CN104700721A - 一种显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板及其制造方法、显示装置，属于半导体技术领域。所述显示面板包括透明基板、非黑色光阻层、和黑色光阻层，所述透明基板划分为边框区和显示区，所述边框区围绕所述显示区设置，所述非黑色光阻层和黑色光阻层依次设于所述透明基板的所述边框区上，所述黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设有漫反射结构。本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，可以降低黑色光阻层的反射率，使得人眼看到的黑色光阻层的颜色变浅，从而可以降低非黑色光阻层的厚度。

Description

一种显示面板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
背景技术
平板显示屏在人们的生活中随处可见，其中的一个重要组成部分就是显示面板。现有的显示面板通常包括透明基板和遮蔽层，透明基板上划分有显示区和边框区，边框区围绕显示区设置，遮蔽层设于透明基板的边框区，该遮蔽层主要用于遮蔽信号线并起到装饰作用。
为了得到不同的产品外观，边框区需要呈现黑色或非黑色。如果遮蔽层是采用黑色光阻在透明基板上形成，那么边框就为黑色。而如果遮蔽层设置为包括黑色光阻层和非黑色光阻层，且非黑色光阻层设置在黑色光阻层与透明基板之间，则非黑色光阻层可以阻挡黑色光阻层的颜色透出来，从而使得边框区呈现非黑色。
在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：
若非黑色光阻层不能达到一定的厚度，则边框区呈现的颜色将偏暗，尤其是白色边框将会发青，影响美观。而若非黑色光阻层的厚度足以阻挡黑色光阻层的颜色透过，则会使得遮蔽层厚度过大。
发明内容
为了解决现有技术的问题，本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置，其可以在保证边框显示非黑色的同时，降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。所述技术方案如下：
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括透明基板、非黑色光阻层、和黑色光阻层，所述透明基板划分为边框区和显示区，所述边框区围绕所述显示区设置，所述非黑色光阻层和黑色光阻层依次设于所述透明基板的所述边框区上，所述黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设有漫反射结构。
其中，所述漫反射结构为形成于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面的多个凸起结构。
可选地，所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为一体结构，或者，所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为两层独立的结构。
可选地，所述多个凸起结构构成规则的图案或不规则的图案。
优选地，所述规则的图案或不规则的图案为纳米级图案。
可选地，所述漫反射结构为设置于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面上的反光颗粒。
可选地，所述显示面板为一体化触控面板，所述一体化触控面板还包括电极层，所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
优选地，所述漫反射结构的厚度为0.3μm-0.7μm。
优选地，所述非黑色光阻层的厚度为10μm-13μm。
更优选地，所述非黑色光阻层的厚度为10μm-12μm。
优选地，所述显示面板还包括形成在所述电极层上的保护层。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括前述第一方面提供的显示面板。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法，所述制造方法包括：
提供透明基板；
在所述透明基板上形成非黑色光阻层；
在所述非黑色光阻层上形成漫反射结构；
在所述非黑色光阻层上形成黑色光阻层。
优选地，所述漫反射结构采用纳米压印法或者激光干涉光刻法形成。
可选地，所述制造方法还包括：
在所述透明基板上形成电极层，所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
优选地，所述制造方法还包括：
在所述电极层上形成保护层。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例一提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图2是本发明实施例一提供的显示面板的截面示意图；
图3a显示了现有的显示面板在设定的入射条件下的反射效果；
图3b显示了本发明实施例的显示面板在与图3a相同的入射条件下的反射效果；
图3c显示了现有的显示面板在图3a采用的入射条件下人眼看到的颜色效果；
图3d显示了本发明实施例的显示面板在与图3a相同的入射条件下人眼看到的颜色效果；
图4是本发明实施例二提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图5是本发明实施例二提供的显示面板的结构示意图；
图6为本发明实施例三提供的显示面板的截面示意图；
图7是本发明实施例四提供的显示面板的制造方法的流程图；和
图8a-8d是本发明实施例四提供的采用纳米压印法制造漫反射结构的制造过程图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
实施例一
本发明实施例提供了一种显示面板，参见图1，该显示面板包括透明基板1，该透明基板1划分为边框区1a和显示区1b，边框区1a围绕所述显示区1b设置。
结合图2，图2为图1所示显示面板的截面示意图，如图2所示，该显示面板还包括非黑色光阻层2、和黑色光阻层3，非黑色光阻层2和黑色光阻层3依次设于透明基板1的边框区1a上，黑色光阻层2和非黑色光阻层3的交接面设有漫反射结构5。
图3a和图3b分别显示了本发明实施例中的显示面板的遮蔽层和现有的显示面板的遮蔽层对从透明基板侧入射的光线的反射情况，光线入射条件(包括入射角度和光线强度等)相同。其中，现有的显示面板与本实施例的显示面板的结构基本相同，差别仅在于现有的显示面板的非黑色光阻层2和黑色光阻层3之间没有设置漫反射结构。从图3a中可以看出，在现有的显示面板中，从透明基板1入射的光线A1到达非黑色光阻层2和黑色光阻层3的交接面40时发生了反射，反射光B1的出射方向相同，从而人眼看到的黑色光阻层的颜色较深，如图3c所示；而从3b可以看出，在本发明实施例中，从透明基板1入射的光线A2到达非黑色光阻层2和黑色光阻层3之间的漫反射结构5时，形成了漫反射，即反射光B2的方向不同，从而人眼看到的黑色光阻层的颜色明显变浅，如图3d所示。
如前所述，本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。
需要说明的是，本实施例的显示面板还可以包括显示面板的其他通用结构，例如，像素电极、阵列基板等，本发明对此并不做限制，其具体结合方式均可以采用现有方式，故在此省略详细描述。
在本实施例中，漫反射结构5为形成于非黑色光阻层的与黑色光阻层相对的表面的多个凸起结构。容易知道，在其他实施例中，漫反射结构5还可以是设置于非黑色光阻层的与黑色光阻层相对的表面上的反光颗粒。
在本实施例中，多个凸起结构可以构成规则或不规则的图案，例如，由多个相互平行的三角形条状凸起结构构成的规则图案。图案优选为纳米级图案，这里的纳米级图案，是指凸起结构自身的尺寸为纳米级且凸起结构之间的距离为纳米级。采用纳米级图案可以获得更好的漫反射效果，从而可能进一步降低非黑色光阻层的厚度。
在其他实施例中，多个凸起结构也可以构成不规则的图案，只要能够对外界光线形成漫反射效果即可。
可选地，漫反射结构5与非黑色光阻层2可以为一体结构，例如，可以采用光刻的方法，在非黑色光阻层2的表面直接形成多个凸起结构。由于漫反射结构采用的光刻工艺与黑色光阻层3和非黑色光阻层2的制备工艺相同，使得遮蔽层的制备工艺简单。
可以理解的，漫反射结构5与非黑色光阻层2也可以为两层独立的结构，即漫反射结构5为形成于黑色光阻层3和非黑色光阻层2之间的凸起结构，该凸起结构可以采用光刻胶形成(具体形成过程可参见实施例二的纳米压印法)。
其中，漫反射结构5的厚度可以为0.3μm～0.7μm，优选为0.5μm。漫反射结构5的厚度，即凸起结构沿显示面板整体厚度方向的高度，如图2中H所示。漫反射结构5的厚度设置为0.5μm，可以进一步提高漫反射效果。
实施例二
本发明实施例提供了一种显示面板，在本实施例中，显示面板为OGS(OneGlass Solution，一体化触控)面板。参见图4，该显示面板包括透明基板1，该透明基板1划分为边框区1a和显示区1b，边框区1a围绕所述显示区1b设置。
结合图5，图5为图4所示显示面板沿X方向的截面示意图，如图5所示，该显示面板还包括非黑色光阻层2、黑色光阻层3和电极层4，非黑色光阻层2和黑色光阻层3依次设于透明基板1的边框区1a上，黑色光阻层2和非黑色光阻层3的交接面设有漫反射结构5。电极层4形成于透明基板1的显示区1b并从显示区1b延伸到黑色光阻层3上。
通过在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。
其中，电极层4可以采用现有的电极层结构，本发明实施例对此并不做限制。下面结合图5举例说明电极层4的结构。如图5所示，电极层4包括第一方向电极41和第二方向电极42。该第一方向和第二方向沿着彼此不平行的两个方向延伸，例如从图4可见，在本实施例中，第一方向电极41和第二方向电极42沿相互垂直的方向延伸。
第二方向电极42包括多个间隔设置的导电块，相邻的两个导电块通过导电桥43连接，第一方向电极41和第二方向电极42通过介质层44隔开并保持绝缘。该导电桥43可以为金属桥，也可以为ITO桥，本发明对此不做限制。
需要说明的是，图4所示的电极的形状仅为举例，在实际应用中，导电块的形状也可以为菱形或其他形状。
从图5中可以看出，在第二方向上位于透明基板1的两侧的导电块部分形成在显示区，部分延伸至边框区，由于边框区内形成有黑色光阻层和非黑色光阻层，所以导电块位于边框区的部分就会发生弯折，本发明实施例由于设置了漫反射结构，使得非黑色光阻层的厚度可以降低而黑色光阻层的厚度保持不变，从而黑色光阻层和非黑色光阻层的整体厚度较小，所以这部分导电块不会出现断开的情况。
其中，漫反射结构5为形成于非黑色光阻层的与黑色光阻层相对的表面的多个凸起结构。容易知道，在其他实施例中，漫反射结构5还可以是设置于非黑色光阻层的与黑色光阻层相对的表面上的反光颗粒。
在本实施例中，多个凸起结构可以构成规则的图案，例如，由多个相互平行的三角形条状凸起结构构成的规则图案。图案优选为纳米级图案，这里的纳米级图案，是指凸起结构自身的尺寸为纳米级且凸起结构之间的距离为纳米级。采用纳米级图案可以获得更好的漫反射效果，从而可能进一步降低非黑色光阻层的厚度。
在其他实施例中，多个凸起结构也可以构成不规则的图案，只要能够对外界光线形成漫反射效果即可。
可选地，漫反射结构5与非黑色光阻层2可以为一体结构，例如，可以采用光刻的方法，在非黑色光阻层2的表面直接形成多个凸起结构。
可以理解的，漫反射结构5与非黑色光阻层2也可以为两层独立的结构，即漫反射结构5为形成于黑色光阻层3和非黑色光阻层2之间的凸起结构，该凸起结构可以采用光刻胶形成(具体形成过程可参见实施例二的纳米压印法)。
漫反射结构5的厚度可以为0.3μm-0.7μm，优选为0.5μm。漫反射结构5的厚度，即凸起结构沿显示面板整体厚度方向的高度，如图5中H所示。漫反射结构5的厚度设置为0.5μm，可以进一步提高漫反射效果。
非黑色光阻层2的厚度为10μm-13μm，优选为10μm-12μm。实验证明，非黑色光阻层的厚度为10μm-13μm，则电极层不容易出现断开的情况，从而可以提高产品良率，而将非黑色光阻层的厚度设置为10μm-12μm，则可以进一步确保电极层不出现断开的情况。黑色光阻层3的厚度可以为1μm，该厚度足以达到遮光效果。
黑色光阻层一般采用掺有黑色颜料的树脂(如炭黑均匀地分散到树脂中)制备。非黑色光阻层一般采用掺有非黑色颜料的树脂(如白色采用TiO2粉末均匀地分散到树脂中)制备。
其中，透明基板1可以为玻璃基板(例如石英玻璃、钢化玻璃)或塑料基板，例如PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)板等。
实施例三
本实施例提供的显示面板的结构与实施例二中的显示面板的结构基本相同，不同之处在于，如图6所示，本实施例的显示面板还可以包括带有触控IC(Integrated Circuit，集成电路)芯片的FPC(Flexible Printed Circuitboard，挠性印刷电路板)7，FPC7与电极层4电连接。
需要说明的是，为了简化，图6中并未示出电极层4的具体结构。
由于本实施例的显示面板的结构与实施例二中的显示面板的结构基本相同，故具有与实施例二提供的显示面板相同的效果。
此外，本实施例的显示面板还可以包括形成在电极层4上的保护层6。该保护层6可以为亚克力树脂层、氮化硅层、氧化硅层或氮氧化硅层。该保护层6可以对显示面板起到保护作用。
需要说明的是，本发明实施例的显示面板还可以包括其他层结构，例如消影层、ITO屏蔽层等，本发明对此并不做限制，与这些层的结合方式均可以采用现有方式。
实施例四
本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法，可用于制造实施例一或二或三提供的显示面板，参见图7，该制造方法包括：
步骤401：提供透明基板。
该透明基板可以为玻璃基板(例如石英玻璃、钢化玻璃)或塑料基板(例如PET板)等。
步骤402：在透明基板上形成非黑色光阻层。
具体地，可以采用光刻掩膜工艺形成非黑色光阻层。
进一步地，该步骤402可以包括：
在透明基板表面涂覆一层非黑色光阻材料，该非黑色光阻材料可以为光刻胶，例如负性光刻胶；
对非黑色光阻材料依次进行曝光、显影以及固化处理，从而形成非黑色光阻层。
其中，曝光时可以采用第一掩膜板，第一掩膜板可采用现有的形成黑矩阵层时所用的掩膜板。
步骤403：在非黑色光阻层上形成漫反射结构。
该漫反射结构可以采用纳米压印法或者激光干涉光刻法形成。
其中，采用纳米压印法形成漫反射结构的过程可以如图8a-8d所示，其具体包括以下步骤：
在非黑色光阻层2上涂覆一层光刻胶8，如图8a所示；
采用压印模具9在光刻胶8上压印图形，如图8b所示；
对光刻胶8进行固化处理，如图8c所示；
移除压印模具9，得到漫反射结构5，如图8d所示。
可见，采用纳米压印法得到的漫反射结构的图案由压印模具9决定，与压印模具上的图案相匹配。在本实施例中，采用的压印模具的图案为阵列图案。
可以理解地，采用纳米压印法形成的漫反射结构由光刻胶构成，与非黑色光阻层为不同的材料构成(即为两层独立的结构)。而采用激光干涉光刻法形成的漫反射结构是直接形成在非黑色光阻层的表面的图案，也就是说，采用激光干涉光刻法形成的漫反射结构与非黑色光阻层为一体结构。
步骤404：在非黑色光阻层上形成黑色光阻层。
具体地，可以采用光刻掩膜工艺形成非黑色光阻层。
进一步地，该步骤404可以包括：
在漫反射结构形成之后，在该漫反射结构上涂覆一层黑色光阻材料，该非黑色光阻材料可以为光刻胶，例如负性光刻胶；
对黑色光阻材料依次进行曝光、显影以及固化处理，从而形成黑色光阻层。
其中，曝光时可以采用步骤402时采用的第一掩膜板。
本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的整个遮蔽层的厚度。此外，本发明实施例可以全程采用光刻掩膜工艺实现，不需要引入新的制作工艺，实现简单。
当该显示面板为OGS面板时，该制造方法还可以包括：
步骤405：在透明基板形成电极层，该电极层形成于透明基板的显示区并从显示区延伸到黑色光阻层上。
具体地，该步骤405可以包括：
利用真空磁控溅射的方法制作一层导电薄膜，然后通过涂胶、曝光、显影、蚀刻和去膜工艺对导电薄膜进行图形化，得到第一方向电极和第二方向电极中的多个间隔设置的导电块；
涂敷一层介质层，并在介质层中形成多个对应导电块的过孔；
在介质层上形成多个导电桥，导电桥通过介质层中的过孔将相邻的导电块连接。
其中，导电薄膜可以为ITO薄膜，导电桥可以为金属桥或ITO桥。
进一步地，该制造方法还可以包括：
在电极层上形成保护层。
该保护层可以为亚克力树脂层、氮化硅层、氧化硅层或氮氧化硅层。
本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。此外，本发明实施例可以全程采用光刻掩膜工艺实现，不需要引入新的制作工艺，实现简单。
实施例五
本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例一至三提供的任意一种显示面板。
上述本发明实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (16)

1.一种显示面板，其特征在于，包括透明基板、非黑色光阻层和黑色光阻层，所述透明基板划分为边框区和显示区，所述边框区围绕所述显示区设置，所述非黑色光阻层和黑色光阻层依次设于所述透明基板的所述边框区上所述黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设有漫反射结构。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构为形成于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面的多个凸起结构。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为一体结构，或者，所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为两层独立的结构。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个凸起结构构成规则的图案或不规则的图案。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述规则的图案或不规则的图案为纳米级图案。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构为设置于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面上的反光颗粒。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为一体化触控面板，所述一体化触控面板还包括电极层，所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构的厚度为0.3μm-0.7μm。
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述非黑色光阻层的厚度为10μm-13μm。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述非黑色光阻层的厚度为10μm-12μm。
11.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括形成在所述电极层上的保护层。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11任一项所述的显示面板。
13.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
提供透明基板；
在所述透明基板上形成非黑色光阻层；
在所述非黑色光阻层上形成漫反射结构；
在所述非黑色光阻层上形成黑色光阻层。
14.根据权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述漫反射结构采用纳米压印法或者激光干涉光刻法形成。
15.根据权利要求13或14所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括：
在所述透明基板上形成电极层，所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
16.根据权利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述电极层上形成保护层。
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