CN104011597B - 基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法 - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510964816.0A CN105425553B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法 |
CN201710321582.7A CN107255858B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011278290 | 2011-12-20 | ||
JP2011-278290 | 2011-12-20 | ||
JP2012-024058 | 2012-02-07 | ||
JP2012024058 | 2012-02-07 | ||
PCT/JP2012/076326 WO2013094286A1 (ja) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基板処理装置、デバイス製造システム、及びデバイス製造方法 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710321582.7A Division CN107255858B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置 |
CN201510964816.0A Division CN105425553B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104011597A CN104011597A (zh) | 2014-08-27 |
CN104011597B true CN104011597B (zh) | 2017-05-10 |
Family
ID=48668190
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510964816.0A Active CN105425553B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法 |
CN201710321582.7A Active CN107255858B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置 |
CN201280063563.4A Active CN104011597B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510964816.0A Active CN105425553B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法 |
CN201710321582.7A Active CN107255858B (zh) | 2011-12-20 | 2012-10-11 | 基底处理装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (6) | JP6056770B2 (ko) |
KR (5) | KR101737680B1 (ko) |
CN (3) | CN105425553B (ko) |
TW (5) | TWI668526B (ko) |
WO (1) | WO2013094286A1 (ko) |
Families Citing this family (15)
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-
2012
- 2012-10-11 CN CN201510964816.0A patent/CN105425553B/zh active Active
- 2012-10-11 CN CN201710321582.7A patent/CN107255858B/zh active Active
- 2012-10-11 CN CN201280063563.4A patent/CN104011597B/zh active Active
- 2012-10-11 JP JP2013550164A patent/JP6056770B2/ja active Active
- 2012-10-11 KR KR1020147016863A patent/KR101737680B1/ko active Application Filing
- 2012-10-11 KR KR1020187009744A patent/KR101924309B1/ko active IP Right Grant
- 2012-10-11 KR KR1020177010559A patent/KR101848590B1/ko active IP Right Grant
- 2012-10-11 WO PCT/JP2012/076326 patent/WO2013094286A1/ja active Application Filing
- 2012-10-11 KR KR1020177010558A patent/KR101849508B1/ko active IP Right Grant
- 2012-10-11 KR KR1020187034105A patent/KR101961605B1/ko active IP Right Grant
- 2012-11-29 TW TW107144810A patent/TWI668526B/zh active
- 2012-11-29 TW TW106109149A patent/TWI648601B/zh active
- 2012-11-29 TW TW109108967A patent/TWI709830B/zh active
- 2012-11-29 TW TW107144809A patent/TWI691805B/zh active
- 2012-11-29 TW TW101144692A patent/TWI585541B/zh active
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- 2016-12-06 JP JP2016236579A patent/JP6323542B2/ja active Active
-
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- 2017-11-17 JP JP2017221826A patent/JP6512265B2/ja active Active
- 2017-11-17 JP JP2017221825A patent/JP6436216B2/ja active Active
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- 2019-04-03 JP JP2019071211A patent/JP6677333B2/ja active Active
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- 2020-03-03 JP JP2020035758A patent/JP6927348B2/ja active Active
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CN106896651B (zh) | 曝光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
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