CN104174862B - 一种球形钨粉的制备方法 - Google Patents

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本发明公开了一种球形钨粉的制备方法,属于粉末制备领域。首先选取还原钨粉颗粒,在350~550℃下氧化30 min~2 h,然后把氧化后的粉末放入球形化装置中,在转速为3000~5000r/min和时间为5~120min的条件下对颗粒状钨粉进行整形处理,通过筛分处理后,即得近球形钨粉颗粒。由于钨粉突出的棱角处比表面积大,化学活性高,活化能低,所以在氧化过程中氧化速率高于钨粉表面其他部位的氧化反应速率,在球形化装置中进行整形处理时,由于棱角处氧化钨质硬而脆,在整形过中更容易脱落,而钨具有一定的金属延展性,便可以得到比原钨粉颗粒表面光洁度高的球形钨粉颗粒。本发明大大简化了球形钨粉的生产工艺技术,制备技术工艺简单、参数控制方便、能耗低、不会产生二次污染,并且处理过程中不使用酸性或碱性溶液,处理更加环保、成本低。

Description

一种球形钨粉的制备方法
技术领域
本发明公开了一种球形钨粉的制备方法,属于粉末制备领域。
背景技术
由于钨的耐蚀性好、熔点高、膨胀系数小、弹性模量高等优点,除广泛应用于热喷涂、多孔材料和注射成型粉末冶金的制备中,钨及其合金还用于火箭喷管、穿甲弹芯、发汗材料等航天、武器制造等领域。工业中常用的钨粉是通过氢还原氧化钨得到的,通过还原得到的钨粉颗粒形状不规则,粉末流动性差,堆积密度低。随着科技的发展,对原料钨粉也提出了新的要求,球形钨粉由于其优异的性能得到了广泛的关注。用球形钨粉制备出的多孔材料具有孔隙分布均匀的特点,通过控制生产工艺可以控制产品的透气性能,也可以制备大功率脉冲微波管的阴极、电子钡钨阴极和气体过滤材料等;由于球形钨粉流动性好,应用于热喷涂领域得到的涂层更均匀、致密,产品的耐磨性好。一般制备的常用工艺是将钨粉进行冷等静压或模压成形,而后对压坯进行后处理,钨粉的成形性对于钨粉的性能影响很大,压坯强度低会容易出现裂纹、掉边、掉角等现象。粉末的流动性和粒度分布对于压坯质量影响很大,这是因为流动性好的粉末易于均匀填充模腔,在压力作用下粉末尺寸容易控制,密度分布均匀,弹性后效小。球形钨粉呈球形或近球形,粉末流动性好,并且具有高振实密度的特点。作为热喷涂、多孔材料、粉末冶金工业等领域的高新材料,球形钨粉由于其制备技术的特殊性和优异的使用性能,引起国内外研究者的关注。
目前成功制备球形钨粉主要有物理法和化学法。物理法主要有电弧喷枪法和等离子体法,其中电弧喷枪法设备较为简单,但是产品质量不够稳定,一致性较差,不利于工业化生产;等离子体法具有等离子体能量高度集中、使用方便灵活,热利用率高、纯度高、球形度高等优点,但是能耗高,设备复杂。化学法主要有气相沉积法、钨粉重氧化--还原法、仲钨酸铵循环氧化还原法和钨酸铵超生搅拌—干燥—还原法,但是普遍存在的问题是工艺路线长,参数不易控制,产生的废液污染,不适合工业化生产。
相对于以上这些方法,本发明大大简化了近球形钨粉的生产工艺技术,制备工艺流程简单,具有生产效率高、周期短、易于控制参数、生产成本低等特点,并且制备近球形钨粉过程中不会产生废液等二次污染。
发明内容
本发明的目的是提供一种低成本、易于大规模生产,参数控制容易的球形钨粉的制备方法。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案包括以下步骤:取颗粒状钨粉末,放入烧结炉中进行氧化处理;把氧化处理后的粉末移入球形化设备(HYB)中进行整形处理,然后把球形化整形后的氧化钨粉进行筛分,以除去球形化处理后的粉末细小颗粒和整形掉落的细的氧化钨颗粒;将筛分之后的钨粉粉末在氢气气氛下还原,以去除颗粒表面少量的残留氧化钨,从而得到粒度均匀的球形钨粉。
进一步的,钨粉氧化处理温度为350~550℃,氧化时间0.5~2h。
进一步的,球形化设备处理转速为3000~5000r/min,处理时间为5~120min。
所述的还原工艺参数为,温度650~750℃,时间20~40min。
所述为颗粒状钨粉颗粒,对于粒度没有特殊要求。
优选的,一种球形钨粉的制备方法,主要包括以下几个步骤:
1、称量一定量的钨粉,然后把钨粉放入炉子中在350~550℃,氧化处理0.5~2h,使得钨粉棱角部分先被氧化,处理的同时进行搅拌使得钨粉棱角处氧化完全。
2、将步骤1中的部分氧化后的粉末颗粒移入球形化设备中,在转速3000~5000r/min,处理时间为5~120min的条件下对于颗粒进行球形化处理,以去除氧化的棱角;
3、将步骤2中得到的钨粉颗粒进行筛分处理,然后放入还原炉中,还原温度650~750℃,还原时间20~40min,从而得到粒度分布均匀、球形度和表面光洁度高的球形钨粉颗粒。
本发明的优点是采用机械方法球形化处理颗粒状钨粉末,处理之前钨粉颗粒呈现出多角颗粒状,表面粗糙、棱角分明;处理之后的钨粉颗粒表面光洁度高,球形度比较好,并且粒度分布均匀。同时,这种方法大大简化了球形钨粉的制备流程,没有污染,处理方法和工艺流程简单,参数易于控制。
附图说明
图1是钨粉末颗粒形貌。
图2是本发明实施例1制得的钨粉形貌。
图3是本发明实施例2制得的钨粉形貌。
具体的实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。
实施例1
1) 称取1 kg钨粉颗粒,在烧结炉中于550℃下氧化60min;
2)将步骤1中的粉末颗粒移入到球形化设备中,在转速5000r/min,处理时间为60min的条件下对局部氧化钨粉进行球形化整形处理;
3) 将步骤2中球形化处理后的钨粉颗粒经过筛分,得到粒度均匀的球形钨粉末;
4) 将步骤3中的近球形钨粉放入还原炉中还原,还原温度为650℃,还原时间40min。从而制得球形的钨粉颗粒(见图2)。
实施例2
1) 称取2 kg钨粉颗粒,在烧结炉中于550℃下氧化30min;
2)将步骤1中的粉末颗粒移入到球形化设备中,在转速3000r/min,处理时间为60min的条件下对钨粉进行球形化整形处理;
3) 将步骤2中球形化处理后的氧化钨粉颗粒经过筛分,得到粒度均匀的球形钨粉末;
4) 将步骤3中的近球形钨粉颗粒放入还原炉中还原,还原温度为650℃,还原时间20min。从而制得球形的钨粉颗粒(见图3)。
实施例3
1) 称取1.5kg钨粉颗粒,在烧结炉中于350℃下氧化60min;
2)将步骤1中的粉末颗粒移入到球形化设备中,在转速5000r/min,处理时间为30min的条件下对钨粉进行球形化整形处理;
3) 将步骤2中球形化处理后的钨粉颗粒经过筛分,得到粒度均匀的球形钨粉末;
4) 将步骤3中的球形钨粉放入还原炉中还原,还原温度为650℃,还原时间20min。制得粒度分布均匀的球形钨粉颗粒。
实施例4
1) 称取1.5kg钨粉颗粒,在烧结炉中于500℃下氧化120min;
2)将步骤1中的粉末颗粒移入到球形化设备中,在转速5000r/min,处理时间为5 min的条件下对钨粉进行球形化整形处理;
3) 将步骤2中球形化处理后的钨粉颗粒经过筛分,得到粒度均匀的球形钨粉末;
4) 将步骤3中的球形钨粉放入还原炉中还原,还原温度为750℃,还原时间40min。制得粒度分布均匀的球形钨粉颗粒。
实施例5
1) 称取1kg钨粉颗粒,在烧结炉中于350℃下氧化120min;
2)将步骤1中的粉末颗粒移入到球形化设备中,在转速4000r/min,处理时间为120min的条件下对钨粉进行球形化整形处理;
3) 将步骤2中球形化处理后的钨粉颗粒经过筛分,得到粒度均匀的球形钨粉末;
4) 将步骤3中的球形钨粉放入还原炉中还原,还原温度为700℃,还原时间40min。制得粒度分布均匀的球形钨粉颗粒。
实施例6
1) 称取1.5kg钨粉颗粒,在烧结炉中于500℃下氧化120min;
2)将步骤1中的粉末颗粒移入到球形化设备中,在转速4000r/min,处理时间为30min的条件下对钨粉进行球形化整形处理;
3) 将步骤2中球形化处理后的钨粉颗粒经过筛分,得到粒度均匀的球形钨粉末;
4) 将步骤3中的球形钨粉放入还原炉中还原,还原温度为750℃,还原时间20min。制得粒度分布均匀的球形钨粉颗粒。

Claims (2)

1.一种球形钨粉的制备方法,其特征在于:具体包括以下几个步骤:
A.取颗粒状还原钨粉末颗粒,放入烧结炉中进行氧化处理;
B.采用球形化设备对局部氧化后的钨粉进行整形处理,之后将整形后的钨粉进行筛分,以除去球形化处理后的粉末细小颗粒和整形掉落的细的氧化钨颗粒;
C.将筛分之后的钨粉粉末用氢气还原,以去除颗粒表面少量的残留氧化钨,从而得到粒度均匀的球形钨粉;
所述步骤A中的钨粉是直接置于空气中进行氧化处理,处理温度为350~550℃,氧化时间0.5~2h,处理的同时进行搅拌;
所述步骤C中氢气还原的工艺参数为还原温度650~750℃,时间20min。
2.根据权利要求1所述的一种球形钨粉的制备方法,其特征在于:在球形化设备处理中,处理转速为3000~4500r/min,处理时间为5~120min。
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