CN104749849A - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置，该阵列基板包括：栅极、栅线、数据线、像素电极和公共电极线；其中，公共电极线与栅线延伸方向相同，像素电极位于相邻的栅线和相邻的数据线定义的区域；栅线沿其延伸方向贯穿于与栅线位于同一行的栅极，像素电极靠近栅线的一端与栅线之间具有间隙，这样栅线可以沿着靠近像素电极的方向移动，进而栅线可以水平穿过与栅线位于同一行的栅极，使得栅极延伸到像素区域的面积减小，随之栅极延伸到像素区域的边缘的周长减小，在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。
背景技术
目前，随着显示技术的发展，对显示产品的分辨率要求越来越高，进而对阵列基板的制作工艺要求也越来越高。
一般地，现有的阵列基板的结构如图1所示，与每个像素单元N对应的栅极G延伸到像素区域的面积较大，几乎为整个栅极G的面积，进而栅极G延伸到像素区域的边缘周长较长，在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜之后进行的清洗工艺过程中，随着清洗溶液的流动有源层金属则易较多的残留于栅极延伸到像素区域的边缘处，造成有源层金属沿着栅极的边缘形成残留，同时，由于残留的有源层残留物中含有N+导电金属，在阵列基板完成制作源漏电极的工艺之后，易造成像素电极与数据线之间通过残留的导电金属在图1中虚线框标注的区域形成短路，在后期单色画面点灯测试时，像素电极的电流会随着残留的有源层金属流向相邻的数据线，进而使得像素电极上的电压变小，驱动液晶翻转的能力下降，造成显示画面出现多暗点，影像了显示画面的质量。
因此，如何减少阵列基板制作工艺中，有源层金属沿着栅极的边缘处的残留，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中存在的在阵列基板的制作工艺中，有源层金属较多的残留于栅极的边缘处的问题。
本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：栅极、栅线、数据线、像素电极和公共电极线；其中，所述公共电极线与所述栅线延伸方向相同，所述像素电极位于相邻的所述栅线和相邻的所述数据线定义的区域；
所述栅线沿其延伸方向贯穿于与所述栅线位于同一行的所述栅极；
所述像素电极靠近所述栅线的一端与所述栅线之间具有间隙。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述栅极在垂直于所述栅线的方向上相对于所述栅线具有突出部。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述像素电极靠近所述公共电极线的一端与所述栅线对应的区域具有突出部。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述公共电极线与所述栅极对应的区域沿着背离所述栅极的方向弯折，其余区域向着靠近所述栅线的方向弯折。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述公共电极线与所述栅线同层设置。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括与所述公共电极线相连的公共电极。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：有源层、源极和漏极；其中，
所述有源层位于所述栅极之上；
所述数据线与所述源极同层设置且电性相连；
所述像素电极位于所述漏极之上且与所述漏极电性相连。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述像素电极的材料为透明导电金属。
本发明实施例提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述阵列基板。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板。
本发明实施例的有益效果包括：
本发明实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，该阵列基板包括：栅极、栅线、数据线、像素电极和公共电极线；其中，公共电极线与栅线延伸方向相同，像素电极位于相邻的栅线和相邻的数据线定义的区域；栅线沿其延伸方向贯穿于与栅线位于同一行的栅极，像素电极靠近栅线的一端与栅线之间具有间隙，这样可以将像素电极沿着背离栅线的方向减小，使栅线可以沿着靠近像素电极的方向移动，进而栅线可以水平穿过栅极，使得栅极延伸到像素区域的面积减小，随之栅极延伸到像素区域的边缘的周长可以减小，在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率。
附图说明
图1为现有技术中阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之一；
图3为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之二；
图4为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之三。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各膜层的厚度和区域的大小形状不反映阵列基板各部件的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
本发明实施例提供了一种阵列基板，如图2所示，可以包括：栅极1、栅线2、数据线3、像素电极4和公共电极线5；其中，公共电极线5与栅线2延伸方向相同，像素电极4位于相邻的栅线2和相邻的数据线3定义的区域；栅线2沿其延伸方向贯穿于与栅线2位于同一行的栅极1；像素电极4靠近栅线2的一端与栅线2之间具有间隙。
本发明实施例提供的上述阵列基板中，包括：栅极1、栅线2、数据线3、像素电极4和公共电极线5；其中，公共电极线5与栅线2延伸方向相同，像素电极4位于相邻的栅线2和相邻的数据线3定义的区域；栅线2沿其延伸方向贯穿于与栅线2位于同一行的栅极1，像素电极4靠近栅线2的一端与栅线2之间具有间隙，这样将可以像素电极4沿着背离栅线2的方向减小，使栅线2可以沿着靠近像素电极4的方向移动，进而栅线2可以水平穿过栅极1，如图2所示，使得栅极1延伸到像素区域的面积(图2中虚线框M标注的区域)减小，随之栅极1延伸到像素区域的边缘的周长可以减小，相对于现有技术中栅线沿着栅极靠近公共电极线的一端的边缘穿过，栅极整个面积几乎全部延伸到像素区域，本发明实施例提供的阵列基板中，栅线水平穿过栅极，使得栅极延伸到像素区域的面积减小，随之栅极延伸到像素区域的边缘的周长可以减小，这样在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，栅极在垂直于栅线的方向上相对于栅线具有突出部，具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，例如图2所示，栅极1与栅线2为一体结构，图2中栅极1的三角形状仅为示意，其栅极1的形状不限于此，栅线2延其延伸方向从栅极1的中间穿过，栅极1在垂直于栅线2的方向上相对于栅线2具有突出部，这样栅极1延伸到像素区域的部分仅为栅极1相对于栅线2靠近像素电极4的突出部分，这样使得栅极延伸到像素区域的面积减小，随之栅极延伸到像素区域的边缘的周长可以减小，这样在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3所示，像素电极4靠近公共电极线5的一端与与栅线2对应的区域具有突出部B。
具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，为了使栅线2可以水平穿过栅极1，因此将像素电极4沿着背离栅线2的方向减小，这样使得像素电极4的面积减小，因此为了保证像素电极4的面积不会因为使栅线2水平穿过栅极1而减小，因此如图3所示，可以将像素电极4靠近公共电极线5的一端设置成与栅线2对应的区域具有突出部B，这样可以通过改变像素电极4的形状，像素电极4靠近公共电极线5的一端与栅线2对应的区域的突出部B可以补偿像素电极4沿着背离栅线2的方向减少的面积，以保证像素电极4整体的面积不会减小，从而可以保证开口率，同时栅线2可以沿着靠近像素电极4的方向移动，进而水平穿过栅极1，使得栅极1延伸到像素区域的面积减小，即栅极1延伸到像素区域的边缘的周长减小，在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极1边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，为了减小栅极1延伸到像素区域的面积，进而减小栅极1延伸到像素区域的边缘周长，以减少阵列基板制作工艺中有源层金属在栅极1边缘的残留，因此将栅线2水平穿过栅极1，且公共电极线5与栅线2的延伸方向相同，因此如图4所示，可以将公共电极线5设置成与栅极1对应的区域沿着背离栅极1的方向弯折，其余区域向着靠近栅线2的方向弯折，这样将公共电极线5随着栅线2和栅极1整体的形状改变，将公共电极线5设置成整体上是一条具有上凸下凹结构的弯折的直线，这样可以实现将栅线2沿着靠近像素电极4的方向移动，从而栅线2可以水平穿过栅极1，使得栅极1延伸到像素区域的面积减小，即栅极1延伸到像素区域的边缘的周长减小，在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极1边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率，同时像素电极4靠近公共电极线5的一端可以设置成与栅线2对应区域具有突出部B，突出部B可以补偿像素电极由于沿着背离栅线2的方向收缩而减小的面积，从而保证像素电极4的面积不变，进而不会影响阵列基板的开口率。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，公共电极线与栅线同层设置，具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，可以将栅线与公共电极线同层设置，这样在阵列基板的制作工艺中，可以通过一次构图工艺形成栅线与公共电极线，可以简化阵列基板的制作工艺，降低生产成本。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，还可以包括与公共电极线相连的公共电极，具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，公共电极线用于输入公共电压信号，进而将公共电压信号传输到公共电极，在显示面板正常工作时，像素电极接收来自数据线的数据电压信号，公共电极接收来自公共电极线的公共电压信号，从而像素电极与公共电极之间可以形成电场，进而驱动液晶分子实现偏转，最终实现显示面板的显示功能。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，还可以包括：有源层、源极和漏极；其中，有源层位于栅极之上；数据线与源极同层设置且电性相连；像素电极位于漏极之上且与漏极电性相连，具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，栅极位于衬底基板上，有源层位于栅极之上，在栅线输入扫描信号时，即向栅极输入开启电压时，在有源层中可以形成导电沟道，进而源漏极通过导电沟道导通，这样与源极电性相连的数据线上的数据电压信号可以经过导通沟道输出的漏极，进而通过漏极传输到与漏极电性相连的像素电极，最终实现显示面板的显示功能。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，像素电极的材料可以为透明导电金属，具体地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，采用透明导电金属做像素电极材料，可以提高像素电极的导电率，保证像素电极的光透过率，最终可以提高显示面板显示的画面质量。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述阵列基板。由于该显示面板解决问题的原理与阵列基板相似，因此该显示面板的实施可以参见上述阵列基板的实施，重复之处不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板。该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，该阵列基板包括：栅极、栅线、数据线、像素电极和公共电极线；其中，公共电极线与栅线延伸方向相同，像素电极位于相邻的栅线和相邻的数据线定义的区域；栅线沿其延伸方向贯穿于与栅线位于同一行的栅极，像素电极靠近栅线的一端与栅线之间具有间隙，这样可以将像素电极沿着背离栅线的方向减小，使栅线可以沿着靠近像素电极的方向移动，进而栅线可以水平穿过栅极，使得栅极延伸到像素区域的面积减小，随之栅极延伸到像素区域的边缘的周长可以减小，在阵列基板的制作工艺中，有源层成膜后的清洗过程中，有源层金属在栅极边缘处的残留可以减少，从而有效降低阵列基板制作工艺中有源层金属的残留，可以提高阵列基板的产品良率。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种阵列基板，包括：栅极、栅线、数据线、像素电极和公共电极线；其中，所述公共电极线与所述栅线延伸方向相同，所述像素电极位于相邻的所述栅线和相邻的所述数据线定义的区域；其特征在于：
所述栅线沿其延伸方向贯穿于与所述栅线位于同一行的所述栅极；
所述像素电极靠近所述栅线的一端与所述栅线之间具有间隙。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极在垂直于所述栅线的方向上相对于所述栅线具有突出部。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极靠近所述公共电极线的一端与所述栅线对应的区域具有突出部。
4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线与所述栅极对应的区域沿着背离所述栅极的方向弯折，其余区域向着靠近所述栅线的方向弯折。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极线与所述栅线同层设置。
6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括与所述公共电极线相连的公共电极。
7.如权利要求1-6任一项所述的阵列基板，其特征在于，还包括：有源层、源极和漏极；其中，
所述有源层位于所述栅极之上；
所述数据线与所述源极同层设置且电性相连；
所述像素电极位于所述漏极之上且与所述漏极电性相连。
8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极的材料为透明导电金属。
9.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的显示面板。
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