CN104045242A - 玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置 - Google Patents

玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置，该玻璃基板的蚀刻方法包括如下步骤：步骤1.提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液及供给管路(7)；步骤2.在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；步骤3.所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液；步骤4.将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；步骤5.升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板(1)；步骤6.达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。该玻璃基板的蚀刻方法简单、易操作，能够缩短蚀刻制程时间，提高生产效率。

Description

玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置
技术领域
本发明涉及液晶显示器的制程领域，尤其涉及一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
薄膜晶体管液晶显示器一般包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶面板的结构是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(Color Filter，CF)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
上述TFT-LCD的制程过程一般包括：前段阵列(Array)制程，主要是制造TFT基板及CF基板；中段成盒(Cell)制程，主要是将TFT基板与CF基板贴合，在二者之间添加液晶，形成液晶面板；及后段模组组装制程，主要是将液晶面板与背光模组、PCB等其它零部件进行组装。
前段阵列制程又包括：玻璃基板的清洗与干燥、镀膜、涂光刻胶、曝光、显影、蚀刻、去除光刻胶等制程。蚀刻制程分为干法蚀刻与湿法蚀刻。湿法蚀刻是使用液体化学试剂，即蚀刻药液以化学腐蚀的方式去除无光刻胶覆盖的薄膜，以在玻璃基板上形成所需的电路图案。
现有技术中，对TFT-LCD的玻璃基板进行湿法蚀刻有喷淋和浸泡两种方式。浸泡是将玻璃基板完全浸入蚀刻药液进行蚀刻。请参阅图1、图2，传统的对TFT-LCD的玻璃基板进行浸泡的方法，主要包括：步骤1’、传动装置100将待蚀刻的玻璃基板200输送入刻蚀槽300内，数个挡板400上升构成一容置空间；步骤2’、供给管路500向该由数个挡板400上升构成的容置空间内注入蚀刻药液，直至待蚀刻的玻璃基板200完全浸入蚀刻药液，进行浸泡蚀刻。上述方法需要先将玻璃基板200输送至刻蚀槽300内，再注满蚀刻药液，才能进行浸泡蚀刻，造成蚀刻制程的时间较长，不利于提高生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃基板的蚀刻方法，能够缩短蚀刻制程时间，提高生产效率。
本发明的目的还在于提供一种蚀刻浸泡装置，能够使得蚀刻药液在极短的时间内浸没送到的待蚀刻的玻璃基板，利于提高生产效率，且结构简单、易实现。
为实现上述目的，本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法，包括如下步骤：
步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板、刻蚀槽、蚀刻药液及供给管路；
步骤2、在刻蚀槽内设置一浸泡槽；
步骤3、所述供给管路向浸泡槽内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液；
步骤4、将待蚀刻的玻璃基板送入刻蚀槽内；
步骤5、升高浸泡槽直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板；
步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽露出玻璃基板。
所述浸泡槽的材质为PVC。
所述供给管路位于浸泡槽的一侧以注入蚀刻药液。
所述浸泡槽的底部两端设有气缸，为步骤5与步骤6中所述浸泡槽的升降提供动力。
所述步骤4通过传动装置将待蚀刻的玻璃基板送入刻蚀槽内，所述传动装置包括数个位于刻蚀槽内的滚轮，所述浸泡槽包围该数个滚轮，在步骤5升高该浸泡槽后，所述数个滚轮位于浸泡槽内。
在所述步骤3注入到预定量的蚀刻药液时，所述步骤4将待蚀刻的玻璃基板送入到刻蚀槽内预定的位置。
所述玻璃基板为用于TFT-LCD的玻璃基板。
本发明还提供一种玻璃基板的蚀刻浸泡装置，包括刻蚀槽、传动装置、浸泡槽、及供给管路，所述浸泡槽位于刻蚀槽内，所述传动装置包括数个位于刻蚀槽内的滚轮，所述浸泡槽包围该数个滚轮，所述供给管路用于供给蚀刻药液给浸泡槽。
所述浸泡槽的材质为PVC。
该蚀刻浸泡装置还包括设于所述浸泡槽的底部两端的气缸，为所述浸泡槽于刻蚀槽内的升降提供动力。
本发明的有益效果：本发明玻璃基板的蚀刻方法，在刻蚀槽内设置浸泡槽，在玻璃基板进入刻蚀槽之前向所述浸泡槽内注入预定量的蚀刻药液，在玻璃基板进入刻蚀槽之后立即通过气缸升高浸泡槽，使玻璃基板瞬时完全浸入蚀刻药液，减少了蚀刻制程的时间，提高了生产效率；本发明蚀刻浸泡装置，通过在刻蚀槽内设置浸泡槽，并在浸泡槽的底部两端设置气缸，由气缸实现浸泡槽的快速升降，能够使得蚀刻药液在极短的时间内浸没玻璃基板，利于提高生产效率，且结构简单、易实现。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。附图中，
图1为现有的玻璃基板的蚀刻浸泡方法步骤1’的示意图；
图2为现有的玻璃基板的蚀刻浸泡方法步骤2’的示意图；
图3为本发明玻璃基板的蚀刻方法的流程图；
图4为本发明玻璃基板的蚀刻浸泡装置的结构示意图；
图5为本发明玻璃基板的蚀刻方法的步骤4的示意图；
图6为本发明玻璃基板的蚀刻方法的步骤5的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3至图6，本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法，包括如下步骤：
步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板1、刻蚀槽3、蚀刻药液6及供给管路7；
步骤2、在刻蚀槽3内设置一浸泡槽9；
步骤3、所述供给管路7向浸泡槽9内注入蚀刻药液6直至注入预定量的蚀刻药液6；
步骤4、将待蚀刻的玻璃基板1送入刻蚀槽3内；
步骤5、升高浸泡槽9直至其内蚀刻药液6完全浸没玻璃基板1；
步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽9露出玻璃基板1。
具体的，所述步骤1中待蚀刻的玻璃基板1为用于TFT-LCD的玻璃基板；所述供给管路7一端置于刻蚀槽3内，另一端插入储存于机台(未图示)内的蚀刻药液中，用于供给蚀刻药液6给后续所述步骤3中的浸泡槽9。
所述步骤2为在刻蚀槽3内设置一浸泡槽9。所述浸泡槽9用于盛装蚀刻药液6，以对玻璃基板1进行蚀刻浸泡，其由具有耐腐蚀性的材料制成，优选的，所述浸泡槽9由PVC制成。特别需要指出的是，所述浸泡槽9的底部两端分别设有一气缸11，所述气缸11作为动力源，为后续步骤5、步骤6中所述浸泡槽9的升降提供动力。
所述步骤3为所述供给管路7向浸泡槽9内注入蚀刻药液6直至注入预定量的蚀刻药液6。所述供给管路7位于所述浸泡槽9的一侧，并对准浸泡槽9，以注入蚀刻药液6；所述预定量的蚀刻药液6，能够保证在后续步骤5中完全浸没所述玻璃基板1。
当所述步骤3注入预定量的蚀刻药液6完成时，进入步骤4，将待蚀刻的玻璃基板1送入刻蚀槽3内预定的位置。在所述步骤4中，通过传动装置13将待蚀刻的玻璃基板1送入刻蚀槽3内；所述传动装置13包括数个位于刻蚀槽3内的滚轮131，所述浸泡槽9包围该数个滚轮131；进一步的，所述数个滚轮131平行排布于玻璃基板1的上下两侧。此时，盛装有预定量的蚀刻药液6的浸泡槽9位于待蚀刻的玻璃基板1的下方。
所述步骤5中，通过所述气缸11升高浸泡槽9直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板1，相应的，此时所述数个滚轮131也位于浸泡槽9内。此过程可在瞬时内完成，玻璃基板1在极短时间内即完全浸入蚀刻药液，能够减少蚀刻制程的时间，提高生产效率。
当达到预定浸泡时间后，进行步骤6的操作，通过所述气缸11降低浸泡槽9露出玻璃基板1，完成对所述玻璃基板1的蚀刻。通过气缸11可以实现快速让蚀刻药液6离开玻璃基板，从而更快速进入下一个操作步骤，提高效率。
请参阅图4，本发明还提供一种玻璃基板的蚀刻浸泡装置，包括刻蚀槽3、传动装置13、浸泡槽9及供给管路7。
所述浸泡槽9用于盛装蚀刻药液6，其位于刻蚀槽3内，并且所述浸泡槽9可于所述刻蚀槽3内进行升降；所述传动装置13用于传送玻璃基板1至所述刻蚀槽3内的预定位置，其包括数个位于刻蚀槽3内的滚轮131，该数个滚轮131平行排布于玻璃基板1的上下两侧，所述浸泡槽9包围该数个滚轮131；所述供给管路7位于所述浸泡槽9的一侧，并对准浸泡槽9，用于供给蚀刻药液6给浸泡槽9。
所述浸泡槽9的材质为PVC，具有耐腐蚀性。
值得一提的是，该玻璃基板的蚀刻浸泡装置还包括设于所述浸泡槽9的底部两端的气缸11，其作为动力源为所述浸泡槽9于刻蚀槽3内的升降提供动力。在玻璃基板1进入刻蚀槽3之前，所述浸泡槽9在刻蚀槽3内处于低位，所述供给管路7向浸泡槽9内注入预定量的蚀刻药液6；当所述传动装置13传送玻璃基板1至所述刻蚀槽3内的预定位置时，所述气缸11立即带动所述浸泡槽9快速升高，使得所述浸泡槽9内的蚀刻药液6在极短的时间内浸没玻璃基板1；当达到预定的蚀刻浸泡时间后，所述气缸11再带动所述浸泡槽9下降返回至初始位置。
综上所述，本发明的玻璃基板的蚀刻方法，在刻蚀槽内设置浸泡槽，在玻璃基板进入刻蚀槽之前向所述浸泡槽内注入预定量的蚀刻药液，在玻璃基板进入刻蚀槽之后立即通过气缸升高浸泡槽，使玻璃基板瞬时完全浸入蚀刻药液，减少了蚀刻制程的时间，提高了生产效率；本发明玻璃基板的蚀刻浸泡装置，通过在刻蚀槽内设置浸泡槽，并在浸泡槽的底部两端设置气缸，由气缸实现浸泡槽的快速升降，能够使得蚀刻药液在极短的时间内浸没玻璃基板，利于提高生产效率，且结构简单、易实现。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供给管路(7)；
步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；
步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注入预定量的蚀刻药液(6)；
步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；
步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1)；
步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。
2.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡槽(9)的材质为PVC。
3.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述供给管路(7)位于浸泡槽(9)的一侧以注入蚀刻药液(6)。
4.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡槽(9)的底部两端设有气缸(11)，为步骤5与步骤6中所述浸泡槽(9)的升降提供动力。
5.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤4通过传动装置(13)将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内，所述传动装置(13)包括数个位于刻蚀槽(3)内的滚轮(131)，所述浸泡槽(9)包围该数个滚轮(131)，在步骤5升高该浸泡槽(9)后，所述数个滚轮(131)位于浸泡槽(9)内。
6.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，在所述步骤3注入到预定量的蚀刻药液(6)时，所述步骤4将待蚀刻的玻璃基板(1)送入到刻蚀槽(3)内预定的位置。
7.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述玻璃基板(1)为用于TFT-LCD的玻璃基板。
8.一种蚀刻浸泡装置，其特征在于，包括刻蚀槽(3)、传动装置(13)、浸泡槽(9)、及供给管路(7)，所述浸泡槽(9)位于刻蚀槽(3)内，所述传动装置(13)包括数个位于刻蚀槽(3)内的滚轮(131)，所述浸泡槽(9)包围该数个滚轮(131)，所述供给管路(7)用于供给蚀刻药液(6)给浸泡槽(9)。
9.如权利要求8所述的蚀刻浸泡装置，其特征在于，所述浸泡槽(9)的材质为PVC。
10.如权利要求8所述的蚀刻浸泡装置，其特征在于，还包括设于所述浸泡槽(9)的底部两端的气缸(11)，为所述浸泡槽(9)于刻蚀槽(3)内的升降提供动力。
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