CN104498916B - 一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法 - Google Patents

一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104498916B
CN104498916B CN201410682018.4A CN201410682018A CN104498916B CN 104498916 B CN104498916 B CN 104498916B CN 201410682018 A CN201410682018 A CN 201410682018A CN 104498916 B CN104498916 B CN 104498916B
Authority
CN
China
Prior art keywords
flexible substrate
solution
concentration
doped zno
sensitized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201410682018.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104498916A (zh
Inventor
黄瀛
沈晓明
何欢
符跃春
韦小凤
覃嘉媛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangxi University
Original Assignee
Guangxi University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangxi University filed Critical Guangxi University
Priority to CN201410682018.4A priority Critical patent/CN104498916B/zh
Publication of CN104498916A publication Critical patent/CN104498916A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104498916B publication Critical patent/CN104498916B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1635Composition of the substrate
    • C23C18/1639Substrates other than metallic, e.g. inorganic or organic or non-conductive
    • C23C18/1641Organic substrates, e.g. resin, plastic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/2006Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
    • C23C18/2046Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
    • C23C18/2073Multistep pretreatment
    • C23C18/2086Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

一种无电沉积掺铝氧化锌薄膜的制备方法,该方法将无导电性的柔性衬底分别浸入敏化溶液和活化溶液中使无导电性的柔性衬底表面活化,然后用活化后的无导电性的柔性衬底浸入含有Zn(NO3)2、Al(NO3)3以及二甲胺基硼烷的生长溶液中以使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积。本发明工艺简洁,设备简单,无需高温和高压环境,适用于大规模工业生产,可广泛应用于光电领域。

Description

一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法
技术领域
本发明属于半导体光电器件技术领域,具体涉及一种制备无电沉积掺铝氧化锌薄膜的方法。
背景技术
随着科学技术的发展和人民生活水平的不断提高,透明导电薄膜越来越广泛的应用于人们的日常生活当中,如液晶显示器、太阳能电池以及建筑物幕墙玻璃等方面。而现今应用的最广泛的透明导电薄膜主要是氧化铟锡(ITO)薄膜,但是氧化铟锡薄膜中的铟资源在地球中的含量十分有限而且价格昂贵,已经不能满足现在的需求。掺铝氧化锌(AZO)薄膜是一种新型的透明导电氧化物薄膜,与氧化铟锡薄膜相比,具有更加优良的导光性能,原料丰富廉价、无毒、稳定性好等优点,是最具发展前景的透明导电薄膜。
目前,绝大部分的掺铝氧化锌薄膜制备在硬性的平板上,这种衬底材料质量重,体积大而且易碎,限制了掺铝氧化锌薄膜的应用。随着半导体工艺水平的发展,以柔性聚合物为衬底,制备各种薄膜半导体器件已成为现实。与硬性衬底相比,在柔性衬底上沉积的掺铝氧化锌薄膜,具有可弯曲、价格低廉、质量轻、便于运输等优势,打破了传统衬底在材料与形状上的局限。但是在柔性衬底上制备掺铝氧化锌薄膜时存在一定的缺陷,一是部分柔性衬底不耐高温性。采用用传统的物理方法制备掺铝氧化锌薄膜时一般需要加温至200℃以上,比如磁控溅射,分子束外延等方法,但部分柔性聚合物的熔点在100℃以下;二是部分柔性衬底不具有导电性。使用电化学沉积方法制备掺铝氧化锌薄膜时可以在室温下进行,但是这种方法要求衬底是导电材料才可以使掺铝氧化锌薄膜沉积至衬底上。
发明内容
本发明针对现有技术存在的上述不足,提出一种在无导电的柔性衬底上无电沉积掺铝氧化锌薄膜的制备方法,它既可以解决柔性衬底不耐高温的弱点,又可以解决不具有导电性能的问题,而且该方法制备工艺简单,无需真空设备,成本低,适用于大规模工业生产,可广泛应用于光电领域。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法,包括以下步骤:
(1)将无导电性的柔性衬底置于丙酮溶液里进行超声清洗10-20min,然后用去离子水冲洗干净,烘干,得到干净柔性衬底;
(2)在室温下,将干净柔性衬底浸入敏化溶液中30-60min进行敏化处理,得到敏化柔性衬底;所述的敏化溶液由SnCl2和HCl溶液配制而成,在敏化溶液中SnCl2的浓度为20~60g/L,HCl的浓度为0.12~0.36mol/L,所述的敏化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附敏化粒子Sn2+
(3)在室温下,将敏化柔性衬底浸入活化溶液中30-60min进行活化处理,得到活化柔性衬底;所述的活化溶液由PdCl2和HCl溶液配制而成,在活化溶液中PdCl2的浓度为0.05~0.2g/L,HCl的浓度为0.12~0.36mol/L,所述的活化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附活化粒子Pd0
(4)在恒温60-90℃下,将活化柔性衬底浸入生长溶液中1.5~3h,使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积,最后用去离子水清洗,吹干,即得到掺铝氧化锌薄膜;所述的生长溶液由Zn(NO3)2、Al(NO3)3和二甲胺基硼烷溶液配制而成,在生长溶液中Zn(NO3)2的浓度为0.01~0.1mol/L,Al(NO3)3的浓度为0.0005~0.01mol/L,二甲胺基硼烷的浓度为0.01~0.03mol/L。
优选的,所述的无导电性的柔性衬底的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯或者聚四氟乙烯。
优选的,所述步骤(4)的操作条件是在密闭容器中安静地进行,不能搅拌。
优选的,所述掺铝氧化锌薄膜的厚度为200~1000nm。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
(1)本发明采用无电沉积法在无导电性的柔性衬底上制备的掺铝氧化锌薄膜分布均匀、性能稳定,而且在不施加电流的情况下最高的成膜温度在90℃以下,克服了柔性衬底既不耐高温又不导电的问题。
(2)本发明采用的制备方法无需真空和高温的环境,工艺简单,设备易得且耗能低,成本低廉,适用于大规模工业生产,可广泛应用于光电领域。
附图说明
图1是本发明所述无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法的工艺流程示意图。
具体实施方式
以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
实施例1
本发明所述制备无电沉积掺铝氧化锌薄膜的方法,包括如下步骤:
(1)将无导电性的柔性衬底置于丙酮溶液里进行超声清洗20min,然后用去离子水冲洗干净,烘干,得到干净柔性衬底;
(2)在室温下,将干净柔性衬底浸入敏化溶液中45min进行敏化处理,得到敏化柔性衬底;所述的敏化溶液由SnCl2和HCl溶液配制而成,在敏化溶液中SnCl2的浓度为20g/L,HCl的浓度为0.12mol/L,所述的敏化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附敏化粒子Sn2+
(3)在室温下,将敏化柔性衬底浸入活化溶液中45min进行活化处理,得到活化柔性衬底;所述的活化溶液由PdCl2和HCl溶液配制而成,在活化溶液中PdCl2的浓度为0.05g/L,HCl的浓度为0.12mol/L,所述的活化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附活化粒子Pd0
(4)在恒温85℃下,将活化柔性衬底浸入生长溶液中1h,使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积,最后用去离子水清洗,吹干,即得到厚度为200nm的掺铝氧化锌薄膜;所述的生长溶液由Zn(NO3)2、Al(NO3)3和二甲胺基硼烷溶液配制而成,在生长溶液中Zn(NO3)2的浓度为0.01mol/L,Al(NO3)3的浓度为0.0005mol/L,二甲胺基硼烷的浓度为0.01mol/L。
实施例2
本发明所述制备无电沉积掺铝氧化锌薄膜的方法的另一实例,包括如下步骤:
(1)将无导电性的柔性衬底置于丙酮溶液里进行超声清洗15min,然后用去离子水冲洗干净,烘干,得到干净柔性衬底;
(2)在室温下,将干净柔性衬底浸入敏化溶液中60min进行敏化处理,得到敏化柔性衬底;所述的敏化溶液由SnCl2和HCl溶液配制而成,在敏化溶液中SnCl2的浓度为40g/L,HCl的浓度为0.24mol/L,所述的敏化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附敏化粒子Sn2+
(3)在室温下,将敏化柔性衬底浸入活化溶液中60min进行活化处理,得到活化柔性衬底;所述的活化溶液由PdCl2和HCl溶液配制而成,在活化溶液中PdCl2的浓度为0.075g/L,HCl的浓度为0.24mol/L,所述的活化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附活化粒子Pd0
(4)在恒温65℃下,将活化柔性衬底浸入生长溶液中2h,使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积,最后用去离子水清洗,吹干,即得到厚度为900nm的掺铝氧化锌薄膜;所述的生长溶液由Zn(NO3)2、Al(NO3)3和二甲胺基硼烷溶液配制而成,在生长溶液中Zn(NO3)2的浓度为0.05mol/L,Al(NO3)3的浓度为0.005mol/L,二甲胺基硼烷的浓度为0.02mol/L。
实施例3
本发明所述制备无电沉积掺铝氧化锌薄膜的方法的再一实例,包括如下步骤:
(1)将无导电性的柔性衬底置于丙酮溶液里进行超声清洗10min,然后用去离子水冲洗干净,烘干,得到干净柔性衬底;
(2)在室温下,将干净柔性衬底浸入敏化溶液中30min进行敏化处理,得到敏化柔性衬底;所述的敏化溶液由SnCl2和HCl溶液配制而成,在敏化溶液中SnCl2的浓度为60g/L,HCl的浓度为0.36mol/L,所述的敏化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附敏化粒子Sn2+
(3)在室温下,将敏化柔性衬底浸入活化溶液中30min进行活化处理,得到活化柔性衬底;所述的活化溶液由PdCl2和HCl溶液配制而成,在活化溶液中PdCl2的浓度为0.2g/L,HCl的浓度为0.36mol/L,所述的活化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附活化粒子Pd0
(4)在恒温90℃下,将活化柔性衬底浸入生长溶液中1.5h,使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积,最后用去离子水清洗,吹干,即得到厚度为700nm的掺铝氧化锌薄膜;所述的生长溶液由Zn(NO3)2、Al(NO3)3和二甲胺基硼烷溶液配制而成,在生长溶液中Zn(NO3)2的浓度为0.1mol/L,Al(NO3)3的浓度为0.01mol/L,二甲胺基硼烷的浓度为0.03mol/L。
实施例4
本发明所述制备无电沉积掺铝氧化锌薄膜的方法的第四个实例,包括如下步骤:
(1)将无导电性的柔性衬底置于丙酮溶液里进行超声清洗15min,然后用去离子水冲洗干净,烘干,得到干净柔性衬底;
(2)在室温下,将干净柔性衬底浸入敏化溶液中60min进行敏化处理,得到敏化柔性衬底;所述的敏化溶液由SnCl2和HCl溶液配制而成,在敏化溶液中SnCl2的浓度为40g/L,HCl的浓度为0.24mol/L,所述的敏化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附敏化粒子Sn2+
(3)在室温下,将敏化柔性衬底浸入活化溶液中30min进行活化处理,得到活化柔性衬底;所述的活化溶液由PdCl2和HCl溶液配制而成,在活化溶液中PdCl2的浓度为0.1g/L,HCl的浓度为0.24mol/L,所述的活化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附活化粒子Pd0
(4)在恒温70℃下,将活化柔性衬底浸入生长溶液中1.5h,使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积,最后用去离子水清洗,吹干,即得到厚度为450nm的掺铝氧化锌薄膜;所述的生长溶液由Zn(NO3)2、Al(NO3)3和二甲胺基硼烷溶液配制而成,在生长溶液中Zn(NO3)2的浓度为0.07mol/L,Al(NO3)3的浓度为0.002mol/L,二甲胺基硼烷的浓度为0.01mol/L。

Claims (4)

1.一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法,包括以下步骤:
(1)将无导电性的柔性衬底置于丙酮溶液里进行超声清洗10-20min,然后用去离子水冲洗干净,烘干,得到干净柔性衬底;
其特征在于,还包括以下步骤:
(2)在室温下,将干净柔性衬底浸入敏化溶液中30-60min进行敏化处理,得到敏化柔性衬底;所述的敏化溶液由SnCl2和HCl溶液配制而成,在敏化溶液中SnCl2的浓度为20~60g/L,HCl的浓度为0.12~0.36mol/L,所述的敏化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附敏化粒子Sn2+
(3)在室温下,将敏化柔性衬底浸入活化溶液中30-60min进行活化处理,得到活化柔性衬底;所述的活化溶液由PdCl2和HCl溶液配制而成,在活化溶液中PdCl2的浓度为0.05~0.2g/L,HCl的浓度为0.12~0.36mol/L,所述的活化处理是使无导电性的柔性衬底表面吸附活化粒子Pd0
(4)在恒温60-90℃下,将活化柔性衬底浸入生长溶液中1.5~3h,使得掺铝氧化锌薄膜在衬底上沉积,最后用去离子水清洗,吹干,即得到掺铝氧化锌薄膜;所述的生长溶液由Zn(NO3)2、Al(NO3)3和二甲胺基硼烷溶液配制而成,在生长溶液中Zn(NO3)2的浓度为0.01~0.1mol/L,Al(NO3)3的浓度为0.0005~0.01mol/L,二甲胺基硼烷的浓度为0.01~0.03mol/L。
2.如权利要求1所述的无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法,其特征在于,所述的无导电性的柔性衬底的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯或者聚四氟乙烯。
3.如权利要求1所述的无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(4)的操作条件是在密闭容器中安静地进行,不能搅拌。
4.如权利要求1至3中任一所述的无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法,其特征在于,所述掺铝氧化锌薄膜的厚度为200~1000nm。
CN201410682018.4A 2014-11-24 2014-11-24 一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法 Active CN104498916B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410682018.4A CN104498916B (zh) 2014-11-24 2014-11-24 一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410682018.4A CN104498916B (zh) 2014-11-24 2014-11-24 一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104498916A CN104498916A (zh) 2015-04-08
CN104498916B true CN104498916B (zh) 2017-04-26

Family

ID=52940365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410682018.4A Active CN104498916B (zh) 2014-11-24 2014-11-24 一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104498916B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104992838B (zh) * 2015-07-13 2017-11-07 广西大学 一种氧化锌吸收薄膜的制备方法
CN112652424A (zh) * 2020-07-27 2021-04-13 邵峥业 碳纳米管复合透明导电薄膜的制备方法
CN116208118B (zh) * 2023-03-08 2024-06-11 北京中科飞鸿科技股份有限公司 柔性声表面波器件及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1440951A (zh) * 2003-03-20 2003-09-10 浙江大学 连续式粉体化学镀方法及其装置
CN101629284A (zh) * 2009-08-03 2010-01-20 北京航空航天大学 溶剂热法制备铝掺杂氧化锌透明导电膜的制备方法
CN102994989A (zh) * 2011-09-16 2013-03-27 上海隆江医疗器械有限公司 一种化学镀银方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9227224B2 (en) * 2011-09-15 2016-01-05 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method of forming macro-structured high surface area transparent conductive oxide electrodes

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1440951A (zh) * 2003-03-20 2003-09-10 浙江大学 连续式粉体化学镀方法及其装置
CN101629284A (zh) * 2009-08-03 2010-01-20 北京航空航天大学 溶剂热法制备铝掺杂氧化锌透明导电膜的制备方法
CN102994989A (zh) * 2011-09-16 2013-03-27 上海隆江医疗器械有限公司 一种化学镀银方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104498916A (zh) 2015-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108630351B (zh) 一种低成本柔性绿色可降解金属网络透明导电电极的方法
CN104498916B (zh) 一种无电沉积制备掺铝氧化锌薄膜的方法
CN106784089B (zh) 一种自陷光ZnO基透明导电玻璃的制备方法
CN103606418A (zh) 一种树叶状透明导电电极的制备方法
WO2018040953A1 (zh) 一种基于亲水改性pet基材的纳米银线透明导电膜的制备方法
WO2018040954A1 (zh) 一种经光照烧结处理的pet/纳米银线透明导电膜的制备
CN103943790A (zh) 一种石墨烯复合柔性透明电极及其制备方法
CN106328260A (zh) 一种金属网络透明导电电极的全液相制备方法
CN104194013A (zh) 一种柔性透明导电复合膜的制作方法
CN106229037B (zh) 一种柔性复合透明导电膜及其制备方法
CN108074660B (zh) 一种复合柔性透明导电薄膜及其制备方法
CN103606420A (zh) 制备金属导电薄膜的方法
CN103526192B (zh) 一种用于ito/fto/azo导电玻璃上具有强选择性的新型化学镀镍法
CN114038623A (zh) 一种银纳米线-生物材料复合透明导电薄膜及其制备方法与应用
CN104018137A (zh) 一种采用化学浴反应制备ZnS薄膜的方法
CN102931354B (zh) 复合透明电极、聚合物太阳能电池及它们的制备方法
CN110600199A (zh) 一种AgNWs柔性透明导电薄膜及其制备方法
CN104844016B (zh) 一种在ito导电玻璃上沉积氧化铁薄膜的制备方法
CN103985478B (zh) 一种蜘蛛网状透明导电电极的制备方法
CN107731352B (zh) 柔性电子玻璃透明导电氧化物薄膜电路制备方法
CN102544388B (zh) 一种基于碳纳米管/银/掺铝氧化锌结构的柔性电极
CN108766627A (zh) 一种银纳米网格柔性透明电极及其制备方法
CN102644055A (zh) 一种氮掺杂二氧化锡薄膜的制备方法
CN102837467A (zh) 一种透明导电膜玻璃及其制备方法
CN107507675A (zh) 一种氧化锡导电薄膜的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant