CN103964439A - 一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法 - Google Patents

一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103964439A
CN103964439A CN201410168392.2A CN201410168392A CN103964439A CN 103964439 A CN103964439 A CN 103964439A CN 201410168392 A CN201410168392 A CN 201410168392A CN 103964439 A CN103964439 A CN 103964439A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sic particle
abrasive material
material level
atmosphere protection
treatment process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201410168392.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103964439B (zh
Inventor
崔岩
吴本顺
杨越
刘峰斌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Weifang Guoke Economic And Trade Co ltd
Original Assignee
North China University of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by North China University of Technology filed Critical North China University of Technology
Priority to CN201410168392.2A priority Critical patent/CN103964439B/zh
Publication of CN103964439A publication Critical patent/CN103964439A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103964439B publication Critical patent/CN103964439B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,属于无机非金属材料及复合材料领域。其特征在于包括以下步骤:选取原始磨料级SiC颗粒;超声处理;漂洗;干燥;气氛保护高温处理。本发明设计新颖合理、工艺步骤简单、流程短、操作简便、实用价值高且成本低廉,SiC颗粒损失率低,能够实现磨料级SiC颗粒非常好的表面纯净化处理效果。

Description

一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法
技术领域
本发明属于无机非金属材料及复合材料领域,涉及一种磨料级SiC颗粒的“超声+气氛保护高温处理”表面纯净化处理方法。
背景技术
SiC具有硬度高、耐磨损、抗氧化、导热性能好、耐腐蚀、强度高等一系列优异性能,在陶瓷材料、金属基复合材料、半导体材料及耐磨材料等方面有着广泛的应用。传统SiC颗粒主要是通过将石英砂和焦炭在高温下混合发生电热化学反应,然后经过多次机械粉碎和化学提纯得到的,制得的SiC颗粒质量较差,常常含有SiO2、游离碳、有机物以及Fe、Ca、Al、Mn、Zn等杂质。当SiC颗粒作为增强体,与Al、Mg、Cu等金属复合制备SiC颗粒增强金属基复合材料(尤其是碳化硅颗粒增强铝基复合材料)的过程中,这些杂质必然会对复合材料产生污染,甚至会与金属基体发生界面反应,影响增强体与基体的浸渍性和与界面的结合强度,并对复合材料的热性能、力学性能产生影响。因此,有必要在制备复合材料之前对SiC颗粒进行表面纯净化处理。
关于SiC颗粒的处理方法,目前应用和研究的主要是采用电镀、化学镀、溶胶-凝胶、气相沉积技术(包括物理气相沉积和化学气相沉积)等技术在颗粒表面涂覆Ni、Cu、Ag等金属膜层。如中国专利ZL200510029905.2“SiC陶瓷颗粒表面化学镀铜方法”就是利用化学镀的方法在颗粒表面镀覆一层铜膜,得到镀层包覆均匀的SiC陶瓷颗粒。涂层的引入既改变了界面的原始结合状态,防止SiC颗粒与基体之间发生有害化学反应,又改善了SiC颗粒与基体的浸润性,提高界面结合强度,但是金属涂层也在体系中引入了不需要的合金元素,必将对复合材料的物理、机械性能产生影响。如Ni涂层用于Al基复合材料效果比较明显,它们可以反应形成稳定的金属间化合物(NiAl3、Ni2Al3)等,从而大大提高润湿性,但这些化合物都是脆性相,不利于材料性能的提高。
关于SiC陶瓷材料的表面处理方法,对SiC颗粒进行加热处理是最为简单有效的处理方法,对颗粒进行预氧化处理一方面可以去除各种有机物污染、游离碳和吸附气体,另一方面还可以在颗粒表面形成改善SiC颗粒与金属润湿性的SiO2膜。如中国专利ZL200510046691.X“三维网络陶瓷-金属摩擦复合材料的真空-气压铸造方法”就是采用预氧化处理在SiC颗粒表面生成SiO2保护膜。但是SiC颗粒在高温条件下易烧结,消耗表面的SiC生成SiO2,SiO2膜层分布不均匀,同时在SiO2膜层会残留C无法析出,也会对复合材料整体的力学性能和基体合金成分分布产生影响。
发明内容
本发明的目的:提供一种磨料级SiC颗粒高效、简便、低损耗的“超声+气氛保护高温处理”表面纯净化处理方法。
本发明的技术解决方案是:一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,其特征在于,该方法的操作步骤如下:
1、选取原始磨料级SiC颗粒,所选取的SiC颗粒为纯度在94%以上的颗粒,所选取的SiC颗粒的粒度范围为1μm~120μm;
2、超声处理,将所选取的SiC颗粒与有机溶剂配制成质量比为15%~50%的溶液,超声振荡30~90min,超声振荡过程中辅以加热、搅拌;
3、漂洗,将上述溶液静置1~5min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗3~10遍;
4、干燥,把以上处理后的SiC颗粒自然风干或者放入60~100℃的干燥箱中进行干燥脱水,干透为止;
5、气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在气氛保护下进行800~950℃高温处理,保温1~10小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。
上述步骤2所述有机溶剂为丙酮或无水乙醇。
上述步骤2所述加热为低温加热,加热温度为25~50℃。
上述步骤2所述搅拌为慢速搅拌,搅拌速度为10~50r/min。
上述步骤5所气氛保护为氮气、氩气气氛保护。
本发明的优点:与以往SiC颗粒表面纯净化处理技术相比,本发明有如下优点:
第一、工艺步骤简单,流程短,操作简便,实现方便;
第二、设计新颖合理,先用超声振荡,去除SiC颗粒表面的游离碳、SiO2及Fe、Ca、Al、Mn、Zn等杂质,再在气氛保护下进行高温处理去除表面有机物杂质,避免颗粒在高温条件下烧结和生成SiO2膜层,颗粒表面纯净化处理效果明显;
第三、实用价值高且成本低廉,SiC颗粒损失率低,适合于大规模工业化生产。
附图说明
图1为本发明所涉一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法的方法流程图。
图2为实施例1磨料级SiC颗粒的SEM图片。图2(a)表面纯净化处理前;图2(b)表面纯净化处理后。
图3为实施例1磨料级SiC颗粒的傅里叶变换红外光谱图。图3(a)表面纯净化处理前;图3(b)表面纯净化处理后。
图4为实施例2磨料级SiC颗粒的SEM图片。图4(a)表面纯净化处理前;图4(b)表面纯净化处理后。
图5为实施例2磨料级SiC颗粒的傅里叶变换红外光谱图。图5(a)表面纯净化处理前;图5(b)表面纯净化处理后。
具体实施方式
以下通过具体的实施例对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
实施例1:
本实施例中,对磨料级SiC颗粒表面纯净化处理(见图2与3)时,包括以下步骤:
1、选取粒度为63μm、纯度为99%的原始磨料级SiC颗粒;
2、超声处理,将所选取的SiC颗粒与无水乙醇配制成质量比为15%的溶液,超声振荡30min,超声振荡过程中辅以25℃的加热、20r/min的搅拌;
3、漂洗,将上述溶液静置1min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗3遍;
4、干燥,把以上处理后的SiC颗粒放入70℃的干燥箱中进行干燥脱水,干透为止;
5、气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在氮气气氛保护下进行840℃高温处理,保温4小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。
实施例2:
本实施例中,对磨料级SiC颗粒表面纯净化处理(见图4与5)时,包括以下步骤:
1、选取粒度为80μm、纯度为98.4%的原始磨料级SiC颗粒;
2、超声处理,将所选取的SiC颗粒与丙酮配制成质量比为35%的溶液,超声振荡30min,超声振荡过程中辅以35℃的加热、10r/min的搅拌;
3、漂洗,将上述溶液静置2min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗7遍;
4、干燥,把以上处理后的SiC颗粒放入60℃的干燥箱中进行干燥脱水,干透为止;
5、气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在氩气气氛保护下进行850℃高温处理,保温6小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。
实施例3:
本实施例中,对磨料级SiC颗粒表面纯净化处理时,包括以下步骤:
1、选取粒度为120μm、纯度为95%的原始磨料级SiC颗粒;
2、超声处理,将所选取的SiC颗粒与无水乙醇配制成质量比为50%的溶液,超声振荡60min,超声振荡过程中辅以50℃的加热、30r/min的搅拌;
3、漂洗,将上述溶液静置2min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗7遍;
4、干燥,把以上处理后的SiC颗粒置于自然条件下自然风干,干透为止;
5、气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在氩气气氛保护下进行950℃高温处理,保温1小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。
实施例4:
本实施例中,对磨料级SiC颗粒表面纯净化处理时,包括以下步骤:
1、选取粒度为17.3μm、纯度为94%的原始磨料级SiC颗粒;
2、超声处理,将所选取的SiC颗粒与无水乙醇配制成质量比为25%的溶液,超声振荡45min,超声振荡过程中辅以30℃的加热、40r/min的搅拌;
3、漂洗,将上述溶液静置3min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗5遍;
4、干燥,把以上处理后的SiC颗粒放入80℃的干燥箱中进行干燥脱水,干透为止;
5、气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在氮气气氛保护下进行900℃高温处理,保温5小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。
实施例5:
本实施例中,对磨料级SiC颗粒表面纯净化处理时,包括以下步骤:
1、选取粒度为1μm、纯度为96.4%的原始磨料级SiC颗粒;
2、超声处理,将所选取的SiC颗粒与无水乙醇配制成质量比为30%的溶液,超声振荡90min,超声振荡过程中辅以25℃的加热、50r/min的搅拌;
3、漂洗,将上述溶液静置5min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗10遍;
4、干燥,把以上处理后的SiC颗粒放入100℃的干燥箱中进行干燥脱水,干透为止;
5、气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在氮气气氛保护下进行800℃高温处理,保温10小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。

Claims (5)

1.一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,其特征在于,该方法的操作步骤如下:
(1)选取原始磨料级SiC颗粒,所选取的SiC颗粒为纯度在94%以上的颗粒,所选取的SiC颗粒的粒度范围为1μm~120μm;
(2)超声处理,将所选取的SiC颗粒与有机溶剂配制成质量比为15%~50%的溶液,超声振荡30~90min,超声振荡过程中辅以加热、搅拌;
(3)漂洗,将上述溶液静置1~5min,抽去上层悬浮液,得到下层沉淀的SiC颗粒,用去离子水漂洗3~10遍;
(4)干燥,把以上处理后的SiC颗粒自然风干或者放入60~100℃的干燥箱中进行干燥脱水,干透为止;
(5)气氛保护高温处理,把干燥好的SiC颗粒在气氛保护下进行800~950℃的高温处理,保温1~10小时,随炉冷却至室温,得到表面纯净的磨料级SiC颗粒。
2.根据权利要求1所述的一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,其特征在于,步骤(2)所述有机溶剂为丙酮或无水乙醇。
3.根据权利要求1或2所述的一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,其特征在于,步骤(2)所述加热为低温加热,加热温度为25~50℃。
4.根据权利要求1或2所述的一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,其特征在于,步骤(2)所述搅拌为慢速搅拌,搅拌速度为10~50r/min。
5.根据权利要求1或2所述的一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法,其特征在于,步骤(5)所述气氛保护为氮气或氩气气氛保护。
CN201410168392.2A 2014-04-25 2014-04-25 一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法 Active CN103964439B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410168392.2A CN103964439B (zh) 2014-04-25 2014-04-25 一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410168392.2A CN103964439B (zh) 2014-04-25 2014-04-25 一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103964439A true CN103964439A (zh) 2014-08-06
CN103964439B CN103964439B (zh) 2018-01-23

Family

ID=51234510

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410168392.2A Active CN103964439B (zh) 2014-04-25 2014-04-25 一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103964439B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106276907A (zh) * 2016-08-23 2017-01-04 怀远县金浩电子科技有限公司 一种防雷器用碳化硅细粉的处理方法
CN106698435A (zh) * 2016-12-16 2017-05-24 苏州金仓合金新材料有限公司 一种碳化硅颗粒及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101157130A (zh) * 2007-11-08 2008-04-09 北京科技大学 一种高压氢还原法制备镍包碳化硅复合粉末的方法
CN102718217A (zh) * 2012-05-18 2012-10-10 湖北大学 一种高纯线状碳化硅粉及其制备方法
CN103290482A (zh) * 2013-01-06 2013-09-11 河北同光晶体有限公司 一种去除大直径碳化硅单晶应力的方法
CN103359736A (zh) * 2013-07-17 2013-10-23 海南大学 一种从晶硅切割废砂浆提纯制备碳化硅粉体的方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101157130A (zh) * 2007-11-08 2008-04-09 北京科技大学 一种高压氢还原法制备镍包碳化硅复合粉末的方法
CN102718217A (zh) * 2012-05-18 2012-10-10 湖北大学 一种高纯线状碳化硅粉及其制备方法
CN103290482A (zh) * 2013-01-06 2013-09-11 河北同光晶体有限公司 一种去除大直径碳化硅单晶应力的方法
CN103359736A (zh) * 2013-07-17 2013-10-23 海南大学 一种从晶硅切割废砂浆提纯制备碳化硅粉体的方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
焦付军等: "SiCp/7050Al复合材料制备过程中SiCp预处理工艺", 《特种铸造及有色合金》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106276907A (zh) * 2016-08-23 2017-01-04 怀远县金浩电子科技有限公司 一种防雷器用碳化硅细粉的处理方法
CN106698435A (zh) * 2016-12-16 2017-05-24 苏州金仓合金新材料有限公司 一种碳化硅颗粒及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103964439B (zh) 2018-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106756167B (zh) 原位合成三维石墨烯增强镍基复合材料的制备方法
CN103572087A (zh) 碳化硼颗粒增强铝基复合材料的制备方法
CN105506579A (zh) 一种石墨烯包覆碳化硅纳米线的制备方法
CN110407213B (zh) 一种(Ta, Nb, Ti, V)C高熵碳化物纳米粉体及其制备方法
CN103409732A (zh) 一种金刚石表面金属化的复合处理方法
CN105399100A (zh) 一种纳米多孔硅的制备方法
CN105601316A (zh) 一种碳化硅气凝胶及其制备方法
CN105695788A (zh) 一种石墨烯增强镍基复合材料及其制备方法
CN104726734A (zh) 碳化硅增强铝基复合材料的制备方法
CN107586987B (zh) 碳化钛-二硼化钛双相增强铜基复合材料及其制备方法
CN105272269A (zh) 一种氮化硅/六方氮化硼纳米复相陶瓷的制备方法
CN105000562B (zh) 一种碳化硅空心球的制备方法
CN105692642A (zh) 一种纳米棒状硼化锆粉体及其制备方法
CN106119829A (zh) 一种钼合金高温抗氧化Mo‑Hf‑Si涂层及其制备方法
CN109437203A (zh) 一种高纯一维SiC纳米材料的制备方法
CN104291829B (zh) 一种高α相氮化硅的制备方法
CN105350294B (zh) 一种镀碳化硅层的短切碳纤维及其制备方法
CN111099596B (zh) 一种在二氧化硅气凝胶颗粒表面包覆高疏水氮化硼纳米片薄层的简易方法
CN103964439A (zh) 一种磨料级SiC颗粒表面纯净化处理方法
CN107538016A (zh) 一种改善石墨烯与纯铝的界面浸润性的方法
CN108611511B (zh) 一种三维互通CNTs/Cu复合材料及其制备方法
CN102583317A (zh) 一种提高碳化物衍生碳结构有序性的方法
CN104987134B (zh) 一种在陶瓷表面利用原位还原法制备镍涂层的方法
CN109022868A (zh) 一种原位合成Cu-石墨烯杂聚体增强铝基复合材料的制备方法
EP2258811A1 (en) Method for producing porous ceramics and multiphasic materials from cellulosic precursors

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20230816

Address after: Rooms 1-413, Building 1, No. 60 Xingfu Street, Kuiwen District, Weifang City, Shandong Province, 261041 (office space only)

Patentee after: Weifang Guoke Economic and Trade Co.,Ltd.

Address before: 100144 Beijing City, Shijingshan District Jin Yuan Zhuang Road No. 5, North China University of Technology

Patentee before: NORTH CHINA University OF TECHNOLOGY

TR01 Transfer of patent right