CN104711551A - 双层低折射率减反射膜的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种双层低折射率减反射膜的制备方法,其制备方法的步骤如下:⑴酸性催化的SiO2溶胶的制备;⑵TiO2溶胶的制备;⑶玻璃基片的准备清洗;⑷薄膜的制备。本发明利用溶胶-凝胶酸催化法和浸渍提拉法制备一层与玻璃基材结合牢固的SiO2低折射率减反膜,再在减反膜表面镀一层适当厚度的TiO2薄膜。这种兼有耐磨和自洁性能的SiO2/TiO2双层减反膜,在太阳能领域具有重要的实用价值。
Description
技术领域
本发明属于减反射膜领域,尤其是一种双层低折射率减反射膜的制备方法。
背景技术
目前减反膜的制备方法主要有真空蒸镀磁、控溅射法、溶胶凝胶法及化学气相沉积等。溶胶-凝胶法(sol-gel)自80年代以来,就用来制备多种薄膜,在减反膜的制备上也得到了广泛应用。它的主要优点是原始材料是分子级的材料,纯度较高,组成成分较好控制,反应温度低,具有流变特性,可控制孔隙度,容易制备各种形状;工艺较简单,能同时进行双面镀膜;对于大面积基底的镀膜来说,成本较低。因此国内外近年来都致力于采用溶胶-凝胶法进行减反膜的镀制,特别是SiO2溶胶-凝胶减反膜结构可控、折射率可调、材料易于获取而被广泛应用。溶胶的制备和涂膜方法的选择决定了薄膜的质量。纳米SiO2薄膜具有低折射率、低价电性、化学稳定性和耐酸碱腐蚀等优良性能,且溶胶制备简单,因此广泛应用于多层膜和单层膜的制备中,是目前研究最多、应用最广的减反膜。但是,由传统方法制备的纳米多孔SiO2薄膜孔隙率大、表面能高,容易吸附周围环境中的悬浮物,使用一段时间后,透光率明显下降,并且具有机械强度差、使用寿命短等缺陷,从而大大限制了它的实际应用。近年来,国内外已经报道了一些改善SiO2薄膜机械强度,提高薄膜使用寿命的方法,沈军等用膜系设计软件设计了λ/4~λ/2的W型双层SiO2减反射薄膜,优化了薄膜的光学常量,提高了薄膜的机械强度,但该方法制得的减反膜不具有自洁功能,不适合野外环境的应用。杨辉等将锐钛矿晶型TiO2溶胶粒子与SiO2溶胶混在一起镀膜,用该方法制得的薄膜虽然有自洁功能,但光学透过率较差,不具有很好的减反性能。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种双层低折射率减反射膜的制备方法,该制备方法简单易行,透光率高、具有良好的耐磨性以及自洁性。
本发明解决其技术问题是通过以下技术方案实现的:
一种双层低折射率减反射膜的制备方法,其制备方法的步骤如下:
⑴、将无水乙醇、PH=1的盐酸标准溶液、去离子水、正硅酸乙酯按摩尔比配比,混合搅拌均匀后,在稳定环境下静置陈化5-7天后,制得酸性催化条件下的SiO2溶胶;
⑵、将溶剂无水乙醇、反应物去离子水、催化剂醋酸、前驱体钛酸丁酯按摩尔比依次加入到烧杯中,密封磁力搅拌4h后混合均匀,于室温下静置老化5~7天后备用。用无水乙醇对上述TiO2溶胶按不同比例进行稀释,通过改变TiO2溶胶体的浓度,来调节TiO2薄膜覆盖在SiO2膜上的厚度;
⑶、将超白玻璃基片放入洗液中充分洗涤后,再分别用无水乙醇和去离子水经超声波充分洗涤,用氮气吹干,放入烘箱中烘干后,置于干燥器中备用;
⑷、在相对湿度环境<50%的清洁环境下,采用CHEMATDIPMASTER200浸渍提拉法在洁净的玻璃基片上先镀一层酸催化SiO2膜,于80℃烘箱中烘30min后再镀一层TiO2薄膜,提拉速度依据所需厚度在6~12inch/min间调节,最后将制备好的样品经过200℃热处理1小时后得到双层低折射率减反射膜成品。
本发明的优点和有益效果为:
本发明利用溶胶-凝胶酸催化法和浸渍提拉法制备一层与玻璃基材结合牢固的SiO2低折射率减反膜,再在减反膜表面镀一层适当厚度的TiO2薄膜。这种兼有耐磨和自洁性能的SiO2/TiO2双层减反膜,在太阳能领域具有重要的实用价值。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步详述,以下实施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本发明的保护范围。
一种双层低折射率减反射膜的制备方法,其制备方法的步骤如下:
⑴、将无水乙醇、PH=1的盐酸标准溶液、去离子水、正硅酸乙酯按摩尔比配比,混合搅拌均匀后,在稳定环境下静置陈化5-7天后,制得酸性催化条件下的SiO2溶胶;
⑵、将溶剂无水乙醇、反应物去离子水、催化剂醋酸、前驱体钛酸丁酯按摩尔比依次加入到烧杯中,密封磁力搅拌4h后混合均匀,于室温下静置老化5~7天后备用。用无水乙醇对上述TiO2溶胶按不同比例进行稀释,通过改变TiO2溶胶体的浓度,来调节TiO2薄膜覆盖在SiO2膜上的厚度;
⑶、将超白玻璃基片放入洗液中充分洗涤后,再分别用无水乙醇和去离子水经超声波充分洗涤,用氮气吹干,放入烘箱中烘干后,置于干燥器中备用;
⑷、在相对湿度环境<50%的清洁环境下,采用CHEMATDIPMASTER200浸渍提拉法在洁净的玻璃基片上先镀一层酸催化SiO2膜,于80℃烘箱中烘30min后再镀一层TiO2薄膜,提拉速度依据所需厚度在6~12inch/min间调节,最后将制备好的样品经过200℃热处理1小时后得到双层低折射率减反射膜成品。
本发明中TiO2作为一种重要的半导体材料在气体传感器、太阳能电池、光催化剂等许多方面得到了广泛应用,它的自洁功能还被应用到不同类型的表面上,诸如商用的瓷砖、玻璃、塑料等材料。TiO2薄膜的自洁功能来源于两个方面:光催化和光致超亲水性,吸附在TiO2薄膜的表面有机污染物可以在太阳光照射下被降解,由于TiO2薄膜的光致超亲水性,污染物和灰尘可以被雨水冲洗掉。但由TiO2薄膜折射率一般在2.2~2.7,即使调整镀膜条件,也很难将TiO2折射率降低到1.7以下,远高于SiO2薄膜1.3左右的折射率,从而会严重降低玻璃表面光线的透过率,因此,控制TiO2薄膜的厚度,调整薄膜的折射率,在玻璃表面制备具有较高可见光透过率,同时又兼有耐磨和自洁性能的SiO2/TiO2减反膜,在太阳能领域具有重要的实用价值。根据薄膜光学原理,考虑到W型膜系更加优越的宽带减反射性能,选用了λ/4-λ/2的W型膜系。以酸性催化的SiO2(n=1.416,在632.8nm处)为低折射率材料,TiO2(n=1.95,在632.8nm处)为高折射率材料。引入堆积密度的概念模拟了溶胶-凝胶法制备的SiO2、TiO2薄膜的折射率.设定SiO2薄膜、TiO2薄膜的厚度d1、d2。初值分别为89.75nm、124.12nm(n1d1=λ/4,n2d2=λ/2,中心波长选用510nm,nl,n2分别为SiO2、TiO2。对510nm波长的折射率),使用膜系设计软件对膜系进行拟合优化.最后得到优化结果为:93.55nm,125.45nm。
本发明需要说明是:
1)采用溶胶-凝胶酸催化以及浸渍提拉法制备的用于太阳能电池表面封装玻璃的SiO2/TiO2双层减反膜,减反膜反射率峰值低于0.1%,在400~800nm波长范围内的平均透射率增加了6%以上。具备了实际使用的减反性能,且随着外层TiO2厚度的增加,折射率不断提高,其双层减反膜的透光率逐渐变小。
2)表面增镀TiO2的SiO2/TiO2双层减反膜有明显的光催化效应,光催化降解2h后可将5mg/L的甲基橙溶液降解43.6%,可以通过光催化降解效应实现SiO2/TiO2双层减反膜的自洁功能。
3)表面增镀TiO2的SiO2/TiO2双层减反膜表面平整,性能稳定,粗糙度小且结构致密,经过上百次的擦拭后透光率变化很小,具有良好的耐磨擦性能,薄膜的机械性能非常优异,具有很好的应用潜力。
Claims (1)
1.一种双层低折射率减反射膜的制备方法,其特征在于:该制备方法的步骤如下:
⑴、将无水乙醇、PH=1的盐酸标准溶液、去离子水、正硅酸乙酯按摩尔比配比,混合搅拌均匀后,在稳定环境下静置陈化5-7天后,制得酸性催化条件下的SiO2溶胶;
⑵、将溶剂无水乙醇、反应物去离子水、催化剂醋酸、前驱体钛酸丁酯按摩尔比依次加入到烧杯中,密封磁力搅拌4h后混合均匀,于室温下静置老化5~7天后备用。用无水乙醇对上述TiO2溶胶按不同比例进行稀释,通过改变TiO2溶胶体的浓度,来调节TiO2薄膜覆盖在SiO2膜上的厚度;
⑶、将超白玻璃基片放入洗液中充分洗涤后,再分别用无水乙醇和去离子水经超声波充分洗涤,用氮气吹干,放入烘箱中烘干后,置于干燥器中备用;
⑷、在相对湿度环境<50%的清洁环境下,采用CHEMATDIPMASTER200浸渍提拉法在洁净的玻璃基片上先镀一层酸催化SiO2膜,于80℃烘箱中烘30min后再镀一层TiO2薄膜,提拉速度依据所需厚度在6~12inch/min间调节,最后将制备好的样品经过200℃热处理1小时后得到双层低折射率减反射膜成品。
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