CN103801146A - 用于调节过滤组件的系统和方法 - Google Patents

用于调节过滤组件的系统和方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103801146A
CN103801146A CN201310757302.9A CN201310757302A CN103801146A CN 103801146 A CN103801146 A CN 103801146A CN 201310757302 A CN201310757302 A CN 201310757302A CN 103801146 A CN103801146 A CN 103801146A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cleaning fluid
filter assemblies
outlet
entrance
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310757302.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103801146B (zh
Inventor
M·J·梅萨维奇
J·比卡
M·S·塞弗吉尼
G·达多
B·戈特林斯基
R·E·诺瓦克
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pall Corp
Original Assignee
Pall Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pall Corp filed Critical Pall Corp
Publication of CN103801146A publication Critical patent/CN103801146A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103801146B publication Critical patent/CN103801146B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D41/00—Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids
    • B01D41/04—Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids of rigid self-supporting filtering material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
    • B01D65/02—Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/62—Regenerating the filter material in the filter
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/22—Directing the mixture to be filtered on to the filters in a manner to clean the filters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D37/00—Processes of filtration
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
    • B01D65/02—Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
    • B01D65/027—Cleaning of other parts of the apparatus than the membrane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • External Artificial Organs (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

调节过滤组件的系统和方法。使清洗液经过过滤组件，以去除来自过滤介质的孔隙和空隙以及来自过滤介质的上游和下游侧的污物。

Description

用于调节过滤组件的系统和方法
背景技术
很多工业领域(包括微电子业和制药业)中使用的化学品必须是极其纯净的。这些化学品在使用时通常需要很精细的过滤，以去除干扰这些工业所使用的方法、或毁掉这些工业制造的产品的任何污物。通常，被用于过滤这些化学品的过滤组件具有可渗透的过滤介质。化学品将通过过滤介质，且化学品中的任何污物将被捕获到过滤介质内或表面上。
在过滤化学品之前，实施本发明的系统和方法调节(condition)过滤组件并阻止过滤组件自身将污物引入化学品中。通常，冲洗经过滤组件以去除任何污物的清洗液可被包含在过滤组件内，即使是新制造的过滤组件。清洗液可以是与要过滤的化学品相容的任何液体。对于毒性或价格较低的化学品，清洗液本身可能为化学品本身。更经常地，清洗液可以是毒性或价格较低的化学品的成份或化学品的液体溶剂。在冲洗过滤组件时，清洗液可将过滤组件内的任何气体移走且将容纳在过滤组件中的任何其它污物带走。冲洗之后，填充有清洗液的被调节的过滤组件可被保留和／或运送，并且在将清洗液从过滤组件上去除之后可将其用于过滤化学品。
发明内容
实施本发明的系统和方法可设置成一次调节(condition)一个或几个过滤组件。每个过滤组件可包括过滤介质、入口、排气口、和出口。过滤介质可具有在过滤组件内的上游侧和下游侧。入口和排气口可在过滤介质的上游侧上，并且出口可在过滤介质的下游侧上。
根据本发明的一个方面，以用于调节过滤组件的方法可包括：打开入口和排气口、以及关闭过滤组件的出口。然后，使清洗液通过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口。这些方法还可包括：打开入口和出口、以及关闭排气口。然后，清洗液可首先通过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、以第一流率(flow rate)经过打开的出口。随后清洗液可通过打开的入口、经过过滤介质从上游到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、以高于第一流率的第二流率经过打开的出口。清洗液移走和／或带走过滤组件中的任何空气和其它污物(包括在过滤组件中或过滤介质上游侧、在过滤介质内、在过滤介质下游侧的污物)，从而使过滤组件无污物且被清洗液填充。
根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的系统可包括清洗液供应部件、真空装置、入口阀、和控制器。清洗液供应部件可联接到过滤组件的入口，并且压力源可设置成驱动清洗液从清洗液供应部件到达过滤组件的入口。废物容置部可联接到过滤组件的出口和排气口。该系统还可包括：入口阀、出口阀、排气口阀、和控制器。入口阀可操作地打开和关闭过滤组件的入口；出口阀可操作成打开和关闭过滤组件的出口；排气口阀可操作成打开和关闭过滤组件的排气口。控制器可至少连接到压力源、入口阀、出口阀、和排气口阀。控制器可在第一阶段可操作地打开入口阀和排气口阀，关闭出口阀，并且引导来自清洗液供应部件的清洗液、经过过滤组件的打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口。控制器也可第二阶段的第一步骤可操作地打开入口阀和出口阀，关闭排气口阀，并且引导清洗液以第一流率经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、经过打开的出口。控制器还可以在第二阶段的随后的第二步骤可操作地打开入口阀和出口阀，关闭排气口阀，并且引导清洗液以大于第一流率的第二流率经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口。清洗液移走和／或带走过滤组件中的任何污物(包括在过滤组件内部、在过滤介质上游侧、在过滤介质内部、和在过滤介质下游侧的污物)，从而使过滤组件无污物且被清洗液填充。
实施本发明的这些方面的方法和系统具有很多有利的特征，例如包括高效地从过滤组件去除污物的那些特征。例如，通过：(1)在出口关闭的情况下，引导清洗液经过打开的入口、沿过滤介质上游侧、经过打开的排气口；并且(2)在排气口关闭的情况下，引导清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口。实现本发明这些方面的方法和系统确保过滤介质的上游侧、过滤介质本身、和过滤介质下游侧均被清洗液彻底地冲洗。此外，通过引导清洗液以第一较流率随后以第二较高流量经过过滤介质，实现本发明这些方面的方法和系统确保更有效地从过滤介质中除去污物。使清洗液以第一较低流率经过过滤介质允许清洗液完全填充过滤介质中的所有孔隙和空隙，从而替换所有污物，包括可能以其他方式保持被捕获在过滤介质中的任何小气窝或气泡。随后，使清洗液以第二较高流率通过过滤介质，从而经过过滤介质的下游有效地冲洗所有从过滤介质中除去的污物并且从打开的出口出来。
根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的方法可包括：打开入口和排气口，以及关闭过滤组件的出口。然后，清洗液从第一容器供应；经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、打开的排气口；并且从打开的排气口到达废物容置部。本发明方法还可包括：打开入口和出口，以及关闭过滤组件的排气口。然后，可从第一容器将清洗液供应至打开的入口。首先，可使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达废液容器。随后，可使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达能够容纳清洗液的第二容器，从而使过滤组件无污物且被清洗液填充。此外，可将一部分清洗液回收在第二容器中。
根据本发明的另一方面，用于调节过滤组件的系统可包括：第一容器、第二容器、废物容置部、和压力源。第一容器容纳清洗液并且可以联接到过滤组件的入口，压力源可设置成驱动清洗液从第一容器到达过滤组件的入口。废物容置部可联接到过滤组件的出口和排气口。第二容器还可联接到过滤组件的出口，并且能够容纳清洗液。本发明的系统还可包括：入口阀、出口阀、排气口阀、和控制器。入口阀可操作成打开和关闭过滤组件的入口；出口阀可操作成打开和关闭过滤组件的出口；排气口阀可操作成打开和关闭过滤组件的排气口。控制器可至少连接到压力源、入口阀、出口阀、和排气口阀。控制器可操作地在第一阶段打开入口阀和排气口阀；关闭出口阀；并且引导来自第一容器的清洗液、经过过滤组件的打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口到达废物容置部。控制器还可操作地在第二阶段的第一步骤打开入口阀和出口阀；关闭排气口阀；引导来自第一容器的清洗液经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达废物容置部。控制器还可操作地在第二阶段的随后的第二步骤中打开入口阀和出口阀；关闭排气口阀；引导来自第一容器的清洗液、经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧流动到下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达第二容器，从而使过滤组件处于无污物且被清洗液填充。此外，可将一部分清洗液回收在第二容器中。
使本发明这些方面具体化的方法和系统可许多有利特征，例如包括高度有效地除去污物的特征、以及显著减少废物的特征。例如，再次，通过：(1)在出口关闭的情况下引导清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口；并且(2)在排气口关闭的情况下，引导清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口。实现本发明这些方面的方法和系统确保过滤介质上游侧、过滤介质自身、和过滤介质下游侧均被清洗液彻底地冲洗。此外，通过引导一部分清洗液不流向废物容置部而流向第二容器，可回收和重复使用此部分的清洗液，从而显著减小所产生的废液量。
附图说明
图1为用于调节过滤组件的系统的实施例的示意图。
图2为用于调节过滤组件的系统的另一实施例的示意图。
图3为用于调节过滤组件的系统的另一实施例的示意图。
图4为用于调节过滤组件的系统的另一实施例的示意图。
图5是用于从过滤组件移走清洗液的系统的一部分的实施例的示意图。
具体实施方式
根据本发明的一个或多个方面的用于调节过滤组件的系统可以多种方法中的任一种实施并且可用于调节多种过滤组件中的任一种，或者一次用于一个过滤组件，或者一次用于多个过滤组件。
每个过滤组件可被变化地配置。通常，每个滤组件11包括过滤介质12，该过滤介质用于从在工业处理方法中使用的的液体化学品去除污物。对于很多这些工业领域，如微电子工业和制药业，化学品必须是极纯的。因此，过滤介质可具有在微米孔或纳米孔范围上的去除率。例如，去除率可小至约0.05微米或小于0.05微米，包括40、30、20、10、或5纳米或更小。例如，可由可渗透的金属材料、可渗透的陶瓷材料、或可渗透的聚合材料形成过滤器，可渗透的聚合材料包括可渗透的聚合物膜或可渗透片或大量的聚合物纤维或长丝。此外，过滤介质可例如具有扁平的、蜂窝状的、褶状的、或螺旋缠绕的结构。
过滤组件11可进一步包括壳体13，壳体13封装过滤介质12，并且过滤介质12限定过滤组件11内的上游侧14和下游侧15。在进行调节之前，可用气体(例如空气)或惰性气体(如氮气)或者用被预湿的液体(例如溶液(包括水或醇))填充过滤组件11(包括过滤介质12内的孔隙和空隙)。过滤组件11可进一步包括在过滤介质12的上游侧14上的彼此间隔开的入口20和排气口21和过滤介质12的下游侧14上的出口22。入口、排气口和出口可定位在过滤组件的变化位置上、包括顶部、底部、和／或侧部。在图示的实施例中，入口20、排气口21、和出口22的每一个均可在壳体13的顶部上。壳体13可限定在过滤组件11上的一个或多个流路，例如在入口20和排气口21之间以及在入口20和出口22之间。对于很多实施例，过滤介质11可具有中空的、大体圆柱形的配置，并且可将盲端盖体23联接于过滤介质12的一端。过滤组件11可配置成用于从过滤组件11的过滤介质12的外部上的上游侧14从外侧流入到过滤组件11的过滤介质12的内部上的下游侧15。可选地，过滤组件可配置用于从内侧流出。很多不同的过滤组件可通过实施本发明的系统和方法调节，包括可从美国纽约华盛顿港的Pall公司获得的商品名称为EZD到的过滤组件。
调节系统10的实施例的很多不同实施例中的一个也在图1中示出。调节系统10可包括清洗液供应部件24，供应部件24可以多种方式联接到过滤组件11的入口20。例如，入口线路25可在过滤组件11的清洗液供应部件24和入口20之间延伸。压力源26可设置成将清洗液驱动成从清洗液供应部件24到达过滤组件入口20，例如沿入口管线25。调节系统10还可包括废物容置部30，该废物容置部能以多种方式中的任一种联接到过滤组件11的排气口21和出口22。例如，分开的排气口管线31和出口管线32可分别在过滤组件11内的废物容置部30和排气口21和出口22之间延伸。调节系统10可进一步包括入口阀33、排气口阀34和出口阀35。入口阀33、排气口阀34和出口阀35可操作地分别与过滤组件11的入口20、排气口21和出口22相连，以打开和关闭入口20、排气口21和出口22。虽然可手动完成一些处理，对于大多数实施例，调节系统10额外地包括控制器36，控制器36连接到一个或多个元件，以控制过滤组件11的调节。例如，在图1的调节系统10中，控制器36可连接到压力源26、入口阀33、排气口阀34和出口阀35。
调节系统10的元件可以多种方式中的任一种被配置。例如，清洗液供应部件可以多种方式配置，例如保持大量清洗液的箱或桶或容纳较小量的清洗液的较小的容器，包括柔性容器。用于供应清洗液的各种容器是可适用的，包括如美国专利申请公开号No.US2005／0173458A1中确定的容纳分配液体的容器、容置部和袋体中的很多种。多种清洗液中的任一种可被容纳在清洗液供应部件中。清洗液可以是与要被过滤组件过滤的化学品相容的任何液体，包括化学品本身、化学品的一个或多个成分(例如主要成分)、或用于化学品或成分的溶剂。化学品和清洗液可例如根据所希望的工业处理方法进行改变。例如，在影印工业中，要被过滤的化学品可以是光反应化学品(如光致抗蚀剂)、抗反射涂层、或用于被分配在衬底晶片上的任何其它化学品。对于很多实施例，清洗液可以是用于这些可分配的化学品的溶剂。这些溶剂的实例包括但不限于，乙基(s)-2-羟基丙(ethyl(S)-2-hydroxypropanoate)、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、环己酮、乙酸丁酯、乙酸二氢呋喃-2(3H)-酮、1-甲氧基丙-2-醇。
压力源可以多种方式构造，以用于驱动清洗液到达过滤组件的入口。在大部分的实施例中，压力源在过滤组件的入口处提供增大的压力或者正压力。因此，该压力源可配置成泵，并且可位于清洗液供应部件与过滤组件入口之间。例如，该泵可位于入口管线中。可替代地，泵可位于排气口和／或出口处或下游(例如位于排气口管线和／或出口管线中)，以便在过滤组件的入口处施加负压。该泵可以各种方式构造例如低容量、低剪切变正排量泵(low shear positivedisplacement pump)。可替代地，压力源可包括重力加料组件或者气动或机械压缩机(expressor)。对于很多实施例，压力源26可包括如能从ATMI获得的商品名称为NOWPak的气动压缩机。在气动压缩机中，清洗液供应部件可以是被清洗液填充且位于压力容器中的柔性容器或袋部件。惰性气体(例如氮气)可被供给到柔性容器外部上的压力容器，以便以期望的流率驱动清洗液从柔性容器到达过滤组件的入口，例如沿入口管线。
废物容置部30可以多种方式配置，以接纳来自过滤组件11的受污染的清洗液。例如，废物容置部可以是用于接纳并适当地处理被污染的清洗液的排出管线。可替代地，废物容置部可包括：用于接纳和存储较大量的箱或筒、或者用于接纳并储存较小量的被污染的清洗液的固定或柔性容器。
多种阀中的任一种适用于入口阀33、排气口阀34、和出口阀35。一个或多个阀可以是可变流量阀并可被用于控制到达过滤组件和／或来自过滤组件的流体流量。然而，对于很多实施例，阀可以是二进制开／关阀，例如，快动作开／关阀，并且流体流量可通过压力源26被控制。每个阀可位于多种位置，以打开和关闭过滤组件的入口、排气口、或出口。例如，入口阀33可位于例如入口管线25中的入口20处或附近；排气口阀34可位于例如在排气口管线31中的排气口21处或附近；出口阀35可位于例如在出口管线32中的出口22处或附近。
控制器36可以各种方式中的任一种被配置。例如，控制器36可以是电子控制器，并可包括例如微处理器或逻辑阵列，例如可编程逻辑阵列，以用于执行包含在调节过滤组件中的各种步骤。控制器可以是分开单元并可实体地位于调节系统的其余部分或调节系统的任何其它元件。可选地，控制器可与较大的电子系统相结合，以用于控制一个或多个处理方法，例如，除调节过滤组件之外的分配处理方法。处理器可被连接到调节系统的任何元件，以接纳和／或发送关于系统的信号和／或调节系统的一个或多个元件的功能。例如，图1中所示的控制器36可被连接到压力源26，以控制从清洗液供应部件24到过滤组件11的入口20的清洗液的流量。控制器36还可被连接到入口阀33、排气口阀34和出口阀35，以打开和关闭这些阀并控制经过过滤组件11的流量。
控制系统可包括一个或多个附加元件，附加元件包括例如传感器，传感器例如是压力传感器、温度传感器、流量传感器、和液位传感器，以用于提供关于系统的附加信息。附加元件还可包括其它装置，如阻尼器、脱气机、除泡器、和滤波器，以用于执行系统内的辅助功能。例如，压力传感器和／或流量传感器可位于入口管线和／或出口管线，以提供与过滤组件的入口和／或出口相关的压力或流量信息；减震器、脱气机和／或过滤器可位于入口管线中，以执行过滤组件的入口的上游的辅助功能；和／或气泡收集器可位于出口管线中，以执行过滤组件的出口下游的辅助功能。
根据本发明的一个或多个方面的用于调节过滤组件的方法还可以多种方式中的任一种被实施。在将过滤组件安装在实施本发明的调节系统之后，可根据这些方法中的任一种调节过滤组件，并且可根据任何这些方法所描述的步骤和步骤的顺序对系统控制器编程。
调节方法的实施例的许多不同实例中的一个实例可包括：在第一阶段打开例如图1中所示的过滤组件11的入口20和排气口21，以及关闭出口22。对于许多实施例，打开入口20、打开排气口21、和关闭出口22可包括：分别在控制器36的方向打开入口阀33、打开排气口阀34，以及关闭出口阀35。在入口20和排气口21打开且出口22关闭的情况下，清洗液(例如前述溶剂)可以正表压经过打开的入口20、沿过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14、并且经过打开的排气口21。例如，在控制器36的方向，压力源26可以多种方式中的任一种增大在过滤组件11的入口20处的压力，以便沿过滤介质12的上游侧14驱动清洗液经过过滤组件11。在许多实施例中，清洗液供应部件24可以是柔性容器，并且压力源26可以是气动压缩机。控制器36可控制压力源26来施加惰性气体(例如氮气)抵靠柔性容器24的外部，并从柔性容器24驱动清洗液经过打开的入口20，例如沿入口管线25、经过打开的入口阀33。清洗液可以允许清洗液流向过滤组件11的底部的低流率通过打开的入口20，并且以在使清洗液上升之前使过滤组件11中的过滤介质12的上游侧14的任何气体和任何预湿液体经过打开的排气口21移走的方式沿过滤介质12的上游侧14上升。沿过滤介质12的上游侧14的流动可以是非湍流式的(至少首先是这样)，从而减小气体或预湿液体与清洗液的任何混合。该流率可取决于许多因素，包括过滤组件(例如过滤组件内的流道)的尺寸。在许多实施例(包括用于微电子工业的过滤组件的实施例)中，清洗液经过打开的入口20的流率的范围可以是例如从约20mL／min(或更小)到约100mL／min(或更大)。
一旦清洗液已移走来自过滤介质12上游侧14的任何气体或预湿液体，清洗液经过打开的入口20的流动可继续并且可增大或者可以不增大流率以进一步除去污物，包括来自过滤介质12上游侧14或者在壳体13内经过打开的排气口20的流出或被滤除的颗粒或其它物质。例如，在控制器36的方向，压力源26可进一步增大在过滤组件11入口20处的压力。在许多实施例(包括适用于微电子工业的实施例)中，在第一阶段中经过打开的入口20、沿过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口21的清洗液总体积的范围例如可以是从约100ml(或更小)到约300ml(或更大)。
在大部分的实施例中，可将在调节方法的第一阶段经过打开的排气口21而排出过滤组件11的清洗液和污物引导到废物容置部30。例如，在控制器36的方向上，来自过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14的清洗液和污物可利用压力源26例如经由打开的排气口阀34和排气口管线31被驱动经过打开的排气口21到达废物容置部30。在第一阶段结束时，过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14可被清洗液填充且无污物。
调节方法还可包括：在调节方法的第二阶段，打开过滤组件11的入口20、打开出口22，并且关闭排气口21。此外，打开排气口20、打开出口22，以及关闭排气口21可包括：在控制器36的方向上打开入口阀33、打开出口阀35、以及关闭排气口阀34。在入口20和出口22打开且排气口21关闭的情况下，清洗液可以第一流率以第二阶段的第一步骤例如以正表压经过打开的入口20、经过过滤介质12从上游侧14到达下游侧15、沿过滤介质12的下游侧15并且经过打开的出口22。例如，在控制器36的方向上，压力源26可以多种方式中的任一种方式来增大在过滤组件11的入口20处的压力，从而驱动清洗液经过过滤介质12到达打开的出口22。此外，在许多实施例中，控制器36可控制压力源26以便供应惰性气体抵靠柔性容器24的外部并且以第一流率驱动来自柔性容器24的清洗液经过打开的入口20(例如沿入口管线25和经过打开的入口阀33)。
第二阶段的第一步骤中的第一流率可使清洗液能够充分缓慢地流动经过过滤介质12以便彻底地填充过滤介质。在打开的入口20处的压力可被保持充分长的时间以便允许清洗液扩散入过滤介质12中的所有孔隙和空隙中，由此从这些孔隙和空隙移走可能以其他方式被捕获在过滤介质12中的所有气体或预湿液体。当清洗液经过过滤介质12时，第一流率也可使清洗液能够填充过滤组件11内的过滤介质12的下游侧15，以便在清洗液之前并且经过打开的出口22移走任何气体或预湿液体11。第一流率可具有非湍流特征从而减小气体或预湿液体与清洗液的任何混合。此外，第一流率可取决于许多因素，包括过滤组件的尺寸和特征，例如过滤介质的截留级别(removalrating)。在过滤介质可具有约0.05微米(或更小)的截留级别的许多实施例(包括用于微电子工业的实施例)中，第二阶段的第一步骤中的清洗液的第一流率的范围可以是例如从约20mL／min(或更小)到约100mL／min(或更大)。
一旦清洗液已移走所有的来自过滤介质12的孔隙和空隙的气体或预湿液体并且来自过滤介质12下游侧15的气体或预湿液体已经被移走，清洗液经过打开的入口20、经过过滤介质12、且经过打开出口22的流率可增大到在第二阶段的第二步骤中的第二流率，第二流率大于第一流率。例如，在控制器36的方向上压力源26还可增大在过滤组件11的入口20处的表压，从而驱动来自清洗液供应部件24的清洗液以更大的流率到达打开的入口20。更大的第二流率冲洗污物，包括从过滤介质中流出或滤除的颗粒或其它物质以及来自过滤组件11任何剩余的气体或预湿液体，这比较小的第一流率有效得多。第二流率可取决于与第一流率相同的很多因素。在许多实施例中，包括用于微电子工业的实施例，第二流率的范围可高达约500mL／min(或更大)，包括从约50mL／min(或更小)到约500mL／min(或更大)。此外，在第二阶段期间清洗液经过打开的入口20、经过过滤介质12且经过打开的出口22的总体积的范围例如可以为从约250mL(或更小)到约1000mL(或更大)，在第二阶段的第二步骤中总体积中的大部分例如5％至约25％(或更大)冲洗经过过滤组件11。
经过打开的出口22而离开过滤组件11的清洗液和污物以图1的调节方法的第二阶段的第一和第二步骤的方式可被引导至废物容置部30。例如，在控制器36的方向上，来自过滤介质12和来自过滤组件11内的过滤介质的下游侧15的清洗液和污物利用压力源26例如经由打开的出口阀35和出口管线32将被驱动经过打开的出口22到达废物容置部30。在第二阶段结束时，整个过滤组件11可被清洗液填充并且没有污物。过滤组件然后可从调节系统中取出。入口、排气口、和出口可被密封，以允许将填充了清洗液且没有污物的过滤组件被存储和／或运送。可选地或附加地，清洗可液例如通过要被过滤的化学品而从过滤组件移走，并且过滤组件可投入使用以过滤化学品。
图2中示出了调节系统10和调节方法的其它实施例。图2的调节系统10可非常类似于图1的调节系统10并且相似的部件是用相同的附图标记表示。图2的调节系统10可类似地包括清洗液供应部件24，供应部件24可以任何前述方式联接到过滤组件11的入口20，例如经由入口管线25。压力源26可以类似地设置成驱动来自清洗液供应部件24的清洗液到达过滤组件的入口20，例如在连接到压力源26的控制器36的控制下。入口阀33、排气口阀34和出口阀35可类似地可操作地分别与过滤组件11的入口20、排气口21和出口22相连并且连接到控制器36。调节系统10还可包括废物容置部30，废物容置部30类似地联接到过滤组件11的排气口21和出口22，例如经由排气口管线32和出口管线33。
另外，图2的调节系统10可包括真空装置40，以用于例如以负表压将清洗液经过打开的出口22吸入过滤组件11的打开入口20。真空装置可以多种方式被构造。例如，真空装置40可包括喷射组件并且可将清洗液真空吸入打开的入口20。真空装置40可连接到控制器36并且可以在多个位置被联接到调节系统10中。例如，真空装置40可联接到过滤组件11的出口22以便减小在出口22处的压力并且抽取清洗液从打开的入口20经过过滤组件11、经过过滤介质12、经过打开的出口22。在图示说明的实施例中，真空装置40可位于出口管线32中，例如出口阀35的下游。
图2的用于调节过滤组件的方法可与图1的用于调节过滤组件的方法相类似。例如，图2的调节方法的第一阶段可以非常类似于图1的调节方法的第一阶段，如之前所述的。在许多实施例中，在第一阶段可停用真空装置40，可打开入口20和排气口21，可关闭出口22，并且可使来自清洗液供应部件24的清洗液经过打开的入口20、沿过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口21到达废物容置部30。例如，在控制器36的方向上，可打开入口阀33和排气口阀34、可关闭出口阀35、并且压力源26可增大在打开的入口20处的压力，从而驱动清洗液流入过滤组件11。在过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14的清洗液和任何污物离开打开的排气口21并且被驱动到达废物容置部30，如之前所述的。在第一阶段结束时，过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14可被清洗液填充并且无污物。
在图2的调节方法的第二阶段，可打开入口20和出口22并且可关闭排气口21，如之前所述的，在第二阶段的第一步骤中可使清洗液以第一流率通过过滤组件，如之前所述的。然而，在第二阶段的第一步骤，真空装置40和压力源26可设置成在过滤组件11的打开出口22提供低于大气压的压力。例如，压力源26可在打开的入口22处提供大于大气压的很小的压力增大或不增大，同时真空装置40可将在打开出口22处的压力减小到低于大气压，例如低至约-12psig(或更小)。在许多实施例中，控制器36可引导压力源26向容纳清洗液的柔性容器24的外部提供大于大气压的很小的压力增大或不增大，同时真空装置40，在控制器36的方向上，将在打开的出口22处的压力减小至低于大气压。
在第二阶段的第一步骤，清洗液可通过真空装置40(例如在控制器36的方向上)将清洗液从清洗液供应部件24，例如沿入口管线31和经过打开的入口阀33吸到过滤组件11。然后，可以以第一流率使清洗液经过打开的入口20、过过滤介质12从上游侧14到下游侧15、沿过滤介质12的下游侧15、且经过打开的出口22。第一流率可具有非湍流特征并且允许清洗液充分缓慢地流经过滤介质12以便填充所有的孔隙和空隙，移走来自孔隙和空隙的气体或预湿液体，如前面参考图1所描述的。通过在打开的出口22处提供低于大气压的压力，真空装置40进一步增强对来自过滤介质12的孔隙和空隙的气体或预湿液体的去除。真空装置40的“拉动”可与流入的清洗液的“拉动”相结合以便更彻底地除去来自过滤介质12的孔隙和空隙气体或预湿液体并且对对于具有约0.05微米(或更小)的截留级别的过滤介质的小孔隙和空隙特别有效。从过滤介质12，清洗液可填充过滤组件11内的过滤介质12的下游侧13，从而迫使空气或预湿液体在清洗液前面经过打开的出口22。
在调节方法的第二阶段的第二步骤中，在清洗液已移走来自过滤介质12的孔隙和空隙以及过滤介质12的下游侧15的气体或预湿液体之后，可使清洗液经过打开的入口20、经过过滤介质12、且经过打开出口22的流率增大到更大的第二流率。图2的调节方法的第二阶段的第二步骤可包括停用真空装置40但可以其他方式与前述的图1的调节方法第二阶段的第二步骤相同。例如，可停用真空装置40，并且压力源26可增大过滤组件11的打开入口22处的压力以形成更大的第二流率，例如在控制器36的方向上。然后，以更大的第二流率驱动来自清洗液供应部件24的更多清洗液进入打开的入口20，这更有效地冲洗来自过滤组件11的污物，如前面参考图1所描述的。
在图2的调节方法的第二阶段的第一和第二步骤中离开过滤组件11的打开出口22的清洗液和污物可在控制器36的方向上被引导至废物容置部30，例如经由打开的出口阀35和出口管线32，如之前所述的。在第二阶段结束时，整个过滤组件可被清洗液填充并且无污物，并且可准备用于装运、储存或使用，如之前所述的。
图3中示出了调节系统10和调节方法的其它实施例。图3的调节系统10可以非常类似于图1和图2的调节系统10，并且相似的部件可用相同的附图标记表示。图3的调节系统可类似地包括清洗液供应部件24，供应部件24可以前述的任何方式(例如经由入口管线25)而联接到过滤组件11的入口20。压力源26可类似地设置成驱动来自清洗液供应部件24的清洗液到达过滤组件11的入口20，例如在联接到压力源26的控制器36的控制下。入口阀33、排气口阀34和出口阀35可类似地可操作地分别与过滤组件11的入口20、排气口21和出口22相连并且连接到控制器36。调节系统10还可包括废物容置部30，废物容置部30例如经由排气口管线32和出口管线33联接到过滤组件11的排气口21和出口22。另外，图3的调节系统10还可包括联接到出口22的真空装置40(例如经由出口管线35)，并且连接到类似于图2中所示的真空装置40的控制器36。
另外，图3的调节系统10可包括能够容纳清洗液的容器41，例如第二容器。第二容器41可以各种方式被配置，例如固定的或柔性容器，第二容器41可以多种方式联接到过滤组件11的出口22。例如，第二容器41可经由回收管线42和将回收管线42连接到出口管线32的出口阀装置43、44联接到过滤组件11的出口22。在包括真空装置40的实施例中，回收管线42可连接到出口管线32上游，如图3中所示，或者真空装置40的下游。可连接到控制器36的出口阀装置43、44可设置成引导来自过滤组件11的打开出口22的清洗液到达废物容置部30或者第二容器41。
图3的用于调节过滤组件11的方法可非常类似于图1或图2的用于调节过滤组件11的方法。例如，图3的调节方法的第一阶段可实际上与图1或图2的调节方法的第一阶段相同，如之前所述的。在许多实施例中，可在第一阶段停用真空装置40，可打开过滤组件11的入口20和排气口21，可关闭出口22，并且可使来自清洗液供应部件24的清洗液、经过打开的入口20、沿过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口21到达废物容置部30。例如，在控制器36的方向上，可打开入口阀33和排气口阀34，可关闭出口阀35，并且压力源26可增大在打开的入口20处的压力，从而使清洗液进入打开的入口20并且冲洗在过滤介质12的上游侧14的清洗液和任何污物使其经过打开的排气口21到达废物容置部30，如之前所述的。在第一阶段结束时，过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14可被清洗液填充并且无污物。
图3的调节方法的第二阶段(stage)可以实际上与图2的调节方法的第二阶段相同。可打开过滤组件11入口20和出口22并且可关闭排气口21。例如，在控制器36的方向上，可打开入口阀33和出口阀35并且可关闭排气口阀34。另外，压力源26和真空装置40可设置成在打开的出口22处提供低于大气压的压力，如之前所述的。然而，在第二阶段的第一步骤(phase)中在使清洗液通过过滤组件11的打开入口20之前，出口阀装置43、44，例如在控制器36的方向上可设置成关闭回收管线42和打开在出口阀装置43、44和废物容置部30之间的打开的出口管线32。然后清洗液可被真空装置40从清洗液供应部件24中抽取到过滤组件11的打开的入口20并且进而以第一流率通过打开的入口20、经过过滤介质12从上游侧14到达下游侧15、沿过滤介质12的下游侧15、经过打开的出口22，如前面参考图2所描述的。在过滤介质12中以及在过滤介质12的下游侧15上的污物(包括气体或预湿液体)被有效地移走和／或经过打开的出口22从过滤组件11带走。在第二阶段的第一步骤期间，可引导清洗液和污物从打开的出口22流向废物容置部30。例如，出口阀装置43、44在控制器36的方向上可引导清洗液和污物经由出口管线32到达废物容置部30。
在调节方法的第二阶段的第二步骤中，在清洗液已移走来自过滤介质12的孔隙和空隙以及过滤介质12的下游侧15的气体或预湿液体之后，可使清洗液经过打开的入口20、经过过滤介质12、且经过打开出口22的流率增大到更大的第二流率。图3的调节方法的第二阶段的第二步骤可实际上与图2的调节方法的第二阶段的第二步骤相同。例如，可停用真空装置40，并且压力源26可增大过滤组件11的打开入口22处的压力以形成更大的第二流率，例如在控制器36的方向上。然后以更大的第二流率驱动清洗液从清洗液供应部件24进入过滤组件11的打开的入口20，这更有效地冲洗来自过滤组件11的污物，如前面参考图1和图2所描述的。
另外，图3的调节方法还包括在第二阶段的第二步骤期间引导来自过滤组件11的打开出口22的清洗液到达第二容器41，并且离开废物容置部30。例如，在第二阶段的第二步骤期间，出口阀装置43、44可设置成例如在控制器36的方向上，关闭在出口阀装置43、44下游的出口管线32并且打开回收管线42。然后清洗液从过滤组件11的打开的出口22到达第二容器41，例如经由出口管线32和回收管线42。在许多实施例中，在充分体积的清洗液已经以第二流率通过经过过滤组件11和过滤介质12之后，实际上所有的污物已从过滤组件11内的过滤介质12和过滤介质12的下游侧15被除去。清洗液以第二流率的连续流动对于除去任何剩余的分离的污物是有利的，但通常此时离开打开的出口22的清洗液基本上无污物并且可被回收于第二容器41中。可在第二阶段的第二步骤期间经过包括过滤介质12的过滤组件11的实际上无污物的清洗液的充分体积可变化，根据例如过滤组件11的尺寸和洁净度以及特性例如过滤介质12的截留级别，并且对于任何给定的过滤组件11可凭经验进行确定。在许多实施例中，在调节方法的第二阶段第二步骤期间，通过过滤组件11的清洗液总量的约5％(或更小)到约25％(或更大)可以被回收在第二容器41中。在第二阶段结束时，整个过滤组件可被清洗液填充并且无污物，并且可准备用于装运、储存或使用，如之前所述的。另外，可将来自清洗液供应部件的大部分的清洗液回收在第二容器中。
图3的调节方法还可包括重复使用回收于第二容器41中的清洗液。例如，第二容器41可联接到安装在图3的调节系统10中的新过滤组件11的打开的入口。在一些实施例中，容纳回收的清洗液的第二容器41可替换用过的(deplete)清洗液供应部件24，例如压力源26中的用过的第一容器。然后第二容器可联接到新过滤组件11的入口20，例如经由入口管线25，并且例如具有类似于新过滤组件11中过滤介质的截留级别的过滤器可放置在入口管线25中。另外，空的第二容器41可联接到过滤组件11的出口22，例如在回收管线42的端部。然后，压力源26可例如在控制器36的方向上驱动第二容器中的回收的清洗液进入新过滤组件11的打开的入口20以调节新过滤组件11。在入口管线25中的过滤器(未图示)可从回收的清洗液中除去任何微量的污物。可将大部分的回收的清洗液再次回收到联接到回收管线42的空第二容器41中。
图4中示出了调节系统10和调节方法的其它实施例。图4的调节系统10可以非常类似于图1、图2和图3的调节系统10，并且相似的部件用相同的附图标记来表示。图4的调节系统10可包括清洗液供应部件24，例如第一容器，该清洗液供应部件24可以以前述的任何方式联接到过滤组件11的入口20，例如经由入口管线25。第一压力源26可设置成驱动来自清洗液供应部件24的清洗液到达过滤组件11的入口20，例如在连接到第一压力源26的控制器36的控制下。入口阀33、排气口阀34和出口阀35可可操作地分别与过滤组件11入口20、排气口21和出口22相连并且连接到控制器36。调节系统10还可包括废物容置部30、真空装置40、能够容纳清洗液的第二容器41。废物容置部30可联接到过滤组件11的排气口21和出口22，例如经由排气口管线31和出口管线32。真空装置40可联接到过滤组件11的出口22，例如经由出口管线32，并且连接到控制器36。第二容器41可联接到过滤组件的出口22，例如经由出口阀装置43、44和回收管线42。
此外，图4的调节系统10可包括第二压力源45，以用于驱动来自第二容器41的清洗液。第二压力源45可采用类似于第一压力源26的多种方式被配置。例如，第二压力源45可以是气动压缩机(expressor)并且可联接到控制器36。第二容器41可以是设置在第二压力源45中的柔性容器，并且第二压力源45可设置成将惰性气体(例如氮气)施加到柔性第二容器的外部，例如在控制器36的方向上，如前面参考第一压力源26所描述的。回收阀装置50、51可联接在回收管线42与第一和第二容器24、41之间，以用于每次(at a time)将一个容器24、41连接到回收管线42并且使其它容器41、24与回收管线42分离。入口阀装置52、53可在入口管线25与第一和第二容器24、41之间联接，以用于每次将一个容器24、41连接到入口管线25并且使其它容器41、24与入口管线25分离。回收阀装置50、51以及入口阀装置52、53可联接到控制器36并且可设置成可替代地：(1)将第一容器24联接到入口管线25而不是联接到回收管线42同时第二容器41联接到回收管线42而不是联接到入口管线25；以及(2)将第二容器41联接到入口管线25而不是联接到回收管线42同时第一容器24联接到回收管线42而不是联接到入口管线25。因此，图4的调节系统10可单独地调节多个过滤组件经过超过多个循环的延长的时间段。在每个循环中，第一容器24提供清洗液以调节过滤组件11同时容器41回收一部分清洗液，然后第二容器41将清洗液提供至调节过滤组件11同时第一容器24回收一部分清洗液。类似于图3中所示过滤器的过滤器54可设置在入口管线25中，以用于从回收的清洗液中除去微量的污物。
图4的调节方法可非常类似于图1、图2和图3的调节方法。例如，除了使容器41、24中的一个与入口管线25分离并且使容器24、41中的另一个与回收管线42分离以外，图4的调节方法的第一和第二阶段可实际上与如之前所述的的图3的调节方法的第一和第二阶段相同。例如，控制器36可控制回收阀装置50、51以将第二容器41连接到回收管线42并且使第二容器41与入口管线25分离。控制器36也可控制入口阀装置52、53以将第一容器24连接到入口管线并且使第一容器与回收管线42分离。调节多个过滤组件11然后可以继续第一半循环(first hafe cycle)，将一个接一个的过滤组件11安装在调节系统10中，经历调节方法的第一和第二阶段，然后从调节系统10中取出。在调节方法的连续的第一和第二阶段期间第一压力源26可驱动来自第一容器24清洗液到达每个滤组件11，直到第一容器24无法使用并且第二容器41已回收来自第一容器24的大部分清洗液。
在第二半循环期间，容纳回收的清洗液的第二容器41联接到入口管线25并且与回收管线42分离，同时将第一容器24连接到回收管线42并且与入口管线25分离，例如通过在控制器36的控制下的回收阀装置50、51以及入口阀装置52、53的作用。然后可类似地在第二半循环中继续调节多个过滤组件11，直到第二容器41中没有回收的清洗液并且第一容器24已重新回收从第二容器41供应的大部分的回收清洗液。然后，图4的调节方法可继续调节过滤组件11的循环直到回收的清洗液变得过于污染而不能可靠地使用或直到不充分量的清洗液被回收。
实现本发明的调节系统和方法还可包括准备经调节的过滤组件以便过滤化学品。准备系统可以是独立式系统或者可与其它系统结合，包括前述的调节系统或分配系统。图5中示出了准备系统60的许多不同实例中的一个实例。通常，准备系统60可包括惰性气体供应部件61(例如氮气源)，惰性气体供应部件61联接到被清洗液填充的经调节过滤组件11的入口20。惰性气体供应部件61可以各种方式被配置，例如作为箱或者容器罐。在图示说明的实施例中，惰性气体供应部件61可包括惰性气体管线，该惰性气体管线直接或间接地联接到经调节过滤组件11的入口20，例如经由在入口阀33上游的入口管线25。可联接到控制器(例如调节系统的控制器36)的气体管线阀62可设置成将惰性气体供应部件61联接到入口管线25或将惰性气体供应部件61与入口管线25分离，例如在控制器36的方向上。
准备系统60还可包括化学品供应部件63，供应部件63可以多种方式被配置，例如箱或管线或者如图5中所示的容器(例如柔性容器)。化学品供应部件63可直接地或间接地联接到经调节过滤组件11的入口20，例如经由连接到在入口阀33上游的入口管线25的化学品管线64。化学品管线64中的阀65可连接到控制器36并且可设置成将化学品供应部件63联接到入口管线25或者将化学品供应部件63与入口管线25分离，例如在控制器36的方向上。类似于前述压力源26的压力源66可连接到控制器36并且用于驱动化学品到达过滤组件入口20。例如，压力源66可包括围绕化学品供应部件63的气动压缩机，并且施加气体压力抵靠化学品供应部件63的外部，例如在控制器36的方向上，从而驱动化学品到达过滤组件入口20。
准备系统60还可包括类似于前述废物容置部的废物容置部30。废物容置部30可以以多种方式联接到经调节过滤组件11的排气口21和出口22。例如，排气口21可经过排气口管线31和连接到控制器36的排气口阀34联接到废物容置部30。出口22可经过出口管线32和联接到控制器36的出口阀35而联接到废物容置部30。
用于准备经调节过滤组件11的方法可以多种方式实现。例如，准备方法可包括首先替换来自经调节过滤组件11的过滤介质12的上游侧14的清洗液。在过滤介质上游侧的清洗液可被化学品自身移走。然而，在图5中所示的实施例中，来自过滤介质12的上游侧14的清洗液可被惰性气体移走。例如，可将经调节过滤组件11的入口20和排气口21打开和将出口22关闭。在许多实施例中，可通过打开入口阀33和排气口阀34而打开入口20和排气口21，并且可通过关闭出口阀35而关闭出口22，例如在控制器36的方向上。另外，可打开气体管线阀62并且可关闭化学品管线阀65，例如在控制器36的方向上。然后，在压力下将惰性气体从惰性气体供应部件61例如在控制器36的方向上提供至经调节过滤组件11的打开的入口20，在这里惰性气体通过打开的入口20、沿过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口21。
惰性气体移走来自过滤组件11内部过滤介质12的上游侧14的清洗液，驱动清洗液经过打开的排气口21。惰性气体的压力可足够大到迫使清洗液沿过滤介质12的上游侧14经过打开的排气口21但足够小到防止气体自身进入过滤介质12的孔隙和空隙。对于给定的过滤介质可凭经验确定合适的压力，例如根据截留级别(例如孔隙和空隙的尺寸)。从打开的排气口21，惰性气体可驱动被移走的清洗液到达废物容置部30，例如，经由打开的排气口阀34和排气口管线31，例如在控制器的方向上。在其它实施例中，经替换的清洗液可以被回收在容器(例如经由回收管线和第二容器)中，如之前所述的。
在许多实施例中，在来自过滤介质12的上游侧14的清洗液已被移走之后，该准备方法可包括用化学品填充过滤组件内的过滤介质12的上游侧14。例如，入口20和排气口21例如入口阀33和排气口阀34可保持打开，并且出口22例如出口阀35可保持关闭。可关闭气体管线阀62并且可打开化学品管线阀65，例如，在控制器36的方向上。然后，可使化学品供应部件63中的化学品来到过滤组件11的打开的入口20，例如在控制器36的方向上。压力源66可驱动来自化学品供应部件63的化学品到达过滤组件11的打开的入口20。然后化学品经过打开的入口20、沿过滤组件11内的过滤介质12的上游侧14、经过打开的排气口21，从而沿过滤介质12的上游侧14用化学品填充过滤组件11并且驱动惰性气体沿过滤介质12的上游侧14经过打开的排气口21。从打开的排气口21，化学品和惰性气体被引导到废物容置部30。
准备方法还可包括移走来自过滤介质12和过滤介质12的下游侧15的清洗液并且用化学品填充过滤介质12和过滤介质12的下游侧15。例如，在过滤介质12的上游侧14已被化学品填充之后，可打开入口20和出口22并且可关闭排气口21，例如通过在控制器36的方向上打开入口阀33和出口阀35并且关闭排气口阀34。然后将化学品从化学品供应部件63供应至打开的入口20、经过打开的入口20、经过过滤介质12从上游侧14到达下游侧15、沿过滤介质12的下游侧15、经过打开的出口22，用化学品填充过滤介质12和过滤介质12下游侧15的孔隙和空隙并且经过打开的出口22移走清洗液。从打开的出口22，化学品和清洗液可例如经由打开的出口阀35和出口管线32到达废物容置部30。在准备方法的结束时，过滤组件被化学品填充且无污物，并且准备使用。
虽然在前面所描述和示出的实施例中公开了本发明，但本发明不限于那些实施例。例如，实施例的一个或多个特征可被删除或改动，实施例的一个或多特征可与其它实施例的一个或多个特征相组合、或者可设想出具有很不相同的特征的实施例而不脱离本发明的范围。例如，一些实施例可包括第二容器以用于回收清洗液，但不包括用于以第一流率抽取清洗液经过过滤介质的真空源。这些实施例可利用压力源来驱动清洗液以第一流率经过过滤介质。例如，对于一些实施例，调节系统可以是独立式单元，其与用于制造或使用过滤组件的任何系统相分离或间隔开。对于其它实施例，调节系统可以是与过滤器制造系统或用户端系统相结合的子系统，如微电子分配系统。在一些实施例中，调节系统和方法可准备过滤组件以便储存或装运。在其它实施例中，调节系统和方法可准备过滤组件以便最终用户立即使用。因此，本发明包括可落在权利要求范围内的无数的实施例和修改。
这里引用的所有的参考文献，包括公报、专利申请和专利在这里通过参考被并入、达到就像每个参考文献单个地并且具体地表示为通过参考被并入且在这里以其全文被阐述的程度。
在描述本发明的上下文中(尤其是在如下的权利要求的上下文中)术语“一”、“一个”和“该”以及类似的指代的使用应该解释为覆盖单数和复数，除非这里另有指示或者上下文明显矛盾。术语“包括”、“具有”、“包含”和“含有”应该解释为打开式的术语(即意思是“包括但不限于”)，除非另有指示。这里的值的范围的列举仅是期望用作单个地表示每个落入该范围内的单独的值的简写方法，除非这里另有指示，并且每个单独的值被结合到本说明书中就像其在这里被单个地记载。这里描述的所有方法能以任何合适的顺序执行除非这里另有指示或者上下文明显矛盾。这里提供的任何和所有实例或示例性语言(如“例如”)的使用仅是期望更好地解释本发明并不对本发明的范围形成限制，除非另外声明。说明书中没有语言应该被解释为表示任何非主张的元件对于本发明的实施是必要的。

Claims (42)

1.一种用于调节过滤组件的方法，所述过滤组件包括可渗透的过滤介质，所述可渗透的过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤介质的上游侧上的入口和排气口、和过滤介质的下游侧上的出口，所述方法包括：
打开入口和排气口并且关闭出口，以及使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过过滤组件的打开的排气口；以及
打开入口和出口并且关闭排气口，并且首先使清洗液以第一流率经过打开的入口，经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过过滤组件的打开的出口，然后使清洗液以大于第一流率的第二流率经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过过滤组件的打开的出口，由此用清洗液填充过滤组件。
2.如权利要求1所述的方法，其中使清洗液经过包括使溶剂经过。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口包括增大在过滤组件入口处的压力。
4.如权利要求1、2或3所述的方法，其中以第一流率使清洗液经过包括减小过滤组件出口处的压力。
5.如权利要求4所述的方法，其中减小在过滤组件的出口处的压力包括从过滤组件的出口中真空抽取清洗液。
6.如权利要求1-5中任一项所述的方法，其中使清洗液以第二流率经过包括增大在过滤组件入口处的清洗液的压力。
7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过过滤组件的打开的排气口包括引导清洗液从打开的排气口到达流体联接到过滤组件的排气口的废物容置部。
8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其中使清洗液以第一流率经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、经过过滤组件的打开的出口包括引导清洗液从出口到达连接到过滤组件出口的废物容置部。
9.如权利要求3或6所述的方法，其中增大在过滤组件的入口处的清洗液压力包括向容纳清洗液且流体联接到过滤组件的入口的容器施加压力，由此迫使清洗液从容器到达过滤组件的入口。
10.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其还包括从流体连接到过滤组件入口的第一容器供应清洗液。
11.如权利要求10所述的方法，其中使清洗液以第二流率经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、经过过滤组件的打开的出口包括引导清洗液从出口到达能够容纳清洗液的第二容器。
12.如权利要求11所述的方法，其还包括将第二容器联接到第二过滤组件的入口，以及用第二容器中的清洗液调节第二过滤组件。
13.如权利要求12所述的方法，其中调节第二过滤组件包括使清洗液经过在第二容器和第二过滤组件的入口之间的过滤器。
14.如权利要求11或12所述的方法，其中引导来自过滤组件的出口的清洗液到达第二容器包括使清洗液经过在出口和第二容器之间的过滤器。
15.一种用于调节过滤组件的方法，所述过滤组件包括可渗透的过滤介质，所述可渗透的过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤介质的上游侧上的入口和排气口、和过滤介质的下游侧上的出口，所述方法包括：
打开入口和排气口并且关闭出口；以及
提供来自流体联接到过滤组件入口的第一容器的清洗液；
使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口；以及
引导来自打开的排气口的清洗液到达废物容置部；以及
然后打开入口和出口并且关闭排气口：以及
从流体联接到过滤组件的入口的第一容器供应清洗液；
首先使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达废物容置部；以及
然后使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达能够容纳清洗液的第二容器，由此用清洗液填充过滤组件并且回收一部分清洗液。
16.如权利要求15所述方法，其还包括将第二容器联接接到第二过滤组件的入口并且用第二容器中的清洗液调节第二过滤组件。
17.如权利要求15或16所述的方法，其还包括引导清洗液经过在过滤组件的出口和第二容器之间联接的过滤器。
18.如权利要求16所述的方法，其还包括引导清洗液经过在第二容器和第二过滤组件之间联接的过滤器。
19.如权利要求15-18中任一项所述的方法，其中使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、经过打开的出口到达废物容置部包括使清洗液以第一流率经过打开的入口，并且使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从下游侧到上游侧、经过打开的出口到达能够容纳清洗液的第二容器包括使清洗液以大于第一流率的第二流率经过打开的入口。
20.如权利要求15-19中任一项所述的方法，其中使清洗液经过包括使溶剂经过。
21.如权利要求15-20任一项所述的方法，其中使清洗液经过打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口到达废物容置部包括增大在过滤组件的入口处的压力。
22.如权利要求15-20中任一项所述的方法，其中使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、经过打开的出口到达废物容置部包括减小在过滤组件的出口处的压力。
23.如权利要求22所述的方法，其中减小在过滤组件的出口处的压力包括从过滤组件的出口真空吸出清洗液。
24.如权利要求15-23中任一项所述的方法，其中使清洗液经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、经过打开的出口到达第二容器包括增大在过滤组件入口处的压力。
25.一种用于调节过滤组件的系统，所述过滤组件包括过滤介质，所述过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤介质的上游侧上的入口和排气口、和过滤介质的下游侧上的出口，所述系统包括：
清洗液供应部件，其可联接到过滤组件的入口；
废物容置部，其可联接到过滤组件的出口和排气口；
压力源，其设置成驱动清洗液从清洗液供应部件到达过滤组件的入口；
入口阀，其可操作地打开和关闭过滤组件的入口；
出口阀，其可操作地打开和关闭过滤组件的出口；
排气口阀，其可操作地打开和关闭过滤组件的排气口；
控制器，所述控制阀连接到压力源、入口阀、出口阀、和排气口阀，其中在第一阶段中控制器可操作地打开入口阀和排气口阀，关闭出口阀并且引导来自清洗液供应部件的清洗液，经过过滤组件的打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口到达废物容置部，其中在接下来的第二阶段的第一步骤中控制器可操作地打开入口阀和出口阀，关闭排气口阀，以及引导来自清洗液供应部件的清洗液以第一流率经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达废物容置部，并且控制器在第二阶段的接下来的第二步骤中可操作地打开入口阀和出口阀，关闭排气口阀，并且以更大的第二流率引导来自清洗液供应部件的清洗液经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口，由此用清洗液填充过滤组件。
26.如权利要求25所述的系统，其还包括可联接到过滤组件出口的真空装置，其中控制器联接到真空装置并且在第二阶段的第一步骤期间可操作地控制真空源以减小在过滤组件的出口处的压力。
27.如权利要求25或26所述的系统，其中在第一阶段期间，控制器可操作地控制压力源以增大在过滤组件入口处的压力。
28.如权利要求25或26所述的系统，其中在第二阶段的第二步骤期间，控制器可操作地控制压力源以增大在过滤组件的入口处的压力。
29.如权利要求25或26所述的系统，其中清洗液供应部件包括容器，并且控制器控制压力源以在容器的外部上施加压力，从而迫使清洗液从容器到达过滤组件的入口。
30.如权利要求25-28中任一项所述的系统，其中清洗液供应部件包括用于容纳清洗液的第一容器，所述系统还包括用于容纳清洗液的第二容器以及在过滤组件的出口、废物容置部和第二容器之间联接的第一阀装置；连接到第一阀装置的控制器在第二阶段的第一步骤期间引导来自打开的出口的清洗液到达废物容置部并且在第二阶段的第二步骤期间引导来自打开的出口的清洗液到达第二容器。
31.如权利要求30所述的系统，其中第二容器可连接到第二过滤组件的入口。
32.如权利要求30所述的系统，其还包括在第一容器、过滤组件的出口、和过滤组件的入口之间联接的第二阀装置；以及在第二容器、过滤组件的出口、和过滤组件入口之间联接的第三阀装置，其中清洗液供应部件包括第一容器和第二容器，并且其中控制器连接到第二和第三阀装置以可交替地驱动来自第一容器的清洗液、经过第一过滤组件的打开入口和打开的出口到达第二容器，并且驱动来自第二容器的清洗液经过第二过滤组件的打开的入口和打开的出口到达第一容器。
33.根据权利要求25-32中任一项所述的方法，其中过滤介质具有约0.05微米或更小的截留级别。
34.一种用于调节过滤组件的系统，所述过滤组件包括过滤介质，所述过滤介质具有上游侧和下游侧、过滤介质的上游侧上的入口和排气口、和过滤介质的下游侧上的出口，所述系统包括：
第一容器，其容纳清洗液并且可联接到过滤组件的入口；
第二容器，其用于容纳清洗液并且可连接到过滤组件的出口；
废物容置部，其可联接到过滤组件的出口和排气口；
压力源，其设置成驱动清洗液从第一容器到达过滤组件的入口；
入口阀，其可操作地打开和关闭过滤组件的入口；
出口阀，其可操作地打开和关闭过滤组件的出口；
排气口阀，其可操作地打开和关闭过滤组件的排气口；以及
控制器，其联接到压力源、入口阀、出口阀、和排气口阀，其中控制器在第一阶段中可操作地打开入口阀和排气口阀，关闭出口阀并且引导来自第一容器的清洗液经过过滤组件的打开的入口、沿过滤介质的上游侧、经过打开的排气口到达废物容置部，其中控制器在第二阶段的第一步骤中可操作地打开入口阀和出口阀，关闭排气口阀，并且引导来自第一容器的清洗液经过过滤组件的打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过废物容置部的打开的出口，并且控制器在第二阶段的第二步骤中可操作地打开入口阀和出口阀，关闭排气口阀，并且引导来自第一容器的清洗液、经过打开的入口、经过过滤介质从上游侧到达下游侧、沿过滤介质的下游侧、经过打开的出口到达第二容器，由此用清洗液填充过滤组件并且回收一部分清洗液。
35.如权利要求34所述的系统，其还包括联接在过滤组件的出口、废物容置部、和第二容器之间的第一阀装置，控制器连接到第一阀装置并且在第二阶段的第一步骤期间可操作地引导清洗液到达废物容置部并且在第二阶段的第二步骤期间引导清洗液到达第二容器。
36.如权利要求34或35所述的系统，其还包括可连接到过滤组件出口的真空装置，其中控制器联接到真空装置并且在第二阶段的第一步骤期间可操作地控制真空源以减小在过滤组件的出口处的压力。
37.如权利要求34-36中任一项所述的系统，其中压力源被控制器控制，以在第一容器的外部上施加压力，从而迫使清洗液从容器到达过滤组件的入口。
38.如权利要求34-36中任一项所述的系统，其中在第一阶段期间，控制器可操作地控制压力源以增大在过滤组件入口处的压力。
39.如权利要求34-36和38中任一项所述的系统其中在第二阶段的第二步骤期间，控制器可操作地控制压力源以增大在过滤组件的入口处的压力。
40.如权利要求34-39中任一项所述的系统，其中第二容器可联接到过滤组件的入口。
41.如权利要求34-39中任一项所述的系统，其还包括：在第一容器、过滤组件的出口、和过滤组件的入口之间联接的第二阀装置；以及在第二容器、过滤组件的出口、和过滤组件的入口之间联接的第三阀装置，其中压力源设置成驱动来自第二容器的清洗液，并且控制器联接到第二和第三阀装置，以可交替地驱动来自第一容器的清洗液、经过第一组件的打开入口和打开出口到达第二容器，并且驱动来自第二容器的清洗液经过第二过滤组件的打开入口和打开的出口到达第一容器。
42.如权利要求34-41中任一项所述的系统，其中过滤介质具有约0.05微米或更小的截留级别。
CN201310757302.9A 2012-11-12 2013-11-12 用于调节过滤组件的系统和方法 Active CN103801146B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/674,415 US9656197B2 (en) 2012-11-12 2012-11-12 Systems and methods for conditioning a filter assembly
US13/674,415 2012-11-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103801146A true CN103801146A (zh) 2014-05-21
CN103801146B CN103801146B (zh) 2016-01-20

Family

ID=49578150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310757302.9A Active CN103801146B (zh) 2012-11-12 2013-11-12 用于调节过滤组件的系统和方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9656197B2 (zh)
EP (1) EP2730326B1 (zh)
JP (1) JP5760255B2 (zh)
KR (1) KR101544521B1 (zh)
CN (1) CN103801146B (zh)
BR (1) BR102013029186A2 (zh)
IL (1) IL229298A (zh)
SG (1) SG2013082904A (zh)
TW (1) TWI528994B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0816310D0 (en) 2008-09-05 2008-10-15 Mtt Technologies Ltd Filter assembly
JP6107690B2 (ja) * 2013-09-27 2017-04-05 東京エレクトロン株式会社 フィルタユニットの前処理方法、処理液供給装置、フィルタユニットの加熱装置
WO2016079494A2 (en) * 2014-11-21 2016-05-26 Renishaw Plc Additive manufacturing apparatus and methods
CN109876513B (zh) * 2019-03-13 2023-12-08 成都飞机工业（集团）有限责任公司 一种加油装置全油量油液的净化方法及装置
JP7309297B2 (ja) * 2021-03-03 2023-07-18 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 給液装置、塗布装置、エージング装置、給液方法、およびエージング方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4556486A (en) * 1984-02-15 1985-12-03 Lesley Merket Circulating water filtering system and method of operation
CN86108262A (zh) * 1985-07-29 1988-04-13 自然环境公司 滤床清洗改进方法和系统
US5507959A (en) * 1994-11-04 1996-04-16 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus for wetting, flushing and performing integrity checks on encapsulated PTFE filters
TW452499B (en) * 1998-07-10 2001-09-01 Millipore Corp Process for purging a fluid delivery system of a fluid within the system, connector apparatus, system for purging a dispense fluid within a fluid dispensing system, and manifold construction
CN1590761A (zh) * 1998-11-23 2005-03-09 米利波尔公司 用于精密泵设备的泵调节器
US7967978B2 (en) * 2006-12-11 2011-06-28 International Business Machines Corporation Method and apparatus for filter conditioning
CN102307641A (zh) * 2009-02-06 2012-01-04 Lg电子株式会社 具有清洁系统的净水设备

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4282105A (en) 1980-01-28 1981-08-04 J. R. Schneider Co., Inc. Filter
US5262068A (en) * 1991-05-17 1993-11-16 Millipore Corporation Integrated system for filtering and dispensing fluid having fill, dispense and bubble purge strokes
US5281344A (en) 1992-01-23 1994-01-25 Pall Corporation Regenerable sorbent system
US5372653A (en) 1993-05-28 1994-12-13 Courtaulds Fibres (Holdings) Limited Cleaning of filters
US5766486A (en) 1995-07-27 1998-06-16 Pall Corporation Hybrid filter system and method for filtering process fluid
US5733441A (en) 1996-06-27 1998-03-31 United Microelectronics Corporation Pre-wet system for a filter
US7029238B1 (en) * 1998-11-23 2006-04-18 Mykrolis Corporation Pump controller for precision pumping apparatus
UA72503C2 (uk) 1999-04-04 2005-03-15 Сода Клаб (Со2) Са Система та спосіб випробування цілісності фільтра і система водоочищення (варіанти)
WO2000072936A1 (en) 1999-05-28 2000-12-07 Pall Corporation Separation of non-miscible fluids, especially non-miscible liquids and solids
JP2001187323A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Nitto Denko Corp 膜分離装置およびその運転方法
EP1322395B1 (en) * 2000-09-13 2011-02-23 Entegris, Inc. Liquid filtration device
EP1480906A4 (en) 2002-02-07 2009-09-23 Pall Corp LIQUID DISPENSING SYSTEMS AND METHODS
KR100643494B1 (ko) * 2004-10-13 2006-11-10 삼성전자주식회사 반도체 제조용 포토레지스트의 디스펜싱장치
KR100776205B1 (ko) 2007-02-14 2007-11-28 주식회사 엔케이 여과 및 전기분해 방식의 밸러스트수 처리 시스템 및 그의구동방법
US8580117B2 (en) * 2007-03-20 2013-11-12 Taiwan Semiconductor Manufactuing Company, Ltd. System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4556486A (en) * 1984-02-15 1985-12-03 Lesley Merket Circulating water filtering system and method of operation
CN86108262A (zh) * 1985-07-29 1988-04-13 自然环境公司 滤床清洗改进方法和系统
US5507959A (en) * 1994-11-04 1996-04-16 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus for wetting, flushing and performing integrity checks on encapsulated PTFE filters
TW452499B (en) * 1998-07-10 2001-09-01 Millipore Corp Process for purging a fluid delivery system of a fluid within the system, connector apparatus, system for purging a dispense fluid within a fluid dispensing system, and manifold construction
CN1590761A (zh) * 1998-11-23 2005-03-09 米利波尔公司 用于精密泵设备的泵调节器
US7967978B2 (en) * 2006-12-11 2011-06-28 International Business Machines Corporation Method and apparatus for filter conditioning
CN102307641A (zh) * 2009-02-06 2012-01-04 Lg电子株式会社 具有清洁系统的净水设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN103801146B (zh) 2016-01-20
IL229298A (en) 2016-04-21
TWI528994B (zh) 2016-04-11
JP2014094375A (ja) 2014-05-22
US9656197B2 (en) 2017-05-23
JP5760255B2 (ja) 2015-08-05
EP2730326A1 (en) 2014-05-14
EP2730326B1 (en) 2017-01-04
SG2013082904A (en) 2014-06-27
KR101544521B1 (ko) 2015-08-13
US20140131293A1 (en) 2014-05-15
TW201436849A (zh) 2014-10-01
BR102013029186A2 (pt) 2014-11-04
KR20140061274A (ko) 2014-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103801146B (zh) 用于调节过滤组件的系统和方法
CN103801145A (zh) 用于调节过滤组件的系统和方法
CN101511455B (zh) 低压回洗
JP4042967B2 (ja) 濾過装置の逆洗方法
JP5599189B2 (ja) バイオリアクタと膜濾過モジュールとを有する進入流体の処理のための装置
JP6050831B2 (ja) フィルタを洗浄する方法
US20090101601A1 (en) Filter device and filter method
WO2015107826A1 (ja) クーラント再生装置及びクーラント再生方法
JP4225997B2 (ja) 濾過装置
JP5334155B2 (ja) 処理液循環利用システム
JP3440684B2 (ja) 濾過装置及び濾過装置の洗浄方法
JP7075751B2 (ja) ろ過膜の洗浄方法
JP5526730B2 (ja) 濾過機設備の運転方法
JP3539147B2 (ja) 濾過装置
JP4262568B2 (ja) 油水分離装置
RU2282489C2 (ru) Очистка фильтра на основе полых волокон с фронтальным режимом работы
CN214653719U (zh) 一种水处理装置及水处理系统
JP3402908B2 (ja) 濾過装置
JP4414493B2 (ja) フィルタを利用した原液の処理方法
JPH08206404A (ja) 油水分離装置
JP2001120915A (ja) 懸濁液濃縮方法及び濃縮装置
JP4471270B2 (ja) 濾過装置およびその逆洗方法
JP2003170012A (ja) 濾過装置の逆洗方法および装置
JPH08131708A (ja) 油水分離装置
JP2000288361A (ja) 膜分離装置、膜分離方法および膜分離装置の洗浄方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant