CN104692169A - 卷至卷膜处理系统 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种卷至卷膜处理系统。该卷至卷膜处理系统包括：退绕装置，该退绕装置用于退绕并供应对象膜；处理施加装置，该处理施加装置用于向从所述退绕装置供应的所述对象膜施加处理；以及重绕装置，该重绕装置用于重绕由所述处理施加装置处理的所述对象膜，其中待被处理的所述对象膜在被保持在缓冲状态时被供应，并且已处理的对象膜在被保持在所述缓冲状态时被卷绕，从而防止所述对象膜在所述退绕装置和所述重绕装置之间被损坏。

Description

卷至卷膜处理系统

技术领域

本发明涉及一种卷至卷膜处理系统，并且更具体地涉及这样一种卷至卷膜处理系统，其中待被处理的对象膜在被保持在缓冲状态时被供应并且已处理的对象膜在被保持在缓冲状态时被卷绕。

背景技术

卷至卷是下一代处理技术，其已被不断传播并且被引入新近生产线中，其不仅提高产量和生产率而且降低制造成本以增强产品竞争力。

常规的利用卷至卷技术的膜处理系统包括用于退绕和供应对象膜的退绕装置，用于向从退绕装置供应的对象膜施加处理的处理施加装置，以及用于重绕由处理施加装置处理的对象膜的重绕装置。

布置在退绕装置和重绕装置之间的对象膜保持张紧。因此，退绕装置和重绕装置被驱动使得对象膜能保持张紧。

然而，这样的常规的系统导致以下问题，即，在用于卷绕对象膜的重绕装置的速度快于用于退绕对象膜的退绕装置的速度时对象膜可能被撕破或松开。

发明内容

因此，本发明被构思用来解决上述问题，并且本发明的一方面在于提供一种卷至卷膜处理系统，其中待被处理的对象膜在被保持在缓冲状态时被供应并且已处理的对象膜在被保持在缓冲状态时被卷绕。

根据本发明的方面，提供了一种卷至卷膜处理系统，该系统包括：退绕装置，该退绕装置退绕和供应连同保护膜一起卷绕的对象膜；处理施加装置，该处理施加装置向从所述退绕装置供应的所述对象膜施加处理；以及重绕装置，该重绕装置将所述保护膜附着并卷绕到由所述处理施加装置处理的所述对象膜上，所述退绕装置包括：退绕辊，附着有所述保护膜的所述对象膜绕所述退绕辊卷绕，并且所述退绕辊通过旋转力退绕和供应附着有所述保护膜的所述对象膜；上导辊和下导辊，所述上导辊和下导辊放置在所述退绕辊前方并且沿竖直方向彼此间隔开；保护膜回收辊，该保护膜回收辊放置在所述上导辊和下导辊的后上方并且通过旋转力卷绕在所述上导辊和下导辊之间通过的所述保护膜；以及进料辊，该进料辊通过旋转力向所述处理施加装置供给在所述上导辊和下导辊之间通过时从该保护膜分离的所述对象膜，并且在所述进料辊与所述上导辊和下导辊之间通过的所述对象膜保持在缓冲状态而没有保持张紧。

所述处理施加装置可以包括多个室，所述多个室分别接连地连接以接连地执行多个处理，以及放置在每个室下方并且承载所述对象膜的滚动承载辊。

所述重绕装置可以包括导杆，该导杆引导完全由所述处理施加装置处理的所述对象膜以面向下；吸附辊，该吸附辊通过旋转力提升和承载被引导为面向下并且处于缓冲状态的所述对象膜；张紧维持辊，该张紧维持辊放置在所述吸附辊的前方并且保持所述对象膜的张紧；以及重绕辊，该重绕辊放置在所述张紧维持辊下方并且在使所述对象膜保持张紧的同时卷绕所述对象膜。

所述重绕装置还可以包括保护膜提供辊，该保护膜提供辊放置在所述重绕辊上方并且提供所述保护膜，使得所述对象膜和所述保护膜一起能绕所述重绕辊被卷绕。

所述张紧保持辊、所述重绕辊和所述保护膜提供辊均可以包括联接至水平移动体的一端，并且对准传感器可以与所述张紧保持辊的后方相邻并且安装在该后方中并且感测所述对象膜的边缘部处的对准状态。

用于校正所述对象膜的位置的校正辊可以设置在所述吸附辊和所述张紧保持辊之间，所述校正辊的相反两端可以联接至驱动装置以便上下移动，并且用于感测所述对象膜的分离的偏离传感器可以安装在所述校正辊上方的相反部分处。

附图说明

从结合附图理解的示例性实施方式的下列说明，本发明的上述和/或其他方面将变得清楚并且更容易理解，附图中：

图1示出了根据本发明的示例性实施方式的卷至卷膜处理系统；

图2是构成根据本发明的示例性实施方式的卷至卷膜处理系统的退绕装置的立体图；

图3是示出处理施加装置的室的示意图；

图4是重绕装置的立体图；

图5是示出根据本发明的示例性实施方式的对准传感器的操作的示意图；

图6是用于说明根据对准传感器的感测结果的水平移动体的移动方向的示意图；

图7是示出根据本发明的示意性实施方式的校正辊和偏离传感器的操作的示意图；以及

图8是示出根据本发明的示例性实施方式的切板的结构的示意图。

具体实施方式

下面，将参照附图详细地描述根据本发明的卷至卷膜处理系统的示例性实施方式。为了方便和描述清楚可以放大附图中所示的元件的尺寸、形状等。而且，考虑到根据本发明的结构和功能特别限定的术语可以根据使用者或操作者的意图和习惯而改变。这些术语必须基于整个说明书的内容来限定。

图1示出了根据本发明的示例性实施方式的卷至卷膜处理系统。如图1所示，根据本发明的示例性实施方式的卷至卷膜处理系统100包括用于退绕和供应对象膜的退绕装置10，用于向对象膜施加处理的处理施加装置30，以及用于重绕已处理的对象膜的重绕装置50。

退绕装置10退绕与保护膜P卷绕在一起的对象膜F并且将其供应到处理施加装置30。对象膜在设置在退绕装置10中的缓冲空间B中经历缓冲状态，并且然后被供应到处理施加装置30。

处理施加装置30向从退绕装置10供应的对象膜施加至少一种处理。例如，处理施加装置30包括多个室，所述多个室接连地进行显影处理、蚀刻处理、剥离处理等。

重绕装置50重绕由处理施加装置30处理过的对象膜F。这时，重绕装置50在将用于保护已处理对象膜的保护膜附着至对象膜的同时将对象膜和保护膜一起卷绕。已处理的对象膜在设置于重绕装置50中的缓冲空间B’中经历缓冲状态，并且然后与保护膜一起被卷绕。

在根据本发明的示例性实施方式的卷至卷膜处理系统中，对象膜F在于设置于退绕装置10中的缓冲空间B中保持缓冲状态的同时被供应到处理施加装置30，并且已处理的对象膜F在于设置于重绕装置50中的缓冲空间B’中保持缓冲状态的同时被重绕。因此，防止了对象膜在退绕装置10和重绕装置50之间被撕破或松开。

退绕装置10包括如图2所示的缓冲空间B，并且因此对象膜在其中不被张紧而是被松开。因此，对象膜在经历缓冲空间B中的缓冲状态之后被供应到处理施加装置30。

如图2所示，退绕装置10包括退绕辊11，该退绕辊用于退绕和供应附着有保护膜P的对象膜F；上导辊和下导辊13，该上导辊和下导辊布置在退绕辊11前方（即，沿朝向处理施加装置的方向）；保护膜回收辊15，该保护膜回收辊用于牵拉和卷绕在通过上导辊和下导辊13时分离的保护膜P；以及进料辊17，该进料辊用于吸引在通过上导辊和下导辊13时分离的对象膜F并且通过旋转力将该对象膜供应到处理施加装置30。

退绕辊11被旋转以卷绕附着有保护膜的对象膜并且退绕附着有保护膜的对象膜。具体地，附着有保护膜的对象膜绕退绕辊11被卷绕，并且退绕辊11由马达或类似的驱动装置（未示出）旋转以退绕和供应附着有保护膜的对象膜。

绕退绕辊11卷绕的对象膜可以已经历预定处理（例如，利用金属层和光致抗蚀剂层的涂覆处理）。因此，对象膜在将保护膜堆叠和附着在该对象膜上的同时绕退绕辊11卷绕。

从退绕辊11被退绕和供应的附着有保护膜的对象膜布置成通过上导辊和下导辊13之间。上导辊和下导辊13布置在退绕辊11前方（即，沿处理施加装置30布置的方向），并且沿竖直方向彼此隔开。也就是说，上导辊和下导辊13包括上导辊13a和下导辊13b，该下导辊13b放置在上导辊13a下方并且与其隔开。上导辊和下导辊13是惰性辊，其不由驱动装置的旋转力旋转而是由外力自由地旋转。

附着有保护膜的对象膜通过上导辊13a和下导辊13b之间的空间。通过上导辊13a和下导辊13b之间的空间的对象膜在与保护膜分离时被移到缓冲空间B，并且与对象膜分离的保护膜在由上导辊13a张紧时绕保护膜回收辊15卷绕。

保护膜回收辊15放置在上导辊和下导辊13后上方（沿退绕辊布置的方向）并且通过旋转力卷绕在上导辊和下导辊13之间通过的保护膜。因为保护膜回收辊15放置在上导辊和下导辊13后上方并且由驱动装置（未示出）的旋转力旋转，因此通过上导辊和下导辊13之间的保护膜在接触上导辊13a的同时由保护膜回收辊15牵拉。因此，保护膜与对象膜分离并且然后绕保护膜回收辊15卷绕，并且分离的对象膜通过其自重移到缓冲空间B。

移到缓冲空间B的对象膜经历缓冲状态并且然后由进料辊17的旋转力供应到处理施加装置30。进料辊17借助旋转力向处理施加装置30供给通过上导辊和下导辊13之间并且与保护膜分离的对象膜。

进料辊17保持与对象膜接触。因此，当在进料辊17中产生旋转力时，进料辊17的表面和对象膜的表面之间的摩擦导致对象膜被供应到处理施加装置。进料辊17的旋转力可以由驱动装置（未示出）引起。另选地，进料辊17可以设置为惰性辊，其不会被单独的驱动装置（未示出）驱动以旋转。在这种情况下，设置为惰性辊的进料辊17通过基于与由重绕装置50的牵拉移动的对象膜的接触的摩擦而旋转。

由进料辊17供应到处理施加装置30的对象膜在缓冲空间B中经历缓冲状态。缓冲空间B形成在上导辊和下导辊13与进料辊17之间。缓冲空间B指的是其中对象膜未被张紧，即，保持缓冲状态的空间。

因此，在上导辊和下导辊13与进料辊17之间通过（即，通过缓冲空间）的对象膜未被张紧而是保持缓冲状态。在缓冲空间中，对象膜在上导辊和下导辊13中向下松驰并且在进料辊17中保持向上移动状态。也就是说，对象膜保持“U”形而没有接触缓冲空间B中的地面。用于测量具有缓冲状态的对象膜的底部和地面之间的距离的分离距离传感器可以设置在缓冲空间B的上侧和下侧中的至少一者中。如果分离距离传感器感测到：地面和对象膜之间的距离短于预设最小允许距离，则退绕辊11被控制以放慢其旋转速度，由此防止对象膜接触地面。

通过设置于退绕装置10中的缓冲空间B采取缓冲状态并且然后被供应到处理施加装置30的对象膜F在通过处理施加装置30时经历至少一种处理。

处理施加装置30包括多个室，用于接连地进行多个处理。例如，处理施加装置30通过接连地连接用于显影处理的室、用于蚀刻处理的室、用于剥离处理的室、用于清洁处理的室、用于液体移除处理的室、用于干燥处理的室等来提供。

在每个室内的底部上，设置有如图3所示的用于承载对象膜的滚动承载辊33。因此，对象膜可以在通过室31的同时由滚动承载辊33承载，并且在对应的室31内经历预定处理。

也就是说，处理施加装置30包括多个室31，所述多个室分别接连地连接以接连地执行多个处理，并且用于承载对象膜的滚动承载辊33设置在每个室31中的底部上。

在通过构成处理施加装置30的多个室31的同时经历多个处理的对象膜绕重绕装置50被重绕。

图4是重绕装置的立体图。如图4所示，重绕装置50包括导杆51，该导杆引导在处理施加装置30中完全被处理的对象膜以面向下；吸附辊52，该吸附辊通过旋转力提升和承载被引导为面向下且处于缓冲状态的对象膜；张紧保持辊53，该张紧保持辊放置在吸附辊52前方并且保持对象膜的张紧；以及重绕辊54，该重绕辊放置在张紧保持辊53下方并且在保持张紧的同时卷绕对象膜。

导杆51设置在构成处理施加装置30的多个室31之中的最后的室的出口侧处，以便引导在通过处理施加装置30的室31的同时完全被处理的对象膜以面向下。也就是说，导杆51允许在处理施加装置30中完全被处理的对象膜被引导以借助其自重而面向下。导杆51可以具有光滑和柔软的表面并且设置为惰性辊。

沿着导杆51被引导而面向下的对象膜在设置于重绕装置50中的缓冲空间B’中采取缓冲状态，并且然后由吸附辊52牵拉以向前（即，沿重绕装置布置的方向）被承载。也就是说，完全处理过的对象膜在设置于导杆51和吸附辊52之间的缓冲空间B’中未被张紧并且保持对应于松开状态的缓冲状态。

在对应于导杆51和吸附辊52之间的空间的缓冲空间B’中，具有缓冲状态的对象膜保持“U”形而没有接触地面。用于测量具有缓冲状态的对象膜的底部和地面之间的距离的分离距离传感器可以设置在缓冲空间B的上侧和下侧中的至少一者中。如果分离距离传感器感测到：地面和对象膜之间的距离短于预定最小允许距离，则重绕辊54被控制以放慢其旋转速度，由此防止对象膜接触地面。

同时，如图4所示，用于引导通过导杆51借助其自重被引导成面向下的对象膜的相反两端的一对导板51a可以设置在导杆51下方并且彼此相对。因此，在缓冲空间B’中具有缓冲状态的对象膜不左右摇晃而是由导板51a稳定地保持。此外，彼此相对的一对导板51a之间的空间可以对应于对象膜的宽度而被调节。

被向下引导且具有缓冲状态的对象膜由吸附辊52牵拉并且被向前承载。也就是说，吸附辊52通过旋转力提升和承载被引导向下并且具有缓冲状态的对象膜。吸附辊52由驱动装置（未示出）驱动以旋转。

吸附辊52利用其自己的旋转力和重绕辊54的牵拉来提升具有缓冲状态的对象膜。同时，如图4所示，吸附辊52的表面上包括多个真空孔52a以利用真空吸附来提升和承载对象膜。因此，吸附辊52不仅容易地提升对象膜而且保持布置在吸附辊52和张紧保持辊53之间的对象膜的张紧。

由吸附辊52的真空吸附承载的对象膜经由张紧保持辊53绕重绕辊54卷绕。张紧保持辊53放置在吸附辊52前方并且保持对象膜的张紧。因此，张紧保持辊53可以放置在类似于吸附辊52并且高于重绕辊54的高度处。这里，张紧保持辊53可以设置为惰性辊。

重绕辊54放置在张紧保持辊53下方并且在保持张紧的同时卷绕对象膜。这里，重绕辊54由驱动装置（未示出）驱动以旋转。结果，在缓冲空间B’中具有缓冲状态的对象膜由重绕辊54的旋转力牵拉并且在被张紧时绕重绕辊54卷绕。

如果需要保护完全被处理以绕重绕辊54卷绕的对象膜，则对象膜F可以附着有保护膜F并且然后绕重绕辊54卷绕。因此，如图4所示，重绕装置50还可以包括提供保护膜P的保护膜提供辊55。

也就是说，重绕装置50还包括保护膜提供辊55，该保护膜提供辊放置在重绕辊54上方并且提供保护膜，使得对象膜与保护膜一起能绕重绕辊54卷绕。因此，重绕辊54在保护膜堆叠在对象膜上时重绕对象膜和保护膜两者。

如图4所示，张紧保持辊53、重绕辊54和保护膜提供辊55联接至水平移动体56，使得它们能同时水平移动。也就是说，张紧保持辊、重绕辊和保护膜提供辊的每一端均联接至水平移动体。此外，水平移动体56可以由驱动装置（未示出）驱动以沿水平方向（即，沿与承载对象膜的方向垂直的方向）往复运动。

水平移动体56操作使得对象膜能在经由张紧保持辊53被承载到重绕辊54的对象膜未对准时保持其对准。因此，如图6所示，用于感测对象膜的边缘部分的对准的对准传感器57邻近地放置在张紧保持辊53的后方（沿吸附辊布置的方向）。另选地，对准传感器57可以邻近地放置在张紧保持辊53的前方（沿重绕辊布置的方向）。

对准传感器57可以由传输式超声波传感器实现，其中波发射器57a和波接收器57b彼此相对并且沿竖直方向隔开。对准传感器57设置成使得对象膜能在波发射器57a和波接收器57b之间通过。也就是说，波发射器57a和波接收器57b彼此相对，并且对象膜位于它们之间。

超声波信号从波发射器57a被传送到波接收器57b。被接收在波接收器57b中的超声波信号的灵敏度可以被分成三级。例如，如图5所示，波接收器57b可以接收最小灵敏度级（参看（a）），对准允许灵敏度级（参看（b））或者最大灵敏度级（参看（c））。

在其中波接收器57b接收最小灵敏度级（参看（a））的情况下，对象膜F被定位成完全覆盖超声波传输范围（参看虚线）。在其中波接收器57b接收对准允许灵敏度级（参看（b））的情况下，对象膜被定位成部分地覆盖超声波传输范围（参看虚线）。在其中波接收器57b接收最大灵敏度级（参看（c））的情况下，对象膜被定位成不覆盖超声波传输范围（参看虚线）。

在其中对象膜被定位成部分地覆盖超声波传输范围（参看虚线）的情况（b）下，对象膜对准。在其它情况下，对象膜未对准。因此，当波接收器57b接收最大或最小灵敏度级时，水平移动体56被水平移动，使得对象膜能再次对准（即，使得波接收器能接收对准允许灵敏度级）。也就是说，张紧保持辊53、重绕辊54和保护膜提供辊55同时被控制以水平移动，从而保持对象膜再次对准。

图6是用于说明根据对准传感器57的感测结果的水平移动体56的移动方向的示意图。如图6所示。如果对象膜未对准（例如，当波接收器接收最大灵敏度级时），水平移动体56被水平移动（即，沿箭头方向），从而保持对象膜对准（使得波接收器能接收对准允许灵敏度级）。

同时，如图4和图7所示，重绕装置50包括用于校正对象膜的位置的校正辊58，和用于感测对象膜的偏离的偏离传感器59。具体地，校正辊58设置在吸附辊52和张紧保持辊53之间以校正对象膜的位置。此外，校正辊58的两端联接至驱动器58a以分别上下移动。而且，用于感测对象膜的偏离的偏离传感器59安装在校正辊58上方的相对两侧处。

校正辊58可以由驱动装置（未示出）驱动以旋转，但是在该示例性实施方式中设置为惰性辊以在对象膜接触惰性辊的同时移动时被自由地旋转。校正辊58的两端分别联接至驱动器58a。驱动器58a可以由任何装置实现，只要其能分别上下移动校正辊58的两端即可。例如，驱动器58a可以由气压缸实现。

如果在吸附辊52和校正辊58之间通过的对象膜朝着一侧偏离，则驱动器58a操作以提升校正辊58的两端中的一端。对象膜的偏离由偏离传感器59感测。偏离传感器59分别设置在校正辊58上方的相对两侧处，从而感测对象膜是否朝着一侧偏离。

偏离传感器59可以由任何装置实现，只要其能感测对象膜的偏离即可。例如，偏离传感器59可以由包括光发射器和光接收器的光敏器件实现。具体地，偏离传感器59放置在这样的位置处，即，在该位置处，从光发射器发射的光在对象膜没有偏离地移动时不从对象膜被反射。因此，如果对象膜正常移动（即，对象膜不被偏离），则设置在校正辊58上方的相对两侧处的偏离传感器的光接收器很难接收从光发射器发射的光。

另一方面，如果对象膜朝着一侧偏离，则布置在一侧的偏离传感器59的光接收器能接收从光发射器发射并且然后从对象膜被反射的光。因此，偏离传感器59能根据光接收器中所接收到的光量的变化来感测对象膜的偏离。如果位于一侧的偏离传感器感测到对象膜的偏离，则驱动器58a驱动校正辊58的放置在另一侧处的端部以在校正辊的两端之间被提升。

例如，如图7所示，如果对象膜朝着一侧偏离，则设置在一侧的偏离传感器感测到对象膜的偏离，控制器（未示出）控制驱动器58a以提升校正辊58的设置在与一侧相对的一侧处，即，另一侧处的端部。结果，朝着一侧偏离的对象膜被朝着另一侧牵拉，并且因此其在其位置被校正时被移动。如果布置在一侧的偏离传感器没有感测到对象膜（即，如果没有从对象膜反射的光量），则提升状态的驱动器向下移到其初始位置，从而向下移动校正辊的提升端。

在具有上述构造的卷至卷膜处理系统100中，对象膜在被布置在退绕装置10和重绕装置50之间时被承载。因此，重绕装置50连续卷绕由处理施加装置30处理的对象膜，并且同时退绕装置10退绕待由处理施加装置30处理的对象膜，使得对象膜能被连续供应。

从退绕装置10被供应的对象膜和绕重绕装置50卷绕的对象膜在缓冲空间B和B’中经历缓冲状态的同时被移动。因此，可以防止对象膜由于构成退绕装置10和重绕装置50的各个辊之中，特别是退绕辊11和重绕辊54之间的旋转速度差被破坏。

同时，如果对象膜通过根据示例性实施方式的卷至卷膜处理系统被处理，则对象膜的起始端（即，对象膜的首先从退绕辊退绕的端部）必须在其被对准时被切割并且然后被供应到处理施加装置30。然后，从对象膜的起始端连续进行处理，并且然后完全处理过的对象膜的起始端由工人绕重绕辊54卷绕，从而自动处理对象膜。

对象膜的起始端在其被对准时利用切板60来切割，该切板布置在设置于退绕装置10中的缓冲空间B中。因此，切板60以可折叠的方式设置在缓冲空间B中，即，上导辊和下导辊13与进料辊17之间，从而在对象膜对准的同时切割对象膜（参看图8）。

具体地，如图8所示，切板60在被折叠时布置在进料辊17下方，并且其只有当希望在对象膜对准时切割对象膜的起始端时由工人展开。

切板60的形状像板，并且其上形成有吸附孔61以吸附和保持对象膜。在切板60的表面上，对准线63形成在相对两侧并且彼此平行，并且切割孔65沿垂直于对准线63的方向是长形的。

如果希望在对准状态下切割对象膜，则对象膜首先被放在切板60的表面上以将其相对两端与对准线63对准，并且然后空气通过吸附孔61被吸入以保持对象膜。然后，工人将切割器插入切割孔65，从而切割对象膜。因此，对准膜在对准时被切割。

同时，退绕装置10和重绕装置50可以包括离子发生器以消除在对象膜和/或保护膜的表面上产生的静电。例如，离子发生器可以安装在退绕装置10的上导辊和下导辊13上方以消除在保护膜被分离的同时在对象膜上产生的静电。而且，离子发生器可以安装成消除在重绕装置50的辊（即，张紧保持辊53、吸附辊52、重绕辊54、校正辊58和保护膜提供辊55）上所承载的对象膜和/或保护膜的表面上产生的静电。

同时，从退绕装置10供应的对象膜F可以包括这样的膜，即，该膜通过在底膜上顺序堆叠图案形成层（即，金属层）和光致抗蚀剂层（即，干膜抗蚀剂（DFR）层）并且然后向其施加曝光处理来制造。在这种情况下，处理施加装置30按顺序向对象膜施加显影处理、蚀刻处理和剥离处理。也就是说，处理施加装置30可以顺序执行显影暴露的光致抗蚀剂层的一部分、通过蚀刻在显影且曝光的图案形成层在形成图案，以及剥离剩余光致抗蚀剂的处理。

同时，在相应的室31中执行显影处理、蚀刻处理和剥离处理。为此，如图3所示，侧引导构件70可以设置在形成于每个室31的入口35中的开口37中以引导对象膜F的相反两侧通过开口37移入室31中。如果预定处理（即，堆叠图案形成层和光致抗蚀剂的处理、显影处理、蚀刻处理、剥离处理等）被施加至对象膜，则对象膜的相反两侧可以被弯曲以比其中部更升高。因此，侧引导构件70在对象膜移入室中的同时引导对象膜的相反两侧。

根据本发明的示例性实施方式，待被处理的对象膜在保持缓冲状态的同时被供应，并且已处理的对象膜在保持缓冲状态的同时被卷绕，从而防止对象膜在退绕装置和重绕装置之间被损坏。

尽管已经示出和描述了本发明的几个示例性实施方式，但本领域技术人员将理解的是，在没有脱离本发明的原理和精神的情况下可以在这些实施方式中进行改变，本发明的范围在所附权利要求书和其等同要求中被限定。

Claims (6)

1.一种卷至卷膜处理系统，该卷至卷膜处理系统包括：退绕装置，该退绕装置退绕并供应与保护膜卷绕在一起的对象膜；处理施加装置，该处理施加装置向从所述退绕装置供应的所述对象膜施加处理；以及重绕装置，该重绕装置将所述保护膜附着并卷绕在由所述处理施加装置处理过的所述对象膜上，

所述退绕装置包括：退绕辊，附着有所述保护膜的所述对象膜绕所述退绕辊卷绕，并且所述退绕辊通过旋转力退绕并供应附着有所述保护膜的所述对象膜；上导辊和下导辊，该上导辊和下导辊放置在所述退绕辊的前方并且沿竖直方向彼此间隔开；保护膜回收辊，该保护膜回收辊放置在所述上导辊和所述下导辊的后上方并且通过旋转力卷绕在所述上导辊和所述下导辊之间通过的所述保护膜；以及进料辊，该进料辊通过旋转力向所述处理施加装置供给在所述上导辊和所述下导辊之间通过时从所述保护膜分离的所述对象膜，并且

在所述进料辊与所述上导辊和所述下导辊之间通过的所述对象膜保持在缓冲状态而没有保持张紧。

2.根据权利要求1所述的卷至卷膜处理系统，其中，所述处理施加装置包括多个室，所述多个室分别接连地连接以接连地分别执行多个处理；以及放置在每个室下方并且承载所述对象膜的滚动承载辊。

3.根据权利要求1所述的卷至卷膜处理系统，其中，所述重绕装置包括导杆，该导杆引导由所述处理施加装置完全处理的所述对象膜面向下；吸附辊，该吸附辊通过旋转力来提升和承载被引导而面向下并且处于缓冲状态的所述对象膜；张紧保持辊，该张紧保持辊放置在所述吸附辊的前方并且保持所述对象膜的张紧；以及重绕辊，该重绕辊放置在所述张紧保持辊的下方并且在保持张紧的同时卷绕所述对象膜。

4.根据权利要求3所述的卷至卷膜处理系统，其中，所述重绕装置还包括保护膜提供辊，该保护膜提供辊放置在所述重绕辊的上方并且提供所述保护膜，使得所述对象膜和所述保护膜一起能绕所述重绕辊卷绕。

5.根据权利要求4所述的卷至卷膜处理系统，其中，所述张紧保持辊、所述重绕辊和所述保护膜提供辊均包括联接至水平移动体的一端，并且一个对准传感器邻近于所述张紧保持辊且安装在其后方，并且感测所述对象膜的边缘部分处的对准状态。

6.根据权利要求3所述的卷至卷膜处理系统，其中，在所述吸附辊和所述张紧保持辊之间设置有用于校正所述对象膜的位置的校正辊，所述校正辊的相反两端联接至驱动器以分别上下移动，并且在所述校正辊上方的相反两侧处安装有用于感测所述对象膜的分离的偏离传感器。