CN103885288A - 用于光成像的可固化涂料 - Google Patents

用于光成像的可固化涂料 Download PDF

Info

Publication number
CN103885288A
CN103885288A CN201310160036.1A CN201310160036A CN103885288A CN 103885288 A CN103885288 A CN 103885288A CN 201310160036 A CN201310160036 A CN 201310160036A CN 103885288 A CN103885288 A CN 103885288A
Authority
CN
China
Prior art keywords
curable
approximately
curable photopolymer
photopolymer
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310160036.1A
Other languages
English (en)
Inventor
查尔斯·乔纳森·肯尼特
约翰·坎宁安
罗伯特·吉卜森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rainbow Technology Systems Ltd
Original Assignee
Rainbow Technology Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rainbow Technology Systems Ltd filed Critical Rainbow Technology Systems Ltd
Publication of CN103885288A publication Critical patent/CN103885288A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本申请描述了用于光成像工艺的可固化涂料。更具体的是,本申请描述了用于光成像工艺的100%或基本100%固体的可能量固化的涂料形式的可固化涂料,在所述光成像工艺中,基材涂覆有湿的可固化感光聚合物,且使用光成像基材以形成图像,如电路或光化学加工工业(PCMI)中使用的其它特征物,例如线、正方形、螺旋、圆或其它几何和非几何形状。

Description

用于光成像的可固化涂料
技术领域
本发明涉及一种用于光成像工艺的可固化涂料。更具体的是,本发明涉及一种用于光成像工艺的100%或基本100%固体的可能量固化的涂料形式的可固化涂料,其中基材涂覆有湿的可固化感光聚合物,并且使用光成像基材形成图像,如电路或用在光化学加工工业(PCMI)中的其它特征物,例如线、正方形、螺旋、圆或其它几何和非几何形状。
背景技术
虽然本领域中存在用于生产适用于形成印刷电路板(PCBs)或PCMI中结构的细线和形状的现有技术,很多这些技术具有许多显著的缺点。例如,很多现有技术的分辨率不足。此外,提供高分辨率的技术通常需要复杂的设备如精密的激光装置。另一个问题是,现有的技术需要感光聚合物的部分固化干膜的使用。这些干膜的厚度对光成像表面的分辨率和/或清晰度有不利影响。还存在再次导致在光成像工艺中的问题的污染问题和将部分固化的干膜粘附到基材的问题。
据认为,迄今为止没有可用的100%固体可能量固化的涂料能够用低于20mJ的UV能量水平固化,用于本申请所述的光成像工艺以生产使用在PCB或PCMI的图像。
因此,认为在铜上使用100%固体抗蚀剂的由本申请所述的光成像工艺使用光掩膜成像制备的PCB是新型制品。在此之前,所有液态可成像(LPI)材料包含溶剂并需要在固化之前预干燥。因此,100%固体涂料的成功使用是新的方法。
本申请是本申请人先前申请如WO2010/007405和WO2012/069807的延伸,在这里通过引用并入本申请。其中所述的技术被称为“彩虹涂覆工艺(Rainbow Coating Process)”,其可被用于光成像工艺。
本发明的至少一个方面的目的在于消除或减轻至少一个或更多个前述问题。
本发明的至少一个方面的另一个目的在于提供用于光成像工艺的100%或基本100%固体的可能量固化的涂覆材料。
发明内容
根据本发明的第一方面,提供一种可固化感光聚合物,其包含:
可固化树脂,其以按重量计10%至90%的量存在;
光引发剂;
添加剂;和
粘合剂;
其中可固化感光聚合物可用小于约1000mJ的能量固化且在光成像工艺中的成像之前没有预干燥。
因此,本发明涉及一种可固化感光聚合物,其中可固化感光聚合物可用例如UV或可见光辐射固化,而没有成像前的预干燥。因此,可固化感光聚合物在光成像之前是湿的形式。涂料用在WO2010/007405和WO2012/069807中所述的被称为彩虹涂覆工艺中。
光引发剂可引发在湿的可固化感光聚合物中的交联。光引发剂可以是光引发剂的混合物。
添加剂是润湿剂并可提供耐湿性、表面润湿流平和其它性能。这使得湿的可固化感光聚合物能够均匀地铺展在待发生成像的表面上。润湿剂可以是润湿剂的混合物。
粘合剂能够提供用于将湿的可固化感光聚合物粘合到各种基材的粘附力,所述基材包括但不限于金属、玻璃和塑料。粘合剂可以是粘合剂的混合物。
湿的可固化感光聚合物可通过沉积到覆层上然后用光掩膜固化而固化,其中辐射通过光掩膜固化暴露区域中的湿的可固化感光聚合物。
湿的可固化感光聚合物可基本上都是固体,即可存在零含量或极低含量的溶剂。令人惊讶地已发现这提供了改善的成像和分辨率。然而,本发明还存在少量溶剂。因此在本发明中,可存在少于约1%的溶剂,少于约3%的溶剂,少于约10%的溶剂乃至少于约15的溶剂。
在优选的实施方案中,湿的可固化感光聚合物优选地是没有可挥发溶剂内容物的100%固体,因此没有溶剂。本发明人已发现存在溶剂使得在光成像区域形成不期望的裂纹和裂缝。裂纹和裂缝不仅对可能分辨率的低水平具有不利影响,还可导致设备故障如在PCBs和PCMI中。
可固化感光聚合物可用约0至20mJ、约0至50mJ、约50至500mJ或约100至1000mJ的能量固化。
或者,湿的可固化感光聚合物可用非常低的能量需求固化,如在约0.5至20mJ范围内用于例如约5微米涂层,但更优选在约1.5mJ-2.0mJ范围内用于例如约5微米涂层。本发明的彩虹涂覆工艺由于层压工艺使得低能量固化成为可能,所述层压工艺去除了任意捕获在感光聚合物下面的氧并从而防止了任何氧抑制。
湿的液体光致抗蚀剂聚合物可使用任意适当的技术以基本均匀和连续的方式沉积。例如,液体光致抗蚀剂层可使用喷雾、丝网印刷系统、刷子、辊子和/或浸涂系统沉积。
湿的可固化感光聚合物的涂层可用波长约200nm至500nm的电磁辐射固化,但优选用约365nm至约415nm的电磁辐射乃至用约395nm至约405nm的电磁辐射固化。
湿的可固化感光聚合物的涂层可对于一定范围的基材如铜、聚酯、FR4、玻璃、聚酰亚胺等具有良好的粘附力。
一旦湿的可固化感光聚合物涂层已固化成为印刷图像,那么印刷图像可在约0.1%浓度w/v(即重量比体积)至约2%浓度w/v范围(但优选在约0.5%至约0.9%浓度w/v范围)的碳酸钾或碳酸钠的水基溶液中显影。
或者,湿的可固化感光聚合物涂层可在水和溶剂的混合溶液(例如约80%水与约20%正-2丙醇的混合物乃至约20%水与约80%正-2丙醇的混合物)中显影。
湿的可固化感光聚合物材料还可根据最后涂层的最终用途适当地修改为触变型、胀流型或牛顿型。由于经常出现的基材的不均匀和开放性质,可优选配制与牛顿型涂料相反的结构化的涂料,其性质可无意地向下溢过基材上的孔。结构化的涂层如触变剂可在涂布工艺的压力下自由地流过任意开口,但是一旦施加的压力去除则立刻恢复到更结构化的涂层,从而防止无意地流入孔中,随后其会在原位通过固化涂层的入射电磁辐射立刻固化并防止通过孔的泄露。
本发明涂层系统的特征通过如下方法获得:提供湿的可固化感光聚合物形式的涂覆材料,其优选由可UV固化的树脂以各种组合形式共混在一起的独特的组合构成,以提供抗蚀剂(etch resist)、阻焊膜和介电涂料。本发明涂覆材料的配制使其能够在多种粘度下有效地利用。根据本发明可使用的可能粘度的多变性(versatility)使得本涂层系统可用于在宽范围的涂层厚度下涂覆垂直的和/或水平的表面,以向被涂覆的基材提供均匀分布的外观。
以如下讨论的更详细的方式通过向涂覆材料加入各种光引发剂而确保湿的可固化感光聚合物制剂的光聚合。通过电磁辐射固化的应用实现快速固化。根据一个优选的实施方案,紫外线(“UV”)和/或可见光的光聚合是优选的模式,尽管预计红外波的能量也可结合用于各种表面固化性的光敏引发利用,或者作为电磁辐射的总源利用。
根据本发明的一个优选的实施方案的固化技术可依靠UV和可见光(如通过波长定义的对于UV的约220nm至约380nm和对于可见光的380nm至480nm)的组合。UV和可见光的组合固化允许如本领域的技术人员所知并描述在现有商业化学文献中的那些阳离子和自由基固化系统的应用。这使得具有极小气味、热、时间和能量需求的大面积的涂料能够极其迅速的固化(通常在数秒内)。本发明涂层系统的生产具有极小气味、热、时间和能量需求的理想涂料的能力使其非常适合在PCB和PCMI两者中使用。
根据本发明涂层系统的优选的实施方案,涂覆材料可由如下的任一种或任意组合构成:UV或可见光光引发剂;可UV固化的树脂;丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯单体;润湿剂;UV稳定剂;流变改性剂;粘合促进剂和/或自流平剂。
以下几点概述了根据本发明使用的优选的材料。此列表只是提出了建议的可获得本发明涂覆材料的各种成分的原料表,本领域的普通技术人员将容易地理解可在不脱离本发明精神的情况下从各个供应商购买制成本发明涂覆材料的组分。
组合物中可包含一种或更多种光引发剂以引发材料的交联。光引发剂既可以是自由基的也可以是阳离子性质的,或者是两者的组合。光引发剂的实例包括但不限于:1-羟基环己基苯基酮;2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮;2-羟基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮;α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮;2-苄基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)-1-丁酮);2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮;二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物;氧化膦;苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基);膦氧化物碘和(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-六氟磷酸盐。
此外,酰基磷化合物可用作光引发剂,如:可由Ciba SpecialtyChemicals以Irgacure或Darocur商标市售的2,4,6-三有机苯甲酰基二芳基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦氧化物、2,4,6-三乙基苯甲酰基二萘基膦氧化物、2,4,6-三有机苯甲酰基二有机膦酸酯如2,4,6-三甲基苯甲酰基二乙基膦酸酯和2,4,6-三乙基苯甲酰基二苯基膦酸酯、2,4,6-三有机苯甲酰基二芳基膦硫化物如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦硫化物;可由Dow Chemical以Cyracure商标市售的混合芳基锍六氟锑酸盐、混合芳基锍六氟磷酸盐;可由IGM resins以Omnirad商标市售的二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮,和它们的混合物。
某些与胺组合更有效的光引发剂包括但不限于:由IGM resins以Omnirad商标市售的2-二甲基氨基苯甲酸乙酯;4-(二甲基氨基)苯甲酸乙酯;2-乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯;4-(N,N-二甲基氨基)苯甲酸异戊酯,和它们的混合物。
一种或更多种光引发剂可包含组合物重量的约0.1%至约15%(重量),并且对于阳离子涂料优选组合物重量的约0.1%至约1.5%(重量)或组合物重量的约0.1%至约3%(重量),以及对于自由基涂料优选组合物重量的约8.0%至约10.0%(重量)。
根据本发明一个优选的实施方案所用的光引发剂可选择用于吸收约385nm至约415nm波长带的能量。光引发剂可具有非常高的反应性以在数秒内快速固化并使制剂固化于表面以得到坚固、耐久的耐化学品性的表面,和提供基材表面之下一定深度的固化而不管涂层厚度如何。
有了这种考虑,本发明的光引发剂共混物可以组合使用在厚的和薄的可UV固化的保护涂层系统中,使得待置于酸性或碱性环境中的涂层适用于蚀刻已施加涂层的基材。
根据如WO2010/007405和WO2012/069807中所述的使用彩虹涂覆工艺的本发明优选的实施方案,下面的光引发剂被组合以提供共混的提供最佳性能的光引发剂:
配方
光引发剂共混物 量(w/v%)
Velsicure二苯甲酮 16.00
Irgacure 184 28.00
Genocure EPD 8.00
Genocure ITX 8.00
Speedcure DETX 8.00
Genocure TPO 4.00
Genocure PMPO 8.00
Irgacure 369 9.50
Genocure BDK 10.50
[TPO(BASF)2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦可由Ciba,Inc.制造的Irgacure819代替I
这种专有的共混物提供了具有在宽波能频谱上的广泛强吸收的光引发剂,并且还具有对于低水平强度(如在UV LED灯中发现的)的快速反应。
还可以预期MBF(苯甲酰甲酸甲酯)、芳香族酮可连同上文所公开的专有共混物使用以提高反应性,并提供与表现出氧抑制的单体和树脂的耐久性硬表面固化。
还可以预期Irgacure(注册商标)184(1-羟基环己基苯基酮)可与Darocur(注册商标)TPO组合使用以提供类似的性能。
本发明涂层材料的各个组分提供额外的功能,得到本发明的十分有用的涂层系统。例如,一些光引发剂的共混提供了具有在厚的部分全深度固化的涂层系统。一些光引发剂的共混还提供了硬的表面,同时防止表面变形。
此外,可配制总的涂层系统以防止氧抑制涂覆材料的最终固化。润湿剂配合所用的流平剂和粘合剂向涂层系统提供了耐湿性、表面润湿性和流平性,所述粘合剂提供用于将本发明的涂层系统粘合到各种基材的粘附力,所述基材包括但不限于金属、玻璃和塑料。
根据本发明优选的实施方案,新型可UV固化的树脂共混物可用于涂覆材料中。树脂共混物大约包含按涂覆材料重量计的约5%至约60%,其中每种制成共混物的树脂优选地组成所得可UV固化的树脂共混物的约10%至30%。
这种新型的可UV固化的树脂的组合可用在厚的或薄的两种固化性抗蚀剂涂层系统中。共混物提供了迅速固化为硬的、耐酸和耐碱涂层的涂覆材料。
组合以形成本发明共混物的树脂可选自下列物质的任一种或任意组合:具有快速固化性能的脂肪族直链聚醚氨酯丙烯酸酯、脂肪族聚酯氨酯丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯化的单体共混物。更具体地说,具有高官能度的脂肪族直链聚醚氨酯丙烯酸酯提供了良好的水解稳定性、良好的耐化学品性、良好的耐磨性、良好的光泽度和低粘度的组合。脂肪族聚酯氨酯丙烯酸酯提供了良好的耐溶剂性和适应性。聚酯丙烯酸酯单体共混物提供了韧性、优良的耐溶剂性、低粘度和固化改性剂。
本发明中使用的可UV固化的单体(其作用是作为反应稀释剂控制低聚物的粘度)的代表性实施例包括下列物质的任一个或任意组合:季戊四醇三/四丙烯酸酯(PETA);三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA);三羟甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯(TMPEOTA);六亚甲基二丙烯酸酯(HDDA);二丙二醇二丙烯酸酯(DPGDA);三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA);丙烯酸异冰片酯(IBOA)和丙烯酸己基乙酯(HEA)。等效的甲基丙烯酸酯类也可用在如下制剂中:HEMA;TMPTMA;IBOMA5和乙氧基化TMPTMA。由于甲基丙烯酸酯比其等效的丙烯酸酯固化较慢,所以它们的作用是提高粘附力并且降低固化速度。
优选地,单官能的支链或碳环丙烯酸酯选自:丙烯酸异冰片酯;丙烯酸环己酯;丙烯酸叔丁酯;丙烯酸2-乙基己酯;丙烯酸二环戊烯基酯;丙烯酸四氢糠基酯;环状三羟甲基丙烷缩甲醛丙烯酸酯和乙烯基己内酰胺或其混合物。
单体的具体特点概述如下:
HDDA      快速固化,低挥发性,良好的耐化学品性,良好的粘附力,良好的硬度,良好的耐热性,良好的耐磨性;
CTFA      粘附力,增加的柔性,低收缩率;
IBOA      对于薄膜固化的高Tg性能,优良的反应性,良好的柔性,良好的耐冲击性,良好的耐水性;
IBOMA     与IBOA类似的属性,不同在于对于厚固化部分具有较慢的固化,以防止表面变形(起皱);
TMPTA     快速固化,低挥发性,良好的耐化学品性,良好的硬度,良好的耐热性,良好耐磨性;
TMPEOTMA  与TMPTA类似的属性,不同在于对于厚部分的固化具有较慢的固化;
TMPEOTA   低收缩性,非常低的粘度,良好的耐化学品性,良好的粘附力,良好的硬度,良好的耐热性,良好的耐磨性,良好的抗冲击性。由于低收缩性和较慢的固化,用于厚部分的固化;以及
HEMA      可交联性,疏水性,改进的粘附力,玻璃粘合的关键。
湿的可固化感光聚合物还可包含单官能和多官能丙烯酸酯的丙烯酸酯单体,例如单官能和多官能甲基丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯单体。
湿的可固化感光聚合物还可以包含下列物质的任一种或任意组合以改善对金属或玻璃表面的粘附力:丙烯酸;β-CEA;环氧硅烷和三官能的酸酯。这些组分可在约5%w/v的水平被添加。
以下额外的产物可用在湿的可固化感光聚合物的制剂中以给予最终制剂以特定的润湿剂性能:
a.可使用,但不限于,以下润湿剂的共混物:丙烯酸酯共聚物,如来自Byk Chemie的市售的Byk-359和Byk-361N;
b.聚醚改性聚二甲基硅氧烷,如市售的Byk UV3510;
c.聚醚改性二甲基硅氧烷,如市售的Byk UV3530;
d.聚醚改性聚二甲基硅氧烷,如市售的Tego rad 2200;
e.聚醚改性二甲基硅氧烷,如市售的Tego弧度1800;
f.聚合物分散剂,如来自BYK Chemie的市售的Disperbyk 162;
g.聚合物分散剂,如市售的Solsperse24000;
h.聚醚酰胺酸聚胺衍生物,如来自Noveon的市售的Solsperse5000和Solsperse22000;
及其混合物。这些组分可在组合物的约0.1%至约5%w/w的范围存在,并优选在组合物的约0.1%至约1.0%w/w的范围内。
可根据需要包含各种其它的添加剂如下列物质的任一种或任意组合:
a.表面活化试剂;
b.表面活性剂;
c.润湿剂;
d.抗氧化剂;
e.触变剂;
f.膨胀剂;
g.增强材料;
h.硅烷官能性的全氟聚醚;
i.磷酸酯官能性的全氟聚醚;
j.硅烷;
k.钛酸酯;
l.蜡;
m.空气释放剂;
n.流动添加剂;
o.粘合促进剂;
p.流变改性剂;
q.表面活性剂;以及
r.隔珠(spacer bead)
所述成分经过特定地选择以获得所需的性能平衡,用于特定组合物中的树脂的用途。
根据本发明一个优选的实施方案,已发现理想的结果是在本发明的涂覆材料在以如下方式组合时产生的:
按重量计约10%至60%的树脂,例如丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯单体;按重量计约5%至20%;
按重量计约0.1%至15%的光引发剂;
按重量计约0.3%至1%的流平剂;
按重量计约0.1%至0.5%的稳定剂;
按重量计约5%至10%的粘合促进剂;
按重量计约0.1%至5.0%的流变改性剂;
按重量计约0.01%至0.5%的润湿剂。
根据本发明的湿的可固化感光聚合物涂覆材料的各成分不包含有关VOC或HAPS的溶剂,是环境友好的,并且不受任何用途或运输形式的限制。此外,各成分与通常使用的化学品相比无需特殊的防护设备。
此外,湿的可固化感光聚合物涂覆材料可容易地配制以提供用于在大多数表面上的电镀抗蚀剂和阻焊膜的薄涂层和较厚的涂层的大范围粘度。
湿的可固化感光聚合物涂层材料还可以着色或染色以影响匹配的颜色,同时不抑制涂层的光致聚合。固化的涂覆材料提供了良好的防水性,并提供了一种当放置在酸性或碱性溶液中(如用在PCB或PCMI中)时的耐用的表面。
本发明中的湿的可固化感光聚合物可被描述为一种可能量固化的抗蚀剂组合物。在特定的实施方案中,湿的可固化感光聚合物可包括:
a.约1w/w%至60w/w%的酸性丙烯酸酯单体;
b.约1w/w%至50w/w%的氨酯丙烯酸酯单体;
c.约25w/w%至90w/w%的二、三和六丙烯酸酯单体,其基本由约20w/w%至90w/w%的己二醇二丙烯酸酯,以及约10w/w%至80w/w%的单官能支链或碳环丙烯酸酯的混合物组成;以及
d.约1w/w%至15w/w%的光引发剂或光引发剂的混合物。
附图说明
现在将参照附图仅以示例的方式描述本发明的实施方案,其中:
图1是根据本发明的一个实施方案的三层结构的侧视图;
图2是根据本发明的一个实施方案的密封袋的视图;
图3是根据本发明的一个实施方案的其上沉积有湿的感光聚合物层的基材侧视图;
图4是如图3示出的其上沉积有湿的感光聚合物层的基材侧视图,其中在根据本发明实施方案的光成像过程中使用光掩膜。
具体实施方式
图1是根据本发明的能够成像的三层结构10的侧视图,其中有作为基材的底层12,作为湿的可固化感光聚合物的中间层14和为透明塑料或光掩膜或优选涂覆有保护层的光掩膜或塑料的顶层16,所述顶层作为隔离涂层还提供耐化学品性和防水性。湿的可固化感光聚合物是如本申请所述的,并因此利用如WO2010/007405和WO2012/069807中所述的彩虹工艺成像。
如图2所示出的,本发明允许形成密封袋20。密封袋20包含在液态UV感光聚合物22的袋周围形成的密封的边界24。
图3是根据本发明的一个实施方案的层叠结构侧视图,通常标示为100。层叠结构100包括基材110(如电介质层)和在两侧的覆层112。该覆层可以是金属。叠层结构100的顶部有一个液态感光聚合物114的层。因此,感光聚合物层114是湿的。液态感光聚合物层114具有约5μm的厚度。虽然在图3中未示出,感光聚合物层114可施加到叠层结构100的两侧。
感光聚合物114首先使用任意适合的技术以基本均匀和连续的或至少基本连续的方式沉积在层叠结构100上。例如,感光聚合物层114使用喷雾、刷子、辊子和/或浸涂系统被施用。在本发明中,在湿的感光聚合物膜用例如UV辐射照射之前,没有干燥步骤(即预干燥步骤)。
一旦感光聚合物层114已被施加到层叠结构100之后,光掩膜116被施加到感光聚合物层114。光掩膜116是所需电路的负(或正)的图像,并允许光通过光掩模116的一些部分而不是其它部分。光掩膜由柔性塑料材料或可能由玻璃乃至可能由有机玻璃制备。
图4表示施加到层叠结构100的光掩膜116。在光掩膜116已被施加到包含液态感光聚合物114的层叠结构100之后,一个加压系统被用以分散和/或挤压感光聚合物114,以便获得感光聚合物114的均匀分散,其具有在光掩膜116和基材覆层112之间的约5μm基本均匀的厚度。加压系统还保证了没有空气,从而没有氧被捕集在感光聚合物114下面。例如,基于辊子的系统施加了压力并被用以分散感光聚合物114。因此,橡胶圆柱辊可用以分散感光聚合物114。这可能在层叠结构100的两侧均有发生。由于去除了所有的空气和氧,这克服了包括抛物柱面镜的复杂的照明系统的需求。
如图4所示出的,UV辐射用于聚合和/或硬化和/或凝固暴露的液态感光聚合物114。UV辐射的波长为约200至400nm,并具有合适的强度以固化暴露的液态感光聚合物114。可使用任意合适的UV光源,但UVLED是特别合适的,由于其产生非常少量的热、具有长的灯的寿命、立即启动、输出功率基本无衰退、低维护费以及可产生高水平的光强。因此,LED可在廉价的光成像工艺中用以印刷细纹方形、螺旋形、圆形或其它几何或非几何形状。或者,使用激光光源或DMD数字成像装置。值得注意的显著的优势在于不需要感光聚合物部分固化的干膜(例如DuPont的Riston,商标),从而显著地降低了成像工艺中的任何线生长,给予了显著改善的分辨率。因此,本发明的方法的分辨率通过克服对没有部分固化干膜或预干燥溶剂基湿抗蚀剂的需求而得以提高。
下面是根据本发明的湿的可固化感光聚合物的一些特定配方。
配方1
透明抗蚀剂(黄色) 量(w/v%)
Ebecryl 2047 13.36
Ebecryl IBOA 49.30
CL1039 16.60
Beta-CEA 15.30
光引发剂共混物2 5.30
Tegoglide 2200 0.14
总计: 100.00
配方2
非变黄透明抗蚀剂 量(w/v%)
IBOA 10.40
HDDA 21.70
CL1039 11.30
Beta-CEA 21.70
Ebecryl 40 26.10
光引发剂共混物2 8.80
总计: 100.00
配方3
Figure BDA00003140108700131
配方4
光引发剂共混物1 量(w/v%)
Genocure EPD 5.00
Velsicure二苯甲酮 5.00
Genocure CPK 30.00
Genocure PMPO 10.00
Genocure DMHA 10.00
Irgacure 819 10.00
Genocure TPO 30.00
总计: 100.00
配方5
Figure BDA00003140108700141
配方6
丙烯酸树脂共混物 量(w/v%)
Genomer 1343 15.00
Actilane 422 15.00
丙烯酸树脂混合物 20.00
聚氨酯丙烯酸酯(Actilane 276) 30.00
Genomer 1658 20.00
总计 100.00
总计 100.00
配方8
丙烯酸树脂混合物 量(w/v%)
丙烯酸树脂(PARALOID DM55) 50.00
乙氧基化的TMPTA(Genomer 1343) 50.00
总计: 100.00
配方1、2和3使用本发明的光成像工艺印刷,并印刷在具有1/2盎司铜、聚酯基材的铜层合板上并暴露至由395nm UV LED阵列提供的固化剂量的UV辐射。下列的UV固化抗蚀剂利用3M Scotch 610带测试粘附力。在试验过程中,印刷电路测试图案。从试验板移除的部分随后利用行业标准的氯化铜或氨蚀刻和5%氢氧化钠溶液进行蚀刻和剥离测试,结果记录于下表。
结果示出配方确以期望的低能量固化,并经受住工业蚀刻溶液。
Figure BDA00003140108700161
虽然上面已描述了本发明的具体实施方案,应理解,偏离所描述实施方案的实施方案可能仍然落入本发明的范围内。例如,任何适当类型的能够用小于20mJ的能量固化5微米涂层的合适的湿可固化感光聚合物可用在如本申请所描述的涂覆工艺(即彩虹涂覆工艺)中。

Claims (26)

1.一种可固化感光聚合物,其包含:
可固化树脂,其以按重量计10%至90%的量存在;
光引发剂;
添加剂;以及
粘合剂;
其中所述可固化感光聚合物能够用小于1000mJ的能量固化且在光成像工艺中在成像前没有预干燥。
2.根据权利要求1所述的可固化感光聚合物,其中所述光引发剂能够在可固化感光聚合物中引发交联。
3.根据权利要求1或2所述的可固化感光聚合物,其中所述添加剂是润湿剂并能够提供耐湿性、表面润湿和流平性能,这使得所述可固化感光聚合物能够均匀地铺展在待发生成像的表面上。
4.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述粘合剂能够提供用于将所述可固化感光聚合物粘合到各种基材包括金属、玻璃和塑料的粘附力。
5.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物都是固体,因此不含溶剂且不含挥发性有机内容物。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的可固化感光聚合物,其中存在少于约1%的溶剂,少于约3%的溶剂,少于约10%的溶剂或少于约15的溶剂。
7.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物能够用约0至20mJ、约0至50mJ、约50至500mJ或约100至1000mJ的能量固化。
8.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物能够以约0.5至20mJ或约1.5至2.0mJ范围内的非常低的能量需求固化。
9.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物的涂层用波长约200nm至约500nm、约365nm至约415nm或约395nm至约405nm的能量固化。
10.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物的涂层对铜、聚酯、FR4、玻璃和聚酰亚胺基材具有良好的粘附力。
11.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物包含下列的任一种或它们的组合:UV或可见光光引发剂;可UV固化树脂;丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯单体;UV稳定剂;流变改性剂;粘合促进剂和/或自流平剂。
12.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物中含有一种或更多种光引发剂以引发材料的交联,并且所述光引发剂选自下列的任一种或它们的组合:1-羟基环己基苯基酮;2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮;2-羟基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-甲基-1-丙酮;α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮;2-苄基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)-1-丁酮);2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮;二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物;氧化膦;苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基);膦氧化物碘
Figure FDA00003140108600021
和(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]-六氟磷酸盐。
13.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物中含有一种或更多种光引发剂以引发材料的交联,并且所述光引发剂选自下列的任一种或它们的组合:可由Ciba SpecialtyChemicals以Irgacure或Darocur商标市售的2,4,6-三有机苯甲酰基二芳基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦氧化物、2,4,6-三乙基苯甲酰基二萘基膦氧化物、2,4,6-三有机苯甲酰基二有机膦酸酯如2,4,6-三甲基苯甲酰基二乙基膦酸酯和2,4,6-三乙基苯甲酰基二苯基膦酸酯、2,4,6-三有机苯甲酰基二芳基膦硫化物如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基膦硫化物;可由Dow Chemical以Cyracure商标市售的混合芳基锍六氟锑酸盐、混合芳基锍六氟磷酸盐;可由IGM resins以Omnirad商标市售的二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮。
14.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物中含有一种或更多种光引发剂以引发材料的交联,并且所述光引发剂选自下列的任一种或它们的组合:可由IGM resins以Omnirad商标市售的2-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-(二甲基氨基)苯甲酸乙酯、2-乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯、4-(N,N-二甲基氨基)苯甲酸异戊酯。
15.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中一种或更多种光引发剂以基于阳离子涂料组合物重量的约0.1重量%至约15重量%、或约0.1重量%至约1.5重量%存在,优选以基于自由基涂料组合物重量的约8.0重量%至约10.0重量%存在。
16.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物包含芳族酮,例如,苯甲酰甲酸甲酯和1-羟基环己基苯基酮。
17.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化树脂以可固化感光聚合物的按重量计5%至60%或按重量计10%至30%的量存在。
18.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化树脂选自下列的任一种或它们的组合:具有快速固化性能的脂肪族直链聚醚氨酯丙烯酸酯、脂肪族聚酯氨酯丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯化的单体共混物。
19.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化树脂是选自下列的任一种或它们的组合的可UV固化的树脂:季戊四醇三/四丙烯酸酯(PETA);三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA);三羟甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯(TMPEOTA);六亚甲基二丙烯酸酯(HDDA);二丙二醇二丙烯酸酯(DPGDA);三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA);丙烯酸异冰片酯(IBOA)和丙烯酸己基乙酯(HEA)。
20.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化树脂选自下列的任一种或它们的组合:丙烯酸异冰片酯;丙烯酸环己酯;丙烯酸叔丁酯;丙烯酸2-乙基己酯;丙烯酸二环戊烯基酯;丙烯酸四氢糠基酯;环状三羟甲基丙烷缩甲醛丙烯酸酯和乙烯基己内酰胺。
21.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化树脂选自作为单官能和多官能丙烯酸酯的丙烯酸酯单体,例如单官能和多官能甲基丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯单体。
22.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物还包含下列的任一种或它们的组合以改善对金属或玻璃表面的粘附力:丙烯酸;β-CEA;环氧硅烷和三官能的酸酯。
23.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物还包含约0.1%至约5%w/w的下列润湿剂的任一种或它们的组合:
a.丙烯酸酯共聚物的共混物;
b.聚醚改性聚二甲基硅氧烷;
c.聚醚改性二甲基硅氧烷;
d.聚醚改性聚二甲基硅氧烷;
e.聚醚改性二甲基硅氧烷;
f.聚合物分散剂;
g.聚合物分散剂;和
h.聚醚酰胺酸聚胺衍生物。
24.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物还包含下列的任一种或它们的组合:
a.表面活性剂;
b.抗氧化剂;
c.触变剂;
d.膨胀剂;
e.增强材料;
f.硅烷官能性的全氟聚醚;
g.磷酸酯官能性的全氟聚醚;
h.硅烷;
i.钛酸酯;
j.蜡;
k.空气释放剂;
l.流动添加剂;
m.粘合促进剂;
n.流变改性剂;
o.表面活性剂;和
p.隔珠。
25.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物包含如下:
按重量计约10%至60%的树脂,例如丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯单体;
按重量计约2%至12%的光引发剂;
按重量计约0.3%至1%的流平剂;
按重量计约0.1%至0.5%的稳定剂;
按重量计约5%至10%的粘合促进剂;
按重量计约0.1%至5.0%的流变改性剂;和
按重量计约0.01%至0.5%的润湿剂。
26.根据上述权利要求中任一项所述的可固化感光聚合物,其中所述可固化感光聚合物包含:
约1w/w%至60w/w%的酸性丙烯酸酯单体;
约1w/w%至50w/w%的氨酯丙烯酸酯单体;
约25w/w%至90w/w%的二、三和六丙烯酸酯单体,其基本由约20w/w%至90w/w%的己二醇二丙烯酸酯和约10w/w%至80w/w%的单官能支链或碳环丙烯酸酯的混合物组成;和
约1w/w%至15w/w%的光引发剂或光引发剂的混合物。
CN201310160036.1A 2012-12-20 2013-05-03 用于光成像的可固化涂料 Pending CN103885288A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB201223064A GB201223064D0 (en) 2012-12-20 2012-12-20 Curable coatings for photoimaging
GB1223064.5 2012-12-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103885288A true CN103885288A (zh) 2014-06-25

Family

ID=47682318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310160036.1A Pending CN103885288A (zh) 2012-12-20 2013-05-03 用于光成像的可固化涂料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9104099B2 (zh)
CN (1) CN103885288A (zh)
GB (1) GB201223064D0 (zh)
WO (1) WO2014096818A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107573444A (zh) * 2017-10-27 2018-01-12 天津久日新材料股份有限公司 一种可用于uv‑led光源的光引发剂组合物
CN110885576A (zh) * 2019-12-04 2020-03-17 山东非金属材料研究所 一种可见光快速固化有机防腐环保涂料的制备方法及使用方法
CN111117279A (zh) * 2019-12-17 2020-05-08 天津市浩迪橡塑科技有限公司 一种耐磨、阻燃的轻量化汽车内饰表皮材料及其制备方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2016121815A1 (ja) * 2015-01-27 2017-12-21 日産化学工業株式会社 易解体性樹脂薄膜形成組成物及び易解体性樹脂薄膜
KR102171805B1 (ko) 2017-04-21 2020-10-29 (주)엘지하우시스 바이오 물질을 기반으로 한 uv코팅 조성물

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4668601A (en) * 1985-01-18 1987-05-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Protective coating for phototools
CN1211750A (zh) * 1997-09-18 1999-03-24 纳幕尔杜邦公司 热助光敏组合物及其方法
CN101176038A (zh) * 2005-05-13 2008-05-07 微量化学公司 光致抗蚀剂元件的形成方法
CN101192001A (zh) * 2006-11-15 2008-06-04 太阳油墨制造株式会社 阻焊膜形成方法和感光性组合物
US20100012352A1 (en) * 2008-07-18 2010-01-21 Rainbow Technology Systems Limited Photoimaging method and apparatus
WO2012069807A2 (en) * 2010-11-23 2012-05-31 Rainbow Technology Systems Limited Photoimaging

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4003877A (en) * 1974-05-24 1977-01-18 Dynachem Corporation Photopolymerizable screen printing inks for permanent coatings prepared from aryloxyalkyl compositions
JPS5340537B2 (zh) * 1974-12-27 1978-10-27
US4130708A (en) * 1977-12-09 1978-12-19 Ppg Industries, Inc. Siloxane urethane acrylate radiation curable compounds for use in coating compositions
US4888270A (en) * 1980-05-08 1989-12-19 M & T Chemicals Inc. Photoprinting process and apparatus for exposing paste consistency photopolymers
US4485167A (en) * 1980-10-06 1984-11-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photopolymerizable elements
CA1172790A (en) * 1980-11-24 1984-08-14 Gerald M. Leszyk Radiation curable composition including an acrylated urethane, and unsaturated carboxylic acid, a multifunctional acrylate and a siloxy-containing polycarbinol
US4426431A (en) * 1982-09-22 1984-01-17 Eastman Kodak Company Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements
US4533445A (en) * 1983-07-06 1985-08-06 Shipley Company Inc. U.V. Curable composition
US4693959A (en) * 1986-03-07 1987-09-15 E.I. Du Pont De Nemours And Company Adhesion promotion in photoresist lamination and processing
JP3988267B2 (ja) * 1998-08-20 2007-10-10 Jsr株式会社 光ディスク用接着剤
US20060257785A1 (en) * 2005-05-13 2006-11-16 Johnson Donald W Method of forming a photoresist element
CN101466804B (zh) * 2006-04-13 2012-02-22 西巴控股有限公司 硫鎓盐引发剂
EP2310913A1 (en) 2008-07-18 2011-04-20 Rainbow Technology Systems Limited Method for photoimaging a substrate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4668601A (en) * 1985-01-18 1987-05-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Protective coating for phototools
CN1211750A (zh) * 1997-09-18 1999-03-24 纳幕尔杜邦公司 热助光敏组合物及其方法
CN101176038A (zh) * 2005-05-13 2008-05-07 微量化学公司 光致抗蚀剂元件的形成方法
CN101192001A (zh) * 2006-11-15 2008-06-04 太阳油墨制造株式会社 阻焊膜形成方法和感光性组合物
US20100012352A1 (en) * 2008-07-18 2010-01-21 Rainbow Technology Systems Limited Photoimaging method and apparatus
WO2012069807A2 (en) * 2010-11-23 2012-05-31 Rainbow Technology Systems Limited Photoimaging

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107573444A (zh) * 2017-10-27 2018-01-12 天津久日新材料股份有限公司 一种可用于uv‑led光源的光引发剂组合物
CN110885576A (zh) * 2019-12-04 2020-03-17 山东非金属材料研究所 一种可见光快速固化有机防腐环保涂料的制备方法及使用方法
CN111117279A (zh) * 2019-12-17 2020-05-08 天津市浩迪橡塑科技有限公司 一种耐磨、阻燃的轻量化汽车内饰表皮材料及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20140178817A1 (en) 2014-06-26
GB201223064D0 (en) 2013-02-06
US9104099B2 (en) 2015-08-11
WO2014096818A1 (en) 2014-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6771623B2 (ja) 感光性組成物、画像形成方法、膜形成方法、樹脂、画像、及び膜
US20210139719A1 (en) Energy cured heat activated ink jet adhesives for foiling applications
WO2019189157A1 (ja) インクジェット印刷用の硬化性組成物、その硬化物及びその硬化物を有する電子部品
JP5304977B2 (ja) 光硬化組成物を用いた硬化物の形成方法およびその硬化物
CN103885288A (zh) 用于光成像的可固化涂料
US20120251841A1 (en) Liquid radiation curable resins for additive fabrication comprising a triaryl sulfonium borate cationic photoinitiator
WO2014069552A1 (ja) インプリント用密着膜の製造方法およびパターン形成方法
CN105517648A (zh) 液体阻焊剂组合物和被覆印刷线路板
US6509389B1 (en) UV curable compositions for producing mar resistant coatings and method for depositing same
JP7300596B2 (ja) インクジェット用硬化性組成物、その硬化物、及びその硬化物を有する電子部品
KR20130050270A (ko) 잉크젯용 경화성 조성물 및 전자 부품의 제조 방법
CN105829371A (zh) 光固化性组合物及电子部件的制造方法
WO2017177796A1 (zh) 一种新型自由基光固化体系及其组合物的应用
CN106661347A (zh) 光固化性组合物及电子部件的制造方法
MXPA02006735A (es) Composiciones ferromagneticas que se pueden curar con luz uv.
JP7112170B2 (ja) インクジェット印刷用の硬化性組成物、その硬化物及びその硬化物を有する電子部品
CA2480421C (en) Polymerisable composition
JP2019178288A (ja) インクジェット印刷用の硬化性組成物、その硬化物及びその硬化物を有する電子部品
WO2022235893A1 (en) Additives for build materials and associated printed 3d articles
CN103869615A (zh) 光固化性组合物、阻焊层及印刷电路板
JPH08277321A (ja) 光硬化性樹脂組成物
EP0434098A2 (en) Photo-curable amine-containing compositions
JP7216506B2 (ja) めっきレジスト用感光性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板の製造方法
CN115232510B (zh) 一种液态感光ldi内层油墨及其制备方法
JPH03237113A (ja) 活性エネルギー線重合性不飽和樹脂組成物及びそれを含む硬化性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20140625

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication