CN104411908B - 含有泵出管保护环和/或盖的真空绝缘玻璃窗单元及制备其的方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种真空绝缘玻璃VIG组件，具有围绕于延伸至一个玻璃基片的外表面之外的泵出管的一部分的保护环，来形成真空绝缘玻璃组件。所述真空绝缘玻璃组件可进一步包括层压的玻璃基片，其中形成有孔来容纳所述保护环和/或泵出管部分，其中，所述保护环防止玻璃泵出管在层压过程期间受到损坏。此外，可在所述层压的基片上提供盖子，来遮盖所述层压的基片中的孔，并进一步遮盖所述保护环和密封的泵出管。

Description

含有泵出管保护环和/或盖的真空绝缘玻璃窗单元及制备其 的方法
相关申请的相互参照
本申请涉及2011年9月28日提交的题为“真空绝缘玻璃VIG单元泵出管保护技术和/或与其合并的VIG单元”的共同委任未决的美国专利申请No.13/246,980，其全部内容被纳入此处作为参考。
技术领域
本说明书涉及一种含有泵出管的真空绝缘玻璃(VIG)单元配置。特别是，本说明书涉及一种VIG单元配置，包括保护部件，例如环，用来防止泵出管在多个制造过程期间受到损坏，包括VIG单元配置有另一个层压基片的过程中，但并不局限于此。本说明书还涉及一种盖子，其可配置在另一个层压基片上并在泵出管和护环之上。本说明书进一步提出一种制备VIG单元的示例性方法，包括保护部件或环，用来防止VIG单元的泵出管受到损坏。
背景和示例性实施例概述
真空绝缘玻璃VIG单元通常包括至少两个分离的玻璃基片，其中附有排空或低压空间。上述基片由外边缘密封互相连接并通常包括隔离片，位于玻璃基片之间，来保持玻璃基片之间的间距，防止由于基片之间的低压环境而造成的玻璃基片损毁。一些示例性VIG配置在类似美国专利Nos.5,664,395,5,657,607和5,902,652中被公开，在此其公开的内容被纳入此处作为参照。
图1和图2示出现有的VIG单元1和用于形成VIG单元1的元件。例如VIG单元1可包括两个分离的玻璃基片2、3，其中附有排空或低压空间6。玻璃片或基片2、3由外边缘密封4互相连接，其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之间可包括一组支承柱/隔离片5，鉴于基片2、3之间存在的低压空间/间隙，来维持VIG单元1的基片2、3的间距。
泵出管8可通过焊料玻璃9被气密密封至孔/空穴10，从玻璃基片2的内表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部。真空被连接至泵出管8，将内部腔6排空至低压。在腔6排空后，管8被熔化来密封真空。凹槽11用来固定密封的泵出管8。选择性地，凹槽13中可包括化学吸气剂12，其配置在玻璃基片，例如，玻璃基片2的内表面中。
通常，具熔融焊料玻璃外边缘密封4的VIG单元，通过在基片2的外围沉积溶液状的玻璃熔块被制造。该玻璃熔块最终形成玻璃焊料边缘密封4。第二基片3被配置在基片2上，从而使隔离片/支承柱5和玻璃熔块溶液夹在两个基片2，3之间。整个组件包括玻璃基片2，3、隔离片或支承柱5、和密封材料(例如，溶液状的玻璃熔块)，然后加热到至少约500℃的温度，此时玻璃熔块被熔化弄湿玻璃基片2，3的表面，并最终形成气密密封的外围或边缘密封4。
边缘密封4形成之后，真空通过泵出管8被抽出，在基片2，3之间形成低压空间6。空间6中的压力可通过排空处理方式产生且水平低于大气压力，例如10-2Torr以下。为了在空间或腔6中维持低压力，基片2，3被气密密封。在基片之间提供小的高强度隔离片或支承柱5，以维持基本平行的基片分离来对抗大气压力。当基片2，3之间的空间6被排空，泵出管8可被密封，例如，通过激光熔化或类似等。
泵出管8通常位于基片的一个角落，例如图1和2中所示出的。泵出管8可由玻璃制成并突出于玻璃基片的表面之上，来促进泵送和随后的熔融。由于泵出管8通常是由玻璃制成并延伸至基片表面之上，因此其十分易碎并容易受到损坏。为了解决上述和其他易碎问题，有时在排空和熔融之后在管上配置保护盖。保护盖结构和安装方法有许多，如上述参考纳入的美国专利申请No.13/246,980中指出的，一些配置仍具有缺陷。
此外，一些新改进的VIG结构被开发。根据一些结构配置，例如图1和图2中所示出的VIG单元1，制备为具有附加的层压板或基片，例如可配置在含有泵出口的基片上或之上。附加的层压板可通过含有聚合物粘合剂的层压膜形式被粘合至常规VIG单元的一个基片，聚合物粘合剂可以是PVB或类似等。
在处理上面层压附加的基片的VIG配置中的泵出管时会出现附加的问题。例如，在将附加的基片层压在VIG单元的设有泵出口的一侧时，层压的附加基片和层压膜必须设置有孔来容纳突出的泵出管。当层压基片和层压膜配置在VIG单元的基片上时，孔必须具有可向泵出管提供足够间隙的直径。由于生成孔时的制造公差，以及保护盖的后续配置，孔与保护盖可能不同心或甚至不能基本同心地对齐。此外，附加的层压基片中所形成的出入孔的玻璃边缘可能具有粗糙的边缘。所有的这些因素，例如，孔和保护盖被较差的对准，以及层压基片中的出入口周围的粗糙边缘，都会导致最终层压的VIG单元外观不理想。
一个解决方案是，层压过程之后在附加的层压基片中的孔上配置盖子，其在下面的VIG单元上提供层压的基片，来形成层压的VIG单元。但是，被提出的解决方案具有众多缺陷。例如，如上所述，泵出管易碎，且在层压过程期间被露出，从而其在层压过程期间更容易被损坏。另一解决方案是在层压过程结束时在第一盖子上简单地配置第二盖子。该解决方案也具有一些缺陷，包括，例如，完成的层压VIG单元将在多层保护盖区域内出现明显的叠积高度。
根据在此所述的示例性实施例，层压过程之前可能包括在泵出管周围配置处理保护环。其可与上述的其他可行性中的任何一个相结合被完成。在层压过程期间，处理保护环提供屏障来保护泵出管，使其免于层压过程期间可能发生的损坏。例如，当层压膜和/或层压基片中形成的孔的边缘与泵出管啮合时，该力可能会打破或损坏泵出管。当处理保护环配置在泵出管的露出部分周围时，力会被处理保护环吸收，不然的话，力撞击泵出管，从而可减少对泵出管的潜在损坏。在这方面，处理保护环的高度应足以保护泵出管的露出部分。根据示例性实施例，优选是，处理保护环的高度与密封的泵出管的高度相同。可选地，处理保护环的高度可小于或稍微小于密封的泵出管，只要处理保护环具有充分的高度对泵出管提供保护便可。此外优选是，根据示例性实施例，处理保护环的高度小于或等于密封的泵出管的高度，从而避免完成的保护盖具有附加的叠积高度。
另外，通过提供处理保护环，可减少层压过程期间提供盖子的必要性，且在一些非限制性的示例实施例中可能被去除。因此，层压过程之后，单个的盖子可配置在层压膜和层压基片中的孔上，其被提供用来容纳突出的泵出管。此外，示例性实施例中，在泵出管之上提供单个不透明的或基本上不透明的保护盖，处理保护环，以及层压膜和层压基片中的孔，其优点在于，单个外部的保护盖可遮盖所述孔和其露出的边缘，从而遮盖泵出管与孔的任何潜在的未对准或非同心排列，否则可看见，来进一步提高美观性。
根据进一步的示例性实施例，保护盖可进一步配置有至少一个定位棱，配置在面对层压玻璃基片的盖的一侧的外围，从而棱可啮合层压基片中所形成的孔的内边缘。该定位棱为保护盖提供附加的保护强度，当保护盖被置于层压基片中的孔之上时可进一步限制保护盖的移动。此外，提供轮廓较低的保护盖的优点在于，其相比常规的保护盖可提高层压的VIG单元的美观性。
为了提供上述和其他优点，一种示例性真空绝缘玻璃VIG组件，包括：第一和第二基本平行隔开的基本透明的基片；外围边缘密封，位于所述第一和第二隔开的基片的外围，所述边缘密封和所述第一和第二基片在其之间定义腔；泵出管，从靠近所述腔的所述第一基片的内表面延伸，穿过所述第一基片并延伸至所述第一基片的外表面之外；和保护环，配置在延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的部分附近。
根据进一步的示例性实施例，提供一种层压的真空绝缘玻璃组件，示例性层压的真空绝缘玻璃组件包括：第一和第二基本平行隔开的玻璃基片；外围边缘密封，配置在所述第一和第二隔开的玻璃基片附近，所述边缘密封和所述第一和第二玻璃基片在其之间定义腔，所述腔在低于大气压的压力下；泵出管，从靠近所述腔的所述第一基片的内表面延伸，穿过所述第一基片并延伸至所述第一基片的外表面之外；保护环，配置在延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的部分附近；第三玻璃基片，被层压在所述第一基片之上，所述第三基片包括开口，在所述泵出管和所述保护环所在位置中；和盖子，位于所述第三基片中的所述开口之上。
根据示例性实施例，提供一种制备真空绝缘玻璃组件的示例性方法，示例性方法包括：提供第一玻璃基片；在所述第一基片上配置多个隔离片；沿所述第一基片的第一表面的外围沉积边缘密封材料；在所述第一玻璃基片上配置另一个玻璃基片，将所述隔离片和边缘密封材料夹在其之间；加热所述边缘密封材料来形成密封，从而在所述基片之间形成腔；通过配置在一个所述基片中的泵出管将所述腔排空；通过将所述泵出管的一部分熔融来将其密封；将保护环配置在所述第一和第二玻璃基片中的一个之上并包围所述泵出管的一部分，所述保护环被粘合连接至所述第一和第二玻璃基片中的一个；将第三基片层压在至所述第一或第二基片上，所述泵出管的一部分延伸穿过其中；以及将盖子配置在所述第三基片中的开口上，其中配置有所述保护环和所述泵出管的一部分。
以下，有关示例性实施例参照附图对上述和其他实施例的优点进行说明，其中，相同的参照符号表示相同的元件。
附图简要说明
图1是示出现有的VIG单元的横截面示图。
图2是现有的VIG单元的俯视图。
图3是示出根据示例性实施例的层压VIG单元的横截面示图。
图4A是示出根据示例性实施例的处理保护环的俯视图。
图4B是示出根据示例性实施例的处理保护环和粘合剂的仰视图。
图5是示出根据示例性实施例的含有保护盖的层压VIG单元的横截面示图。
图6A是示出根据示例性实施例的保护盖和粘合剂的仰视图。
图6B是示出根据示例性实施例的保护盖的横截面示图。
图7是示出根据示例性实施例的制备层压VIG单元的方法的流程图。
示例性实施例的具体说明
在此参照附图对示例性实施例进行详细说明，相同的参照符号表示相同的元件。应理解，在此所述的实施例仅用于说明，并不局限于此，本技术领域的技术人员在不脱离后附的权利要求书的精神和范围下可进行各种修改。
根据示例性实施例，提供一种真空绝缘玻璃窗单元，具有至少一个处理保护环，其围绕于泵出管的露出部分，在排空过程之后被密封，从而在真空绝缘玻璃窗单元的第一和第二透明玻璃基片之间的腔中提供低压(例如，低于大气压力)。示例性处理保护环可提供附加的保护来防止泵出管受到潜在的损坏(例如，泵出管的露出部分)。特别是，例如，在真空绝缘玻璃单元面对另外的制造过程时，类似通过层压膜来层压附加的玻璃基片。真空绝缘玻璃窗单元可作为建筑物的窗，例如：住宅、公寓大楼、和/或商业办公大楼。真空绝缘玻璃窗单元还可作为建筑物门、冷冻室门的窗等。在示例性实施例中，真空绝缘玻璃窗单元具有至少30％的可见光透射率，更优选是至少40％，甚至更优选是至少50％，且甚至更优选是至少60％或70％。
根据进一步的示例性实施例，层压附加的透明玻璃基片之后，可在处理保护环和密封的泵出管之上配置保护盖。优选是，保护盖可具有较低的轮廓来减少叠积高度，提高产品的美观性，包括：例如遮盖孔，从而隐藏可能会出现的任何不好看的视觉效果，类似层压板、层压膜、和泵出管中的孔未对准，孔的边缘粗糙等，但并不局限于此。此外，保护盖可配备有定位棱，被尺寸化从而可与层压基片和/或层压膜中的孔啮合，其被用来容纳泵出管和处理保护环，或是保护盖一旦被置于孔之上后限制其的移动。
参照图3，示出根据示例性实施例的层压VIG单元的横截面示图。层压VIG单元20包括隔开的第一和第二透明玻璃基片2，3，通过边缘密封4被互连，例如可以是熔合的焊料玻璃气密封的边缘密封。在实施例中，基片2，3可以是示例性实施例中的近似相同尺寸和/或相同尺寸。但是，在其他示例性实施例中，一个玻璃基片可大于所提供的另一个，例如，接近VIG单元的边缘具有L形阶梯。本领域中已知的常规边缘密封组合物，可参照美国专利Nos.3,837,866；4,256,495；4,743,302；5,051,381；5,188,990；5,336,644；5,534,469；7,425,518，和美国公开号No.2005/0233885，其全部内容被纳入此处作为参考。其他合适的边缘密封组合物在2012年1月20日提交的题为"用于钒基玻璃熔块材料的热膨胀系数填充物和/或制备其方法和/或使用其的方法"的美国专利申请No.13/354,963中被公开，其全部内容被纳入此处作为参考。边缘密封组合物有时可以是基于VBZ(例如，钒、钡、锌)的组合物。进一步的示例性边缘密封材料在2011年2月22日提交的申请No.12/929,875和/或2011年9月21日提交的申请No.13/238,358中被公开，其全部内容被纳入此处作为参考。其他熔块材料可以是，例如Ferro2824B和2824G熔块。例如2011年2月22日提交的申请No.12/929,874，其全部内容被纳入此处作为参考。其他称为"无铅的"熔块可在其他示例性实施例中用于密封4。
考虑到低于基片2、3之间的腔6中最终所提供的大气压力，玻璃基片2，3之间可包括一组支承柱/隔离片5，来维持基片2和3的间距。在示例性实施例中，该隔离片的高度约为0.1-1.0mm，更优选是约0.2-0.4mm。隔离片5优选是不引人注目的小尺寸。根据示例性实施例，隔离片可由焊料玻璃、玻璃、陶瓷、金属、聚合物，青玉或任何其他合适的材料制成。此外，隔离片5可以是，例如，常规圆柱形，圆形，球形，硬币状，C状，枕状和/或任何其他合适的形状。
泵出管8可通过焊料玻璃9被气密密封，通过孔10穿过一个玻璃基片的内表面，例如图3中的基片3，并穿过玻璃基片3，延伸至其外表面之外。泵出管8在过程中被用来排空基片2，3之间的腔6，例如通过将真空泵与泵出管8连接，并以低压将腔6排空，例如低于大气压的压力。泵出过程之后，在优选的示例中，腔6中的压力优选是10-2Torr以下，且更优选是10-3Torr以下，甚至更优选是5x10-4Torr以下。在示例性实施例中，泵出管8可具有0.1-1.0mm的直径或距离，更优选是0.3-0.7mm，且甚至更优选是0.5mm。
例如，使用熔合的焊料玻璃外围边缘密封4的真空绝缘玻璃窗单元可通过沉积玻璃熔块被制造，例如任何上述引用的，以溶液状态沉积在类似基片2的一个基片的外围周围。该玻璃熔块经固化后最终形成玻璃焊料边缘密封4。第二基片，例如基片3被置于基片2上从而将隔离片/支柱5和玻璃熔块溶液夹在两个基片2、3中间。整个组件包括玻璃基片2、3；隔离片或支柱5；和密封材料(例如，溶液状态的玻璃熔块)，然后被加热至一个温度，足够使密封材料(例如，玻璃熔块)熔化并使玻璃基片2、3的表面潮湿，形成密封的外围/边缘密封4。然后可使用泵出管8和真空装置，以如上所述的示例性方式将基片2、3之间所形成的腔6排空，从而在基片2、3之间提供低压(例如，低于大气压力)。腔6被排空至低压之后，例如低于大气压的压力，玻璃泵出管8的顶部或顶端，可通过使用激光或其他方式将管的露出部分熔化，从而被密封。密封泵出管8(如图3所示)使腔6中维持低压。管8被密封之后，管8的中央部分仍与腔6流体连通，但外部大气没有，这是由于管8的顶端/顶部被密封关闭。
如上所述，在一些情况下，附加的透明玻璃基片15可层压在基片2、3上或之上来定义腔6。在图3的示例中，第三玻璃基片15可与基片3具有相同的尺寸。在优选的示例性实施例中，附加层压的玻璃基片15可通过使用层压膜14被粘附至一个玻璃基片，例如基片3的外表面，该层压膜可包括基于聚合物的粘合剂，例如：PVB或类似等。为了提供附加层压的玻璃基片15，可在附加的玻璃基片15和层压膜14中提供孔11，来容纳上述密封的泵出管8的露出部分。当层压的基片15和层压膜14被置于VIG单元20的基片3之上时，孔11为约泵出管8尺寸的足够大的间隙。由于在生成孔11时的制造公差，基片中的孔与突出的泵出管口8不能被同中心地或基本同中心地对齐。此外，层压基片15中所形成的出入孔11的玻璃边缘可能具有粗糙边缘。所有的这些因素，例如，基片3、5和泵出管口8被较差的对准，以及层压基片15中的出入口11周围的粗糙边缘，都会导致最终层压的VIG单元外观不理想。
为了克服上述和其他问题，可以在用于提供附加的层压玻璃基片15的层压过程之后，在泵出管8上提供保护盖47。但是，如上所述，泵出管8需面临层压膜14和附加的层压玻璃基片15被置于泵出管8的露出部分上的制造过程，因此，层压过程期间，泵出管8可能潜在地被损坏，例如，由于层压膜14和/或附加的层压基片15中的孔11的边缘与易碎的玻璃泵出管8接触，但并不局限于此。为了在层压过程期间防止破裂或，对露出的泵出管8造成损害，根据示例性实施例，层压期间可在露出的泵出管8周围提供处理保护环16，从而图3中的单元被俯视时，包围管8。
根据示例性实施例，处理保护环16可附于基片3上并包围泵出管8，例如使用胶带，类似3M VHB胶带，在用于将附加的玻璃基片15层压至基片3的压过程之前。根据优选的示例，处理保护环16可具有与泵出管8的露出部分基本相等的高度高度。根据进一步的示例性实施例，处理保护环的高度可稍微小于泵出管8的露出部分的高度，只要是处理保护环的尺寸可对泵出管8提供充分的保护便可。根据进一步的实施例，优选是，处理保护环16的高度小于或等于泵出管8的高度，来避免造成可能会影响层压的VIG单元20外观的明显的叠积高度。当从图3-6上面俯视时，环16可以是图4A-4B中所示出的圆形，或是椭圆形、基本圆形、基本方形，和/或基本矩形的形状。
参照图4A和4B，示出示例性处理保护环16的仰视图。根据示例性实施例处理保护环16，横断面可以是常规圆形，其他方面可为圆柱形。当然，只要可在如上所述的层压过程期间被用来充分保护泵出管8，其可以是其他合适的几何形。图4B是示例性处理保护环16的仰视图，示出粘合剂17，例如3MVHB胶带，或类似等，用于在层压过程之前将处理保护环16粘合至基片的表面，例如，VIG单元20的基片3。如上所述，根据示例性实施例，优选是，处理保护环16的的高度可设置为小于或基本上等于泵出管8的露出部分的高度，且优选是具有足够的高度，从而在层压过程期间对泵出管8的露出部分提供保护。应注意，通过在层压之前提供处理保护环16，示例性实施例中的层压过程期间可避免提供盖子的必要性。因此，如以下所述，可在层压膜14和层压基片15中的孔11上配置盖子，其被用来容纳泵出管8的突出部分。
如上所述，在层压过程完成后(即，通过基于聚合物的粘合剂14将基片15层压至基片3之后)，可在如上所述的孔11上配置保护盖，通过遮盖露出的泵出管8来提供进一步的保护，并通过遮盖层压膜14和附加的层压基片15中的层压期间被形成用来容纳露出的泵出管口8的孔11，例如通过遮盖泵出管8与孔的任何潜在的未对准或非同心排列，否则可看见，来进一步提高美观性。
现参照图5，以横截面示出层压的VIG单元20，包括：层压的基片15、层压膜14、处理保护环16和保护盖47。图5与图3相似，但包括保护盖47的示图。保护盖47可配置在孔(参照图3的11)上，来容纳如上所述的泵出管8的露出部分和处理保护环16。保护盖47可通过胶带19被粘附在附加的层压玻璃基片15的外表面上，例如3M VHB胶带，或类似等。优选是，保护盖47的尺寸可完全遮盖孔11并具有较低的轮廓，来进一步提高层压的VIG单元20的美观性。例如，保护盖47包括内腔21，其直径和深度足以a容纳泵出管8、处理保护环16，并完全遮盖层压基片15中的孔11。盖子的基座部分的表面区域须可容纳足够的胶带，向层压基片15提供安全连接。
保护盖47也可选择性在位于盖子侧面的外围附近配置定位棱18，其面对层压的玻璃基片15，常规圆形的保护盖47(例如，见图5-6)。优选是，定位棱18可啮合或非常靠近层压基片15中的孔11的内部，来为保护盖提供附加的保护强度，一旦保护盖被放置于层压基片15(例如，见图5)中的孔上，来进一步限制保护盖的移动。
图6A和6B分别是示例性实施例的保护盖47的仰视图和横截面图。参照图6A，保护盖47可具有常规的环形。定位棱18通常符合该形状并配置在保护盖47的侧面的外围区域中，来啮合层压基片15中的孔。根据图6A的示例性实施例，示出胶带19，例如3MVHB胶带，或类似等。参照图6B，根据一个示例性实施例的保护盖47的横截面图。如图6B所示，选择性的定位棱18也可与如上所述的保护盖47一起被提供。根据优选的示例性实施例，定位棱18的外径D2可啮合层压基片15中所形成的孔，或近乎啮合孔。定位棱18的内径D1可足以将处理保护环16和泵出管8的露出部分容纳至由保护盖47的顶部和定位棱18定义的腔21中。
虽然保护盖47被示出具有常规的环形，但应理解，可使用任何合适的形状。此外，可使用与圆形的定位棱18结合的多边形的外观形状。应理解，优选是，定位棱18的形状足以啮合至附加的层压基片15中所形成的孔的内部。根据另一个示例，定位棱18无需连续，例如，可在保护盖47的内腔21的外围附近配置一些突起。根据示例性实施例，保护盖47可包括金属、塑、硅胶，或其他一些合适的材料。此外，盖子47和玻璃基片的热膨胀系数可互相匹配，例如，约25％以下，更优选是，约20％以下，甚至更优选是在约10-20％的范围中。
图7是示出根据示例性实施例的制备层压VIG单元的示例性方法的流程图。在步骤S1中提供第一基片，例如含有玻璃的基片。在步骤S3中，提供隔离片或至柱子，例如如上所述，位于第一基片的第一主要表面和并位于互相隔开的位置，用来维持第一基片和第二基片之间的空间。在步骤S5中，提供熔块材料，例如如上所述的提供边缘密封，配置(例如，印刷或应用)在第一基片的外围边缘。在步骤S7中，提供第二基片，例如含有玻璃的基片，配置在第一基片上，将支柱或隔离片以及熔块材料夹在两个基片之间，从而定义腔。在步骤S9中，将含有第一和第二基片、隔离片和熔块材料的子组件加热至足够的水平，来形成气密边缘密封。在步骤S11中，使用泵出管将两个基片之间定义的腔排空至合适的真空水平，例如低于大气压。在步骤S13中，腔可被选选性地清洁，例如使用类似等离子清洗的合适的过程，但并不局限于此，如2011年5月31日提交的美国专利申请No.13/149,085和美国专利No.6,692,600中所公开的，其全部内容被纳入此处作为参考。
在步骤S15中，泵出管可通过任何合适的方法被密封，例如使用激光熔化，将管露于其他热能，或类似等，但并不局限于此。在步骤S17中，公开类型以及如上所述的处理保护环可配置在通过露出和密封的泵出管附近。处理保护环可通过胶带被粘合至第二基片，例如，3MVHB胶带但并不局限于此。在步骤S19中，在第二基片上配置层压膜和附加的基片，并包括孔用来容纳露出的密封的泵出管和处理保护环。例如层压膜可含有基于聚合物的粘合剂，例如PVB。应注意，如此形成的层压VIG单元具有一系列基本对齐的孔，其容纳露出的泵出管和周围的处理保护环。在步骤S21中，提供保护盖47，可用来遮盖孔和露出的泵出管以及处理保护环。优选是，保护盖中的定位棱可配置用来啮合层压玻璃基片中孔的内表面。
在本发明的实施例中，提供一种真空绝缘玻璃窗组件，包括：第一和第二基本平行隔开的基本透明的基片；密封，至少位于所述第一和第二隔开的基片之间，所述密封和所述第一和第二基片在其之间定义腔，所述腔在低于大气压的压力下；泵出管，至少部分延伸穿过所述第一基片中的孔，从而与所述腔联通并延伸至所述第一基片的外部主表面之外；和保护环，配置在所述第一基片的外部主表面附近，从而至少部分包围所述真空绝缘玻璃窗组件的所述泵出管。
如前段落中所述的真空绝缘玻璃窗组件，所述玻璃窗组件可进一步包括：层压在所述第一基片之上的第三基片。
如前两个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，可进一步包括：含有聚合物的层压膜，配置在所述第一基片和所述第三基片之间，至少使所述第一和第二基片互相层压。
如前三个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，可进一步包括：盖子，配置在所述泵出管和所述保护环之上。配置在每一个所述泵出管、所述保护环、和所述第三基片中所形成的开口之上。
如前四个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述盖子可包括：定位棱，位于面对所述第三基片的所述盖子的一侧上。所述定位棱啮合于或位于所述第三基片中所形成的孔的内表面附近。
如前五个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述保护环的高度可小于或基本等于延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分的高度。
如前六个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述保护环的内径足够容纳延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分，当所述保护环配置在所述第一基片之上和/或上时，不进入接触延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分。
如前七个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述泵出管可包含玻璃。
如前八个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述保护环，可通过粘合带被固定至所述第一基片的外部主表面。
如前九个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述第一和第二基片可为玻璃基片。
如前十个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的一部分可被密封。
如前十一个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，可进一步包括多个隔离片，配置在所述第一和第二基片之间的所述腔中。
如前十二个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述密封可为边缘密封。
如前十三个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述密封可包括玻璃熔块。
如前十四个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述保护环可为常规的圆柱形。
如前十五个段落中任何一项的真空绝缘玻璃窗组件，所述密封可包括钒和/或焊料玻璃。
如上所述，虽然参照示例性实施例对本发明进行了说明，但是应理解，本发明并不局限于所述实施例，本领域的普通技术人员可进行各种修改和变形，修改将由后附的权利要求范围定义。

Claims (26)

1.一种真空绝缘玻璃窗组件，包括：
第一和第二平行隔开的透明的基片；
密封，至少位于所述第一和第二隔开的基片之间，所述密封和所述第一和第二基片在其之间定义腔，所述腔在低于大气压的压力下；
泵出管，至少部分延伸穿过所述第一基片中的孔，从而与所述腔联通并延伸至所述第一基片的外部主表面之外；
保护环，配置在所述第一基片的外部主表面附近，从而至少部分包围所述真空绝缘玻璃窗组件的所述泵出管；
其中，所述保护环与所述泵出管间隔开，使得所述保护环不会接触所述泵出管；
其中，在所述保护环和所述泵出管之间设有以密封的方式使所述泵出管固定的材料；
其中，相对于所述第一基片的外部主表面，所述保护环的高度不大于所述泵出管的高度。
2.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，进一步包括：层压在所述第一基片之上的第三基片。
3.如权利要求2所述的真空绝缘玻璃窗组件，进一步包括：含有聚合物的层压膜，配置在所述第一基片和所述第三基片之间，至少使所述第一和第三基片互相层压。
4.如权利要求2所述的真空绝缘玻璃窗组件，进一步包括：保护盖，配置在所述泵出管和所述保护环之上。
5.如权利要求2所述的真空绝缘玻璃窗组件，进一步包括：保护盖，配置在每一个所述泵出管、所述保护环、和所述第三基片中所形成的开口之上。
6.如权利要求5所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述保护盖包括：定位棱，位于面对所述第三基片的所述保护盖的一侧上。
7.如权利要求6所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述定位棱啮合于或位于所述第三基片中所形成的孔的内表面附近。
8.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述保护环的内径足够容纳延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分，当所述保护环配置在所述第一基片之上和/或上时，不进入接触延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分。
9.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述泵出管包含玻璃。
10.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述保护环，通过胶带被固定至所述第一基片的外部主表面。
11.如权利要求4所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述保护盖，通过粘合剂被固定至所述第三基片的外表面。
12.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述第一和第二基片为玻璃基片。
13.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的一部分被密封。
14.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，进一步包括：多个隔离片，配置在所述第一和第二基片之间的所述腔中。
15.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述密封为边缘密封。
16.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述密封包括玻璃熔块。
17.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述保护环为圆柱形。
18.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述密封包括钒和/或焊料玻璃。
19.如权利要求2所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述第一、第二、第三基片包含玻璃。
20.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，其中，所述保护环具有矩形的形状。
21.如权利要求1所述的真空绝缘玻璃窗组件，还包括保护盖，该保护盖同时位于所述泵出管和所述保护环之上，其中，所述保护盖横向延伸超过所述保护环，并且没有结构直接位于所述保护盖和所述保护环之间。
22.一种层压的真空绝缘玻璃组件，包括：
第一和第二平行隔开的玻璃基片；
外围边缘密封，配置在所述第一和第二隔开的玻璃基片附近，所述边缘密封和所述第一和第二玻璃基片在其之间定义腔，所述腔在低于大气压的压力下；
泵出管，从所述第一玻璃基片延伸，穿过所述第一玻璃基片的至少一部分并延伸至所述第一玻璃基片的外表面之外；
保护环，配置在所述泵出管的部分附近；
第三玻璃基片，被层压在所述第一玻璃基片之上，所述第三玻璃基片包括开口，在所述泵出管和所述保护环所在位置中；和
保护盖，位于所述第三玻璃基片中的所述开口之上，其中，所述保护盖横向延伸超过所述保护环，并且没有结构直接位于所述保护盖和所述保护环之间；
其中，所述保护环与所述泵出管间隔开，使得所述保护环不会接触所述泵出管；
其中，相对于所述第一玻璃基片的外部主表面，所述保护环的高度不大于所述泵出管的高度。
23.如权利要求22所述的真空绝缘玻璃组件，进一步包括：层压膜，配置在所述第一玻璃基片和所述第三玻璃基片之间。
24.如权利要求22所述的真空绝缘玻璃组件，其中，所述保护盖包括：定位棱，位于面对所述第三玻璃基片的所述保护盖的一侧上的所述保护盖外围附近。
25.如权利要求22所述的真空绝缘玻璃组件，其中，定位棱与所述第三玻璃基片中形成的孔的内表面啮合。
26.如权利要求22所述的真空绝缘玻璃组件，其中，所述密封包含钒、钡、锌中的一个或多个。
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