漆的表面，并且不会被填平，因而能使拉丝纹效果明显，手感更加突出且质感更佳。

附图说明

图1是本发明实现表面拉丝纹的方法的第一实施例的流程示意图；

图2是本发明实现表面拉丝纹的方法的第二实施例的流程示意图；

图3是本发明实现表面拉丝纹的方法的第三实施例的流程示意图；

图4是本发明实现表面拉丝纹的方法的第四实施例的流程示意图；

图5是本发明实现表面拉丝纹的方法的第五实施例的流程示意图；

图6是本发明实现表面拉丝纹的方法的第六实施例的流程示意图；

图7是本发明实现表面拉丝纹的方法的第七实施例的流程示意图；

图8是本发明外壳的第一实施例的层状结构示意图；

图9是图8的俯视图；

图10是本发明外壳的第二实施例的层状结构示意图；

图11是本发明外壳的第三实施例的层状结构示意图；

图12是本发明外壳的第四实施例的层状结构示意图；

图13是本发明外壳的第五实施例的层状结构示意图；

图14是本发明外壳的第六实施例的层状结构示意图；

图15是本发明外壳的第七实施例的层状结构示意图；

图16是本发明外壳的第八实施例的层状结构示意图；

图17是本发明外壳的第九实施例的层状结构示意图。

其中，UV面漆层           10、20、30、40、50、60、70

      凹点阵             101

      基材               11、21、31、41、61、81

      色漆层             22、52、82、92

      镀膜层             33、43、53、63、73、83

      镭雕区             631

      UV底漆层           44

      保护漆层           75

UV漆层            96

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明进行详细说明。

请参阅图1，是本发明的实现表面拉丝纹的方法的第一实施例的流程示意图。

本实施例中，实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S100，在基材之上覆盖UV面漆层。

步骤S100中，喷涂的UV面漆层对基材起保护作用，同时其又作为镭雕漆层，使得得以在其上进行镭雕。本实施例中的UV面漆层为透明的UV面漆层。UV面漆层的厚度一般为8-15μm，比如10μm或12μm，该厚度的UV面漆层能确保在进行镭雕的时候不会影响到基材，并且，即使其表面经过镭雕之后仍然能有足够厚度的UV面漆层保护基材。

S101，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

凹点阵可以覆盖了整个UV面漆层的表面，也可以只是分布在UV面漆层的部分区域。本实施例中，凹点阵只分布在面漆层的部分区域，产品表面则分为形成了凹点阵的拉丝纹区和没有形成凹点阵的光滑区，因而能形成光面和哑面对比的效果。由于镭雕的是UV面漆层，其为非金属层，因而使用CO2激光镭雕机进行镭雕，镭雕过程使用治具将产品定位，从而能保证凹点阵中的凹点的排列整齐，也能保证要求拉丝纹的区域的位置的准确性。镭雕为将具有较高能量密度的激光束，照射在UV面漆上需要拉丝纹效果的区域，在UV面漆层表面打点阵，在点到的位置的UV面漆表面吸收激光能量，产生热激发过程，从而使表面的UV面漆层温度上升，产生烧蚀、蒸发而形成微观凹点阵，具体而言，本实施例中，镭雕过程以逐行扫描打点的方式进行。凹点的排布在视觉上形成线型，从而得到拉丝纹的效果。并且，在镭雕完成之后，不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业，使得凹点阵形成的拉丝纹裸露在产品表面，从而使拉丝纹的效果更加明显，使拉丝纹在手感上也更加突出，使得产品的质感更佳。

区别于现有技术，本发明的方法通过在面漆层进行镭雕形成的凹点阵来实现视觉上的拉丝纹效果，并且不再在面漆上再进行喷涂或者覆盖作业，从而使得凹点阵裸露在面漆的表面，并且不会被填平，因而能使拉丝纹效果明显，手感更加突出且质感更佳。

请参阅图2，是本发明实现表面拉丝纹的方法的第二实施例的流程示意图。

本实施例与实现表面拉丝纹的方法第一实施例的区别为，在基材之上覆盖UV面漆层的步骤前还包括在基材上覆盖色漆的步骤。

具体地，本实施例实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S200，在基材上覆盖色漆，以形成色漆层。

色漆层挡住基材的颜色，使得产品表面显现出色漆的颜色。该步骤为着色步骤，着色步骤也可以是在UV面漆内添加色精，从而使UV面漆着色。由于色精会与紫外光起作用，因而色精的添加量一般为1％-3％，优选为2％。着色步骤的作用是遮盖基材的颜色，使得产品表面显现出色漆或者色精的颜色。从而可以根据实际需要选择色漆或者色精的颜色，而不仅限于基材的颜色。

S201，在色漆层上覆盖UV面漆层。

S202，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

请参阅图3，是本发明实现表面拉丝纹的方法的第三实施例的流程示意图。

本实施例与实现表面拉丝纹的方法第一实施例的区别为，在基材之上覆盖UV面漆层的步骤前还包括在基材上电镀以形成镀膜层的步骤。

具体的，本实施例的实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S300，在基材上电镀以形成镀膜层。

其中，电镀可以通过水镀或NCVM工艺进行，本实施例采用的是NCVM工艺，NCVM工艺能做出金属外观效果，起到美化工件表面的作用，并且，其所形成的镀膜层的厚度小于0.3μm，例如0.1μm或者0.2μm，该镀膜层是不导电镀膜层，其不具有导电性，当便携式终端接收讯号或是发射讯号时，产生的电磁场不被镀膜层所囤积，从而不影响便携式终端的射频性能以及静电放电性能，也就是说使得无线数码产品达到更好的收讯效果，无杂音，更不会对人体产生任何影响。从电性能角度出发，它能够通过导电测试和电子干扰测试。从真空镀膜本身，它能同时保证正常的物理和耐候测试，如附着力、耐磨耗、耐醇、耐人工汗液和高温高湿储存等。并且，产品的外观金属质感较强烈。镀膜层的厚度小于0.3μm能保证其不导电性，厚度加大则有可能变为可导电的镀膜层，例如，镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材相同。镀银层小于5nm时不能导电。

S301，在镀膜层上覆盖UV面漆层。

S302，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

请参阅图4，为本发明实现表面拉丝纹的方法的第四实施例的流程示意图。

本实施例与第三实施例的区别在于，在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之前还包括对基材进行预处理的步骤。

具体而言，本实施例实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S400，对基材进行预处理。

步骤S400对基材进行预处理包括用化学材料对基材进行清洗，或者烘烤以降低基材的水分。也可以是在基材之上覆盖透明的UV底漆层，由于基材本身具有粗糙度，因而基材表面在镀膜前喷涂UV底漆层进行封闭流平，以达到理想的镜面效果。UV底漆层的厚度一般为5-10μm，例如7μm或者9μm，其能为镀膜层的附着提供活性界面。该厚度的底漆层能使基材表面达到理想镜面效果，提高镀膜层的附着力，同时不会浪费UV底漆，也不会使得产品的厚度有明显的增加。

S401，在基材之上电镀以形成镀膜层。

S402，在镀膜层上覆盖UV面漆层。

S403，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

此外，本实施例形成镀膜层之后，还可以先在镀膜层上覆盖色漆层，再在色漆层上覆盖UV面漆层，从而使得产品表面显示出来的是带有金属质感的色漆层的颜色。

请参阅图5，为本发明实现表面拉丝纹的方法的第五实施例的流程示意图。

本实施例与实现表面拉丝纹的方法第三实施例的区别为，在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之后还包括在镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区，镭雕区贯穿镀膜层。

具体地，本实施例实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S500，在基材上电镀以形成镀膜层。

另外，在步骤S500之前也可以先对基材进行预处理，使得镀膜层更容易附着上去。具体方法与第四实施例的预处理方法相同，在此不再赘述。

S501，在镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区，镭雕区贯穿镀膜层。

步骤S501中，由于是对电镀膜层进行镭雕，因而可以使用普通镭雕机进行，例如，半导体镭雕机或者YAG镭雕机。本实施例中，由于镭雕区贯穿镀膜层，所以在镭雕区的位置处能将基材的颜色显现出来，而镀膜层未被镭雕的区域则显示镀膜层的颜色，基材的颜色与镀膜层的颜色不同，因而产品的表面能显示出两种颜色。本实施例直接选用基材的颜色，省去着色步骤，能降低成本。

S502，在镀膜层上覆盖UV面漆层。

S503，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

请参阅图6，为本发明实现表面拉丝纹的方法的第六实施例的流程示意图。

本实施例与实现表面拉丝纹的方法第五实施例的区别为，在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之前还包括在基材上覆盖色漆，以形成色漆层的步骤。

具体地，本实施例实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S600，在基材上覆盖色漆，以形成色漆层。

本实施例的色漆层与第二实施例的色漆层一样，在此不再赘述。

S601，在色漆层上电镀以形成镀膜层。

S602，在镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区，镭雕区贯穿镀膜层。

S603，在镀膜层上覆盖UV面漆层。

S604，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

本实施例在镀膜层之前增加了色漆层，当镀膜层通过镭雕形成镭雕区之后，在产品表面对应镭雕区的位置则显示色漆层的颜色，对应于没有进行镭雕的区域则显示镀膜层的颜色。从而可以根据产品的实际需要的颜色来选择色漆层的颜色。

请参阅图7，为本发明实现表面拉丝纹的方法的第七实施例的流程示意图。

本实施例与实现表面拉丝纹的方法第六实施例的区别为，在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之后还包括在镀膜层上覆盖保护漆层，并且，在镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区的步骤中，同时对保护漆层进行镭雕，镭雕区贯穿保护漆层和镀膜层。

具体地，本实施例实现表面拉丝纹的方法包括以下步骤：

S700，在基材上覆盖色漆，以形成色漆层。

S701，在色漆层上电镀以形成镀膜层。

S702，在镀膜层上覆盖保护漆层。

由于电镀膜层表面极其脆弱敏感，极易刮伤、碰伤，仅涂一层UV面漆层对镀膜层的保护力度不够，因而喷涂一层保护漆层，可以有效防止镀膜层被刮伤或者碰伤。本步骤适用于上述任一个具有镀膜层的实施例。

S703，在镀膜层上和保护漆层的部分区域进行镭雕以形成镭雕区，镭雕区贯穿镀膜层和保护漆层。

S704，在镀膜层上覆盖UV面漆层。

S705，对UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

此外，本实施例中，在基材上覆盖色漆以形成色漆层之后还可以在色漆层之上先喷涂一层UV漆层，然后再在UV漆层上电镀形成镀膜层，该UV漆层能保护色漆层，并且能使镀膜层的附着效果更佳。

请参阅图8，是本发明外壳的第一实施例的层状结构示意图。

本发明的外壳表面具有拉丝纹效果，该外壳包括基材11、UV面漆层10。UV面漆层10覆盖在基材11之上。UV面漆层10上的至少部分区域通过镭雕形成凹点阵101，凹点阵101在视觉上形成线形。

UV面漆层10对基材11起保护作用，其厚度一般为8-15μm，比如10μm或12μm，同时其又作为镭雕漆层，使得得以在其上进行镭雕。本实施例中的UV面漆层10为透明的UV面漆层。

凹点阵101可以覆盖了整个UV面漆层的表面，也可以只是分布在UV面漆层10的部分区域。本实施例中，凹点阵101只分布在UV面漆层10的部分区域时，产品表面则分为形成了凹点阵101的拉丝纹区和没有形成凹点阵101的光滑区，因而能形成光面和哑面对比的效果。由于镭雕的是UV面漆层10，其为非金属层，因而使用CO2激光镭雕机进行镭雕，镭雕过程使用治具将产品定位，从而能保证凹点阵101中的凹点的排列整齐，也能保证要求拉丝纹的区域的位置的准确性。镭雕为将具有较高能量密度的激光束，照射在需要UV面漆上需要拉丝纹效果的区域，在UV面漆层10表面打点阵，在点到的位置的UV面漆层10表面吸收激光能量，产生热激发过程，从而使表面的UV面漆层10温度上升，产生烧蚀、蒸发而形成微观凹点阵，如图9所示，为图8的俯视图，当然，该点阵的形式不仅是本实施例的形式，还可以根据实际所需的拉丝纹效果来确定凹点阵101的形式。具体而言，本实施例中，镭雕过程以逐行扫描打点的方式进行。凹点的排布在视觉上形成线型，从而得到拉丝纹的效果。并且，在镭雕完成之后，不再在UV面漆层10上进行喷涂或者覆盖作业，使得凹点阵101形成的拉丝纹裸露在产品表面，从而使拉丝纹的效果更加明显，使拉丝纹在手感上也更佳突出，使得产品的质感更佳。

请参阅图10，是本发明外壳的第二实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第一实施例的区别在于，在基材21和UV面漆层20之间，还包括色漆层22，其能使外壳显示出色漆的颜色，这样可以根据实际需要选择颜色，而不是单一的基材的颜色。

请参阅图11，是本发明外壳的第三实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第一实施例的区别在于，在基材31和UV面漆层30之间，还包括镀膜层33，其通过NCVM工艺镀到基材上，该镀膜层33能使外壳具有金属质感。

请参阅图12，是本发明外壳的第四实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第三实施例的区别在于，在基材41和镀膜层43之间，还包括UV底漆层44，该UV底漆层44的作用是为镀膜层43的附着提供活性界面。

请参阅图13，是本发明外壳的第五实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第四实施例的区别在于，在镀膜层52与UV面漆层50之间还包括色漆层53，色漆层53能遮挡镀膜层52的颜色，使得外壳显示出色漆层53的颜色，从而可以根据需要选择外壳显示的颜色。

请参阅图14，是本发明外壳的第六实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第三实施例的区别在于，在基材61和UV面漆层60之间的镀膜层63为经过镭雕而形成了镭雕区631的镀膜层63，该镭雕区631贯穿镀膜层63，从而在外壳表面可以看到两种颜色，一种是从镭雕区631透出的基材61的颜色，一种是镀膜层63的颜色，从而使得外壳的颜色更加丰富。

请参阅图15，是本发明外壳的第七实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第六实施例的区别在于，在镀膜层73与UV面漆层70之间还包括保护漆层75。保护漆层75可以有效防止镀膜层73被刮伤或者碰伤。

请参阅图16，是本发明外壳的第八实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第七实施例的区别在于，在基材81与镀膜层83之间还包括色漆层82，本实施例的外壳可以显示两种颜色，一种是色漆层82的颜色，一种是镀膜层83的颜色。

请参阅图17，是本发明外壳的第九实施例的层状结构示意图。

本实施例与外壳的第八实施例的区别在于，在色漆层92与镀膜层93之间还包括UV漆层96，该UV漆层96能保护色漆层92，并且能使镀膜层93的附着效果更佳。

此外，本发明还提供了一种便携式终端，其包括具有表面拉丝纹的外壳，该外壳可以是上述第一实施例到第九实施例的任一种外壳。

本发明通过在面漆层进行镭雕形成的凹点阵来实现视觉上的拉丝纹效果，并且不再在面漆上再进行喷涂或者覆盖作业，从而使得凹点阵裸露在面漆的表面，并且不会被填平，因而能使拉丝纹效果明显，手感更加突出且质感更佳。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，包括以下步骤：

在基材之上覆盖UV面漆层；

对所述UV面漆层表面的至少部分区域进行镭雕以形成凹点阵，以使所述凹点阵在视觉上形成线形；并且不再在所述UV面漆层上进行喷涂或者覆盖作业。

2.根据权利要求1所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述镭雕过程以逐行扫描打点的方式进行。

3.根据权利要求2所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述在基材之上覆盖UV面漆层的步骤之前还包括：在基材上覆盖色漆，以形成色漆层，所述UV面漆层覆盖在所述色漆层上。

4.根据权利要求2所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述在基材之上覆盖UV面漆层的步骤之前还包括：在基材上电镀以形成镀膜层，所述UV面漆层覆盖在所述镀膜层上。

5.根据权利要求4所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之前还包括：在所述基材表面进行预处理，所述预处理的步骤具体包括：喷涂UV底漆以在基材之上形成UV底漆层。

6.根据权利要求4所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之后还包括：在所述镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区，所述镭雕区贯穿所述镀膜层。

7.根据权利要求6所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之前还包括：在基材上覆盖色漆，以形成色漆层。

8.根据权利要求7所述的实现表面拉丝纹的方法，其特征在于，所述在基材上电镀以形成镀膜层的步骤之后还包括：在所述镀膜层上覆盖保护漆层；

并且，在所述镀膜层上的部分区域进行镭雕以形成镭雕区的步骤中，同时对所述保护漆层进行镭雕；所述镭雕区贯穿所述保护漆层和所述镀膜层。

9.一种表面具有拉丝纹的外壳，其特征在于，所述外壳包括基材和位于基材之上的UV面漆层，所述UV面漆层上的至少部分区域通过镭雕形成凹点阵，所述凹点阵在视觉上形成线形。

10.一种便携式终端，其特征在于，所述便携式终端包括如权利要求9所述的表面具有拉丝纹的外壳。