CN104112825B - 沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的显示装置 - Google Patents

Abstract

提供了防止在形成封装膜时发生的缺陷或确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。所述沉积掩模具有：第一部分和第二部分，所述第二部分厚于所述第一部分；所述第一部分中的至少一个开口，沉积材料穿过所述开口；以及所述第一部分中的多个通孔，所述通孔邻近和围绕所述开口，所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面，光穿过所述开口和所述多个通孔以照射所述沉积材料。

Description

沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由其制造的 显示装置

优先权要求

本申请参考于2013年4月16日向韩国专利局提交且被赋予序列号10-2013-0041835的申请，将该申请并入文本，并要求该申请的优先权。

技术领域

本发明涉及沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置，更具体地，涉及防止在形成封装膜时发生的缺陷从而确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用该沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。

背景技术

通常，制造显示装置的过程包括在衬底上形成特定膜的沉积过程。在这个沉积过程中，将包括与待在衬底上形成膜的部分对应的开口的掩模紧密地附接至衬底或者围绕衬底放置，然后使来自源的材料在穿过开口之后释放到衬底的预定区域上。

然而，在传统沉积过程中使用的掩模的情况中，诸如已经形成的膜的结构可能在用于形成特定膜的沉积过程中被破坏，或者可造成形成膜的缺陷、分层或寿命降低。

发明内容

本发明提供了一种防止在形成封装膜时发生的缺陷以确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。

根据本发明的一个方面，提供了一种沉积掩模，所述沉积掩模具有沉积材料穿过的开口和从最邻近所述开口的第一部分的上表面至下表面的多个开口，所述沉积掩模的第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度，所述第二部分次邻近于所述开口。

所述第一部分的上表面和所述第二部分的上表面可位于相同的平面。

所述第一部分中的所述多个通孔的密度可以是均匀的。

根据本发明的另一方面，提供了一种沉积掩模，所述沉积掩模具有沉积材料穿过的多个开口和最邻近所述多个开口中的每个的第一部分的上表面至下表面的多个通孔，所述沉积掩模的第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度，所述第二部分次邻近所述多个开口中的每个。

所述第一部分的上表面和所述第二部分的上表面可位于相同的平面。

所述第一部分中的所述多个通孔的密度可以是均匀的。

根据本发明的另一方面，提供了一种制造显示装置的方法，所述方法包括：在衬底上形成显示单元；形成无机膜以覆盖所述显示单元；将沉积掩模布置在所述衬底上使得沉积材料穿过的开口对应于所述显示单元，次邻近所述开口且比最邻近所述开口的所述第一部分厚的第二部分的下表面接触所述衬底的一部分使得所述沉积掩模不与所述无机膜接触，所述第一部分包括从其上表面至下表面的多个通孔，所述衬底的该部分未被所述无机膜覆盖；通过将单体沉积在所述无机膜上形成单体膜；通过将紫外线照射在所述单体膜上将所述单体膜转变成聚合物膜；以及将所述沉积掩模从所述衬底分离。

在转换过程中，所述紫外线照射在所述沉积掩模的所述第一部分和所述开口上。

所述方法还可包括：形成附加的无机膜以覆盖所述聚合物膜。

所述显示单元可包括有机发光设备。

根据本发明的另一方面，提供了一种用于制造多个显示装置的方法，所述方法包括：在衬底上形成多个显示单元；形成无机膜以覆盖所述多个显示单元中的每个；将沉积掩模布置在所述衬底上使得沉积材料穿过的多个开口对应于所述多个显示单元，次邻近所述多个开口中的每个且比最邻近所述多个开口中的每个的所述第一部分厚的第二部分的下表面接触所述衬底的未被所述衬底的所述无机膜覆盖的部分使得所述沉积掩模不与所述无机膜接触，所述第一部分包括从其上表面至下表面的多个通孔；通过将单体沉积在所述无机膜上形成单体膜；通过将紫外线照射在所述单体膜上将所述单体膜转变成聚合物膜；以及将所述沉积掩模从所述衬底分离。

在转换过程中，所述紫外线可照射在所述沉积掩模的所述第一部分和所述开口上。

所述方法还可包括：形成附加的无机膜以覆盖所述聚合物膜。

所述方法还可包括：形成附加的无机膜以覆盖所述聚合物膜；以及沿所述多个显示装置中的每个的周边切割所述衬底。

所述多个显示单元可包括有机发光设备。

根据本发明的另一方面，提供了一种显示装置，该显示装置包括：衬底；显示单元，形成于所述衬底上；无机膜，覆盖所述显示单元并且延伸至所述显示单元的外侧以接触所述衬底；位于所述无机膜上且具有第一厚度的第一聚合物膜、以及位于所述第一聚合物膜的外侧的所述无机膜上且具有比所述第一厚度小的第二厚度的第二聚合物膜；以及附加的无机膜，覆盖所述第一聚合物膜和所述第二聚合物膜。

所述显示装置还可包括：第三聚合物膜，位于所述无机膜的外侧的所述衬底上且具有比所述第一厚度小的第三厚度，所述第二无机膜覆盖所述第三聚合物膜。

所述第三厚度可小于所述第二厚度。

所述显示单元可包括有机发光设备。

所述附加的无机膜可延伸至所述无机膜的外侧以接触所述衬底。

附图说明

随着考虑结合附图、参考下面的详细描述更好地明白对本发明的更完整的理解及其伴随的许多优点，它们也将显而易见，在附图中相似的参考标号指示相同或相似的部件，其中：

图1是示意性地示出了根据本发明的一个实施方式的沉积掩模的立体图；

图2至图6是示意性地示出了根据本发明的另一个实施方式制造显示装置的过程的截面图；

图7和图8是示意性地示出了根据本发明的另一实施方式的制造显示装置的过程的截面图；

图9是示意性地示出了根据本发明的另一实施方式的沉积掩模的立体图；以及

图10和图11是示意性地示出了根据另一实施方式制造显示装置的过程的截面图。

具体实施方式

如本文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个所列的相关项的任意和全部组合。

现在参考附图更完整地描述本发明，附图中示出了本发明的实施方式。然而，本发明可以各种不同的形式实施并且不应该被解释为限制于本文所述的实施方式，而是，提供这些实施方式使得本公开彻底和完整，并且将向本领域技术人员完整传递本发明的概念。在附图中，为了清楚起见放大层和区域的厚度。

在下面描述的实施方式中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴。

而且，当用术语“在…上”、“在…顶部”和相似术语描述两个物品之间的位置关系，除非给出了包括术语“直接”的描述，一个或多个物品可位于这两个物品之间。

图1是示意性地示出了根据本发明的一个实施方式的沉积掩模400的立体图。

根据本发明的一个实施方式的沉积掩模400包括允许沉积材料穿过的开口OP。如图1所示，开口OP很大，形成于沉积掩模400的中部，并且用于形成在大面积上未被图案化的膜（被称为开口掩模）。

沉积掩模400可被划分成第一部分P1和第二部分P2，第一部分P1位于开口OP与第二部分P2之间。第二部分P2可以是沉积掩模400的外部。第二部分P2的厚度大于第一部分P1的厚度t1。

当使用沉积掩模400时，即使第二部分P2的下部与衬底接触，第一部分P1可不与衬底或已经形成于衬底上的另一结构接触。如此，即使沉积掩模400被定位在衬底上，可防止沉积掩模400破坏衬底或形成于衬底上的另一结构。为此，第一部分P1的上表面和第二部分P2的上表面可位于相同的平面，然而，第二部分P2的与衬底接触的下表面可在一个方向（-z方向）上比第一部分P1突出。

而且，多个通孔TH从第一部分P1的上表面形成至下表面。当诸如紫外线的光从沉积掩模400上面照射时，光穿过多个通孔TH并且到达衬底的位于沉积掩模400的第一部分P1下方的部分。第一部分P1中的多个通孔TH的密度可以是均匀的，由此光可均匀地照射在衬底的位于沉积掩模400的第一部分P1下方的部分以及衬底的通过开口OP露出的部分。

沉积掩模400可由金属材料（诸如SUS和/或殷钢）制成。

图2至图6是示意性地示出了根据本发明的另一个实施方式制造显示装置的方法的截面图，其中使用根据前一实施方式的沉积掩模。

首先，如图2所示，在衬底100上形成显示单元200。衬底100可由诸如玻璃和塑料的各种材料形成。显示单元200包括多个显示设备（诸如，发光设备、电场发射设备、液晶显示设备等）。在衬底100上形成显示单元200之后，形成无机膜310以覆盖显示单元200。

无机膜310可覆盖显示单元200并且延伸至显示单元200的外侧以直接接触衬底100和显示单元200的侧面部分。无机膜310可保护显示单元200免受杂质（诸如，外界的氧气和湿气）的影响，并且可包括硅氮化物和/或硅氧化物、金属氧化物、金属氮化物、金属碳酸盐等。

然后，如图3所示将参考图1描述的沉积掩模400置于衬底100上。沉积材料穿过的开口OP对应于衬底100上的显示单元200，并且第二部分P2的下表面接触衬底100的未被无机膜310覆盖的部分。如此，沉积掩模400可被布置在衬底100上且不与形成于衬底100上的无机膜310接触。第二部分P2比最邻近开口OP的第一部分P1厚，并且多个通孔TH从第一部分P1的上表面形成至下表面。

如果关于沉积掩模400的第一部分P1和第二部分P2未在沉积掩模400的下侧形成厚度差，如果已经形成于衬底100上的无机膜310接触沉积掩模400，则在无机膜310中可能产生裂缝。这最终可造成无机膜310保护显示单元200免受外界杂质的影响的功能的恶化。因此，为了避免发生这样的问题，沉积掩模400的第一部分P1和第二部分P2如上所述具有不同的厚度。

然后，如图4所示，将单体沉积在无机膜310上以形成单体膜321’。单体膜321’可使用闪蒸方法形成。例如，可通过将单体状态从高温和/或高压状态改变至低压状态来降低单体的沸点，气态的单体通过瞬间蒸发从源移动至衬底100。单体可包含丙烯酸系列、环氧系列和它们的组合。

因此，气态的单体可穿过沉积掩模400的开口OP并且在无机膜310的上表面的与开口OP对应的部分中凝结，由此形成单体膜321’。然而，在这个过程中，在穿过沉积掩模400的开口OP之后，单体可不仅在无机膜310的上表面上与开口OP对应的部分中凝结，而且通过移动至衬底100与沉积掩模400的第一部分P1之间的空间，在无机膜310的上表面上与该空间对应的部分中凝结。

图4示出了如上所述形成的单体膜322’。单体膜322’被定位在无机膜310上，并且可被定位为远离与显示单元200对应的单体膜321’。而且，单体膜321’和单体膜322’可连接。在任一情况中，随着气态单体穿过沉积掩模400的开口OP朝衬底100方向移动，形成单体膜321’，并且随着气态的单体进一步移动至衬底100与沉积掩模400之间的空间，形成单体膜322’。因此，单体膜321’的厚度t321’可大于单体膜322’的厚度t322’。

然后，如图5所示，诸如紫外线的光照射在单体膜321’和322’上以将单体膜321’和322’转变成聚合物膜321和322。多个通孔TH从沉积掩模400第一部分P1的上表面形成至下表面。当光例如从沉积掩模400上面照射时，光穿过多个通孔TH。因此，如果光线照射在沉积掩模400的开口OP和第一部分P1上，则光可不仅照射在与沉积掩模400的开口OP对应的单体膜321’上，而且照射在位于衬底的由第一部分P1遮蔽的部分上和位于沉积掩模400的下部下方的单体膜322’上。结果，单体膜321’和单体膜322’可分别转变成聚合物膜321和聚合物膜322。

而且，在形成单体膜321’和单体膜322’之后，沉积掩模400可被移除，并且光可照射在单体膜321’和322’上。然而，液态的单体膜321’和单体膜322’具有高流动性，因此单体膜321’和单体膜322’的厚度均匀性可在移除沉积掩模400的过程中或在照射光之后变得不同。因此，当单体膜321’和单体膜322’形成而沉积掩模400仍然未被移除时，可能有必要快速地照射光。因此，可通过使用包括第一部分P1中的多个通孔TH的沉积掩模400解决若干问题。

然后，可将沉积掩模400从衬底100分离，并且如图6所述可形成附加的无机膜330以覆盖聚合物膜321和322以制造显示装置。在这种情况下，无机膜310、聚合物膜321和322、以及附加的无机膜330形成封装膜300，封装膜300保护显示单元200免受杂质（诸如，外界的氧气和湿气）的影响。附加的无机膜330可由各种材料（诸如，硅氧化物和/或硅氮化物、金属氧化物、金属氮化物或金属碳酸盐等）形成。

显示单元200可包括有机发光设备，并且有机发光设备可包括中间层，中间层包括彼此面对的电极和位于电极之间的至少发光层。中间层可包含有机物，因此这种有机发光设备可容易地通过氧气和湿气被劣化。然而，在根据本实施方式的制造方法的情况中，包括无机膜310、聚合物膜321、322和附加的无机膜330的封装膜300可覆盖显示单元200以保护显示单元200免受杂质（诸如，外界的氧气和湿气）的影响。

而且，通过如上参考图5所描述地照射紫外线，将单体膜321’和单体膜322’转变成聚合物膜321和聚合物膜322。同时，如果多个通孔TH未从沉积掩模400的第一部分P1的上表面形成至下表面，光通过开口OP照射在单体膜321’上，但是光将不会照射在位于衬底的由第一部分P1遮蔽的部分处和位于沉积掩模400的下部下方的单体膜322’上。因此，单体膜322’可能未转变成聚合物膜。

如果在单体膜322’未转变成聚合物膜的状态中附加的无机膜330被形成以覆盖聚合物膜321和单体膜322’，未转变成单体膜的单体膜322’包括液体单体，因此附加的无机膜330与无机膜310之间的结合力可能变弱。结果，附加的无机膜330可能分层或者可能在随后容易地分层，在这种情况下，显示单元的有机发光设备可容易地通过外界的杂质被劣化。

然而，在根据本发明的实施方式制造显示装置的方法中，多个通孔TH如上所述从沉积掩模400的第一部分P1的上表面形成至下表面。因此，当光照射在沉积掩模400的上部时，光可不仅照射在与沉积掩模400的开口OP对应的单体膜321’上，而且照射在位于衬底的由第一部分P1遮蔽的部分处和位于沉积掩模400的那部分下方的单体膜322’上。结果，单体膜321’和单体膜322’可转变成聚合物膜321和聚合物膜322。如此，可有效地防止无机膜310与附加的无机膜330之间的结合力的恶化或附加的无机膜330的分层。

图7和图8是示意性地示出了根据本发明的另一实施方式制造显示装置的方法的截面图。

在参考图4描述的根据本发明的实施方式制造显示设备的方法中，已经描述了在无机膜310上形成单体膜321’和单体膜322’。在根据本发明的当前实施方式制造显示装置的方法的情况中，在无机膜310上形成单体膜321’和单体膜322’，并且还可在衬底的一部分中未被沉积掩模400的第二部分P2覆盖的部分上形成附加的单体膜323’，衬底的该部分未被无机膜310覆盖，如图7所示。

当使用闪沉积（flash deposition）方法等在无机膜310上形成单体膜321’时，气态的单体穿过沉积掩模400的开口OP，并且在无机膜310的上表面上凝结，以形成无机膜321’。在这个过程中，气态的单体穿过沉积掩模400的开口OP，然后不仅在无机膜310的上表面的与开口OP对应的部分中凝结，而且可移动至衬底100与沉积掩模400的第一部分P1之间的空间并且在无机膜310的上表面的与该空间对应的部分处凝结。而且，气态的单体还可进一步移动，可在衬底100的一部分中未被沉积掩模400的第二部分P2覆盖的部分处凝结，其中衬底100的该部分未被无机膜310覆盖。

单体膜323’可被形成为远离单体膜322’，如图7所示。而且，单体膜323’可连接（未示出）至单体膜322’。在任一情况中，气态的单体还移动至衬底100与沉积掩模之间的空间而不在无机膜310上凝结，因此单体膜322’的厚度可大于单体膜323’的厚度。

类似地，多个通孔从根据本发明的实施方式制造显示装置的方法中使用的沉积掩模400的第一部分P1的上表面形成至下表面。因此，当诸如紫外线的光照射在沉积掩模400的上部时，光可不仅照射在与沉积掩模400的开口OP对应的单体膜321’上，而且照射在位于沉积掩模400的第一部分P1下方的部分处的单体膜322’和单体膜323’上。结果，所有的单体膜321’、单体膜322’和单体膜323’可分别转变成聚合物膜321、聚合物膜322和聚合物膜323（图8）。如此，可有效地防止无机膜310与附加的无机膜330（图8）之间的结合力的恶化或附加的无机膜330的分层。

上面已经描述了在衬底100上形成一个显示单元200的情况，但是本发明不限于此。

将参考图9描述根据本发明的另一实施方式的沉积掩模。

根据本发明的实施方式的沉积掩模402包括多个开口OP1、OP2、OP3和OP4，沉积材料可穿过开口OP1、OP2、OP3和OP4。图9示出了沉积掩模402包括用于在大面积上形成未被图案化的膜的开口OP1、OP2、OP3和OP4。

沉积掩模402可被划分成最邻近多个开口OP1、OP2、OP3和OP4中的每个的第一部分和邻近第一部分的第二部分。第二部分的厚度大于第一部分的厚度。

当沉积掩模402被定位在衬底上时，即使沉积掩模402的第二部分的下部（在-z方向）接触衬底，沉积掩模402的第一部分可不与衬底或者已经形成于衬底上的另一结构接触。如此，即使沉积掩模402位于衬底上，可防止因沉积掩模402引起的对衬底或形成于衬底上的另一结构的破坏。为此，沉积掩模402的第一部分的上表面和沉积掩模402的第二部分的上表面可位于相同的平面，然而，沉积掩模402的第二部分的下表面可在-z方向比沉积掩模402的第一部分突出，因此第一部分的厚度将小于第二部分的厚度。

而且，多个通孔TH从沉积掩模402的第一部分的上表面形成至下表面。当诸如紫外线的光照射在沉积掩模402的上部时，光可穿过多个通孔TH并且到达由第一部分部分地遮蔽和位于沉积掩模402的下部下方的部分。沉积掩模402的第一部分的多个通孔TH的密度可以是均匀的，因此，光可均匀地照射在由第一部分部分地遮蔽和位于沉积掩模402的第一部分的下部下方的部分上。

图10和图11是示意性地示出了根据本发明的另一实施方式制造显示装置的过程的截面图。在过程中使用参考图9描述的根据前一实施方式的沉积掩模。

首先，如图10所示，在衬底100上形成多个显示单元200并且在显示单元200中的每个上形成无机膜310。衬底100可由诸如玻璃或塑料的各种材料形成。显示单元可以是有机发光设备、电场放电设备、液晶显示设备等。

在衬底100上形成显示单元200之后，形成无机膜310以覆盖显示单元200中的每个。无机膜310可接触和覆盖显示单元200中的每个，可接触和覆盖显示单元200的侧面并且可直接接触衬底100的多个部分。

然后，在如图10所示的衬底上布置如上参考图9描述的沉积掩模402。此时，沉积材料可穿过的多个开口OP1和OP2对应于衬底100上的多个显示单元200，并且厚度大于第一部分P1的第二部分P2的下表面接触衬底100的未被无机膜310覆盖的部分。如此，可在衬底100上布置沉积掩模402以不接触形成于衬底100上的无机膜310。结果，可防止对保护每个显示单元200免受杂质的影响的无机膜310的破坏。

然后，如图10所示，通过在无机膜310上沉积单体形成单体膜321’。单体膜321’可使用闪蒸形成。在这个过程中，气态的单体膜可移动至衬底与沉积掩模402的第一部分P1之间的空间，并且可在无机膜310的上表面上与该空间对应的部分中凝结，由此形成单体膜322’。

然后，诸如紫外线的光可照射在单体膜321’和322’上以将单体膜321’和322’转变成聚合物膜321和322（图11），并且在将沉积掩模402从衬底分离之后，可形成附加的无机膜330以覆盖衬底100的大部分、无机膜310以及聚合物膜321和322的全部暴露部分，如图11所示。然后，可沿显示单元200之间的部分S切割衬底100以制造多个显示装置。

即使当制造多个显示装置时，可如图8所示在衬底100上形成聚合物膜。

上面已经描述了沉积掩模402和使用沉积掩模制造显示装置的方法，但是本发明不限于此。也就是说，每个显示装置可具有如图6所示的结构，或者可具有如图8所示的结构。

根据本发明的实施方式，可提供防止在形成封装膜时发生的缺陷以确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。

尽管已经参考本发明的示例性实施方式示出和描述了本发明，但是本领域技术人员将理解，可进行形式和细节的各种变化而不背离由下面的权利要求限定的本发明的精神和范围。

Claims (12)

1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：

在衬底上形成显示单元；

在所述衬底上形成第一无机膜并且覆盖所述显示单元的所有暴露表面；

将沉积掩模设置在所述衬底上，所述沉积掩模具有第一厚度的第一区域和第二厚度的第二区域，其中所述第一区域接触所述衬底未被所述第一无机膜覆盖的部分，所述第二厚度小于所述第一厚度，所述沉积掩模不与所述第一无机膜接触，所述沉积掩模包括：所述第二区域中的开口，以及所述第二区域中的多个通孔，所述多个通孔邻近和围绕所述开口，所述通孔从所述第二区域的上表面延伸至下表面；

经由所述开口在所述第一无机膜上沉积单体来形成单体膜；

通过所述开口和所述多个通孔将紫外线照射在所述单体膜上，从而将所述单体膜转变成聚合物膜；以及

将所述沉积掩模从所述衬底分离。

2.如权利要求1所述的方法，还包括形成第二无机膜以覆盖所述聚合物膜和所述第一无机膜的暴露表面。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述显示单元包括有机发光设备。

4.一种用于制造多个显示装置的方法，所述方法包括：

在衬底上形成多个显示单元；

用相应的多个第一无机膜覆盖所述多个显示单元中的每个的暴露表面；

将沉积掩模设置在所述衬底上，所述沉积掩模具有第一厚度的第一区域和第二厚度的第二区域，其中所述第一区域接触所述衬底未被所述第一无机膜覆盖的部分，所述第二厚度小于所述第一厚度，所述沉积掩模不与所述第一无机膜接触，所述沉积掩模包括：所述第二区域中的多个开口，所述多个开口对应于所述多个显示单元，以及所述第二区域中的多个通孔，所述多个通孔邻近和围绕所述多个开口中的每个，所述通孔从所述第二区域的上表面延伸至下表面；

通过经由所述多个开口而沉积单体，在所述第一无机膜中的每个上形成单体膜；

通过所述开口和所述多个通孔将紫外线照射在所述单体膜上，从而将所述单体膜转变成聚合物膜；以及

将所述沉积掩模从所述衬底分离。

5.如权利要求4所述的方法，还包括形成第二无机膜以覆盖所述聚合物膜和所述第一无机膜的暴露表面。

6.如权利要求4所述的方法，还包括：

形成第二无机膜以覆盖所述聚合物膜和所述第一无机膜的暴露部分；以及

沿所述多个显示装置中的每个的周边切割所述衬底。

7.如权利要求4所述的方法，其中所述多个显示单元包括有机发光设备。

8.一种显示装置，包括：

衬底；

显示单元，形成于所述衬底上；

第一无机膜，覆盖所述显示单元并且延伸至所述显示单元的外侧以接触所述衬底；

位于所述第一无机膜上并且具有第一厚度的第一聚合物膜、以及位于所述第一聚合物膜外侧的所述第一无机膜上且具有比所述第一厚度小的第二厚度的第二聚合物膜；以及

第二无机膜，覆盖所述第一聚合物膜和所述第二聚合物膜。

9.如权利要求8所述的显示装置，还包括：

第三聚合物膜，位于所述第一无机膜外侧的所述衬底上且具有比所述第一厚度小的第三厚度，所述第二无机膜覆盖所述第三聚合物膜。

10.如权利要求9所述的显示装置，其中所述第三厚度小于所述第二厚度。

11.如权利要求8所述的显示装置，其中所述显示单元包括有机发光设备。

12.如权利要求8所述的显示装置，其中所述第二无机膜延伸至所述第一无机膜的外侧以接触所述衬底。