CN104226254A - 吸附剂、吸附剂的制造方法、水处理系统及水处理罐 - Google Patents

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CN104226254A CN201410063135.2A CN201410063135A CN104226254A CN 104226254 A CN104226254 A CN 104226254A CN 201410063135 A CN201410063135 A CN 201410063135A CN 104226254 A CN104226254 A CN 104226254A
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辻秀之
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Abstract

本发明提供选择性优异的吸附剂。实施方式的吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。

Description

吸附剂、吸附剂的制造方法、水处理系统及水处理罐
技术领域
实施方式涉及吸附剂、吸附剂的制造方法、水处理系统及水处理罐。
背景技术
金属长期以来多用于产业上，由于其大多是有害的，因此，因被污染的工厂排水，过去曾经引起各种各样的公害。近年来，金属虽然被去除至极低浓度，但其去除技术大部分是凝集沉淀处理，金属被污泥化后进行填埋处置。金属如果被排放是有害的，但如果被回收的话，变为有价值的物质也不少。回收溶液中含有的金属的方法可举出沉淀分离法、电解法、溶剂提取法、离子交换树脂法、螯合物树脂法等，排水的重金属处理经常使用可处理至极低浓度的螯合物树脂法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特许第3481617号
发明内容
发明所要解决的课题
实施方式提供具有高选择性的吸附剂。
用于解决课题的手段
实施方式的吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自双齿配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。
附图说明
图1是使用实施方式的吸附剂的水处理系统的概念图；
图2是与配管连接的水处理罐的概念图；
图3是实施方式的吸附剂的傅里叶变换红外分光分析的光谱；
图4是表示实施例1和比较例1的吸附剂的吸附试验结果的图；
图5是表示实施例8的吸附剂的吸附试验结果的图。
符号说明
T1、T2：水处理用柱、P1：泵、M1、M2、M3：浓度测定装置、C1：控制装置、W1：排水贮存罐、L1、L2、L4：排水供给管线、L3、L5、L6：排水排出管线、V1、V2、V3、V4、V5：阀门、X1、X2：接触效率促进装置、1：吸附剂、2：罐、3：隔板、4：配管
具体实施方式
(吸附剂)
本实施方式的吸附剂在无机多孔质体的表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体。以下，对各构成要素进行详述。予以说明，吸附对象是向螯合物配位的离子。实施方式的吸附剂是将吸附对象的离子用于铸型模并进行刻印的物质。金属离子是与双齿氮螯合物官能团形成螯合物结构的金属离子。其中，从选择性的观点考虑，优选将第四周期的过渡金属即Mn、Fe、Co、Ni、Cu、或Cd、Hg、Zn或Ag作为铸型模而刻印的吸附剂。铸型模也可以使用两种以上的金属离子。
＜双齿氮螯合物官能团＞
本实施方式中使用的具有双齿氮螯合物官能团的化合物的种类没有特别限定，但优选下述含有配体的化合物。作为具有实施方式的官能团的化合物，可以举出容易获得的N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基)丙基二甲氧基甲基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基)丙基三乙氧基硅烷、N-(3-(二甲氧基甲基甲硅烷基)异丁基)乙二胺。
＜配体＞
实施方式的吸附剂含有具有双齿氮螯合物官能团的配体，配对的二分子氮螯合物官能团中所含有的四个氮成为一组。而且，不论哪个氮都存在于附近。实施方式的配体不是通过聚合物母体刻印铸型模，而是存在于载体上。具有该官能团的配体优选具有乙二胺结构的配体。实施方式的吸附剂若用傅里叶变换红外分光分析进行测定，则在1375cm-1以上1400cm-1以下附近具有源自配体的峰。实施方式的吸附剂优选该1375cm-1以上1400cm-1以下附近的峰的半峰全宽窄。该峰的半峰全宽通过吸附对象物的刻印而变窄。认为这是因为配体的修饰结构收敛成与刻印相对应的结构。予以说明，因峰漂移或峰宽不同，有在1375cm-1以上1400cm-1以下的范围不含源自配体的峰的情况，因此使用称为源自配体的峰附近的词句对其进行了规定。在此，所谓附近，作为具体例为±50cm-1(1325cm-1以上1450cm-1以下)，但在峰漂移或峰宽大的情况下，并不限定于此。
1375cm-1以上1400cm-1以下附近的峰的半峰全宽，优选5cm-1以上100cm-1以下。若在该范围内，则可获得吸附的金属离子的选择性。更优选5cm-1以上50cm-1以下。另外，通过使用适合配体的峰，能够进一步改善吸附物的选择性。这时的1375cm-1以上1400cm-1以下附近的峰的半峰全宽为5cm-1以上15cm-1以下，其配体例如为3-(2-氨基乙基氨基)丙基二甲氧基甲基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基)丙基三乙氧基硅烷和N-(3-(二甲氧基甲基甲硅烷基)异丁基)乙二胺。
若该半峰全宽大，则配对的配体失去特异性而存在于单体表面，使作为吸附对象物的金属离子随机配位。即，吸附的金属离子的特异性就会失去或变低。因此，这种吸附剂对特定离子的吸附剂不适合。
在吸附剂中，从吸附官能团和无机多孔质体的平衡观点考虑，优选含有4wt％以上30wt％以下的配体。在含有4wt％以下的情况下，吸附量少，在含有30wt％以上的情况下，不能高效地利用无机多孔质体的细孔。配体浓度通过CHN元素分析(Elemental Analysis(Carbon，Hydrogen，Nitrogen))或热量分析(Tg：Thermogravimetry)来测定。
予以说明，傅里叶变换红外分光分析在以下的条件下进行。将1mg吸附剂和10mg的KBr加入乳钵进行混合，压缩成型为φ3mm的片剂。也可以仅将KBr制成φ3mm的片剂用于背景测定。使用日本分光社制造(型号FT/IR4100)的红外分光分析仪进行傅里叶变换红外分光分析。获得含有实施方式的吸附剂的试样的光谱和仅KBr的光谱双方，将进行了背景的补正的光谱作为实施方式的吸附剂的光谱。在此，对所获得的吸附剂的光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近的峰进行分析。在此，特定的峰存在宽度是因为峰由于配体而产生了漂移，因此设定了范围。予以说明，附近某处存在宽度的主要原因也是因为同样的峰漂移。峰漂移大的情况下，可以根据吸附剂的1375cm-1以上1400cm-1以下附近的光谱特定源自配体的峰。峰漂移的补正也可以自行进行。
以1375cm-1以上1400cm-1以下附近的峰两端的根部作为基准线，计算峰的半峰全宽。实施方式的吸附剂由于是用回收对象的金属离子来刻印，因此实施方式的源自配体的峰即1375cm-1以上1400cm-1以下附近的峰变得尖细(半峰全宽变窄)。所说的该峰的半峰全宽变窄的情况，认为是配体结构收敛成了一定的结构。另一方面认为，未被刻印的吸附剂其配体结构不被对应于刻印的结构所限制，因此成为半峰全宽大的宽幅的峰。
所谓实施方式的吸附剂的双齿氮螯合物官能团，是含有下述通式(1)的结构的官能团，除R1以外的R更优选H。予以说明，R1经由连接基与载体连接。认为实施方式的吸附剂采用如下结构：通过以吸附对象物作为铸型模进行刻印，在半径的球体状区域内，存在吸附位置的一组双齿氮螯合物官能团配对的四个氮的结构。
化1
(R1是CnH2n(n＝1～5)、C6H4、C6H3(CH3)中的任一个，R2～R8分别是H、CnH2n＋1(n＝1～5)、C6H5、C6H4(CH3)中的任一个。)
作为含有上述结构的化合物，可举出硅烷偶联剂。作为实施方式所使用的硅烷偶联剂，例如可举出N-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]乙二胺(N-［3-(Trimethoxysilyl)propyl］ethylenediamine)，N-[3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基]乙二胺(N-［3-(Triethoxysilyl)propyl］ethylenediamine)，N-(3-(二甲氧基甲基甲硅烷基)异丁基)乙二胺(N-(3-(Dimethoxymethylsilyl)isobutyl)-ethylenediamine)，3-(2-氨基乙基氨基)丙基二甲氧基甲基硅烷(3-(2-Aminoethylamino)propyldimethoxymethylsilane)。这些硅烷偶联剂与载体通过硅烷偶联反应而结合，能够将配体导入载体。
＜无机多孔质体＞
实施方式的吸附剂含有无机多孔质体作为载体。无机多孔质体的种类没有特别限定，可以例示硅胶、沸石、氧化铝、磷灰石、氧化钛等。其中，从比表面积的大小、表面修饰的容易程度、形状的观点考虑，优选使用硅胶作为载体。这些载体从吸附量或处理的容易性的观点考虑，优选平均一次粒径在30μm以上400μm以下的范围，更优选40μm以上210μm以下的范围。予以说明，载体的平均一次粒径可以通过用SEM(Scanning Electron Microscope)对实施方式的吸附剂进行观察而测定。另外，实施方式的载体中有细孔，从吸附量的观点考虑，优选其平均细孔径为3.0nm以上9.0nm以下。予以说明，细孔径可以通过气体吸附法进行测定。
＜修饰方法＞
接着，对以吸附对象的铸型模被刻印在载体上的方式修饰实施方式的配体的方法进行说明。
实施方式的吸附剂的制造方法具有：使金属离子与具有双齿氮螯合物官能团的硅烷偶联剂的螯合物配位键合的工序、向硅胶表面修饰配位键合有金属离子的硅烷偶联剂的工序、以及从被修饰了的载体除去配位键合的金属离子的工序。
以下,具体地进行说明。在硅烷偶联反应时，导入一定量的作为铸型模的金属离子的盐，与铸型模离子进行了配位键合的硅烷偶联剂和载体发生反应，由此可以进行实施方式的刻印。更具体地说，首先，将硅烷偶联剂和金属离子的盐在水溶液中进行搅拌，在80℃～100℃进行1小时左右回流，获得浆料。接着，将载体与乙醇等溶剂一起投入浆料，在50℃～90℃搅拌6小时左右，获得反应物。由于在反应物中配位有金属离子，因此通过以下的清洗除掉铸型模的金属离子。用1N硝酸将反应物进行多次清洗后，用水、乙醇冲洗。清洗之后，通过使反应物干燥，能够获得实施方式的吸附剂。
相对于金属离子的盐，优选添加1.5摩尔当量以上2.3摩尔当量以下的硅烷偶联剂。若少于1.5摩尔当量，虽然维持了金属离子选择性，但是未形成配位化合物的金属增多，从这一观点考虑，不优选，若大于2.3摩尔当量，则从对象物的选择性这一观点考虑，不优选。予以说明，金属离子的盐优选不会阻碍硅烷偶联反应的盐，可以使用氯化物盐、硫酸盐、硝酸盐等。
另外，载体优选在相对于金属离子的盐的质量，添加0.1wt％以上200wt％以下的条件，制造吸附剂。若不足0.1wt％，则未反应的硅烷偶联剂及金属离子多，在制造成本、环境方面不优选，若多于200wt％，则由于向载体上修饰的吸附官能团的量减少，因此吸附量减少。
(吸附系统及吸附剂的使用方法)
接着对使用了上述吸附剂的水处理系统及其使用方法进行说明。实施方式的水处理系统具有：具备吸附剂的吸附装置、向吸附装置供应含有金属离子的被处理介质的供应装置、从吸附装置排出被处理介质的排出装置、用于测定设于吸附装置的供应侧或排出侧的至少一方的被处理介质中的金属离子的含量的测定装置、以及用于在基于来自测定装置的信息所求得的值达到事先设定好的值时，减少从所述供应装置向吸附装置的被处理介质的供应量的控制装置。
图1是表示本实施方式的金属离子吸附使用的装置的概略结构和处理系统的概念图。
如图1所示，在本装置中，填充有上述吸附剂的水处理用罐(吸附装置)T1及T2并联配置，并且，在水处理用罐T1及T2的外侧设有接触效率促进装置X1及X2。接触效率促进装置X1及X2可以采用机械搅拌装置或非接触的磁搅拌装置，但不是必须的结构要素，可以省略。
另外，在水处理用罐T1及T2上，经由排水供应管线(供应装置)L1、L2及L4，连接贮存了含有金属离子的排水(被处理介质)的排水贮存罐W1，经由排水排出管线(排出装置)L3、L5及L6与外部连接。
予以说明，在供应管线L1、L2及L4中，分别设有阀门(控制装置)V1、V2及V4，在排出管线L3及L5中，分别设有阀门(控制装置)V3及V5。另外，在供应管线L1中设有泵(控制装置)P1。此外，在排水贮存罐W1、供应管线L1及排出管线L6中，分别设有浓度测定装置(测定装置)M1、M2及M3。
另外，上述阀门、泵的控制及测定装置的测定值的监控是通过控制装置C1进行统一集中管理。
图2表示与配管4(L2-L4)连接的填充有吸附剂的水处理用罐T1、T2的概念剖面图。图中的箭头表示处理水(含有金属离子的被处理介质)的流动方向。水处理用罐T1、T2由吸附剂1、容纳吸附剂1的罐2、用于不使吸附剂向罐2外漏出的隔板3构成。作为水处理用罐T1、T2，可以是罐2本身可更换的筒型的形式，也可以是可更换罐2内的吸附剂的形式。除金属离子以外还有吸附、回收的吸附剂的情况下，可以将其它吸附剂容纳在罐2内。
接着，对使用图1所示的装置的金属离子的吸附操作进行说明。
首先，对水处理用罐T1及T2，从罐W1利用泵P1通过排水供应管线L1、L2及L4向水处理用罐T1及T2供应排水。这时，排水中的金属离子被水处理用罐T1及T2吸附，吸附后的排水通过排水排出管线L3、L5向外部排出。
这时，根据需要驱动接触效率促进装置X1及X2，使填充在水处理用罐T1及T2内的吸附剂和排水的接触面积增大，能够提高水处理用罐T1及T2对金属离子的吸附效率。
在此，通过水处理用罐T1及T2的、设于供应侧的浓度测定装置M2和设于排出侧的浓度测定装置M3，观测水处理用罐T1及T2的吸附状态。吸附顺利地进行的情况下，通过浓度测定装置M3所测定的金属离子的浓度，显示比利用浓度测定装置M2所测定的金属离子的浓度低的值。但是，随着水处理用罐T1及T2的金属离子的吸附逐渐进行，配置在供应侧及排出侧的浓度测定装置M2及M3的所述金属离子的浓度差减少。
因此，判断为浓度测定装置M3达到事先设定的规定值、水处理用罐T1及T2对金属离子的吸附能达到饱和的情况下，基于来自浓度测定装置M2、M3的信息，控制装置C1使泵P1暂时停止，关闭阀门V2、V3及V4，停止向水处理用罐T1及T2的排水的供应。
予以说明，图1中未图示，在排水的pH发生改变的情况下、或者pH为强酸性或强碱性且偏离适合本实施方式的吸附剂的pH区域的情况下，也可以通过浓度测定装置M1或/及M2测定排水的pH，通过控制装置C1调节排水的pH。实施方式的金属离子吸附剂的金属离子吸附的最佳的pH例如为2以上9以下。
水处理用罐T1及T2达到饱和后，适当更换为填充有新的吸附剂的水处理用罐，金属离子吸附达到饱和的水处理用罐T1及T2被供至适当必要的后处理。从水处理罐中提取金属离子时，例如用1N的硝酸进行冲洗等即可。
吸附的金属离子可以通过向金属离子吸附后的罐通入0.1N～1N的酸、或将吸附剂浸渍于酸中而向溶液中提取。作为所使用的酸，从价格方面考虑，优选使用盐酸、硝酸、硫酸等无机酸，但不限于这些。另外，也可以使用螯合物试剂作为提取剂。作为螯合物试剂可举出EDTA、DTPA、HEDP等，但不限于这些。
予以说明，在上述例子中，对使用水处理用罐的排水中的金属离子的吸附系统及其操作进行了说明，但通过向如上所述的罐中通入含有金属离子的排气，也能够吸附除去排气中的金属离子。
接着，通过实施例进一步详细地说明本发明。
(实施例1)
向10ml水中加入氯化铜二水合物0.577ｇ(3.38mmol)和N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷1.48ml(6.77mmol)，在100℃回流1小时，获得深蓝色的浆料。在其中加入乙醇100ml和硅胶2.00ｇ，在80℃搅拌6小时，获得深蓝色的化合物。将该化合物过滤，用1N硝酸进行清洗，使其变成白色。用1N硝酸反复清洗5次后，用水清洗再用乙醇进行清洗。将获得的化合物在60℃进行干燥，获得白色的金属吸附剂。用上述方法对所获得的吸附剂进行傅里叶变换红外分光分析。将结果示于图3。图3中表示了实施例1、比较例1和未修饰硅胶的IR光谱。实施例1的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为13.5cm-1。
用以下的方法进行吸附剂的性能评价试验。对于吸附选择性，预备含有铸型模的金属离子的1.00mmol的CuCl2和溶解有选自与铸型模金属离子不同的1.00mmol的NiCl2、ZnCl2、CoCl2和FeCl3中的一种的四种被处理水。予以说明，被处理水使用在0.1M的乙酸水溶液14.8ml和0.1M的乙酸钠水溶液35.2ml中加入纯水至刻度100ml的缓冲液。向预备的被处理水10ml中加入50mg的吸附剂，用旋转混合器在室温下搅拌24小时，之后，用ICP-AES(Inductively CoupledPlasma-Atomic Emission Spectrometry)进行测定。在ICP-AES分析测定前，使试验液通过0.2μm纤维素滤器，对过滤液进行测定。
根据ICP-AES的分析结果求得分离因数(S.F.)。S.F.根据下式求得。S.F.＝［M］s/［M］l＊［Mn］l/［Mn］s(［M］s：吸附平衡时的铸型模金属离子吸附量(mmol/ｇ)、［M］l：吸附平衡时的溶液浓度(mmol/l)、［Mn］l：吸附平衡时的不是铸型模金属的金属离子溶液浓度(mmol/l)、［Mn］s：吸附平衡时的不是铸型模的金属离子的吸附量(mmol/ｇ)。S.F.汇总于表1。
(比较例1)
在吸附剂的制造中，除了不使用氯化铜二水合物以外，进行和实施例1同样的操作，获得白色的金属吸附剂。和实施例1同样地进行性能评价试验。比较例1的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为113.1cm-1。
从图3的光谱来看，仅在实施例1的吸附剂中，确认在1375cm-1以上1400cm-1以下附近有尖细的吸收峰。认为实施例1的修饰部位的结构收敛成一定的结构。
图4中汇总了实施例1和比较例1的吸附试验的结果。在图4a)中，表示被处理水使用含有Cu离子和Zn离子的试验液的结果。图4b)中，表示被处理水使用含有Cu离子和Fe离子的试验液的结果。图4c)中，表示被处理水使用含有Cu离子和Ni离子的试验液的结果。图4d)中，表示被处理水使用含有Cu离子和Co离子的试验液的结果。
可以看出，与比较例相比，实施例1的铜选择性非常高，几乎不吸附共存离子。关于铁、钴离子，对于比较例也几乎不吸附(图4b)、图4d))，认为这是吸附官能团本身的特性。
(实施例2)
除使用氯化镍六水合物0.803ｇ(3.38mmol)替代氯化铜二水合物以外，通过和实施例1同样的操作，获得白色的金属吸附剂。除对照铸型模金属离子变更被处理水的金属盐以外，和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。实施例2的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为35.1cm-1。
(实施例3)
除使用氯化锌0.461ｇ(3.38mmol)作为金属盐以外，通过和实施例1同样的操作获得白色的金属吸附剂。除对照铸型模金属离子变更被处理水的金属盐以外，和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。实施例3的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为24.1cm-1。
(实施例4)
除使用盐化钴六水合物0.804ｇ(3.38mmol)作为金属盐以外，通过和实施例1同样的操作，获得白色的金属吸附剂。除对照铸型模金属离子变更被处理水的金属盐以外，和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。实施例4的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为32.9cm-1。
(实施例5)
除使用3-(2-氨基乙基氨基)丙基二甲氧基甲基硅烷作为配体以外，和实施例1同样地操作，获得白色的金属吸附剂。和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。实施例5的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为11.4cm-1。
(实施例6)
除使用3-(2-氨基乙基氨基)丙基三乙氧基硅烷作为配体以外，和实施例1同样地操作，获得白色的金属吸附剂。和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。实施例6的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为9.3cm-1。
(实施例7)
除使用N-(3-(二甲氧基甲基甲硅烷基)异丁基)乙二胺作为配体以外，和实施例1同样地操作，获得白色的金属吸附剂。和实施例1同样地进行了性能评价试验。表1中表示了S.F.值。实施例7的在1375cm-1以上1400cm-1以下附近所看到的吸收峰的半峰全宽为14.7cm-1。
(比较例2)
对市售的亚氨基二乙酸型螯合物树脂CR11(三菱化学制)进行性能评价。和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。
(比较例3)
对市售的聚胺型螯合物树脂CR20(三菱化学制)进行性能评价。和实施例1同样地进行性能评价试验。表1中表示了S.F.值。
［表1］
从图3、4、表1可以了解，相对于比较例的吸附剂而言，实施例的吸附剂显示出明显高的金属选择性。
(实施例8)
相对于氯化铜二水合物0.577ｇ(3.38mmol)，改变N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷当量数，和实施例1同样地进行合成。和实施例1同样地进行性能评价试验。将相对于锌的S.F.汇总于图5。
从图5可知，相对于金属离子，若N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷为2摩尔当量以上，则对象物的选择性显著降低。认为这是因为未与金属离子络合的N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷增加，且其向无机多孔质体修饰的量增加。另外，相对于金属离子，在2摩尔当量以下的区域中，选择性为同等程度。一般认为这是因为金属离子和N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷1：2的络合物是稳定的，在金属离子过量地存在的情况下，所述络合物也会成为主要的生成物。因此从选择性的观点考虑，可以说所添加的N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷的量优选2摩尔当量以下。
(实施例9)
除使用3-(2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基甲基硅烷作为配体以外，和实施例1同样地操作，获得白色的金属吸附剂。在实施例9中，在1375cm-1以上1400cm-1以下附近也确认尖细的吸收峰。
以上，说明了本发明的几个实施方式，但这些实施方式不是限定发明的范围的意思，只是作为例子进行了揭示。这些新型的实施方式可以通过其它各种各样的形式进行实施，在不脱离发明的宗旨的范围，可以进行各种省略、调换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围及宗旨内，并且包含在权利要求书所记载的发明和其均等的范围内。

Claims (17)

1.吸附剂，其是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，
在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自所述配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。
2.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述配体具有乙二胺结构。
3.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述配体在吸附剂中含有4wt％以上30wt％以下。
4.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述无机多孔质体的粒径为30μm～400μm。
5.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述无机多孔质体的细孔径为3.0nm～9.0nm。
6.根据权利要求1所述的吸附剂，其中，所述无机多孔质体为硅胶。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的吸附剂，其中，在半径 的球体状区域内存在所述配体配对的四个氮。
8.吸附剂的制造方法，其具有：
使金属离子与具有双齿氮螯合物官能团的硅烷偶联剂的螯合物配位键合的工序、
将配位键合了所述金属离子的硅烷偶联剂向硅胶表面进行修饰的工序、以及
将所述配位键合的金属离子从所述被修饰的载体去除的工序。
9.根据权利要求8所述的吸附剂的制造方法，其中，所述硅烷偶联剂相对于所述金属离子为1.5摩尔当量以上2.3摩尔当量的比率，
通过将所述硅烷偶联剂和所述金属离子的盐进行混合而形成配位键合。
10.水处理系统，其具有：
吸附装置，具备吸附剂，所述吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自所述配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下；
供应装置，向吸附装置供应含有金属离子的被处理介质；
排出装置，从所述吸附装置排出所述被处理介质；
测定装置，设于所述吸附装置的供应侧或排出侧的至少一方的，用于测定所述被处理介质中的金属离子的含量；以及
控制装置，在基于来自所述测定装置的信息而求得的值达到事先设定的值时，用于减少从所述供应装置向吸附装置供应的被处理介质的供应量。
11.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述配体具有乙二胺结构。
12.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述配体在吸附剂中含有4wt％以上30wt％以下。
13.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述无机多孔质体的粒径为30μm～400μm。
14.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述无机多孔质体的细孔径为3.0nm～9.0nm。
15.根据权利要求10所述的水处理系统，其中，所述无机多孔质体为硅胶。
16.根据权利要求10～15中任一项所述的水处理系统，其中，在半径的球体状区域内存在所述配体配对的四个氮。
17.水处理用罐，其具备吸附剂，所述吸附剂是在表面具备具有双齿氮螯合物官能团的配体的无机多孔质体，在红外吸收光谱的1375cm-1以上1400cm-1以下附近观测到的源自所述配体的峰的半峰全宽为5cm-1以上50cm-1以下。
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