CN104011844A - 用于加热衬底的装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于根据预定温度曲线加热衬底(12)来使衬底上的材料结晶的装置(1)，所述装置(1)包含：壳体(2)；至少一处理腔(3)，所述处理腔(3)位于壳体内并具备用于穿过衬底的第一及第二开口(6、7)；入口(17)，所述入口(17)用于将包含气相材料的处理气体引入第一处理腔中；至少两个输送辊(15)，所述至少两个输送辊(15)用于将衬底输送到处理腔(3)中，其中输送辊附接到壳体(2)以便可旋转。此外，装置具备用于防止处理气体从处理腔逸出到处理腔(3)与壳体(2)之间的空间的通道空间(20、25)，所述通道空间(20、25)位于处理腔(3)中的输送辊(15)的各自的末端附近，其中各自的通道空间(20)具备在处理腔(3)的内壁(23)上的第一通道开口(21)、在处理腔(3)的外壁(24)上的第二通道开口(22)和固定在输送辊(15)周围的第一法兰(25)。

Description

用于加热衬底的装置
技术领域
本发明涉及用于根据预定温度曲线加热衬底来使衬底上的材料结晶的装置。
背景技术
此装置由US5,578,503可知并还称作快速热处理器(RTP)。
已知装置用于根据特定温度曲线先后加热及冷却衬底，例如，用于使衬底上的材料结晶。先前涂覆的硒层尤其用于产生吸光膜层，所述层包含铜(Cu)、铟(I)、镓(Ga)和/或硒(Se)，所述层用于例如改善太阳能电池的光电效率。已知装置可用于在处理气体的受控气氛下使此基础材料结晶，所述基础材料包含例如铜、铟、镓和/或硒，所述处理气体包含例如金属蒸气。
已知装置可包含许多处理腔，所述处理腔中的每一者通过加热元件加热这些处理腔而经受特定温度曲线。
已知装置还可具备进气口，所述进气口允许净化气体(例如，用于产生低氧环境的氮(N2))流入壳体中。在随后的处理腔中，可根据遵循的执行再结晶需要的温度曲线设置不同温度。此外，处理腔含有受控气氛，例如，含有包含例如硒蒸气的处理气体，以使得再结晶在某一相变时发生。此外，已知装置具备用于分别通过第一开口和第二开口将衬底输送到处理腔中并从处理腔输送出来的输送构件。这些输送构件可包含含有衬底的箱子。在这个箱子中，衬底的某一环境(例如，硒蒸气)可以简单方式维持在某一压力或蒸气压力下。已知装置的问题在于控制处理腔中衬底的环境。
发明内容
本发明的目标是提供可发生材料的改善结晶的装置。
根据本发明的第一方面，此目标通过用于根据预定温度曲线加热衬底来使衬底上的材料结晶的装置实现，所述装置包含：壳体；至少一第一处理腔，所述第一处理腔位于壳体内并具备用于穿过衬底的第一及第二可密封开口；入口，所述入口用于将处理气体引入第一处理腔中；至少两个输送辊，所述输送辊用于将衬底输送到第一处理腔中，所述输送辊附接到壳体以便可旋转；密封构件，所述密封构件防止处理气体从处理腔逸出到处理腔与壳体之间的空间，其中密封构件包含通道空间，所述通道空间位于处理腔中的输送辊的各自的末端附近，其中各自的通道空间具备在处理腔的内壁上的第一通道开口、在处理腔的外壁上的第二通道开口和固定在输送辊周围的第一法兰。密封构件防止处理气体从处理腔逸出到壳体与处理腔之间的空间。所述处理气体可通过处理腔中的输送辊的通道逸出。通过防止损耗，可更准确控制衬底环境中的处理气体的状态(例如，气相)，从而导致改善的再结晶。另外，防止处理气体污染净化气体。通过使用这些密封构件，另外将衬底直接放在输送辊上变得可能。由于箱子不再存在，所以衬底能更好遵循所需温度曲线，因为箱子中没有热容量，从而进一步改善用于再结晶材料的条件。
通过在通道空间中提供法兰，在此情况下，例如，法兰在轴向方向上经按压抵靠一个或两个内壁，可进一步防止处理气体通过通道逸出到处理腔与壳体之间的空间。所述构造的进一步优点在于法兰密封可在轴向方向上沿输送轴滑动且可在径向方向上相对于处理腔的壁移动的事实，从而使得补偿由各种热膨胀导致的输送辊的尺寸和位置的尺寸变化成为可能。
在装置的进一步实施方式中，各自的通道空间包含第二法兰，所述第二法兰紧挨第一法兰固定在输送辊周围，其中第一法兰位于第一通道开口附近，并且，第二法兰位于第二通道开口附近。通过使用第二法兰，法兰的侧面相对于通道空间的内壁可彼此独立地调节，并且通道空间的内壁与法兰之间的公差可以简单方式补偿，从而导致改善的密封。
装置的进一步实施方式具备弹簧空间，所述弹簧空间在径向方向上在第一法兰或第二法兰与通道空间的壁之间延伸。所述弹簧空间可在加热或冷却处理腔期间补偿法兰与通道空间的壁之间的膨胀差。
装置的进一步实施方式具备排放管道，所述排放管道连接到弹簧空间用于排放气体。通过此排放管道，可排放分别可沿输送轴和第一或第二法兰的外缘泄漏的废气或处理气体和净化气体的气体混合物，从而防止所述处理气体进入处理腔与壳体之间的空间。
在装置的进一步实施方式中，第一法兰的厚度a与第二法兰的厚度b不同。通过选择第一法兰的厚度a不同于第二法兰的厚度b，当装置在操作中，且相同间隙存在于密封法兰与输送辊之间时，根据以下公式调节处理腔与在处理腔与壳体之间的空间之间的泄漏损耗是可能的：
Dex＝Dp(l+a/b)   (1)，
其中Dex表示穿过排放管道的气体混合物流，且Dp表示引入处理腔中的处理气体流。
在进一步实施例中，装置具备供应源，所述供应源连接至处理腔与壳体之间的空间用于引入净化气体。净化气体可提供惰性气氛，以使得例如处理腔壁的石墨不燃烧。
在进一步实施方式中，装置包含弹簧元件，所述弹簧元件设置在通道空间中用于通过第一法兰的轴向侧将第一力施加到通道空间在第一通道开口周围的部分和/或通过第二法兰的轴向侧将第二力施加到通道空间在第二通道开口周围的部分。此弹簧元件在轴向方向上分别通过第一法兰和第二法兰将力施加到通道空间的侧壁上，且实现通道的有效密封。
在进一步实施方式中，装置具备处理腔的入口中的第一可调气流控制单元，所述第一可调气流控制单元用于调节处理气流；和弹簧腔的排放管道中的第二可调气流控制单元，所述第二可调气流控制单元用于调节废气流，其中所需压力差可通过可调节处理气流和可调节废气流在处于密封状态的可密封处理腔中的处理气体的压力与处理腔与壳体之间的空间中的净化气体的压力之间设置。通过正或负压差，可调节来自闭合状态的可密封处理腔或泄漏到可密封处理腔的泄漏气流的方向。在进一步实施方式中，装置具备：第一压力传感器，所述第一压力传感器用于记录处理腔与壳体之间的空间中的净化气体的压力；处理腔中的第二压力传感器，所述第二压力传感器用于记录处理气体的压力；和控制单元，所述控制单元连接到压力传感器和可调气流控制单元，其中控制单元适用于维持所需压力差。
在装置的进一步实施方式中，弹簧元件包含环，所述环配合在第一法兰与第二法兰之间。
在装置的进一步实施方式中，第一法兰及第二法兰的相对侧具备径向肋，其中分别由第一法兰和第二法兰的两个邻接肋形成的夹角α彼此相等。第一法兰和第二法兰上的肋的数目可为例如三个。通过在第一法兰和第二法兰上使用所述三个肋，可调节弹簧环的压力。在此情况下，夹角为120度。
在装置的进一步实施方式中，第一法兰相对于第二法兰以以下方式定位，使得第一法兰的肋围绕输送辊的纵轴相对于第二法兰的肋旋转固定角β，所述固定角β等于夹角的一半。通过将第一法兰的肋定位在第二法兰的肋之间的中心，可以有效方式调节弹簧的压力。如果分别在第一法兰和第二法兰上使用三个肋，那么输送辊的纵轴周围的固定角β为约60度，第一法兰相对于第二法兰定位在纵轴上。
在进一步实施方式中，环包含含碳材料，特别是碳纤维增强碳。所述碳纤维增强碳为具有足够强度的耐热材料。
在装置的进一步实施方式中，各自的第一法兰和第二法兰包含石墨、硼硅酸盐或熔融二氧化硅。石墨、硼硅酸盐和熔融二氧化硅为具有足够刚度的耐热材料。
在装置的进一步实施方式中，第一处理腔的外壁具备在输送辊周围的可拆卸部分。通过使第一处理腔的外壁的一部分为可拆卸的，输送辊可以简单方式配合在第一处理腔中。
装置的另一实施方式具备蒸气输送沉积装置，所述蒸气输送沉积装置相对于衬底的输送方向定位在至少第一处理腔的前面。将蒸气输送沉积装置并入用于加热衬底的装置的优点在于以下事实：衬底可在涂覆硒层后立即输送到装置内部的处理腔，因此，可以更有效方式实现批量生产。
装置的另一实施方式具备驱动装置，所述驱动装置耦接到输送辊用于旋转输送辊。通过输送辊，衬底可输送到第一处理腔中并从第一处理腔输送出。
在装置的进一步实施方式中，驱动装置经配置以旋转输送辊，以在第一处理腔中产生衬底的振荡运动。由于衬底在输送辊上的振荡运动，热传递通过衬底与输送辊之间的接触传遍衬底。
虽然将参考大量优选实施方式描述本发明，但本发明并不限于所述实施方式。待描述的实施方式仅为本发明的可能阐释的实例，并且，所属领域的技术人员将明白本发明的优点还可以另一方式实现。
附图说明
以下将参考附随图式描述本发明，其中：
图1图解地图示用于加热衬底的装置的侧视图，
图2图解地图示处理腔和用于输送辊的通道的细节的横截面，
图3图解地图示第一法兰的侧面的视图，
图4图解地图示第一法兰及第二法兰和弹簧的总成的横截面，
图5图解地图示处理腔的俯视图，
图6图解地图示处理腔的侧视图，和
图7图解地图示具备可调气流控制单元的装置。
具体实施方式
在图式中，相同零件由相同元件符号表示。
图1图解地图示用于根据预定温度曲线加热衬底用于使衬底上的材料结晶的装置1的侧视图。所述装置1也称作快速热处理器(RTP)且用于例如由衬底制造一定数量个光伏太阳能电池。衬底可含有例如玻璃或硼硅酸盐并具有例如60×40cm、120×60cm或110×l40cm的大小。装置1包含具有层状材料(例如，钢板堆叠)、耐热绝缘材料(例如，岩棉)和石墨层的壳体2。此外，装置包含一定数量个(例如，三个)处理腔3、4、5，所述处理腔3、4、5均位于壳体2内。处理腔分别具备第一开口6、8、10和第二开口7、9、11用于分别通过处理腔的第一开口和第二开口使衬底12传入装置中。处理腔3、4、5可由石墨、硼硅酸盐或熔融二氧化硅制成。
此外，装置可具备入口13和出口14，处理腔3、4、5设置在入口13与出口14之间。入口和出口可被密封且可具备用于允许衬底12进出的门。入口和出口也可由石墨、硼硅酸盐或熔融二氧化硅制成。此外，处理腔3、4、5可具备电加热元件(例如，石英元件45)用于在处理腔中产生所需温度曲线。在此情况下，曲线内的温度范围可设置在例如300℃至500℃的范围中。此外，装置可具备各自的蒸发器16，所述蒸发器16通过各自的入口17耦接到各自的处理腔。蒸发器16经设计以熔化并蒸发待涂覆到衬底的材料，例如，硒，并且，蒸发器16可具备电加热元件用于将硒材料加热到高于硒的熔化温度。待涂覆的材料的另一实例可为例如银(Ag)或硫磺(S)。
包含蒸发材料和例如氮的处理气体接着通过各自的入口17传递到处理腔3、4、5。装置1可另外具有用于使衬底12达到所需第一温度(例如，100℃)的预热器40。预热器可包含石英管41。装置1可另外具备已知蒸气输送沉积装置42。蒸气输送沉积装置42相对于例如在入口14与第一处理腔4之间的衬底12的输送方向定位在至少第一处理腔4的前面。
蒸气输送沉积装置42包含用于蒸发待涂覆材料(例如，硒)的蒸发器和用于供应氮气的连接件。蒸气输送沉积装置另外具备具有外流开口44的出口管道42，其中蒸气输送沉积装置经配置以将具有约500℃温度的氮硒蒸气48供应到衬底12的上侧。外流开口44的宽度对应于衬底的宽度，且为例如60cm。外流开口的长度为例如20mm。此外，蒸气输送沉积装置具备具有抽取开口的两个抽取管道46，所述抽取开口面向衬底用于抽取未沉积到衬底上的氮硒蒸气48。将蒸气输送沉积装置并入装置中的优点在于衬底可在涂覆硒层后立即输送到装置内部的处理腔的事实，因此，可以更有效方式实现批量生产。装置1还可具备进气口18以使得净化气体(例如，惰性气体，例如，氮(N2))流入壳体中，以在壳体2与处理腔3、4、5之间的空间中产生低氧环境，从而防止例如处理腔3、4、5的壁的石墨材料燃烧。
另外，装置可具备用于在壳体2内施加真空的真空泵19。装置内的压力可设置在0.001毫巴与1100毫巴绝对值之间的范围中。
由于衬底的温度曲线和硒蒸气的受控蒸气压力，再结晶可在所需相变处发生。
装置可具备输送辊15，所述输送辊15用于通过连续处理腔3、4、5中的各自的第一开口6、8、10和第二开口7、9、10将衬底从入口13移动到出口14。输送辊15可由熔融二氧化硅制成并具有例如80cm的长度和100mm的直径。处理腔3、4、5的构造是相同的。
输送辊可旋转地附接到壳体以使得能够将衬底12输送到处理腔3、4、5内。处理腔3、4、5的尺寸可选择，以使得多个衬底12可在单一处理腔3、4、5中处理。为防止包含硒蒸气的处理气体从处理腔到处理腔与壳体之间的空间的损耗，装置包含密封构件。在实施方式中，这些密封构件包含通道空间20，所述通道空间20提供在处理腔的壁中的输送辊15的各自的末端附近。
图2图示处理腔的细节的图解横截面，所述处理腔具有在处理腔中的通道空间20。通道空间20可具备在处理腔3的内壁23上的第一通道开口21、在处理腔的外壁24上的第二通道开口22和第一法兰25及第二法兰26，所述第一法兰25及第二法兰26固定在输送辊15周围以防止气相材料通过通道空间的损耗。第二法兰26可紧挨第一法兰25固定在输送辊周围，其中第一法兰25位于第一通道开口21附近，且第二法兰26位于第二通道开口22附近。第一法兰25和第二法兰26可由石墨、硼硅酸盐或熔融二氧化硅制成。
另外，第一法兰和第二法兰的相对侧可具备例如三个径向肋。图3图示第一法兰25的侧面和提供在所述侧面上的三个肋27、28、29的视图。此外，图3图示第二法兰26的三个肋27'、28'、29'在第一法兰上的投影，在所述情况下，分别由第一法兰和第二法兰的两个邻接肋形成的夹角α彼此相等，且第一法兰可以此方式相对于第二法兰定位，以使得第一法兰的三个肋相对于第二法兰的三个肋围绕输送辊的纵轴旋转固定角β，所述固定角等于夹角的一半。在每个法兰具有3个肋的情况下，这个固定角为60度。
图3图示法兰25的侧面和提供在所述侧面上的三个肋27、28、29的视图。此外，图3图示第二法兰26的三个肋27'、28'、29'在第一法兰上的投影。
通道空间可另外包含环形弹簧元件30，所述弹簧元件30配合在第一法兰25与第二法兰26之间的弹簧空间31中，以使得能够通过第一法兰25的轴向侧将第一力施加到通道空间在第一通道开口21的部分并通过第二法兰26的轴向侧将第二力施加到通道空间围绕第二通道开口周围的部分。弹簧空间31在径向方向上在第一法兰25及第二法兰26与处理腔的壁之间延伸。环形元件30可由碳纤维增强碳制成。在实施方式中，弹簧元件可并入第一法兰25和第二法兰26。
图4图示第一法兰25和第二法兰26的总成的横截面，其中环30贯穿第一法兰25的肋28、29和第二法兰26的肋28'。由于环30分别由第一法兰的连续肋27、28、29和第二法兰的连续27'、28'、29'夹紧，所以环30可放在预应力下，以使得第一力可通过第一法兰25的轴向侧施加到通道空间在第一通道开口周围的部分，并且，第二力可通过第二法兰的轴向侧施加到通道空间在第二通道开口周围的部分。这导致密封通道，所述密封防止蒸发材料通过通道泄漏。
必要时，可配置多个环30，以增加预应力。弹簧空间31在径向方向上在第一法兰25与第二法兰26之间和在法兰25、法兰26的边缘与通道空间20的壁之间延伸，以补偿法兰25、法兰26的材料与处理腔的壁的材料之间的由加热或冷却装置导致的膨胀差。
处理腔3可另外具备排放管道50，所述排放管道50连接到弹簧空间31用于排放废气，例如，包含硒蒸气和N2的处理气体与净化气体或惰性气体的混合物，所述处理气体可能通过第一法兰25与通道空间20的输送轴15之间的第一间隙泄漏，净化气体或惰性气体可能通过第二法兰26与输送轴15之间的第二间隙泄漏。弹簧腔31的排放管道50可彼此连接并连接到真空泵(未图示)。第一法兰25的厚度a和第二法兰的厚度b可彼此相等或可选择为彼此不同。通过选择厚度a与厚度b之间的固定比和通过入口17相对于处理气流调节穿过排放管道50的流量，设置关闭的处理腔3中的处理空间与处理腔与壳体2之间的空间中的净化气体的压力之间的压力差是可能的。此举参看图7阐述。
图7图解地图示具有处理腔3的装置1的实施方式，所述处理腔3参看图1和图2描述，其中装置另外具备处理腔3的入口17中的第一可调气流控制单元51，所述第一可调气流控制单元51用于调节处理气流；和排放管道50中的第二气流控制单元52，所述第二气流控制单元52用于调节来自弹簧腔31的废气流。可调气流控制单元51、可调气流控制单元52经配置以分别允许流过处理气流和废气流的所需流量Dp、Dex。由于可调处理气流和可调废气流，所需压力差可可设置在密封状态中的可密封处理腔3中的处理气体的压力与处理腔3与壳体2之间的空间中的净化气体的压力之间。
在实施方式中，装置可另外具备第一压力传感器53，所述第一压力传感器53用于记录处理腔3、4、5与壳体2之间的空间中的净化气体的压力Pf；处理腔3中的第二压力传感器54，所述第二压力传感器54用于记录处理气体的压力Pp；和控制单元55，所述控制单元55连接到压力传感器53、压力传感器54和气流控制单元、气流控制单元52。此外，控制单元55经配置以将可调压力差Pf及压力差Pp维持在所需处理气流中。另外，图7图示通过通道空间20可旋转地连接到壳体2的输送轴15。通道空间20具备第一法兰25和第二法兰26。此外，弹簧空间31在径向方向上在法兰25、法兰26与通道空间20的壁之间延伸。此外，弹簧空间与输送轴15和通道空间20的壁开放式连通。弹簧空间31通过排放管道50连接到真空泵(未图示)。在关闭的处理腔的条件下，处理气体的压力Pp由以下公式确定，所述压力Pp等于分别在关闭的处理腔3与壳体2之间的空间内并在第一法兰25及第二法兰26与输送轴15之间的相同间隙内的净化气体的压力Pf，废气流通过排放管道排放：
Dex＝Dp(l+a/b)   (1)，
其中Dex表示通过排放管道排放的废气流，和
Dp表示引入处理腔中的处理气流，
a表示第一法兰的厚度，和
b表示第二法兰的厚度。
在实施方式中，通过设置废气流穿过处理腔中的排放管道50的流Dex的大小实现相比于处理腔3与壳体2之间的空间中的净化气体的压力的超压或低压是可能的，这取决于所需方法使得能够将泄漏气流引入处理腔或引出处理腔。
为使得能够将输送辊15配合到处理腔3中，通道空间的外壁24可具备输送辊15周围的可拆卸部分32。此外，输送辊15可具备径向肋34用于降低衬底3与输送辊15之间的热传导，以在衬底上获得更均匀的温度分布。在实施方式中，密封构件包含用于分别密封处理腔的第一开口和第二开口的处理腔门，以便防止硒蒸气从处理腔泄漏。
图5图示处理腔3的俯视图，其中处理腔具备用于密封处理腔3的第一开口6的第一处理腔门31和用于密封第一处理腔3的第二开口7的第二处理腔门32，和用于打开及关闭各自的处理腔门的致动器33。处理腔门31、处理腔门33也可由石墨、硼硅酸盐或熔融二氧化硅制成。
图6图示具有处理腔门31的处理腔3和处理腔3的开口6的侧视图。此外，图6图示用于打开和关闭处理腔门31的致动器33。另外，装置可具备控制装置，所述控制装置电耦接到致动器用于驱动致动器，其中控制装置经配置以打开和关闭处理腔的第一开口和第二开口用于将衬底从第一处理腔传递到第二处理腔。
此外，装置1可具备驱动装置34，所述驱动装置34耦接到输送辊15用于旋转输送辊以输送衬底12。此外，图6图示衬底12、输送辊15和驱动装置34。驱动装置34可经配置用于通过处理腔3、4、6将衬底从入口13输送到出口14。在所述情况下，最大输送速度的范围为50mm/s至800mm/s。
此外，驱动装置34可经配置以使衬底12在处理腔3、4、5内执行振荡运动或水平往复运动。衬底12的最大水平运动范围在5mm与200mm之间。所述振荡运动周期范围为10秒至20秒。此举导致衬底12上的更均匀温度分布，从而防止衬底12下沉。
本发明并不限于以上描述的本发明的优选实施方式。相反，权利要求由允许许多修改的以上权利要求书限定。

Claims (18)

1.一种用于根据预定温度曲线加热衬底(12)来使所述衬底上的材料结晶的装置(1)，所述装置(1)包含
-壳体(2)；
-至少一处理腔(3、4、5)，所述处理腔(3、4、5)位于所述壳体(2)内且具备：
-用于穿过衬底(12)的第一及第二可密封开口(6、7、8、9；10、11)；
-入口(17)，所述入口(17)用于将处理气体引入所述处理腔(13、14、15)中；至少两个输送辊(15)，所述输送辊(15)用于将所述衬底(12)输送到所述处理腔(3)中，其中输送辊附接到所述壳体(2)以便可旋转，
和用于防止所述处理气体从所述处理腔逸出到所述处理腔(3)与所述壳体(2)之间的空间的密封构件(20；25、26；31、32)，其中所述密封构件包含通道空间，所述通道空间位于所述处理腔(3、4、5)中的所述输送辊(15)的各自的末端附近，其中所述各自的通道空间(20)具备在所述处理腔(3)的内壁(23)上的第一通道开口(21)、在所述处理腔(3、4、5)的外壁(24)上的第二通道开口(22)和固定在所述输送辊(15)周围的第一法兰(25)。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述各自的通道空间(20)包含第二法兰(26)，所述第二法兰(26)紧挨所述第一法兰(25)固定在所述输送辊(15)周围，其中所述第一法兰(25)位于所述第一通道开口(23)附近，并且，所述第二法兰(26)位于所述第二通道开口(22)附近。
3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述装置具备弹簧空间(31)，所述弹簧空间(31)在径向方向上在所述第一法兰(25)或所述第二法兰(26)与所述通道空间(20)的所述壁之间延伸。
4.根据权利要求3所述的装置，其中所述装置具备排放管道(50)，所述排放管道(50)连接到所述弹簧空间(31)用于从所述弹簧空间排放气体。
5.根据权利要求3或4结合权利要求2所述的装置，其中所述第一法兰(25)的厚度a与所述第二法兰(26)的厚度b不同。
6.根据权利要求1至5所述的装置，其中所述装置另外具备供应源(18)，所述供应源(18)连接到在所述处理腔(3)与所述壳体(2)之间的所述空间用于引入净化气体。
7.根据权利要求1至6所述的装置，其中所述装置包含弹簧元件(30)，所述弹簧元件(30)设置在所述通道空间中用于通过所述第一法兰(25)的轴向侧将第一力施加到所述通道空间在所述第一通道开口(21)周围的部分和/或通过所述第二法兰(26)的轴向侧将第二力施加到所述通道空间在所述第二通道开口(22)周围的部分。
8.根据权利要求4至7中一项权利要求所述的装置，其中所述装置具备所述处理腔3的所述入口17中的第一可调气流控制单元(51)，所述第一可调气流控制单元(51)用于调节处理气流；和所述弹簧腔(31)的排放管道(50)中的第二气流控制单元(52)，所述第二气流控制单元(52)用于调节来自所述弹簧腔(31)的废气流，其中所需压力差可通过在处于密封状态的所述可密封处理腔(3)中的所述处理气体的压力与所述处理腔(3)与所述壳体(2)之间的所述空间中的净化气体的压力之间设置。
9.根据权利要求8所述的装置，其中所述装置另外具备第一压力传感器(53)，所述第一压力传感器(53)用于记录所述处理腔(3)与所述壳体(2)之间的所述空间中的净化气体的所述压力；所述处理腔(3)中的第二压力传感器(54)，所述第二压力传感器(54)用于记录处理气体的所述压力；和控制单元(55)，所述控制单元(55)连接到所述压力传感器(53、54)和所述可调气流控制单元(51、52)，其中所述控制单元适用于维持所述所需压力差。
10.根据权利要求7结合权利要求2所述的装置，其中所述弹簧元件包含环，所述环配合在所述第一法兰与所述第二法兰之间。
11.根据权利要求10所述的装置，其中所述第一及所述第二法兰(25、26)的相对侧具备径向肋(27、28、29；27'、28'、29')，其中分别由所述第一法兰(25)和所述第二法兰(26)的两个邻接肋形成的夹角α彼此相等。
12.根据权利要求11所述的装置，其中所述第一法兰(25)相对于所述第二法兰(26)以以下方式定位，使得所述第一法兰的所述肋(26、27、28)围绕所述输送辊(15)的纵轴相对于所述第二法兰(26)的肋(26'、27'、28')旋转固定角β，所述固定角等于所述夹角α的一半。
13.根据权利要求10至12所述的装置，其中所述弹簧元件(30)包含含碳材料，特别是碳纤维增强碳。
14.根据权利要求2至13中一项权利要求所述的装置，其中所述各自的第一法兰和所述第二法兰(25、26)包含石墨、熔融二氧化硅或硼硅酸盐。
15.根据权利要求1至14中一项权利要求所述的装置，其中所述通道空间(20)的所述外壁具备在所述输送辊周围的可拆卸部分(32)。
16.根据权利要求1至15中一项权利要求所述的装置，其中所述装置另外具备蒸气输送沉积装置(42)，所述蒸气输送沉积装置(42)相对于所述衬底(20)的输送方向定位在所述至少第一处理腔(3)的前面。
17.根据前述权利要求中一项权利要求所述的装置，其中所述装置另外具备驱动装置(34)，所述驱动装置(34)耦接到所述输送辊(15)用于旋转所述输送辊。
18.根据权利要求17所述的装置，其中所述驱动装置(34)经配置以旋转所述输送辊(15)，以在所述处理腔中产生所述衬底的振荡运动。
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