CN103876943B - 种植牙基台的制备方法及种植牙 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种种植牙基台、种植牙及种植牙基台的制备方法。所述的种植牙基台包括基台本体，基台本体上镀有银离子层；所述的种植牙为种植体安装于基台本体上。种植牙基台的制备方法如下：制备AgNO₃稀溶液、Na₃C₆H₅O₆稀溶液和NaBH₄稀溶液备用；将AgNO₃溶液、Na₃C₆H₅O₆溶液和水在冰水浴中混合，加适量去离子水，在搅拌下加入NaBH₄溶液，继续搅拌至得到均匀的溶胶；将硅烷化后的种植牙基台浸入制好的溶胶中0.8~1.2小时，取出，清洗干净，即得。纳米银粒涂层的牙种植体基台能形成良好的牙龈封闭，减少种植体周的感染，创造并维持种植体周的长期相对无菌环境，提高种植牙的存活率。

Description

种植牙基台的制备方法及种植牙

技术领域

本发明涉及纳米材料领域，尤其涉及一种种植牙基台及其制备方法，和运用了该种植牙基台的种植牙。

背景技术

牙种植体与宿主的骨组织，牙龈上皮组织和上皮下结缔组织接触，同时部分暴露于口腔有菌环境中。种植体植入口腔后，容易遭受微生物及其毒性产物的侵袭而发生上皮分离产生深种植体周袋。因此，种植义齿周围组织更易于细菌感染，种植体义齿周的菌斑微生物积累可能发展成为种植体周围炎，是种植体周的炎症或感染，并伴随支持骨的丧失。因此，重视微生物在种植体周围炎发病中的作用，抑制口腔细菌在暴露于口腔的种植体基台表面的粘附，保持种植体基台不附着菌斑是很重要的。至少有两种方法可以抑制菌斑的形成，第一是抑制口腔细菌的初始粘附；第二是抑制口腔细菌的定植，包括表面抗菌活性。如能创造并维持牙种植体周的长期相对无菌环境，将是降低牙种植体周围炎的发生率的关键。

口腔细菌对种植体的入侵始于基台，细菌感染后产生种植体周炎症，严重可导致种植牙失败。所以，防止口腔细菌在基台的粘附和定植对于确保长期的临床成功至关重要。

发明内容

本发明提供了一种种植牙基台及其制备方法，和运用了该种植牙基台的种植牙。运用该种植牙能形成良好的牙龈封闭，而且构建了种植牙周长期抗菌体系，从而预防种植体周的细菌感染，将其运用于临床收到满意效果。

本发明提供了一种种植牙基台，包括基台本体，所述的基台本体上镀有银离子层。

所述的种植牙基台，其制备方法包括以下步骤：

A、制备AgNO₃稀溶液、Na₃C₆H₅O₆稀溶液和NaBH₄稀溶液备用；

B、将AgNO₃溶液、Na₃C₆H₅O₆溶液和水在冰水浴中混合，控制AgNO₃和Na₃C₆H₅O₆的摩尔量相同，加适量去离子水，在搅拌下加入NaBH₄溶液，所述的NaBH₄的摩尔量为AgNO₃的1.2倍，继续搅拌至得到均匀的溶胶，控制溶胶中的AgNO₃和Na₃C₆H₅O₆溶液浓度为5～20mmol/L，NaBH₄溶液的浓度为10～100mmol/L；

C、将硅烷化后的基台本体浸入制好的溶胶中0.8～1.2小时，然后取出，清洗干净，即得。

所述的种植牙基台制备方法步骤A中，水的用量为AgNO₃溶液和Na₃C₆H₅O₆溶液总体积的15～25倍。

所述的AgNO₃稀溶液的浓度为5～20mmol/L；

所述的Na₃C₆H₅O₆稀溶液的浓度为5～20mmol/L。

优选地，AgNO₃和Na₃C₆H₅O₆溶液浓度为10mmol/L，NaBH₄溶液的浓度为50mmol/L；

所述的步骤B中，基台本体硅烷化是指：将基台本体用piranha溶液在70℃-80℃浸泡下浸泡20～40分钟，清洗干净后在氮气中干燥，然后将基台本体浸入体积百分比为1～4％的3-(氨基丙基)三乙氧基硅烷的乙醇溶液中1～3小时，随后用酒精超声清洗20～40秒，去离子水冲洗，氮气中干燥；

硅烷化后的基台表层性能降低，使其在溶胶液渡上银涂层时不被其他物质干扰。

所述的piranha溶液是这样配置的：在冷水浴中按7:3的比例将98％的浓硫酸缓慢地倒入20～40％的双氧水中，过程中不断地进行搅拌。

本发明还提供了一种种植牙，包括种植体和基台本体，所述的种植体安装于基台本体上，基台本体上镀有银离子层。

所述的种植牙为采用人工材料，如金属、陶瓷等，制成的种植体，一般类似牙根形态，经手术方法植入组织内，通常是上下颌上，并获得骨组织牢固的固位支持，通过基台连接支持上部的种植体，一般的安装方式为种植体内和基台上有相互配合的螺纹，通过螺纹实现种植体的安装。

本发明的种植牙基台利用其上附着的纳米银离子层，能形成良好的牙龈封闭，减少种植体周的感染，创造并维持种植体周的长期相对无菌环境，既具有抗菌作用，又有着优良的生物相容性，使用它能避免口腔细菌定植和随后的感染，提高种植牙的成功率，降低患者治疗费用，提高患者的生活质量，减轻社会和病人的经济负担。

附图说明

图1是本发明实施例提供的种植牙的结构示意图

图中各部分序号名称如下

1-种植体，2-基台本体，3-银离子层

具体实施例

下面将结合本附图具体说明本发明的实施例，如图1所示，所述种植牙基台包括基台本体2，所述的基台本体2上镀有银离子层3，还包括种植体1，所述的种植体1嵌套安装于基台本体2上。

实施例一

将0.25ml的20mmol/L浓度的AgNO₃溶液和0.25ml的20mmol/L浓度的Na₃C₆H₅O₆溶液在冰水浴中混合，然后加水至15ml，搅拌下加入0.1ml的60mmol/L浓度的NaBH₄溶液，反应25秒后停止搅拌，得金黄色纳米银溶胶。

配置piranha溶液：在冰水浴中按7:3的比例将98％的浓硫酸缓慢地倒入20％的双氧水中，不停的搅拌散热。用配置好的piranha溶液在70℃水浴箱内预处理基台20分钟,再用水彻底清洗,在氮气中干燥。

将预处理后基台浸入含2％的3-(氨基丙基)三乙氧基硅烷(APS)的乙醇溶液中1小时，随后用酒精超声清洗20秒，水冲洗，氮气中干燥。最后将硅烷化后的基台在室温下浸入制好的纳米银胶体溶液中0.8小时，取出后用流动的去离子水冲洗掉未粘附上的银颗粒。

实施例二

一种纳米银粒涂层基台，包括以下步骤：

将0.5ml的10mmol/L浓度的AgNO₃溶液和0.5ml的10mmol/L浓度的Na₃C₆H₅O₆溶液在冰水浴中混合，然后加去离子水至20ml，搅拌下加入0.12ml的50mmol/L浓度的NaBH₄溶液，反应30秒后停止搅拌，得金黄色纳米银溶胶。

配置piranha溶液：在冰水浴中按7:3的比例将98％的浓硫酸缓慢地倒入30％的双氧水中，用玻璃棒不停的搅拌散热。用配置好的piranha溶液在75℃水浴箱内预处理基台30分钟,再用去离子水彻底清洗,在氮气中干燥。

将预处理后基台浸入含2％的3-(氨基丙基)三乙氧基硅烷(APS)的乙醇溶液中2小时，随后用酒精超声清洗30秒，去离子水冲洗，氮气中干燥。最后将硅烷化后的基台在室温下浸入制好的纳米银胶体溶液中1小时，取出后用流动的去离子水冲洗掉未粘附上的银颗粒。

实施例三

一种纳米银粒涂层基台，包括以下步骤：

将1ml的5mmol/L浓度的AgNO₃溶液和1ml的5mmol/L浓度的Na₃C₆H₅O₆溶液在冰水浴中混合，然后加去离子水至25ml，搅拌下加入0.24ml的25mmol/L浓度的NaBH₄溶液，反应35秒后停止搅拌，得金黄色纳米银溶胶。

配置piranha溶液：在冰水浴中按7:3的比例将98％的浓硫酸缓慢地倒入40％的双氧水中，用玻璃棒不停的搅拌散热。用配置好的piranha溶液在80℃下预处理基台40分钟,再用去离子水彻底清洗,在氮气中干燥。

将预处理后基台浸入含2％的3-(氨基丙基)三乙氧基硅烷(APS)的乙醇溶液中3小时，随后用酒精超声清洗40秒，去离子水冲洗，氮气中干燥。最后将硅烷化后的基台在室温下浸入制好的纳米银胶体溶液中1.2小时，取出后用流动的去离子水冲洗掉未粘附上的银颗粒。

Claims (1)

1.一种种植牙基台的制备方法，所述的种植牙基台包括基台本体(2)，所述的基台本体(2)上镀有银离子层(3)，其特征在于包括以下步骤：

A、制备AgNO₃稀溶液、Na₃C₆H₅O₆稀溶液和NaBH₄稀溶液备用；

B、将AgNO₃溶液、Na₃C₆H₅O₆溶液和水在冰水浴中混合，控制AgNO₃和Na₃C₆H₅O₆的摩尔量相同，加适量去离子水，在搅拌下加入NaBH₄溶液，所述的NaBH₄的摩尔量为AgNO₃的1.2倍，继续搅拌至得到均匀的溶胶，控制溶胶中的AgNO₃和Na₃C₆H₅O₆溶液浓度为5～20mmol/L，NaBH₄溶液的浓度为10～100mmol/L；

C、将硅烷化后的基台本体(2)浸入制好的溶胶中0.8～1.2小时，然后取出，清洗干净，即得；

所述的步骤C中，基台本体(2)硅烷化是指：将基台本体(2)用piranha溶液在70℃-80浸泡℃下浸泡20～40分钟，清洗干净后在氮气中干燥，然后将基台本体(2)浸入体积百分比为1～4％的3-(氨基丙基)三乙氧基硅烷的乙醇溶液中1～3小时，随后用酒精超声清洗20～40秒，去离子水冲洗，氮气中干燥；

所述的piranha溶液是这样配置的：在冷水浴中按7:3的比例将98％的浓硫酸缓慢地倒入20～40％的双氧水中，过程中不断地进行搅拌。