CN104058405B - 一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法 - Google Patents

一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法,该方法包括以下步骤:将硅块装入中频感应炉石墨坩埚中加热熔化;向硅液中投入造渣剂,继续加热使造渣剂完全熔化;将带有通气孔道的石墨棒预热,待预热充分后将通气棒插入到硅液中,通气搅拌;待反应完全后,保温静置;将硅液倒入带加热功能的结晶器中凝固;待硅锭冷却后,去除硅锭表面渣块;将硅锭破碎、磨粉,对硅粉进行酸洗、清洗和烘干,得到提纯后的低磷、硼多晶硅。该方法除磷、硼效果好,降低了提纯多晶硅的成本。

Description

一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法
技术领域
本发明涉及太阳能级多晶硅提纯领域,尤其是涉及一种制备太阳能级多晶硅去除杂质磷和硼的方法。
背景技术
近年来,国内外都在大力发展可再生能源,而太阳能以其独特的优势而快速发展。硅晶体太阳能电池由于原料来源丰富、转换率高而成为太阳能电池发展的首选。多晶硅是制备硅晶体太阳能硅的基本原料。多晶硅提纯主要有改良西门子法和物理法。改良西门子法制备高纯多晶硅的工艺较为复杂,投资成本高,耗电大,且中间产品SiHCl3(或SiCl4)有剧毒,存在安全隐患。物理法主要是利用不同杂质元素的物理性质不同来使之分离,主要包括吹气精炼、造渣精炼、湿法冶金、定向凝固、电子束熔炼等。物理法工艺相对简单,成本低廉,且对环境的造成污染小,已成为太阳能级多晶硅的主要发展方向。
多晶硅中的磷杂质会影响硅材料的电阻率和少子寿命,从而影响太阳能电池的转换效率和使用寿命。磷的分凝系数为0.35,无法像金属杂质一样能通过定向凝固有效的去除。目前金属硅除磷主要采用高真空冶炼除磷和造渣除磷的方法。
专利申请公开号CN101318655公开了一种去除多晶中杂质磷的方法及装置,该方法在高真空条件下,用电子束熔炼多晶硅,可高效地去除杂质磷。该方法的不足在于生产成本高、难以实现工业化生产。
专利申请公开号CN101302013A公开了一种低磷太阳能级多晶硅的制备方法,该方法在高温、流动性高纯氩气环境下,金属硅粉与金属钙粉均匀混合熔炼,结合湿法提纯,可将磷等非金属杂质和各种金属杂质含量降低到太阳能级硅级别。该方法的不足在于,高纯钙粉很难制备且价格昂贵,普通钙粉磷杂质的含量很高,会影响除磷的效果,且需在高纯氩气环境中熔炼。
专利申请公开号CN102020278A公开了一种去除硅中杂质磷的方法,该方法在真空感应炉中,在氩气保护下,用具有强还原性的含钙合金或钙化物作为脱磷剂,用钙的卤化物作助熔剂,在硅熔融态下进行脱磷反应,再用稀盐酸浸泡处理硅块2-4小时,去除杂质。该方法需在氩气环境下进行反应且除磷效果有待提高。
鉴于此,特提出本发明。
发明内容
本发明的目的是提供一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法,该方法成本低,除磷硼效果明显,能耗低。
为实现本发明的目的,一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法,包括如下步骤:
(1)将硅块加热熔化;
(2)向硅液中投入造渣剂,继续加热使造渣剂完全熔化;
(3)将带有通气孔道的石墨棒预热后插入硅液中,开始通氩气搅拌,在搅拌的条件下,硅液中的杂质磷和硼与造渣剂更充分地进行反应,反应完全后,保温;
(4)将步骤(3)中得到的硅液在结晶器中缓慢凝固形成硅锭,待硅锭冷却后,去除硅锭表面渣块;
(5)将步骤(4)中得到的硅锭破碎、磨粉,对硅粉进行酸洗、清洗和烘干,得到提纯后的低磷、硼多晶硅。
在步骤(1)中,采用中频感应加热装置将硅块加热熔化,加热温度为1500-1700℃。
优选的,所述的造渣剂为碱金属化合物或/和碱土金属化合物;其优选所述的造渣剂为碱金属化合物与碱土金属化合物的混合物。在碱金属化合物与碱土金属化合物的混合物中,碱金属化合物的质量百分比为5-40%,其中优选5-20%。
所述的碱金属化合物包括碱金属氧化物和碱金属碳酸盐,其优选碱金属碳酸盐;所述的碱金属为锂、钠、钾、铷、铯,其优选锂、钠和钾。
所述的碱土金属化合物包括碱土金属氧化物和碱土金属碳酸盐,其优选碱土金属碳酸盐;所述碱土金属为铍、镁、钙、锶、钡,其优选镁、钙和钡。
本发明采用造渣剂为碱金属化合物或/和碱土金属化合物,在温度为1500-1700℃的条件下,在常压下,该造渣剂可以与硅液中的杂质磷、硼反应,使得硅液中的杂质磷转化为磷化物,通过后续的酸性处理,可以将磷化物去除,其同时,大部分杂质硼通过硅锭表面的渣块去除,剩余的通过酸洗去除,将硅液中的杂质硼去除。在现有技术中,通常采用真空冶炼除磷,这种方法的能耗大、成本高,以及其他的去除杂质磷的方法,其去除效果、以及生产升本均有待于提高。
在步骤(2)中,所述硅块与造渣剂的质量比为1:0.4-1:2,其优选1:0.6-1:1.5。
在步骤(3)中,通入氩气的流量为5-12L/min。
在步骤(3)中,通气反应时间为15-60min,优选15-20min。
在步骤(3)中,通气反应后的硅液保温20-30min,保温温度为1600-1700℃。
所述结晶器为带加热功能的结晶器。带加热功能的结晶器能够使多晶硅的晶粒更粗大,使磷化物更充分地暴露在晶界表面,通过磨粉、酸洗更容易去除。
本发明的去除金属硅中磷、硼的方法,通过上述方法能够达到很好的效果,为了更好的提高磷、硼的酸洗去除效果。优选的,在结晶器中凝固的过程中,结晶器的温度变化为20-30℃/h。
在步骤(5)中,硅锭经破碎、磨粉后得到的硅粉的粒度为40-325目;其优选60-200目;
在步骤(5)中,所述的酸为HCl、HF、HNO3和H2SO4的一种或几种;其优选HCl、HF和HNO3组成的混合酸,其中,HCl质量浓度为10-20%,HF质量浓度为5-10%,HNO3质量浓度为5-10%。
所述硅粉与混合酸溶液的质量比为1:2-1:4,酸洗时间为2-4h。
本发明所述的去除金属硅中杂质磷和硼的方法,通过碱金属化合物或/和碱土金属化合物组成的造渣剂造渣精炼,使金属硅中的磷变性成磷化物;造渣精炼后的硅液凝固时,带加热功能的结晶器使多晶硅的晶粒更粗大,磷化物更充分地暴露在晶界表面,通过磨粉酸洗可更彻底的去除。同时,该工艺有较好的除硼效果。本发明的整个过程在常压下进行,易于操作,易于实现。本发明解决了造渣除磷效率低的问题,降低了成本,便于工业化生产。
具体实施方式
为了更好的理解本发明的技术方案,下面结合具体实施例进一步详细的表述,但是并不限制本发明的保护范围。
实施例1
称取原料工业硅50kg,将硅块装入中频感应炉石墨坩埚中加热,熔化成硅液,加热温度为1700℃;称取造渣剂50kg,其中,CaCO3的重量为40kg,Na2CO3的重量为5kg,K2CO3的重量为4kg,其余为Li2CO3,向硅液中投入造渣剂,继续加热使造渣剂完全熔化;将带有通气孔道的石墨棒预热,待预热充分后将通气棒插入到硅液中,开始通氩气搅拌,所述氩气的流量为12L/min,通气时间为20min,待反应完全后,保温30min,保温温度为1600℃;然后将反应之后的硅液倒入带加热功能的结晶器中缓慢凝固,待硅锭冷却后,去除硅锭表面渣块;将硅锭破碎、磨粉,硅粉粒度为60-200目;采用混合酸进行酸洗、清洗和烘干,得到提纯后的低磷、硼多晶硅,所述的混合酸为HCl、HF和HNO3的混合液,其中,HCl质量浓度为20%,HF质量浓度为10%,HNO3质量浓度为10%;所述硅粉与混合酸溶液的质量比为1:4,酸洗时间为4h,即可得到提纯后的低磷、硼多晶硅,记作A1。
实施例2
称取原料工业硅50kg,将硅块装入中频感应炉石墨坩埚中加热,熔化成硅液,加热温度为1500℃;称取造渣剂60kg,其中,CaCO3的重量为30kg,MgCO3的重量为6kg,Na2CO3的重量为14kg,其余为K2CO3,向硅液中投入造渣剂,继续加热使造渣剂完全熔化;将带有通气孔道的石墨棒预热,待预热充分后将通气棒插入到硅液中,开始通氩气搅拌,所述氩气的流量为5L/min,通气时间为15min,待反应完全后,保温20min,保温温度为1650℃;然后将反应之后的硅液倒入带加热功能的结晶器中缓慢凝固,待硅锭冷却后,去除硅锭表面渣块;将硅锭破碎、磨粉,硅粉粒度为80-160目;采用混合酸进行酸洗、清洗和烘干,得到提纯后的低磷、硼多晶硅,所述的混合酸为HCl、HF和HNO3的混合液,其中,HCl质量浓度为10%,HF质量浓度为5%,HNO3质量浓度为10%;所述硅粉与混合酸溶液的质量比为1:3,酸洗时间为3h,即可得到提纯后的低磷、硼多晶硅,记作A2。
实施例3
称取原料工业硅50kg,将硅块装入中频感应炉石墨坩埚中加热,熔化成硅液,加热温度为1550℃;称取造渣剂75kg,其中,CaCO3的重量为60kg,MgCO3的重量为11.25kg,其余为K2CO3,向硅液中投入造渣剂,继续加热使造渣剂完全熔化;将带有通气孔道的石墨棒预热,待预热充分后将通气棒插入到硅液中,开始通氩气搅拌,所述氩气的流量为10L/min,通气时间为60min,待反应完全后,保温时间30min,保温温度为1700℃;然后将反应之后的硅液倒入带加热功能的结晶器中缓慢凝固,待硅锭冷却后,去除硅锭表面渣块;将硅锭破碎、磨粉,硅粉粒度为40-325目;采用混合酸进行酸洗、清洗和烘干,得到提纯后的低磷、硼多晶硅,所述的混合酸为HCl、HF和HNO3的混合液,其中,HCl质量浓度为20%,HF质量浓度为10%,HNO3质量浓度为5%;所述硅粉与混合酸溶液的质量比为1:2,酸洗时间为2h,即可得到提纯后的低磷、硼多晶硅,记作A3。
实施例4
本实施例制备低磷、硼多晶硅的工艺流程以及工艺参数如同实施例1,不同的是,反应之后的硅液倒入带加热功能的结晶器中缓慢凝固时,结晶器的降温速度为20℃/h。
实施例5-8
实施例5-8例制备低磷、硼多晶硅的工艺流程以及部分工艺参数如同实施例1,不同的工艺参数如表1:
表1实施例5-8工艺参数
磷和硼含量测定:
将上述实施例中所得的结果通过ICP-MS测量硅中P和B的含量,测量结果如表2。
表2不同样品磷和硼的含量
P/ppmw B/ppmw 检测设备
原料 18 6 ICP-MS
实施例A1 2.3 0.57 ICP-MS
实施例A2 1.6 0.46 ICP-MS
实施例A3 1.2 0.42 ICP-MS
实施例A4 1.9 0.51 ICP-MS
实施例A5 2.8 0.85 ICP-MS
实施例A6 4.5 0.64 ICP-MS
实施例A7 2.1 0.67 ICP-MS
实施例A8 1.1 0.38 ICP-MS

Claims (13)

1.一种去除金属硅中杂质磷和硼的方法,包括如下步骤:
(1)将硅块加热熔化,加热温度为1500-1700℃;
(2)向硅液中投入造渣剂,继续加热使造渣剂完全熔化,所述硅块与造渣剂的质量比为1:0.6-1:1;
(3)将带有通气孔道的石墨棒预热后插入硅液中,开始通氩气搅拌,在搅拌的条件下,硅液中的杂质磷和硼与造渣剂更充分地进行反应,反应完全后,保温;
(4)将步骤(3)中得到的硅液在结晶器中凝固形成硅锭,待硅锭冷却后,去除硅锭表面渣块,在凝固过程中,结晶器的温度变化速率为20-30℃/h;
(5)将步骤(4)中得到的硅锭破碎、磨粉,对硅粉进行酸洗、清洗和烘干,得到提纯后的低磷、硼多晶硅;
所述的造渣剂为碱金属化合物和碱土金属化合物的混合物,其中,碱金属化合物的质量百分比为5-40%。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在碱金属化合物与碱土金属化合物的混合物中,碱金属化合物的质量百分比为5-20%。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述的碱金属化合物包括碱金属氧化物和碱金属碳酸盐;所述的碱金属为锂、钠、钾。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述的碱金属化合物包括碱金属碳酸盐。
5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述的碱土金属化合物包括碱土金属氧化物和碱土金属碳酸盐;所述碱土金属为镁、钙、钡。
6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述的碱土金属化合物包括碱土金属碳酸盐。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(3)中,通入氩气的流量为5-12L/min;通气时间为15-60min。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,通气时间为15-20min。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通气反应后的硅液保温20-30min,保温温度为1600-1700℃。
10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述结晶器为带加热功能的结晶器。
11.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(5)中,所述的酸为HCl、HF、HNO3和H2SO4的一种或几种。
12.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤(5)中,所述的酸为HCl、HF和HNO3组成的混合酸,其中,HCl质量浓度为10-20%,HF质量浓度为5-10%,HNO3质量浓度为5-10%。
13.根据权利要求1、11或12所述的方法,其特征在于,所述硅粉与混合酸溶液的质量比为1:2-1:4,酸洗时间为2-4h。
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