CN104737271B - 光固化性组合物和膜的制造方法 - Google Patents

光固化性组合物和膜的制造方法 Download PDF

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Abstract

提供了一种降低了脱模力的光固化性组合物。所述光固化性组合物是以下光固化性组合物，其在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜，并且包括聚合性化合物、光聚合引发剂和具有光刺激响应部位的感光性气体产生剂。所述感光性气体产生剂具有含有至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体。

Description

光固化性组合物和膜的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光固化性组合物和使用所述光固化性组合物的膜的制造方法。
背景技术
光纳米压印法是将具有预定的图案形状的抗蚀膜形成在例如要加工的被加工基材的基板上的一种方法，并且具有包括例如以下步骤(a)至(d)的制造方法(非专利文献1)。
(a)配置抗蚀剂(光固化性组合物)的配置步骤。
(b)将具有形成微细凹凸图案的表面的模具与所述光固化性组合物接触的模具接触步骤。
(c)将所述光固化性组合物使用光照射的光照射步骤。
(d)在所述光照射步骤之后，将所述模具与所述光固化性组合物脱离的脱模步骤。
将通过包括以上步骤(a)至(d)的制造方法形成的抗蚀膜的图案形状通过将模具的凹凸图案转印至配置在基板上的抗蚀膜来形成。
此外，当使用光纳米压印法时，其重要的目的是，降低在脱模步骤(步骤(d))中从抗蚀剂固化物分离(脱离)模具需要的力，即，脱模力。这原因是，如果脱模力高，例如，遗憾地，则缺陷会在图案中产生，和/或由于基板从平台(stage)浮起，对齐精度会降低。
为了解决上述问题，专利文献1已经提出一种方法，其使用含有通过光化学反应产生气体，例如氮气或二氧化碳的感光性气体产生剂(photosensitive gas generatingagent)的光固化性组合物。上述方法是其中在光固化性组合物和模具的界面处，其间的结合或分子相互作用通过在光照射步骤中产生自感光性气体产生剂的气体的压力而破坏或消除从而降低脱模力的方法。
引用列表
专利文献
PTL 1日本专利特开No.2010-262980
非专利文献
NPL 1SPIE，第3676卷，第379页
NPL 2Journal of the American Chemical Society，第127卷，第9952-9953页
发明内容
发明要解决的问题
然而，在专利文献1提出的方法中，已经存在的问题是，因为产生气体的光照射步骤花费长时间，生产性降低。另外，即使添加感光性气体产生剂，在模具和光固化性组合物之间产生的脱模力依然不利地高。
鉴于上述问题，本发明提供一种降低了脱模力的光固化性组合物。另外，本发明也提供一种具有高生产性的使用光压印法的膜的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明的光固化性组合物是一种光固化性组合物，其在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜。本发明的光固化性组合物包括：聚合性化合物；光聚合引发剂；和具有光刺激响应部位(photostimulationresponsive portion)的感光性气体产生剂。在本发明的所述光固化性组合物中，所述感光性气体产生剂具有包括至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体。
发明的效果
根据本发明，可以提供一种降低了脱模力的光固化性组合物。另外，根据本发明，也可以提供一种具有高生产性的使用光压印法的膜的制造方法。
本发明的进一步特征将参考附图从示例性实施方案的以下说明变得明显。
附图说明
图1包括示出根据本发明的实施方案的膜的制造方法的一个实例的示例性截面图。
具体实施方式
下文中，将适当地参考图来详细地描述本发明的实施方案。然而，本发明不限于以下实施方案。另外，没有偏离本发明的范围的基于本领域技术人员的常识进行的以下实施方案的适当改变和改善等也被认为在本发明的范围内。
另外，要后述的本发明的膜的制造方法是，例如，使用光压印法的膜的形成方法。当使用光压印法时，具有图案尺寸为1nm至10mm的膜的形成方法是优选的。另外，具有图案尺寸为大约10nm至100μm的膜的形成方法是更优选的。通常，将使用光来形成具有纳米尺寸(1至100nm)图案(凹凸结构)的膜的图案形成技术称为光纳米压印法。本发明使用光纳米压印法。
光固化性组合物
本发明的光固化性组合物是一种光固化性组合物，其在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜。另外，本发明的光固化性组合物至少包括以下组分(A)至(C)。
(A)聚合性化合物
(B)光聚合引发剂
(C)感光性气体产生剂
在本发明的光固化性组合物中，用作组分(C)的感光性气体产生剂是具有光刺激响应部位和包括至少一个烯化氧链的重复结构的化合物。
下文中，将详细地描述各个组分。
聚合性化合物(组分(A))
作为形成本发明的光固化性组合物的聚合性化合物，可以列举提及自由基聚合性化合物或阳离子聚合性化合物。
作为自由基聚合性化合物，具有至少一个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物是优选的。作为阳离子聚合性化合物，具有至少一个乙烯基醚基、环氧基或氧杂环丁基的化合物是优选的。
聚合性化合物(A)自由基聚合性组分
作为具有一个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的单官能(甲基)丙烯酸化合物，例如，可以提及的是，苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基-2-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-苯氧基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、4-苯基苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-(2-苯基苯基)-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、EO改性的对枯基苯酚的(甲基)丙烯酸酯、2-溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2,4-二溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、EO改性的苯氧基(甲基)丙烯酸酯、PO改性的苯氧基(甲基)丙烯酸酯、聚氧化乙烯壬基苯基醚(甲基)丙烯酸酯、异冰片基(甲基)丙烯酸酯、1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、冰片基(甲基)丙烯酸酯、三环癸基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、4-丁基环己基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酰基吗啉、2-羟基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟基丁基(甲基)丙烯酸酯、甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯、异丙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(amyl)(甲基)丙烯酸酯、异丁基(甲基)丙烯酸酯、叔丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(pentyl)(甲基)丙烯酸酯、异戊基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯、庚基(甲基)丙烯酸酯、辛基(甲基)丙烯酸酯、异辛基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、壬基(甲基)丙烯酸酯、癸基(甲基)丙烯酸酯、异癸基(甲基)丙烯酸酯、十一烷基(甲基)丙烯酸酯、十二烷基(甲基)丙烯酸酯、月桂基(甲基)丙烯酸酯、硬脂基(甲基)丙烯酸酯、异硬脂基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基(甲基)丙烯酸酯、四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、丁氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、双丙酮(甲基)丙烯酰胺、异丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、叔辛基(甲基)丙烯酰胺、二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯、7-氨基-3,7-二甲基辛基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、和N,N-二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺；然而，具有一个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的单官能(甲基)丙烯酸化合物不限于上述那些。
作为上述单官能(甲基)丙烯酸化合物的市售产品，例如，可以提及的是，AronixM101、M102、M110、M111、M113、M117、M5700、TO-1317、M120、M150和M156(Toagosei Co.,Ltd.制造)；MEDOL10、MIBDOL10、CHDOL10、MMDOL30、MEDOL30、MIBDOL30、CHDOL30、LA、IBXA、2-MTA、HPA，Biscoat#150、#155、#158、#190、#192、#193、#220、#2000、#2100和#2150(OsakaOrganic Chemical Industry Ltd.制造)；Light Acrylate BO-A、EC-A、DMP-A、THF-A、HOP-A、HOA-MPE、HOA-MPL、PO-A、P-200A、NP-4EA、NP-8EA和epoxy ester M-600A(Kyoei KagakuKogyo Co.,Ltd.制造)；KAYARAD TC110S、R-564和R-128H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)；NK ester AMP-10G和AMP-20G(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)；FA-511A、512A和513A(Hitachi Chemical Company,Ltd.制造)；PHE、CEA、PHE-2、PHE-4、BR-31、BR-31M和BR-32(Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co.,Ltd.制造)；VP(BASF制造)；和ACMO、DMAA和DMAPAA(Kohjin co.,Ltd.制造)。然而，单官能(甲基)丙烯酸化合物的市售产品不限于上述那些。
作为具有至少两个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸化合物，例如，可以提及的是，三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO,PO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基)异氰脲酸酯、双(羟基甲基)三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改性的2,2-双(4-(甲基)(丙烯酰氧基)苯基)丙烷、PO改性的2,2-双(4-(甲基)(丙烯酰氧基)苯基)丙烷、和EO,PO改性的2,2-双(4-(甲基)(丙烯酰氧基)苯基)丙烷；然而，具有至少两个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸化合物不限于上述那些。
作为上述多官能(甲基)丙烯酸化合物的市售产品，例如，可以提及的是，YupimerUV SA1002和SA2007(Mitsubishi Chemical Corp.制造)；Biscoat#195、#230、#215、#260、#335HP、#295、#300、#360、#700、GPT和3PA(Osaka Organic Chemical Industry Ltd.制造)；Light Acrylate 4EG-A、9EG-A、NP-A、DCP-A、BP-4EA、BP-4PA、TMP-A、PE-3A、PE-4A和DPE-6A(Kyoei Kagaku Kogyo Co.,Ltd.制造)；KAYARAD PET-30，TMPTA，R-604，DPHA，DPCA-20、-30、-60、-120，HX-620，D-310和D-330(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)；Aronix M208、M210、M215、M220、M240、M305、M309、M310、M315、M325和M400(Toagosei Co.,Ltd.制造)；和Repokishi VR-77、VR-60和VR-90(Showa Highpolymer Co.,Ltd.制造)；然而，多官能(甲基)丙烯酸化合物的市售产品不限于上述那些。
上述自由基聚合性化合物可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。另外，在上述化合物组中，(甲基)丙烯酸酯表示与其对应的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酰基表示其对应的丙烯酰基和甲基丙烯酰基。EO表示氧化乙烯，并且EO改性的化合物表示具有氧化乙烯基的嵌段结构的化合物。另外，PO表示氧化丙烯，并且PO改性的化合物表示具有氧化丙烯基的嵌段结构的化合物。
聚合性化合物(A)阳离子聚合性组分
作为具有一个乙烯基醚基的化合物，例如，可以提及的是，甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、叔丁基乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚、正壬基乙烯基醚、月桂基乙烯基醚、环己基乙烯基醚、环己基甲基乙烯基醚、4-甲基环己基甲基乙烯基醚、苯甲基乙烯基醚、二环戊烯基乙烯基醚、2-二环戊烯氧基乙基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、丁氧基乙基乙烯基醚、甲氧基乙氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙氧基乙基乙烯基醚、甲氧基(聚乙二醇)乙烯基醚、四氢糠基乙烯基醚、2-羟基乙基乙烯基醚、2-羟基丙基乙烯基醚、4-羟基丁基乙烯基醚、4-羟基甲基-环己基-甲基乙烯基醚、二甘醇单乙烯基醚、聚(乙二醇)乙烯基醚、氯乙基乙烯基醚、氯丁基乙烯基醚、氯乙氧基乙基乙烯基醚、苯基乙基乙烯基醚和苯氧基(聚乙二醇)乙烯基醚；然而，具有一个乙烯基醚基的化合物不限于上述那些。
作为具有至少两个乙烯基醚基的化合物，例如，可以提及的是，二乙烯基醚，例如乙二醇二乙烯基醚、二甘醇二乙烯基醚、聚乙二醇二乙烯基醚、丙二醇二乙烯基醚、丁二醇二乙烯基醚、己二醇二乙烯基醚、双酚A烯化氧二乙烯基醚和双酚F烯化氧二乙烯基醚；和多乙烯基醚，例如三羟甲基乙烷三乙烯基醚、三羟甲基丙烷三乙烯基醚、二三羟甲基丙烷四乙烯基醚、甘油三乙烯基醚、季戊四醇四乙烯基醚、二季戊四醇五乙烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚、三羟甲基丙烷三乙烯基醚的氧化乙烯加成物、三羟甲基丙烷三乙烯基醚的氧化丙烯加成物、二三羟甲基丙烷四乙烯基醚的氧化乙烯加成物、二三羟甲基丙烷四乙烯基醚的氧化丙烯加成物、季戊四醇四乙烯基醚的氧化乙烯加成物、季戊四醇四乙烯基醚的氧化丙烯加成物、二季戊四醇六乙烯基醚的氧化乙烯加成物和二季戊四醇六乙烯基醚的氧化丙烯加成物；然而，具有至少两个乙烯基醚基的化合物不限于上述那些。
作为具有一个环氧基的化合物，例如，可以提及的是，苯基缩水甘油醚、对叔丁基苯基缩水甘油醚、丁基缩水甘油醚、2-乙基己基缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油醚、1,2-环氧丁烷、一氧化1,3-丁二烯、1,2-环氧基十二烷、环氧氯丙烷、1,2-环氧基癸烷、氧化苯乙烯、环己烯化氧、3-甲基丙烯酰氧甲基环己烯化氧、3-丙烯酰氧甲基环己烯化氧和3-乙烯基环己烯化氧；然而，具有一个环氧基的化合物不限于上述那些。
作为具有至少两个环氧基的化合物，例如，可以提及的是，双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚、环氧酚醛清漆树脂、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚S二缩水甘油醚、3,4-环氧基环己基甲基-3',4'-环氧基环己烷羧酸酯、2-(3,4-环氧基环己基-5,5-螺-3,4-环氧基)环己烷-间-二氧六环(2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-meth-dioxane)、双(3,4-环氧基环己基甲基)己二酸酯、乙烯基环己烯化氧、4-乙烯基环氧基环己烷、双(3,4-环氧基-6-甲基环己基甲基)己二酸酯、3,4-环氧基-6-甲基环己基-3',4'-环氧基-6'-甲基环己烷羧酸酯、亚甲基双(3,4-环氧基环己烷)、二环氧化二环戊二烯(dicyclopentadiene diepoxide)、乙二醇的二(3,4-环氧基环己基甲基)醚、亚乙基双(3,4-环氧基环己烷羧酸酯)、二辛基环氧基六氢化邻苯二甲酸酯、二-2-乙基己基环氧基六氢化邻苯二甲酸酯、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、二氧化1,1,3-四癸二烯、二氧化柠檬烯、1,2,7,8-二环氧基辛烷和1,2,5,6-二环氧基环辛烷；然而，具有至少两个环氧基的化合物不限于上述那些。
作为具有一个氧杂环丁基的化合物，例如，可以提及的是，3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-(甲基)烯丙氧基甲基-3-乙基氧杂环丁烷、(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基苯、4-氟代-[1-(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、4-甲氧基-[1-(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、[1-(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)乙基]苯基醚、异丁氧基甲基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、异冰片氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、异冰片基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-乙基己基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、乙基二甘醇(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊二烯(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊烯氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊烯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、四氢糠基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、四溴苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-四溴苯氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三溴苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-三溴苯氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-羟基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、2-羟基丙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、丁氧基乙基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、五氯苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、五溴苯基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚和冰片基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚；然而，具有一个氧杂环丁基的化合物不限于上述那些。
作为具有至少两个氧杂环丁基的化合物，例如，可以提及的是，多官能氧杂环丁烷，例如3,7-双(3-氧杂环丁基)-5-氧杂-壬烷、3,3'-(1,3-(2-亚甲基)丙烷二基双(氧亚甲基))双(3-乙基氧杂环丁烷)、1,4-双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]苯、1,2-双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]乙烷、1,3-双[(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)甲基]丙烷、乙二醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二环戊烯基双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三甘醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、四甘醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三环癸烷二基(tricyclodecanediyl)二亚甲基(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、三羟甲基丙烷三(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、1,4-双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)丁烷、1,6-双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲氧基)己烷、季戊四醇三(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、季戊四醇四(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、聚乙二醇双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二季戊四醇六(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二季戊四醇五(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二季戊四醇四(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、己内酯改性的二季戊四醇六(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、己内酯改性的二季戊四醇五(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、二三羟甲基丙烷四(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、EO改性的双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、PO改性的双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、EO改性的氢化双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚、PO改性的氢化双酚A双(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚和EO改性的双酚F(3-乙基-3-氧杂环丁基甲基)醚；然而，具有至少两个氧杂环丁基的化合物不限于上述那些。
上述阳离子聚合性化合物可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。在上述以上化合物组中，EO表示氧化乙烯，并且EO改性的化合物表示具有氧化乙烯基的嵌段结构的化合物。另外，PO表示氧化丙烯，并且PO改性的化合物表示具有氧化丙烯基的嵌段结构的化合物。另外，“氢化”化合物表示将氢原子添加至例如苯环等的C＝C双键的化合物。
光聚合引发剂(组分(B))
在本发明中，光聚合引发剂(组分(B))是感应具有预定波长的光并且产生以上聚合因子(例如自由基或阳离子)的化合物。特别地，当用作组分(A)的聚合性化合物是自由基聚合性化合物时，光聚合引发剂(组分(B))是通过光(例如，红外光、可见光、紫外光、远紫外光、X射线、或例如电子射线的带电粒子射线的照射)产生自由基的聚合引发剂。另一方面，当用作组分(A)的聚合性化合物是阳离子聚合性化合物时，光聚合引发剂(组分(B))是通过光产生酸的聚合引发剂。
作为用作自由基产生剂的化合物。例如，可以提及的是，可以取代的2,4,5-三芳基咪唑二聚体，例如2-(邻氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4,5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚体、2-(邻氟苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体和2-(邻或对甲氧基苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚体；苯甲酮衍生物，例如苯甲酮、N,N′-四甲基-4,4′-二氨基苯甲酮(米蚩酮(Michler's ketone))、N,N′-四乙基-4,4′-二氨基苯甲酮、4-甲氧基-4′-(二甲基氨基)苯甲酮、4-氯苯甲酮、4,4'-二甲氧基苯甲酮和4,4'-二氨基苯甲酮；芳香族酮衍生物，例如2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1,2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-丙-1-酮；醌类，例如2-乙基蒽醌、菲醌、2-叔丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-苯并蒽醌、2-苯基蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、1-氯蒽醌、2-甲基蒽醌、1,4-萘醌、9,10-菲醌、2-甲基-1,4-萘醌和2,3-二甲基蒽醌；苯偶姻醚衍生物，例如苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚和苯偶姻苯基醚；苯偶姻衍生物，例如苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻和丙基苯偶姻；苯甲基衍生物，例如苯甲基二甲基缩酮；吖啶衍生物，例如9-苯基吖啶和1,7-双(9,9′-吖啶基)庚烷；N-苯基甘氨酸衍生物，例如N-苯基甘氨酸；乙酰苯衍生物，例如乙酰苯、3-甲基乙酰苯、乙酰苯基苯甲基缩酮、1-羟基环己基苯基酮和2,2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯；噻吨酮衍生物，例如噻吨酮、二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮和2-氯代噻吨酮；和呫吨酮、芴酮、苯甲醛、芴、蒽醌、三苯胺、咔唑、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦和双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦。然而，自由基产生剂不限于上述那些。另外，上述化合物可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。
作为以上光自由基产生剂的市售产品，虽然可以列举提及Irgacure 184、369、651、500、819、907、784、2959，CGI-1700、-1750、-1850，CG24-61，Darocur l116和1173(CibaJapan制造)；Lucirin TPO、LR8893和LR8970(BASF制造)；和Yubekuriru P36(UCB制造)，但该市售产品不限于此。
作为用作通过光产生酸的聚合引发剂的化合物，虽然可以列举提及鎓盐化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、磺酰亚胺化合物和重氮甲烷化合物，但该聚合引发剂不限于此。在本发明中，上述那些化合物中，优选使用鎓盐化合物。
作为鎓盐化合物，例如，可以提及碘鎓盐、锍盐、鏻盐、重氮盐、铵盐和吡啶鎓盐。作为鎓盐化合物的具体实例，例如，可以提及的是，双(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟正丁烷磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟甲烷磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓2-三氟甲基苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓芘磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓正十二烷基苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓对甲苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓10-樟脑磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓正辛烷磺酸盐、二苯基碘鎓全氟正丁烷磺酸盐、二苯基碘鎓三氟甲烷磺酸盐、二苯基碘鎓2-三氟甲基苯磺酸盐、二苯基碘鎓芘磺酸盐、二苯基碘鎓正十二烷基苯磺酸盐、二苯基碘鎓对甲苯磺酸盐、二苯基碘鎓苯磺酸盐、二苯基碘鎓10-樟脑磺酸盐、二苯基碘鎓正辛烷磺酸盐、三苯基锍全氟正丁烷磺酸盐、三苯基锍三氟甲烷磺酸盐、三苯基锍2-三氟甲基苯磺酸盐、三苯基锍芘磺酸盐、三苯基锍正十二烷基苯磺酸盐、三苯基锍对甲苯磺酸盐、三苯基锍苯磺酸盐、三苯基锍10-樟脑磺酸盐、三苯基锍正辛烷磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍全氟正丁烷磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍三氟甲烷磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍2-三氟甲基苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍芘磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍正十二烷基苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍对甲苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍苯磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍10-樟脑磺酸盐、二苯基(4-叔丁基苯基)锍正辛烷磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍全氟正丁烷磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍三氟甲烷磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍2-三氟甲基苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍芘磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍正十二烷基苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍对甲苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍苯磺酸盐、三(4-甲氧基苯基)锍10-樟脑磺酸盐和三(4-甲氧基苯基)锍正辛烷磺酸盐。然而，鎓盐化合物不限于上述那些。
作为砜化合物，例如，可以提及的是，β-酮砜、β-磺酰基砜、和其α-重氮化合物。作为砜化合物的具体实例，虽然可以列举提及苯甲酰甲基苯基砜、2,4,6-三甲苯基苯甲酰甲基砜、双(苯基磺酰)甲烷和4-三苯甲酰甲基砜，但该砜化合物不限于此。
作为磺酸酯化合物，例如，可以提及烷基磺酸酯、卤代烷基磺酸酯、芳基磺酸酯和亚氨基磺酸酯。作为磺酸酯化合物的具体实例，虽然可以列举提及α-羟甲基苯偶姻全氟正丁烷磺酸酯、α-羟甲基苯偶姻三氟甲烷磺酸酯和α-羟甲基苯偶姻2-三氟甲基苯磺酸酯，但该磺酸酯化合物不限于此。
作为磺酰亚胺化合物的具体实例，虽然可以列举提及N-(三氟甲基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(10-樟脑磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)萘酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)琥珀酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二苯基马来酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)-7-氧杂二环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二环[2.2.1]庚烷-5,6-氧代-2,3-二甲酰亚胺和N-(4-氟苯基磺酰氧基)萘酰亚胺，但该磺酰亚胺化合物不限于此。
作为重氮甲烷化合物的具体实例，虽然可以列举提及双(三氟甲基磺酰基)重氮甲烷、双(环己基磺酰基)重氮甲烷、双(苯基磺酰基)重氮甲烷、双(对甲苯磺酰基)重氮甲烷、甲基磺酰基对甲苯磺酰基重氮甲烷、(环己基磺酰基)(1,1-二甲基乙基磺酰基)重氮甲烷和双(1,1-二甲基乙基磺酰基)重氮甲烷，但所述重氮甲烷化合物不限于此。
上述那些光致产酸剂(photoacid generating agent)中，鎓盐化合物是优选的。在本发明中，该光致产酸剂可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。
用作组分(B)的聚合引发剂与用作组分(A)的聚合性化合物的总量的配混比是0.01至10重量％并且优选0.1至7重量％。当聚合引发剂的配混比小于0.01重量％时，固化速率降低，结果，反应效率在一些情况下会降低。另一方面，当聚合引发剂的共聚比大于10重量％时，光固化性组合物的固化物的机械性能在一些情况下会降低。
感光性气体产生剂(组分(C))
感光性气体产生剂是在接收光例如紫外线时进行化学反应(消去反应)并且在该化学反应中产生气体的物质。作为感光性气体产生剂，例如，可以提及的是，偶氮系化合物、偶氮二系化合物(azobis-based compound)、重氮盐系化合物、叠氮系化合物、重氮基萘醌系化合物、磺基酰肼系化合物、肼系化合物、硝基苯甲基氨基甲酸酯系化合物、苯偶姻氨基甲酸酯系化合物和重氮甲烷磺酸系化合物。
另外，作为在接收光时要产生的气体，虽然可以列举提及二氧化碳、一氧化碳、氮气、氧气或氢气，但二氧化碳或氮气是优选的。
作为在接收光时产生氮气的化合物，例如，可以提及的是，偶氮系化合物、偶氮二系化合物、重氮盐系化合物、例如2-重氮基-1,2-萘醌-5-磺酸酯系化合物等的重氮基萘醌系化合物、和硝基苯甲基氨基甲酸酯系化合物。
另外，作为在接收光时产生二氧化碳的化合物，例如，可以提及的是，苯偶姻氨基甲酸酯系化合物。
在本发明中，在模具和光固化性组合物之间的界面处，感光性气体产生剂能够通过在要后述的光照射步骤中产生的气体的压力来破坏或消除光固化性组合物和模具之间的结合或分子相互作用，以致脱模力可以降低。
在本发明的光固化性组合物中，用作组分(C)的感光性气体产生剂具有包括至少一个烯化氧链的重复结构。通过该重复结构，即使以高浓度在光固化性组合物中混合，感光性气体产生剂可以均一地分散在光固化性组合物中，而不导致相分离和凝集。
作为包含于本发明的光固化性组合物的感光性气体产生剂的烯化氧链，特别地，可以列举提及氧化乙烯链、氧化丙烯链和氧化丁烯链。
在本发明中，作为用作组分(C)的感光性气体产生剂，可以提及由以下通式(1)至(3)表示的化合物。
RG1-XA-(O-RA-)nYA (1),RG1-XA-(O-RA-)n-XB-RG1' (2)
YA(-RA-O)n-XA-RG2-XB-(O-RB-)mYB (3)
在式(1)中，RG1表示用作光刺激响应部位的单价取代基。作为由RG1表示的取代基，特别地，可以列举提及选自以下取代基组的取代基。
[化学式1]
在以上式中，XA表示要后述的二价连接基团。.
在上示取代基组中，(P)和(Q)各自表示重氮基萘醌系化合物并且各自通过光刺激产生氮气。在以上取代基组中，(R)表示硝基苯甲基氨基甲酸酯系化合物并且通过光刺激产生二氧化碳。在以上取代基中，(S)表示苯偶姻氨基甲酸酯系化合物并且通过光刺激产生二氧化碳。在以上取代基中，(T)表示叠氮系化合物并且通过光刺激产生氮气。
在本发明中，作为用作光刺激响应部位的单价取代基，2-重氮基-1,2-萘醌基是优选的。
在式(1)中，XA表示二价连接基团。作为由XA表示的连接基团的具体实例，例如，可以提及的是，氧原子、硫原子、亚烷基、亚苯基、亚萘基、酯基、醚基、硫醚基、磺酰基、仲氨基、叔氨基、酰胺基、氨基甲酸乙酯基(urethane group)、或通过通过至少一个共价键彼此连接的那些二价连接基团的至少两个形成的二价复合取代基。
在式(1)中，RA表示亚烷基。作为由RA表示的亚烷基，特别地，例如，可以提及亚乙基、亚正丙基、亚异丙基和亚丁基。
在式(1)中，YA表示单价官能团。作为由YA表示的单价官能团的具体实例，例如，可以提及氢原子、卤素原子、烷氧基、羟基、羧基、硫醇基(thiol group)、吡啶基(pyridylgroup)、硅烷醇基(silanol group)和磺基。
在式(1)中，n是1以上的整数。另外，n优选1至25的整数。
在式(2)中，RG1和RG1'各自表示用作光刺激响应部位的单价取代基。由RG1和RG1'表示的取代基的具体实例与在式(1)中的RG1的具体实例相似。另外，RG1和RG1'可以彼此相同或不同。
在式(2)中，XA和XB各自表示二价连接基团。作为由XA和XB表示的连接基团的具体实例，例如，可以提及的是，氧原子、硫原子、亚烷基、亚苯基、亚萘基、酯基、醚基、硫醚基、磺酰基、仲氨基、叔氨基、酰胺基、氨基甲酸乙酯基、或通过通过至少一个共价键彼此连接的那些二价连接基团的至少两个形成的二价复合取代基。另外，XA和XB可以彼此相同或不同。
在式(2)中，RA表示亚烷基。作为由RA表示的亚烷基的具体实例，例如，可以提及亚乙基、亚正丙基、亚异丙基和亚丁基。
在式(2)中，n是1以上的整数。另外，n优选1至25的整数。
在式(3)中，RG2表示用作光刺激响应部位的二价取代基。作为由RG2表示的取代基，特别地，可以提及选自以下取代基组的取代基。
[化学式2]
在式中，XA和XB各自表示要后述的二价连接基团。XA和XB可以彼此相同或不同。
在以上取代基组中，(U)表示偶氮二系化合物并且通过光刺激产生氮气。在以上取代基组中，(V)表示重氮甲烷磺酸系化合物并且通过光刺激产生氮气。
在式(3)中，RA和RB各自表示亚烷基。作为由RA和RB表示的亚烷基的具体实例，例如，可以提及亚乙基、亚正丙基、亚异丙基和亚丁基。另外，RA和RB可以彼此相同或不同。
在式(3)中，XA和XB各自表示二价连接基团。作为由XA和XB表示的连接基团的具体实例，例如，可以提及的是，氧原子、硫原子、亚烷基、亚苯基、亚萘基、酯基、醚基、硫醚基、磺酰基、仲氨基、叔氨基、酰胺基、氨基甲酸乙酯基、或通过通过至少一个共价键彼此连接的那些二价连接基团的至少两个形成的二价复合取代基。另外，XA和XB可以彼此相同或不同。
在式(3)中，YA和YB各自表示单价取代基。作为由YA和YB表示的单价取代基的具体实例，例如，可以提及氢原子、卤素原子、烷氧基、羟基、羧基、硫醇基、吡啶基、硅烷醇基和磺基。另外，YA和YB可以彼此相同或不同。
在式(3)中，n是1以上的整数。另外，n优选1至25的整数。m是1以上的整数。另外，m优选1至25的整数。另外，n和m可以彼此相同或不同。
通过本发明人进行的仔细研究，发现的是，因为与已知感光性气体产生剂相比，用作组分(C)的感光性气体产生剂具有高的在以上聚合性化合物(A)中的溶解度，组分(C)可以以高浓度均一地包含于聚合性化合物中。因为本发明的光固化性组合物能够均一地以高浓度含有用作组分(C)的感光性气体产生剂，可以增加通过光照射每单元面积产生的气体的量。因此，通过使用本发明的光固化性组合物，脱模力可以降低。另外，因为可以增加每单元时间产生的气体的量，光照射步骤可以在较短时间内完成，因此生产性可以改善。
通常，因为通过气体产生获得的脱模力降低效果取决于每单元面积产生的气体的量，随着膜厚度增加，该效果增加。然而，因为本发明的光固化性组合物可以增加用作组分(C)的感光性气体产生剂的浓度，即使形成自光固化性组合物的膜的膜厚度小(例如10μm以下)，可以获得脱模力降低效果。
作为用作组分(C)的感光性气体产生剂的化合物的具体实例，例如，可以提及公开于非专利文献2的化合物。作为上述化合物，特别地，已经公开了以下示出的六(氧化乙烯)单甲基醚12-(2-重氮基-1,2-萘醌-5-磺酰基氨基)十二酸酯。然而，本发明不限于此。
[化学式3]
用作组分(C)的感光性气体产生剂与用作组分(A)的聚合性化合物的总量的配混比是例如，0.1至50重量％，优选0.5至20重量％，并且更优选10至20重量％。当感光性气体产生剂与聚合性化合物的总量的配混比小于0.1重量％时，本发明的效果在一些情况下不会充分地获得。另一方面，当感光性气体产生剂与光固化性组合物的总量的配混比大于50重量％时，不会充分地确保光固化膜的机械强度，结果，图案缺陷在一些情况下会出现。鉴于脱模力的降低，感光性气体产生剂与用作组分(A)的光固化性组合物的总量的配混比优选10重量％以上。
氟系表面活性剂(组分(D))
除了上述组分(A)至(C)以外，本发明的光固化性组合物优选进一步包括氟系表面活性剂(组分(D))。
作为氟系表面活性剂(D)，可以使用不具有聚合性能的氟系表面活性剂。通过添加用作组分(D)的氟系表面活性剂，因为在模具和抗蚀剂之间的界面处产生的结合力(界面结合力)可以降低，通过用作组分(C)的感光性气体产生剂的脱模力降低效果可以进一步提高。
作为用作组分(D)的氟系表面活性剂，由以下通式(4)表示的化合物是优选的。
Rf1-Rc-X (4)
在式(4)中，Rf1表示至少包括氟原子和碳原子的拒水拒油性官能团。另外，除了氟原子和碳原子以外，例如，Rf1可以进一步具有氧原子。作为由Rf1表示的拒水拒油性官能团的具体实例，例如，可以提及全氟烷基和全氟聚醚基。
在式(4)中，Rc表示亲油性官能团。作为由Rc表示的亲油性官能团的具体实例，例如，可以提及例如聚(氧化乙烯)或聚(氧化丙烯)等的聚(烯化氧)，和亚烷基。
在式(4)中，X表示极性官能团。作为由X表示的极性官能团的具体实例，例如，可以提及羟基、羧基、磺基、氨基、或烷氧基。
在本发明的光固化性组合物中，用作组分(D)的氟系表面活性剂可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。
在本发明的光固化性组合物中，用作组分(D)的氟系表面活性剂与用作组分(A)的聚合性化合物的总量的配混比是例如，0.001至10重量％。上述配混比优选0.002至5重量％，并且更优选0.005至3重量％。当配混比小于0.001重量％时，不会充分获得本发明的效果。当配混比大于10重量％时，因为表面张力可以降低，和/或对模具或基板的接触角在一些情况下可以增加，光固化性组合物本身的填充性降低。
其它添加剂组分
另外，除了组分(A)至(C)(或组分(A)至(D))以外，本发明的光固化性组合物可以进一步含有添加剂组分。即，除了聚合性化合物(组分(A))、聚合引发剂(组分(B))和感光性气体产生剂(组分(C))以外，依照各种目的，本发明的光固化性组合物可以进一步含有添加剂组分，例如敏化剂、抗氧化剂、溶剂和聚合物组分，从而不降低本发明的效果。
敏化剂是适当地添加从而促进聚合反应和/或改善反应转化率的化合物。作为敏化剂，例如，可以提及氢供体和敏化染料。
氢供体是与产生自用作组分(B)的聚合引发剂的引发自由基(initiationradical)和处于聚合生长末端的自由基反应从而产生具有更加高的反应性的自由基的化合物。在光自由基产生剂用作聚合引发剂时优选添加氢供体。
作为氢供体的具体实例，虽然可以列举提及胺化合物，例如N-丁胺、二正丁胺、三正丁基膦、烯丙基硫脲、s-苄基异硫脲鎓-对甲苯次磺酸盐、三乙胺、二乙氨基乙基甲基丙烯酸酯、三亚乙基四胺、4,4'-双(二烷基氨基)苯甲酮、N,N-二甲基氨基苯甲酸乙酯、N,N-二甲基氨基苯甲酸异戊酯、戊基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯、三乙醇胺和N-苯基甘氨酸；和巯基系化合物，例如2-巯基-N-苯基苯并咪唑和巯基丙酸酯；但该氢供体不限于此。
敏化染料是通过吸收具有预定波长的光而激发，并且与用作组分(B)的聚合引发剂的相互作用的化合物。另外，上述相互作用表明例如，能量转移或电子转移从激发态的敏化染料至作为组分(B)的聚合引发剂。
作为敏化染料的具体实例，虽然可以列举提及蒽衍生物、蒽醌衍生物、芘衍生物、苝衍生物、咔唑衍生物、苯甲酮衍生物、噻吨酮衍生物、呫吨酮衍生物、香豆素衍生物、吩噻嗪衍生物、樟脑醌衍生物、吖啶系染料、硫代吡喃鎓(thiopyrylium)盐系染料、部花青素(merocyanine)系染料、喹啉系染料、苯乙烯基喹啉系染料、香豆素酮(ketocoumarin)系染料、噻吨系染料、呫吨系染料、氧杂菁(oxonol)系染料、花青系染料、罗丹明系染料和吡喃鎓盐系染料，但该敏化染料不限于此。
敏化剂可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。
在本发明的光固化性组合物中，相对于用作组分(A)的聚合性化合物的总量，敏化剂的量优选0至20重量％，更优选0.1至5.0重量％，并且甚至更优选0.2至2.0重量％。当敏化剂的含量是至少0.1重量％时，可以更有效地获得敏化剂的效果。另外，当敏化剂的含量设置至5.0重量％以下时，形成要形成的光固化物的高分子量化合物的分子量充分增加，同时，可以抑制溶解不良和贮存稳定性恶化。
共混光固化性组合物时的温度
当光固化性组合物通过将试剂和溶剂混合和溶解来制备时，该制备在预定的温度条件下进行。特别地，该制备在0℃至100℃范围进行。
光固化性组合物的粘度
作为本发明的光固化性组合物的粘度，除了溶剂以外的组分的混合物在23℃下的粘度优选1至100cP，更优选5至50cP，并且甚至更优选6至20cP。如果光固化性组合物的粘度大于100cP，则当光固化性组合物与模具接触时，将组合物填充入模具的微细图案的凹部(recess portion)需要的时间将变得更长，并且由于填充不良的图案缺陷会在一些情况下出现。另一方面，当粘度小于1cP时，在施涂光固化性组合物时会发生涂布不均匀，并且当光固化性组合物与模具接触时，光固化性组合物在一些情况下会流出模具的末端部。
光固化性组合物的表面张力
作为本发明的光固化性组合物的表面张力，除了溶剂以外的组分的混合物在23℃下的表面张力优选5至70mN/m，更优选7至35mN/m，并且甚至更优选10至32mN/m。如果表面张力小于5mN/m，则当光固化性组合物与模具接触时，将组合物填充入模具的微细图案的凹部需要的时间将变得更长。另一方面，当表面张力大于70mN/m时，表面平滑性降低。
混合于光固化性组合物的例如颗粒等的杂质
在本发明的光固化性组合物中，优选尽可能除去杂质。例如，为了抑制由于不良地混合于光固化性组合物的颗粒导致的光固化物的不需要的凹凸导致的图案缺陷的产生，优选除去例如颗粒的杂质。特别地，在将光固化性组合物的各个组分一起混合之后，因此获得的混合物优选地能够经过具有在0.001至5.0μm范围的孔径的过滤器。当过滤使用过滤器进行时，过滤更优选通过多阶段进行或更优选重复很多次。另外，可以再次过滤滤液。作为要用于过滤的过滤器，虽然可以使用过滤器，例如聚乙烯树脂过滤器、聚丙烯树脂过滤器、氟化树脂过滤器或尼龙树脂过滤器，但对过滤器没有特别限制。
另外，当本发明的光固化性组合物用于制造半导体集成电路时，为了不阻害其操作性，优选尽可能抑制金属杂质混合入组合物。因此，在本发明的光固化性组合物中，包含于组合物的金属杂质的浓度优选设置至10ppm以下并且更优选设置至100ppb以下。
膜的制造方法
下一步，将要描述根据本发明的膜的制造方法。图1包括示出根据本发明的实施方案的膜的制造方法的一个实例的示例性截面图。在图1中示出的制造方法包括以下步骤[1]至[5]或[6]。
[1]配置步骤(涂布步骤，图1(a))
[2]模具接触步骤(图1(b1)和1(b2))
[3]光照射步骤(图1(c))
[4]脱模步骤(图1(d))
[5]残膜(residual film)除去步骤(图1(e))
[6]基板加工步骤(图1(f))
在以上制造方法中，残膜除去步骤(图1(e))是通过蚀刻将在脱模步骤(图1(d))之后残留在光固化性组合物的凹部的膜(残膜)除去，从而在图案的凹部处露出作为要加工的被加工基材的基板2的表面的步骤。当将光学元件或电子组件使用以上制造方法来形成时，优选进行残膜除去步骤(图1(e))。
在本发明中，在接触步骤中模具与光固化性组合物接触的表面优选由石英形成。石英具有对例如氧化乙烯、氧化丙烯或羟基等的极性官能团的优选的亲和性。因此，特别地，当用作组分(D)的氟系表面活性剂包含于本发明的光固化性组合物时，层状结构可能形成在模具和光固化性组合物之间的界面处。
另外，在本发明中，光照射步骤是将光固化性组合物使用光隔着模具照射的步骤，并且用于该步骤的模具具有形成了凹凸图案的表面。通过使用该模具，可以形成具有与模具表面的凹凸图案对应的图案形状的膜。
通过步骤[1]至[6](或步骤[1]至[5])，光固化物12可以获得自光固化性组合物1，另外，也可以获得具有光固化物12的电子组件(电子器件)或光学组件。下文中，将要详细地描述各个步骤。.
配置步骤(图1(a))
首先，将光固化性组合物1配置(施涂)在基板2上从而形成涂布膜(图1(a))。上述光固化性组合物是本发明的光固化性组合物。
作为与基板2对应的被加工基板，虽然通常使用硅片，但基板不限于此。除了硅片以外，在用于半导体器件基板的已知材料，例如铝、钛-钨合金、铝-硅合金、铝-铜-硅合金、氧化硅和氮化硅中，可以任意选择适当的材料。另外，作为要使用的基板(被加工基板)，具有通过例如硅烷偶联处理、硅氮烷处理或有机薄膜的形成等的表面处理改善的与光固化性组合物的粘合性的基板也可以用作被加工基板。
作为将本发明的光固化性组合物配置在被加工基板上的方法，例如，可以使用的是，喷墨法、浸涂法、气刀涂布法、帘式涂布法、线棒涂布法、凹版涂布法、挤出涂布法、旋涂法或狭缝扫描法。另外，虽然形状转印层(涂布膜)的膜厚度根据其用途而改变，但厚度在例如0.01至100.0μm的范围内。
模具接触步骤(图1(b1)和1(b2))
下一步，进行将模具与在先前步骤(配置步骤)中形成的光固化性组合物1的涂布膜接触的步骤(模具接触步骤，图1(b1)和1(b2))。另外，因为模具3可以被认为是印章(seal)，该步骤也可以称为压印步骤(sealing step)。在该步骤中，当将模具3与光固化性组合物1(形状转印层)接触(图1(b1))时，涂布膜11(一部分)填充入在模具3中形成的微细图案的凹部(图1(b2))。
鉴于以下步骤(光照射步骤)，用于模具接触步骤的模具3需要由光透明性材料形成。作为形成模具3的材料，特别地，例如，可以提及玻璃、石英、例如PMMA或聚碳酸酯树脂等的光透明性树脂、透明金属沉积膜、例如聚(二甲基硅氧烷)等的柔软膜、光固化膜、和金属膜。
作为用于根据本发明的光固化物的制造方法的模具3，也可以使用通过表面处理来加工的模具，其中进行所述表面处理从而改善光固化性组合物1和模具3的表面之间的脱离性能。作为表面处理方法，例如，可以提及的是，其中在进行模具接触步骤之前，脱模剂层通过将脱模剂施涂至模具的表面上而形成的方法。作为施涂至模具的表面的脱模剂，例如，可以提及硅酮系脱模剂、氟系脱模剂、聚乙烯系脱模剂、聚丙烯系脱模剂、石蜡系脱模剂、褐煤蜡系脱模剂和巴西棕榈蜡系脱模剂。例如，也可以优选使用市售涂布型脱模剂，例如Daikin Industries Ltd.制造的OPTOOL DSX。另外，脱模剂可以单独使用，或其至少两种可以以组合使用。上述那些中，特别地，氟化脱模剂是优选的。
在模具接触步骤中，如图1(b1)中示出，当将模具3与光固化性组合物1接触时，虽然对要施加至光固化性组合物1的压力没有特别限制，但压力通常在0.1至100MPa范围。在上述范围内，压力优选0.1至50MPa，更优选0.1至30MPa，并且甚至更优选0.1至20MPa。另外，虽然对在接触步骤中模具3与形状转印层1接触需要的时间没有特别限制，但时间通常是1至600秒，优选1至300秒，更优选1至180秒，并且甚至更优选1至120秒。
另外，模具接触步骤可以在空气气氛、减压气氛和惰性气体气氛的任何中进行。因为可以抑制氧和水分对光固化反应的影响，减压气氛和惰性气体气氛是优选的。当接触步骤在惰性气体气氛中进行时，作为要使用的气体的具体实例，例如，可以提及氮气、二氧化碳、氦气、氩气、各种类型的氟化气体、或其混合气体。当该步骤(接触步骤)在包括空气气氛的特定气体气氛中进行时，优选的压力是0.0001至10大气压。另外，因为可以抑制氧和水分对光固化反应的影响，减压气氛或惰性气体气氛是优选的。
光照射步骤(图1(c))
下一步，将涂布膜11使用光隔着模具3照射(图1(c))。在该步骤中，将涂布膜11通过照射光来固化从而形成光固化物12。在该步骤中，在本发明的光固化性组合物中，首先，固化用作组分(A)的聚合性化合物，接着，气体产生自用作组分(C)的感光性气体产生剂。为了循序进行上述这些反应，优选的是，适当地控制反应条件以致包含于光固化性组合物1的用作组分(A)的聚合性化合物的聚合反应速率快于用作组分(C)的感光性气体产生剂的气体产生反应速率。当聚合反应速率快于气体产生反应速率时，在聚合性化合物固化之后，气体主要集中在模具和光固化性组合物之间的界面处，结果，可以获得脱模力降低效果。然而，当气体产生反应速率快于聚合反应速率时，例如，气泡形成可以不利地在光固化物12中发生，和/或脱模力降低效果在一些情况下不会不良地获得。
虽然将照射形成涂布膜11的光固化性组合物1的光根据光固化性组合物1的敏感波长来选择，但特别地，例如，将具有波长为150至400nm的紫外线、x射线、或电子束优选适当地选择来使用。另外，作为市售的固化助剂(光聚合引发剂)，存在具有对紫外线的敏感性的很多化合物。因此，特别地，照射光固化性组合物1的光(照射光4)优选紫外线。作为产生紫外线的光源，例如，虽然可以提及高压汞灯、超高压汞灯、低压汞灯、深-UV灯、碳弧灯、化学灯、金属卤化物灯、氙灯、KrF准分子激光、ArF准分子激光和F2准分子激光，但超高压汞灯是特别优选的。另外，要使用的光源数可以是一个或至少两个。另外，当进行光照射时，可以整个地或部分地照射光固化性组合物1的表面。
另外，当形状转印层也通过热来固化时，热固化也可以进行。当热固化进行时，对加热气氛和加热温度等没有特别限制。例如，在惰性气体气氛或减压气氛中，光固化性组合物1可以加热至40℃至200℃的范围。另外，当加热形状转印层1时，例如，可以使用热板、烤箱或炉。
脱模步骤(图1(d))
下一步，进行将模具3与光固化物12脱离的步骤(脱模步骤，图1(d))，从而在基板2上形成具有预定的图案形状的固化膜。该步骤(脱模步骤)是将模具3与光固化物12剥离的步骤，并且将在先前步骤(光照射步骤)中形成的模具3的微细图案的反向图案作为光固化物12的图案来获得。
只要光固化物12的一部分没有在剥离时物理地破损，则对将模具3与光固化物12脱离的方法没有特别限制，并且对各种条件等也没有特别限制。为了剥离模具3，例如，在固定被加工基板(基板2)的同时，可以除去模具3以致与被加工基板分离；在固定模具3时，可以除去被加工基板以致与模具3分离；或模具3和被加工基板可以同时以相反的方向牵拉。
残膜除去步骤(图1(e))
虽然在以上脱模步骤中获得的固化膜具有预定的图案形状，但膜可以在在除了形成了该图案形状以外的区域内一些情况下部分地作为残膜保留。因此，对于以上图案形状，在要除去光固化物的区域内进行除去残留的光固化膜(残膜)的步骤(残膜除去步骤，图1(e))。
作为残膜的除去方法，例如，可以提及方法：将残留在光固化物12的凹部中的膜(残膜)通过蚀刻除去从而露出在图案凹部中的基板2的表面。
当使用蚀刻时，对其具体方法没有特别限制，并且可以进行已知方法，例如干法蚀刻。干法蚀刻可以使用已知的干法蚀刻设备来进行。另外，用于干式蚀刻的气源适当地依照要蚀刻的膜的元素组成选择，并且例如，可以使用含有氧原子的气体，例如O2、CO或CO2；惰性气体，例如He、N2或Ar；含氯气体(chlorine gas)，例如Cl2或BCl3；和气体，例如H2或NH3。另外，上述那些气体可以以组合使用。
在包括以上步骤[1]至[5]的制造方法中，可以获得具有期望的凹凸图案形状(来源自模具3的凹凸图案形状的图案形状)的光固化物12。另外，当将基板2使用该光固化物12来加工时，要下述的基板的加工步骤可以在一些情况下进一步进行。
另一方面，因此获得的光固化物12也可以用作光学组件(包括光固化物12用作光学组件的一部分的情况)。在上述情况下，可以提供至少包括基板2和配置在其上的光固化物12的光学组件。
基板加工步骤(图1(f))
具有通过本发明的制造方法获得的期望的凹凸图案形状的光固化物12可以用作，例如，包含于由例如LSI、体系LSI、DRAM、SDRAM、RDRAM或D-RDRAM等的半导体元件表示的电子组件的层间绝缘膜。另外，在半导体-元件的制造中，该光固化物12也可以用作抗蚀膜。
当光固化物12用作抗蚀膜时，特别地，如图1(f)中示出，在其表面在蚀刻步骤中露出的基板的一部分(由附图标记20表示的区域)上，进行蚀刻或离子注入。在此情况下，光固化物12用作掩膜。因此，基于光固化物12的图案形状的电路结构(未示出)形成在基板2中。因此，可以制造用于半导体元件等的具有电路的基板。另外，当电子构件设置在该具有电路的基板上时，可以形成电子组件。
另外，当形成具有电路的基板或电子组件时，虽然光固化物的图案可以最后从加工的基板除去，但使光固化物保留为形成元件的构件的结构也是优选的。
实施例
下文中，虽然将要参考实施例详细地描述本发明，但本发明的技术范围不限于以下实施例。
合成例1
六(氧化乙烯)单甲基醚12-(2-重氮基-1,2-萘醌-5-磺酰基氨基)十二酸酯(NIT- 29)的合成
将由下式表示的六(氧化乙烯)单甲基醚12-(2-重氮基-1,2-萘醌-5-磺酰基氨基)十二酸酯(NIT-29)使用公开于非专利文献2的合成方法来合成。产率是86％。
[化学式4]
实施例1
(1)光固化性组合物
首先，将以下组分(A)、(B)、(C)和(D)一起共混从而获得混合溶液。
(1-1)组分(A)：总计94重量份
<A-1>异冰片基丙烯酸酯(商品名：IB-XA，kyoeisha Chemical Co.,Ltd.制造)：61.6重量份
<A-2>(2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊环-4-基)甲基丙烯酸酯(商品名：MEDOL-10，Osaka Organic Chemical Industry Ltd.制造)：10重量份
<A-3>己二醇二丙烯酸酯(商品名：Biscoat#230，Osaka Organic ChemicalIndustry Ltd.制造)：22.4重量份
(1-2)组分(B)：1重量份
Irgacure 369(Ciba Japan制造)
(1-3)组分(C)：10重量份
NIT-29：10重量份
(1-4)组分(D)：1.1重量份
十五(乙二醇)单-1H,1H,2H,2H-全氟辛基醚(F(CF2)6CH2CH2(OCH2CH2)15OH，DIC制造)：1.1重量份
下一步，将因此获得的混合溶液使用具有过滤器筛孔尺寸为5nm的超高分子量聚乙烯过滤器来过滤。因此，制备了该实施例(实施例1)的光固化性组合物(a-1)。
接着，通过以下方法，形成了光固化物。
将16μl的量的光固化性组合物(a-1)使用微量移液管滴加在其上形成具有厚度60nm的粘合促进层作为粘合层的34英寸的硅片上。
(2)模具接触步骤和光照射步骤
下一步，将没有表面处理并且没有形成图案的石英模具(长度：40mm，宽度：40mm)与上述硅片接触。在该步骤中形成的光固化性组合物(a-1)的膜厚度是大约10μm。
接着，在石英模具与光固化性组合物接触30秒之后，将光固化性组合物使用UV光源隔着石英模具由UV光照射。另外，在该实施例中，作为UV光源，使用UV光源，EXECURE 3000(HOYA CANDEO OPTRONICS CORPORATION制造)，其具有200-W汞-氙灯和选择地发射具有波长313nm的光的带通滤波器。在石英模具下的照度在313nm的波长下是20mW/cm2。
当光照射步骤在上述条件下进行时，将在照射时来源自在抗蚀剂和模具之间产生的间隙的干涉图案越过石英掩膜由裸眼观察并且干涉图案在从开始光照射60秒内遍布满掩膜。此时，光照射结束。
(3)脱模步骤
下一步，将石英模具在0.5mm/s的速度下提起从而与光固化物脱离。
通过上述步骤，获得了光固化物。
(4)光固化物的评价
下一步，对因此获得的光固化物进行下述测量，并且评价其性能。
(4-1)脱模力的测量
将在脱模步骤中模具与光固化物脱离需要的力使用负载传感器(压缩张力/压力负载传感器LUR-A-200NSA1(Kyowa Electronic Instruments Co.,Ltd.制造)测量。根据测量结果，脱模力是至多20N以下(噪声水平)并且小于形成自要后述的比较例2中的光固化性组合物(b-2)的光固化物的脱模力。另外，在该实施例中，在光照射步骤中在掩膜的前表面产生的干涉图案与比较例2相比较快地观察到。因此，因为光照射步骤需要的时间可以降低，证明本发明的膜的制造方法具有高生产性。
实施例2
除了在实施例1中，将9.28重量份的由下式表示的NIT-40用作组分(C)以外，通过与实施例1相似的方法来制备光固化性组合物(a-2)。
[化学式5]
另外，除了在实施例1中，使用光固化性组合物(a-2)代替使用光固化性组合物(a-1)以外，将光固化性组合物通过与实施例1相似的方法使用UV射线来照射。将在照射时来源自在抗蚀剂和模具之间产生的间隙的干涉图案越过石英掩膜由裸眼观察并且干涉图案在从开始光照射240秒内遍布满掩膜。
另外，在从开始光照射240秒之后，当以实施例1相似的方式来测量脱模力时，脱模力是至多20N以下(噪声水平)并且低于在要后述的比较例3和4中获得的那些。
实施例3
除了在实施例1中，将6.44重量份的由下式表示的NIT-42用作组分(C)以外，通过与实施例1相似的方法来制备光固化性组合物(a-3)。
[化学式6]
另外，除了在实施例1中，使用光固化性组合物(a-3)代替使用光固化性组合物(a-1)以外，将光固化性组合物通过与实施例1相似的方法使用UV射线来照射。将在照射时来源自在抗蚀剂和模具之间产生的间隙的干涉图案越过石英掩膜由裸眼观察并且干涉图案在从开始光照射240秒内遍布满掩膜。
另外，在从开始光照射240秒之后，当以实施例1相似的方式来测量脱模力时，脱模力是至多20N以下(噪声水平)并且低于在要后述的比较例3和4中获得的那些。
比较例1
除了在实施例1中，将2重量份的2-重氮基-1,2-萘醌-5-磺酸对甲酚酯(PC-5，ToyoGosei Co.Ltd.制造)用作组分(C)以外，通过与实施例1相似的方法来制备光固化性组合物(b-1)。
另外，除了在实施例1中，使用光固化性组合物(b-1)代替使用光固化性组合物(a-1)以外，通过与实施例1相似的方法来获得光固化物。然而，在该比较例中，虽然在光照射步骤中，将光固化性组合物(形成自其的膜)使用光照射600秒，但没有观察到与实施例1相似的干涉图案。
在该比较例中，当通过与实施例1相似的方法来测量脱模力时，脱模力是165N。
比较例2
除了在实施例1中，将15重量份的2,2'-偶氮二-(N-丁基-2-甲基丙酰胺)(VAm-110，Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)用作组分(C)以外，通过与实施例1相似的方法来制备光固化性组合物(b-2)。
另外，除了在实施例1中，使用光固化性组合物(b-2)代替使用光固化性组合物(a-1)以外，通过与实施例1相似的方法来获得光固化物。在该比较例中，在光照射步骤中，将光固化性组合物(形成自其的膜)使用光照射600秒。结果，虽然在从开始光照射之后60秒没有观察到，但从开始光照射之后600秒，在整个表面观察到与实施例1相似的干涉图案。
在该比较例中，当通过与实施例1相似的方式在开始光照射之后600秒进行脱模力的测量时，脱模力是至多20N以下(噪声水平)。
比较例3
在比较例2中，将光固化性组合物通过与实施例1相似的方法使用UV射线照射240秒。没有观察到与实施例相似的干涉图案。在该比较例中，当通过与实施例1相似的方法在开始光照射之后240秒来测量脱模力时，脱模力是111N。
比较例4
除了在实施例1中，不添加组分(D)以外，通过与实施例1相似的方法来制备光固化性组合物(b-4)。
将光固化性组合物通过与实施例1相似的方法使用UV射线照射240秒。没有观察到与实施例相似的干涉图案。在该比较例中，当通过与实施例1相似的方法在开始光照射之后240秒来测量脱模力时，脱模力是187N。
虽然参考示例性实施方法已经描述了本发明，但要理解的是本发明不限于公开的示例性实施方案。权利要求的范围符合最广泛的解释从而涵盖全部的这样的修改和等同的结构和功能。
本申请要求2012年10月9日提交的日本专利申请No.2012-223988的权益，在此将其整体作为参考并入。

Claims (15)

1.一种光固化性组合物，其特征在于，所述光固化性组合物在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜，所述光固化性组合物包括：
聚合性化合物；
光聚合引发剂；和
具有光刺激响应部位的感光性气体产生剂，
其中所述感光性气体产生剂具有包括至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体，
所述光固化性组合物进一步包括氟系表面活性剂。
2.根据权利要求1所述的光固化性组合物，其中所述感光性气体产生剂包括由以下通式(2)表示的化合物：
RG1-XA-(O-RA-)n-XB-RG1' (2)
其中，在所述式(2)中，RG1和RG1'各自表示用作所述光刺激响应部位的单价官能团并且任选地彼此相同或不同；XA和XB各自表示二价连接基团并且任选地彼此相同或不同；RA表示二价亚烷基；并且n是1以上的整数。
3.根据权利要求1所述的光固化性组合物，其中所述感光性气体产生剂包括由以下通式(3)表示的化合物：
YA(-RA-O)n-XA-RG2-XB-(O-RB-)mYB (3)
其中，在所述式(3)中，RG2表示用作所述光刺激响应部位的二价官能团；RA和RB各自表示二价亚烷基并且任选地彼此相同或不同；m和n各自是1以上的整数；XA和XB各自表示二价连接基团并且任选地彼此相同或不同；并且YA和YB各自表示单价取代基并且任选地彼此相同或不同。
4.根据权利要求1所述的光固化性组合物，其中所述感光性气体产生剂包括由以下通式(5)表示的化合物：
其中，在所述式(5)中，R1和R2各自表示烷基或氢原子并且任选地彼此相同或不同，并且n是1以上的整数。
5.一种光固化性组合物，其特征在于，所述光固化性组合物在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜，所述光固化性组合物包括：
聚合性化合物；
光聚合引发剂；和
具有光刺激响应部位的感光性气体产生剂，
其中所述感光性气体产生剂具有包括至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体，
所述光固化性组合物进一步包括氟系表面活性剂，
其中所述感光性气体产生剂与所述聚合性化合物的总量的配混比是10重量％以上，并且
所述氟系表面活性剂与所述聚合性化合物的总量的配混比是0.005至3重量％。
6.根据权利要求5所述的光固化性组合物，其中所述感光性气体产生剂包括由以下通式(1)表示的化合物：
RG1-XA-(O-RA-)nYA (1)
其中，在所述式(1)中，RG1表示用作所述光刺激响应部位的单价取代基；XA表示二价连接基团；RA表示二价亚烷基；n是1以上的整数；并且YA表示单价官能团。
7.根据权利要求5所述的光固化性组合物，其中所述烯化氧链是氧化乙烯链。
8.根据权利要求5所述的光固化性组合物，其中所述光刺激响应部位包括2-重氮基-1,2-萘醌基。
9.根据权利要求5所述的光固化性组合物，其中所述感光性气体产生剂包括由以下通式(4)表示的化合物：
其中，在所述式(4)中，R1和R2各自表示烷基或氢原子并且任选地彼此相同或不同，并且n是1以上的整数。
10.一种膜的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
将根据权利要求1至9任一项所述的光固化性组合物配置在被加工基材上的配置步骤；
将所述光固化性组合物与模具接触的模具接触步骤；
将所述光固化性组合物使用光照射的光照射步骤；和
在所述光照射步骤之后，将所述模具与所述光固化性组合物脱离的脱模步骤，从而在被加工基材上获得具有预定的图案形状的膜。
11.根据权利要求10所述的膜的制造方法，其中所述膜具有厚度为10μm以下。
12.根据权利要求10所述的膜的制造方法，其中与所述光固化性组合物接触的所述模具具有包括石英的表面。
13.根据权利要求10所述的膜的制造方法，其中所述光照射步骤是将所述光固化性组合物使用光隔着所述模具照射的步骤。
14.一种具有电路的基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括；
基于通过根据权利要求10至13任一项所述的膜的制造方法获得的膜的图案形状来进行蚀刻或离子注入；和
基于所述膜的图案形状在被加工基板中形成电路结构。
15.一种光学组件，其特征在于，其包括：
基材；和
配置在所述基材上的具有预定的图案形状的膜，
其中所述膜是通过固化根据权利要求1至9任一项所述的光固化性组合物获得的膜。
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