CN103358800A - 一种电子产品高效节能激光图文处理工艺 - Google Patents

一种电子产品高效节能激光图文处理工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,将熔融的胶料射入注塑机中,1)在注塑机中成型电子产品外壳件;2)对步骤1)中的电子产品外壳件进行底漆喷涂;3)对步骤2)中的电子产品外壳件进行面漆喷涂;4)对步骤3)中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出图案;其中,所述步骤4)中镭射波长为:1064nm,所述镭射频率为600-50000HZ,所述镭射速度为≤7000mm/s,所述激光发射时间为1.5-60μs;本发明实施例环保、无材料投入,工序简单,产品质量高,不易污染,产品良率提高。

Description

一种电子产品高效节能激光图文处理工艺
技术领域
本发明涉及电子产品注塑件的技术领域,尤其涉及一种电子产品高效节能激光图文处理工艺。
背景技术
随着iphone4S和ipad风靡全球,智能手机和平板电脑的发展越来越快,超薄、触屏及智能系统的MID产品成为最新消费新宠,越来越多的消费者对于电子产品外壳的性能要求越来越高,而产品的合理的性价比也受到生产企业的追崇,要达到产品不良率低,外观时尚新颖,常常需要采取各种各样不同的手段去实现。
现有技术中,一般采用喷涂底漆后进行镭射雕刻图案,然后进行面漆喷涂,此种工艺方法喷涂底漆后进行周转,易造成电子产品外壳沾染上灰尘和纤毛等,影响产品的良率。
申请号为200910127459.7的中国发明专利公开了一种树脂或塑料类装饰品的制作工艺,经刨光、表面电镀后,根据花色和字样的需求,采用金属激光镭射方法,去除表面电镀层的部分金属至漏出树脂或塑料类材料,再进行罩漆保护,利用这种工艺,可以使装饰品表面花色和字样极具美感,具有完美的视觉效果,但是镭射前需要经过表面电镀后才能进行镭射电镀,工序复杂。
申请号为201210377639.2的中国发明专利公开了一种在塑料件上的实施无接缝双色电镀的方法,涉及一种塑料件的表面处理工艺,提供能在塑料工件表面形成无接缝双色或两种不同外观的一种在塑料件上实施无接缝双色电镀的方法,先对塑料工件表面喷涂有色高光漆层,再喷涂黑色可剥漆层,进行激光镭射,去除塑料工件表面的黑色可剥漆层,露出下层有色高光漆层,进行PVD镀金属膜,用胶带去除表面的可剥漆层,喷涂透明罩光漆层,得实施无接缝双色电镀的塑料工件。激光镭射后进行PVD镀膜,再用胶带去除表面的可剥漆层,喷涂透明罩光漆层,此工序复杂,流程工序长。
申请号为200710036126.4的中国发明专利公开了一种印刷镭射电镀膜及其加工工艺,包括第一步基材的离型处理,第二步图案的印刷,第三步进行涂布处理,第四步进行全信息激光压印镭射,第五步真空电镀,第六步背胶处理,第七部烘干处理,采用该工艺流程,使该膜图案更逼真,变化更丰富,颜色更多彩,达到了单独工艺或两种工艺所无法达到的效果,但是该工艺流程复杂,成本费用高。
 基于以上缺陷,本申请人提出一种电子产品高效节能激光图文处理工艺。
发明内容
本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,环保、无材料投入,工序简单,产品质量高,不易污染,产品良率提高。
为了解决上述技术问题,本发明实施例提供了耐磨的塑胶件印刷工艺,包括以下步骤:
1)、将熔融的胶料射入注塑机中,在注塑机中成型电子产品外壳件;
2)、对步骤1)中的电子产品外壳件进行底漆喷涂;
3)、对步骤2)中的电子产品外壳件进行面漆喷涂;
4)、对步骤3)中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出图案;
其中,所述步骤4)中镭射波长为:1064nm,所述镭射频率为600-50000HZ,所述镭射速度为≤7000mm/s,所述激光发射时间为1.5-60μs。
作为第一种发明方案,所述步骤2)中底漆为UV底漆,所述步骤3)中面漆为UV面漆。
对第一种发明进行详述的,所述步骤4)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为10000-30000HZ,所述镭射速度为5000mm/s,所述激光发射时间为35μs。
作为第二种发明方案,所述步骤2)中底漆为橡胶漆,所述步骤3)中面漆为橡胶漆。
对第二种发明进行详述的,所述步骤4)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-50000HZ,所述镭射速度为6500mm/s,所述激光发射时间为1.5μs。
作为第三种发明方案,所述步骤2)中底漆为PU漆,所述步骤3)中面漆为PU漆。
对第三种发明进行详述的,所述步骤1)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-40000HZ,所述镭射速度为5500mm/s,所述激光发射时间为55μs。
作为第四种发明方案,所述步骤2)中底漆为PE漆,所述步骤3)中面漆为PE漆。
对第四种发明方案进行详述的,所述步骤4)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为5000-35000HZ,所述镭射速度为6800mm/s,所述激光发射时间为1.5μs。
本发明实施例所提供的耐磨的塑胶件印刷工艺,与现有技术相比,具有如下有益之处:
1、本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,采用底漆和面漆喷涂后进行激光镭射,工序简单,成本设备费用较低;
2、本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,进行底漆喷涂后直接进行面漆喷涂,避免了周转过程中电子产品外壳沾染到灰尘和纤毛的污染,提高了产品良率;
3、本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,采用底漆面漆喷涂后进行激光镭射,无需其他工序,效率高,成本低,提高了产品的竞争力。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。 
图1是本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺的流程框图。
具体实施方式
本发明实施例所提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,环保、无材料投入,工序简单,产品质量高,不易污染,产品良率提高。
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一
参见图1,本实施例一是描述底漆面漆为UV漆的电子产品高效节能激光图文处理工艺,包括如下步骤:
S1、将熔融的胶料射入注塑机中,在注塑机中成型电子产品外壳件,注塑机内模具开模内,注塑机上的机械手取件后将电子产品外壳件放置在底漆喷涂线上;
S2、对步骤S1中的电子产品外壳件进行底漆喷涂,采用的底漆为UV底漆;
S3、在底漆喷涂线上喷涂完底漆后,所述底漆喷涂线与面漆喷涂线连接,因此,对步骤S2中的电子产品外壳件进行面漆喷涂,所述面漆为UV面漆;
S4、喷涂完面漆后,对步骤S3中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出设计需求的图案;
其中,所述步骤S4中镭射波长为:1064nm,所述镭射频率为600-50000HZ,所述镭射速度为≤7000mm/s,所述激光发射时间为1.5-60μs。
进一步的,因底漆面漆为UV漆,采用底漆为UV底漆,面漆为UV面漆,其环保、固含量高,硬度好,透明度好,耐黄变性良好,涂装成本低,结合UV漆的特性,对步骤S4中激光镭雕机的参数进一步限定,所述激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为10000-30000HZ,所述镭射速度为5000mm/s,所述激光发射时间为35μs。采用低频镭射,标记效果好,同时节能,图案效果。
实施例二
参见图1,本实施例一是描述底漆面漆为橡胶漆的电子产品高效节能激光图文处理工艺,包括如下步骤:
S1、将熔融的胶料射入注塑机中,在注塑机中成型电子产品外壳件,注塑机内模具开模内,注塑机上的机械手取件后将电子产品外壳件放置在底漆喷涂线上;
S2、对步骤S1中的电子产品外壳件进行底漆喷涂,采用的底漆为橡胶底漆;
S3、在底漆喷涂线上喷涂完底漆后,所述底漆喷涂线与面漆喷涂线连接,因此,对步骤S2中的电子产品外壳件进行面漆喷涂,所述面漆为橡胶面漆;
S4、喷涂完面漆后,对步骤S3中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出设计需求的图案;
其中,所述步骤S4中镭射波长为:1064nm,所述镭射频率为600-50000HZ,所述镭射速度为≤7000mm/s,所述激光发射时间为1.5-60μs。
进一步的,因底漆面漆为橡胶漆,采用底漆为橡胶底漆,面漆为橡胶面漆,其手感细腻,平滑,耐滑性,耐磨性优良,同时符合绿色环保印刷,结合橡胶漆的特性,对步骤S4中激光镭雕机的参数进一步限定,所述步骤S4中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-50000HZ,所述镭射速度为6500mm/s,所述激光发射时间为1.5μs。因橡胶漆硬度高,采用短发射时间,可做到镭射的图案清晰,标记效果好。
实施例三
S1、将熔融的胶料射入注塑机中,在注塑机中成型电子产品外壳件,注塑机内模具开模内,注塑机上的机械手取件后将电子产品外壳件放置在底漆喷涂线上;
S2、对步骤S1中的电子产品外壳件进行底漆喷涂,采用的底漆为PU底漆;
S3、在底漆喷涂线上喷涂完底漆后,所述底漆喷涂线与面漆喷涂线连接,因此,对步骤S2中的电子产品外壳件进行面漆喷涂,所述面漆为PU面漆;
S4、喷涂完面漆后,对步骤S3中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出设计需求的图案;
其中,所述步骤S4中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-40000HZ,所述镭射速度为5500mm/s,所述激光发射时间为55μs。。
进一步的,因底漆面漆为PU漆,采用底漆为PU底漆,面漆为PU面漆,其高丰满度,抗下陷性强,有较高的环保性,喷涂效率高,产品质量优,透明度和硬度都比较好,结合PU漆的特性,对步骤S4中激光镭雕机的参数进一步限定,所述步骤S4中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-40000HZ,所述镭射速度为5500mm/s,所述激光发射时间为55μs。采用低频镭射和长发射时间,足够雕刻出清晰的图案,因此节能环保,工序简单。
实施例四
S1、将熔融的胶料射入注塑机中,在注塑机中成型电子产品外壳件,注塑机内模具开模内,注塑机上的机械手取件后将电子产品外壳件放置在底漆喷涂线上;
S2、对步骤S1中的电子产品外壳件进行底漆喷涂,采用的底漆为PE底漆;
S3、在底漆喷涂线上喷涂完底漆后,所述底漆喷涂线与面漆喷涂线连接,因此,对步骤S2中的电子产品外壳件进行面漆喷涂,所述面漆为PE面漆;
S4、喷涂完面漆后,对步骤S3中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出设计需求的图案;
其中,所述步骤S4中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-40000HZ,所述镭射速度为5500mm/s,所述激光发射时间为55μs。。
进一步的,因底漆面漆为PE漆,采用底漆为PE底漆,面漆为PE面漆,其具有很好的丰满度和硬度,结合PE漆的特性,对步骤S4中激光镭雕机的参数进一步限定,所述步骤S4中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-40000HZ,所述镭射速度为5500mm/s,所述激光发射时间为55μs。所述步骤S4中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为5000-35000HZ,所述镭射速度为6800mm/s,所述激光发射时间为1.5μs,采用短发射时间,易于气化PE漆,达到镭射图案的清晰。
综合以上所述,本发明实施例与现有技术相比,至少具有如下有益效果:
1、本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,采用底漆和面漆喷涂后进行激光镭射,工序简单,成本设备费用较低;
2、本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,进行底漆喷涂后直接进行面漆喷涂,避免了周转过程中电子产品外壳沾染到灰尘和纤毛的污染,提高了产品良率;
3、 本发明提供的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,采用底漆面漆喷涂后进行激光镭射,无需其他工序,效率高,成本低,提高了产品的竞争力。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,包括如下步骤:
1)、将熔融的胶料射入注塑机中,在注塑机中成型电子产品外壳件;
2)、对步骤1)中的电子产品外壳件进行底漆喷涂;
3)、对步骤2)中的电子产品外壳件进行面漆喷涂;
4)、对步骤3)中的电子产品外壳进行激光镭射,在电子产品外壳件表面上做出图案;
其中,所述步骤4)中镭射波长为:1064nm,所述镭射频率为600-50000HZ,所述镭射速度为≤7000mm/s,所述激光发射时间为1.5-60μs。
2.根据权利要求1所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤2)中底漆为UV底漆,所述步骤3)中面漆为UV面漆。
3.根据权利要求2所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤4)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为10000-30000HZ,所述镭射速度为5000mm/s,所述激光发射时间为35μs。
4.根据权利要求1所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤2)中底漆为橡胶漆,所述步骤3)中面漆为橡胶漆。
5.根据权利要求4所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤4)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-50000HZ,所述镭射速度为6500mm/s,所述激光发射时间为1.5μs。
6.根据权利要求1所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤2)中底漆为PU漆,所述步骤3)中面漆为PU漆。
7.根据权利要求6所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤1)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为8000-40000HZ,所述镭射速度为5500mm/s,所述激光发射时间为55μs。
8.根据权利要求1所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤2)中底漆为PE漆,所述步骤3)中面漆为PE漆。
9.根据权利要求8所述的一种电子产品高效节能激光图文处理工艺,其特征在于,所述步骤4)中激光镭射波长为1064nm,所述镭射频率为5000-35000HZ,所述镭射速度为6800mm/s,所述激光发射时间为1.5μs。
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