BR102013029186A2 - Sistemas e métodos para condicionar uma montagem de filtragem - Google Patents

Sistemas e métodos para condicionar uma montagem de filtragem Download PDF

Info

Publication number
BR102013029186A2
BR102013029186A2 BR102013029186A BR102013029186A BR102013029186A2 BR 102013029186 A2 BR102013029186 A2 BR 102013029186A2 BR 102013029186 A BR102013029186 A BR 102013029186A BR 102013029186 A BR102013029186 A BR 102013029186A BR 102013029186 A2 BR102013029186 A2 BR 102013029186A2
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
inlet
filter assembly
outlet
open
container
Prior art date
Application number
BR102013029186A
Other languages
English (en)
Inventor
Michael J Mesawich
Joseph Bica
Michael Stutart Sevegney
Glenn Dado
Barry Gotlinsky
Richard E Novak
Original Assignee
Pall Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pall Corp filed Critical Pall Corp
Publication of BR102013029186A2 publication Critical patent/BR102013029186A2/pt

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D41/00Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids
    • B01D41/04Regeneration of the filtering material or filter elements outside the filter for liquid or gaseous fluids of rigid self-supporting filtering material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • External Artificial Organs (AREA)

Abstract

SISTEMAS E MÉTODOS PARA CONDICIONAR UMA MONTAGEM DE FILTRAGEM Sistemas e métodos condicionam uma montagem de filtragem. Líquido de purgaçao é passado através da montagem de filtragem para remover contaminantes dos poros e vazios do meio filtrante e dos lados a montante e a jusante do meio filtrante

Description

“SISTEMAS E MÉTODOS PARA CONDICIONAR UMA MONTAGEM DE FILTRAGEM” Revelação da invenção Os produtos químicos usados em muitas indústrias, incluindo a indústria microele-trônica e a indústria farmacêutica, devem ser extremamente puros. Filtragem muito fina destes produtos químicos é exigida, frequentemente no ponto de uso, para remover quaisquer contaminantes que possam interromper os processos usados, ou arruinar os produtos fabricados, por estas indústrias. De uma maneira geral, as montagens de filtragem usadas para filtrar estes produtos químicos têm um meio filtrante permeável. O produto químico atravessará meio filtrante, e quaisquer contaminantes no produto químico ficarão presos dentro do meio filtrante ou sobre a superfície do mesmo.
Antes de um produto químico ser filtrado, sistemas e métodos incorporando a invenção condicionam a montagem de filtragem e impedem a montagem de filtragem propriamente dita de introduzir contaminantes no produto químico. De uma maneira geral, um líquido de purgação é passado através da montagem de filtragem para remover quaisquer contaminantes que possam estar contidos dentro da montagem de filtragem, mesmo em uma montagem de filtragem recém-fabricada. O líquido de purgação pode ser qualquer líquido que seja compatível com o produto químico a ser filtrado. Para produtos químicos menos tóxicos ou mais baratos, o líquido de purgação pode ser o próprio produto químico. Mais frequentemente, o líquido de purgação pode ser um componente líquido menos tóxico ou mais barato do produto químico ou um solvente líquido para o produto químico. À medida que o líquido de purgação passa pela montagem de filtragem ele pode deslocar qualquer gás dentro da montagem de filtragem e carregar quaisquer outros contaminantes contidos na montagem de filtragem. Após limpeza, a montagem de filtragem condicionada, cheia com o líquido de purgação, pode ser armazenada e/ou expedida, e ela pode ser usada para filtrar o produto químico após o líquido de purgação ser removido da montagem de filtragem.
Sumário da invenção Sistemas e métodos incorporando a invenção podem ser usados para condicionar montagens de filtragem uma de cada vez ou várias ao mesmo tempo. Cada montagem de filtragem pode incluir um meio filtrante, uma entrada, uma passagem e uma saída. O meio filtrante pode ter um lado a montante e um lado a jusante dentro da montagem de filtragem. A entrada e a passagem podem ficar no lado a montante do meio filtrante, e a saída pode ficar no lado a jusante do meio filtrante.
De acordo com um aspecto da invenção, métodos para condicionar uma montagem de filtragem podem compreender abrir a entrada e a passagem e fechar a saída da montagem de filtragem. Um líquido de purgação pode então ser passado pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante, e através da passagem aberta. Os métodos po- dem compreender adicionalmente abrir a entrada e a saída e fechar a passagem. Então, o líquido de purgação pode ser primeiro passado pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta em uma primeira taxa de fluxo. O líquido de purgação subsequentemente pode ser passado pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta em uma segunda taxa de fluxo maior que a primeira taxa de fluxo. O líquido de purgação desloca e/ou leva qualquer ar e outros contaminantes dentro da montagem de filtragem, incluindo contaminantes dentro da montagem de filtragem no lado a montante do meio filtrante, dentro do meio filtrante e no lado a jusante do meio filtrante, deixando a montagem de filtragem livre dos contaminantes e cheia com líquido de purgação.
De acordo com um outro aspecto da invenção, sistemas para condicionar uma montagem de filtragem podem compreender um fornecimento de líquido de purgação, um reservatório de resíduos e uma fonte de pressão. O fornecimento de líquido de purgação pode ser acoplado à entrada de uma montagem de filtragem, e a fonte de pressão pode ser arranjada para impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação para a entrada da montagem de filtragem. O reservatório de resíduos pode ser acoplado à saída e à passagem da montagem de filtragem. Os sistemas podem compreender adicionalmente uma válvula de entrada, uma válvula de saída, uma válvula de passagem e um controlador. A válvula de entrada pode ser operável para abrir e fechar a entrada da montagem de filtragem; a válvula de saída pode ser operável para abrir e fechar a saída da montagem de filtragem; e a válvula de passagem pode ser operável para abrir e fechar a passagem da montagem de filtragem. O controlador pode ser conectado pelo menos à fonte de pressão, à válvula de entrada, à válvula de saída e à válvula de passagem. O controlador pode ser operável em um primeiro estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de passagem, fechar a válvula de saída e direcionar líquido de purgação proveniente do fornecimento de líquido de purgação, pela entrada aberta da montagem de filtragem, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta. O controlador também pode ser operável em uma primeira fase de um segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída, fechar a válvula de passagem e direcionar líquido de purgação em uma primeira taxa de fluxo pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta. O controlador pode ser operável adicionalmente em uma segunda fase subsequente do segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída, fechar a válvula de passagem e direcionar líquido de purgação em uma segunda taxa de fluxo maior que a primeira taxa de fluxo pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta. O líquido de purgação desloca e/ou leva quaisquer contaminantes dentro da montagem de filtragem, incluindo contaminantes dentro da montagem de filtragem no lado a montante do meio filtrante, dentro do meio filtrante e no lado a jusante do meio filtrante, deixando a montagem de filtragem livre de contaminantes e cheia com o líquido de purgação. Métodos e sistemas incorporando estes aspectos da invenção têm muitos recursos vantajosos, incluindo, por exemplo, recursos que são muito efetivos para remover contaminantes da montagem de filtragem. Por exemplo, tanto por 1) direcionar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta com a saída fechada quanto por 2) direcionar líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta com a passagem fechada, métodos e sistemas incorporando estes aspectos da invenção asseguram que o lado a montante do meio filtrante, o meio filtrante propriamente dito e o lado a jusante do meio filtrante são todos limpados inteiramente pelo líquido de purgação. Adicionalmente, ao direcionar líquido de purgação através do meio filtrante em uma primeira taxa de fluxo menor e subsequentemente em uma segunda taxa de fluxo maior, métodos e sistemas incorporando estes aspectos da invenção asseguram que contaminantes são removidos ainda mais efetivamente de dentro do meio filtrante. Passar o líquido de purgação através do meio filtrante na primeira taxa de fluxo menor permite que o líquido de purgação encha completamente todos os poros e vazios dentro do meio filtrante, deslocando todos os contaminantes, incluindo quaisquer pequenas bolsas ou bolhas de gás, que pode de outro modo permanecem presos no meio filtrante. Passar subsequentemente o líquido de purgação através do meio filtrante na segunda taxa de fluxo maior leva efetivamente todos os contaminantes removidos de dentro do meio filtrante através do lado a jusante do meio filtrante e para fora da saída aberta.
De acordo com um outro aspecto da invenção, métodos para condicionar uma montagem de filtragem pode compreender abrir a entrada e a passagem e fechar a saída da montagem de filtragem. Um líquido de purgação pode então ser fornecido de um primeiro recipiente; passado pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e da passagem aberta; e direcionado da passagem aberta parâ um reservatório de resíduos. Os métodos podem compreender adicionalmente abrir a entrada e a saída e fechar a passagem da montagem de filtragem. Um líquido de purgação pode então ser fornecido do primeiro recipiente para a entrada aberta. Inicialmente, o líquido de purgação pode ser passado pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o recipiente de resíduos. Subsequentemente, o líquido de purgação pode ser passado pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para um segundo recipiente capaz de conter o líquido de purgação, deixando a montagem de filtragem livre de contaminantes e cheia com líquido de purgação.
Adicionalmente, uma parte do líquido de purgação pode ser recuperada no segundo recipiente.
De acordo com um outro aspecto da invenção, sistemas para condicionar uma montagem de filtragem podem compreender um primeiro recipiente, um segundo recipiente, um reservatório de resíduos e uma fonte de pressão. O primeiro recipiente contém líquido de purgação e pode ser acoplável à entrada da montagem de filtragem, a fonte de pressão pode ser arranjada para impulsionar líquido de purgação do primeiro recipiente para a entrada da montagem de filtragem. O reservatório de resíduos pode ser acoplável a uma saída e a uma passagem da montagem de filtragem. O segundo recipiente também pode ser acoplável à saída da montagem de filtragem e pode ser capaz de conter líquido de purgação. Os sistemas podem compreender adicionalmente uma válvula de entrada, uma válvula de saída, uma válvula de passagem e um controlador. A válvula de entrada pode ser operável para abrir e fechar a entrada da montagem de filtragem; a válvula de saída pode ser operável para abrir e fechar a saída da montagem de filtragem; e a válvula de passagem pode ser operável para abrir e fechar a passagem da montagem de filtragem. O controlador pode ser conectado pelo menos à fonte de pressão, à válvula de entrada, à válvula de saída e à válvula de passagem. O controlador pode ser operável em um primeiro estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de passagem; fechar a válvula de saída; e direcionar líquido de purgação proveniente do primeiro recipiente pela entrada aberta da montagem de filtragem, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta para o reservatório de resíduos. O controlador também pode ser operável em uma primeira fase de um segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída; fechar a válvula de passagem; e direcionar líquido de purgação proveniente do primeiro recipiente pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o reservatório de resíduos. O controlador pode ser operável adicionalmente em uma segunda fase subsequente do segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída; fechar a válvula de passagem; e direcionar líquido de purgação proveniente do primeiro recipiente pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o segundo recipiente, deixando a montagem de filtragem livre de contaminantes e cheia com líquido de purgação. Adicionalmente, uma parte do líquido de purgação pode ser recuperada no segundo recipiente. Métodos e sistemas incorporando estes aspectos da invenção têm muitos recursos vantajosos, incluindo, por exemplo, recursos que são altamente efetivos para remover contaminantes e recursos que reduzem significativamente resíduos. Por exemplo, de novo, tanto por 1) direcionar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta com a saída fechada quanto por 2) direcionar líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta com a passagem fechada, métodos e sistemas incorporando estes aspectos da invenção asseguram que o lado a montante do meio filtrante, o meio filtrante propriamente dito e o lado a jusante do meio filtrante são todos inteiramente limpados com líquido de purgação. Adicionalmente, ao direcionar uma parte do líquido de purgação não para o reservatório de resíduos, mas para o segundo recipiente, esta parte do líquido de purgação pode ser recuperada e reutilizada, reduzindo significativamente a quantidade de resíduos gerados.
Descrição resumida dos desenhos A figura 1 é uma vista esquemática de uma modalidade de um sistema para condicionar uma montagem de filtragem. A figura 2 é uma vista esquemática de uma outra modalidade de um sistema para condicionar uma montagem de filtragem. A figura 3 é uma vista esquemática de uma outra modalidade de um sistema para condicionar uma montagem de filtragem. A figura 4 é uma vista esquemática de uma outra modalidade de um sistema para condicionar uma montagem de filtragem. A figura 5 é uma vista esquemática de uma modalidade de uma parte de um sistema para deslocar o líquido de purgação de uma montagem de filtragem.
Descrição de modalidades Sistemas para condicionar montagens de filtragem de acordo com um ou mais aspectos da invenção podem ser incorporados em qualquer um de inúmeros modos e podem ser usados para condicionar qualquer uma de uma grande variedade de montagens de filtragem, uma montagem de filtragem de cada vez ou todas de uma pluralidade de montagens de filtragem ao mesmo tempo.
Cada montagem de filtragem pode ser configurada variavelmente. De umamaneira geral, cada montagem de filtragem 11 inclui um meio filtrante 12 para remover contaminan-tes de um produto químico líquido usado em um processo industrial. Para muitas destas indústrias, por exemplo, a indústria microeletrônica e a indústria farmacêutica, o produto químico deve ser extremamente puro. Consequentemente, o meio filtrante pode ter uma classificação de remoção na faixa microporosa ou nanoporosa. Por exemplo, a classificação de remoção pode ser até cerca de 0,05 micro ou menor que 0,05 micro, incluindo cerca de 40, 30, 20, 10 ou 5 nanômetros ou menos. O filtro, por exemplo, pode ser formado de um material metálico permeável, um material cerâmico permeável ou de um material polimérico permeável, incluindo uma membrana polimérica permeável ou uma lâmina ou massa permeável de fibras ou filamentos poliméricos. Adicionalmente, o meio filtrante pode ter, por exemplo, uma estrutura de fibras plana, alveolar, plissada, enrolada em forma de espiral ou oca. A montagem de filtragem 11 pode incluir adicionalmente um alojamento 13 que encerra o meio filtrante 12, o meio filtrante 12 definindo um lado a montante 14 e um lado a jusante 15 dentro da montagem de filtragem 11. Antes do condicionamento, a montagem de filtragem 11, incluindo os poros e vazios dentro do meio filtrante 12, pode ser enchida com gás, por exemplo, ar ou um gás inerte tal como nitrogênio, ou com um líquido de pré-molhadura, por exemplo, uma solução incluindo água ou álcool. A montagem de filtragem 11 pode incluir adicionalmente uma entrada 20 e uma passagem 21 no lado a montante 14 do meio filtrante 12 espaçadas uma da outra e uma saída 22 no lado a jusante 14 do meio filtrante 12. A entrada, a passagem e a saída podem ser posicionadas em várias localizações na montagem de filtragem, incluindo o topo, fundo e/ou laterais. Nas modalidades ilustradas, cada uma de a entrada 20, a passagem 21 e a saída 22 pode ficar em cima do alojamento 13. O alojamento 13 pode definir um ou mais caminhos de fluxo dentro da montagem de filtragem 11, por exemplo, entre a entrada 20 e a passagem 21 e entre a entrada 20 e a saída 22. Para muitas modalidades, o meio filtrante 11 pode ter uma configuração de uma maneira geral cilíndrica oca, e uma tampa de extremidade sem saída 23 pode ser unida a uma extremidade do meio filtrante 12. A montagem de filtragem 11 pode ser arranjada para fluxo de fora para dentro do lado a montante 14 da montagem de filtragem 11 no exterior do meio filtrante 12 para o lado a jusante 15 da montagem de filtragem 11 no interior do meio filtrante 12. Alternativamente, a montagem de filtragem pode ser arranjada para fluxo de dentro para fora. Muitas montagens de filtragem diferentes podem ser condicionadas por meio de sistemas e métodos incorporando a invenção, incluindo montagens de filtragem disponíveis pela Pall Corporation de Port Washington, Nova York, USA, por exemplo, sob a designação comercial EZD.
Um de muitos exemplos diferentes de uma modalidade de um sistema de condicionamento 10 está mostrado na figura 1. O sistema de condicionamento 10 pode incluir um fornecimento de líquido de purgação 24 que pode ser acoplável à entrada 20 da montagem de filtragem 11 em uma variedade de modos. Por exemplo, uma linha de entrada 25 pode se estender entre o fornecimento de líquido de purgação 24 e a entrada 20 da montagem de filtragem 11. Uma fonte de pressão 26 pode ser arranjada para impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada de montagem de filtragem 20, por exemplo, ao longo da linha de entrada 25. O sistema de condicionamento 10 também pode incluir um reservatório de resíduos 30 acoplável à passagem 21 e à saída 22 da montagem de filtragem 11 em qualquer um de uma variedade de modos. Por exemplo, uma linha de passagem 31 e a linha de saída 32 separadas podem se estender entre o reservatório de resíduos 30 e a passagem 21 e a saída 22, respectivamente, da montagem de fil- tragem 11.0 sistema de condicionamento 10 pode incluir adicionalmente uma válvula de entrada 33, uma válvula de passagem 34 e uma válvula de saída 35. A válvula de entrada 33, a válvula de passagem 34 e a válvula de saída 35 podem ser associadas operacionalmente com a entrada 20, a passagem 21 e com a saída 22, respectivamente, da montagem de filtragem 11 para abrir e fechar a entrada 20, a passagem 21 e a saída 22. Embora parte do processamento possa ser feito manualmente, em muitas modalidades o sistema de condicionamento 10 inclui adicionalmente um controlador 36 conectado a um ou mais dos componentes para controlar o condicionamento da montagem de filtragem 11. Por exemplo, no sistema de condicionamento 10 da figura 1, o controlador 36 pode ser conectado à fonte de pressão 26, à válvula de entrada 33, à válvula de passagem 34 e à válvula de saída 35.
Os componentes do sistema de condicionamento 10 podem ser configurados em qualquer um de inúmeros modos. Por exemplo, o fornecimento de líquido de purgação pode ser configurado variavelmente, por exemplo, como um tanque ou tambor retendo uma grande quantidade de líquido de purgação ou um recipiente menor, incluindo um recipiente flexível, que contenha uma quantidade menor de líquido de purgação. Vários recipientes para fornecer líquido de purgação podem ser adequados, incluindo muitos dos recipientes, reservatórios e sacos contendo líquido de dispensação, tal como identificado na publicação do pedido de patente Estados Unidos US 2005/0173458 A1. Qualquer um de inúmeros líquidos de purgação pode ser contido no fornecimento de líquido de purgação. Um líquido de purgação pode ser qualquer líquido compatível com o produto químico a ser filtrado pela montagem de filtragem, incluindo o próprio produto químico, um ou mais componentes, por exemplo, o componente principal, do produto químico, ou um solvente para o produto químico ou para o(s) componente(s). O produto químico e o líquido de purgação podem variar dependendo, por exemplo, do processo desejado dentro da indústria. Por exemplo, na indústria de fotolitografia, o produto químico a ser filtrado pode ser um produto químico fotorreativo, tal como um fotorresistente, um revestimento antirreflexão, ou qualquer outro produto químico pretendido para ser dispensado sobre uma pastilha de substrato. Para muitas modalidades, 0 líquido de purgação pode ser solvente para estes produtos químicos dispensáveis. Exemplos de tais solventes incluem, mas não estão limitados a estes, (S)-2-hidroxipropanoato de etila, acetato de 1-metoxi-2-propil, cicloexanona, acetato de butila, di-idrofuran-2(3H)-ona e 1 -metoxipropan-2-ol. A fonte de pressão pode ser configurada em uma variedade de modos para impulsionar o líquido de purgação para a entrada da montagem de filtragem. Em muitas modalidades a fonte de pressão fornece uma pressão aumentada ou uma pressão positiva na entrada da montagem de filtragem. Consequentemente, a fonte de pressão pode ser configurada como uma bomba e pode ficar localizado entre o fornecimento de líquido de purgação e a entrada de montagem de filtragem. Por exemplo, a bomba pode ficar localizada na linha de entrada. Alternativamente, uma bomba pode ficar localizada na passagem e/ou na saída ou a jusante delas, por exemplo, na linha de passagem e/ou na linha de saída, para aplicar uma pressão negativa na entrada da montagem de filtragem. A bomba pode ser configurada variavelmente, por exemplo, como uma bomba de deslocamento positivo de baixo cisalha-mento e pequeno volume. Alternativamente, a fonte de pressão pode compreender uma montagem de alimentação por gravidade ou um pressurizador pneumático ou mecânico. Para muitas modalidades, a fonte de pressão 26 pode compreender um pressurizador pneumático tais como aqueles disponíveis pela ATMI sob a designação comercial NOWPak. No pressurizador pneumático, o fornecimento de líquido de purgação pode ser um recipiente flexível ou saco cheio com líquido de purgação e localizado dentro de um recipiente de pressão. Um gás inerte tal como nitrogênio pode ser fornecido para o recipiente de pressão no exterior do recipiente flexível para impulsionar o líquido de purgação em uma taxa de fluxo desejada do recipiente flexível para a entrada da montagem de filtragem, por exemplo, ao longo da linha de entrada. O reservatório de resíduos 30 pode ser configurado em uma variedade de modos para receber líquido de purgação contaminado da montagem de filtragem 11. Por exemplo, o reservatório de resíduos pode ser uma linha de drenagem para receber e dispor de forma apropriada o líquido de purgação contaminado. Alternativamente, ele pode incluir um tanque ou tambor para receber e armazenar maiores quantidades, ou um recipiente fixo ou flexível para receber e armazenar menores quantidades, do líquido de purgação contaminado.
Qualquer uma de inúmeras válvulas é adequada para a válvula de entrada 33, a válvula de passagem 34 e para a válvula de saída 35 Uma ou mais das válvulas pode ser uma válvula de fluxo variável e pode ser usada para controlar fluxo de fluido para a montagem de filtragem e/ou a partir dela. Para muitas modalidades, entretanto, as válvulas podem ser válvulas binárias de ligar/desligar, por exemplo, válvulas de ligar/desligar de ação rápida, e fluxo de fluido pode ser controlado pela fonte de pressão 26. Cada válvula pode ser localizada em uma variedade de posições para abrir e fechar a entrada, passagem ou saída da montagem de filtragem. Por exemplo, a válvula de entrada 33 pode ser localizada na entrada 20 ou perto dela, por exemplo, na linha de entrada 25; a válvula de passagem 34 pode ser localizada na passagem 21 ou perto dela, por exemplo, na linha de passagem 31; e a válvula de saída 35 pode ser localizada na saída 22 ou perto dela, por exemplo, na linha de saída 32. O controlador 36 pode ser configurado em qualquer um de uma variedade de modos. Por exemplo, o controlador 36 pode ser um controlador eletrônico e pode incluir, por exemplo, um microprocessador ou uma matriz lógica, por exemplo, uma matriz lógica pro-gramável, para implementar as várias etapas envolvidas em condicionar a montagem de filtragem. O controlador pode ser uma unidade separada e pode ser localizado fisicamente com o restante do sistema de condicionamento ou com qualquer um dos outros componentes do sistema de condicionamento. Alternativamente, o controlador pode ser integrado a um sistema eletrônico maior para controlar um ou mais processos, por exemplo, os processos de dispensação, além de condicionar a montagem de filtragem. O controlador pode ser conectado a qualquer um dos componentes do sistema de condicionamento para receber e/ou enviar informação a respeito do sistema e/ou para regular as funções de um ou mais componentes do sistema de condicionamento. Por exemplo, o controlador 36 mostrado na figura 1 pode ser conectado à fonte de pressão 26 para controlar o fluxo de líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 da montagem de filtragem 11.0 controlador 36 também pode ser conectado à válvula de entrada 33, à válvula de passagem 34 e à válvula de saída 35 para abrir e fechar as válvulas e controlar fluxo através da montagem de filtragem 11. O sistema de condicionamento pode incluir um ou mais componentes adicionais, incluindo, por exemplo, sensores, tais como sensores de pressão, sensores de temperatura, sensores de fluxo e sensores de nível, para fornecer informação adicional a respeito do sistema. Os componentes adicionais também podem incluir outros dispositivos, tais como amortecedores, desgaseificadores, armadilhas para bolha e filtros, para executar funções auxiliares dentro do sistema. Por exemplo, um sensor de pressão e/ou sensor de fluxo podem ser localizados na linha de entrada e/ou na linha de saída para fornecer informação de pressão ou de fluxo associada com a entrada e/ou a saída da montagem de filtragem; um amortecedor, um desgaseificador e/ou um filtro podem ser localizados na linha de entrada para executar funções auxiliares a montante da entrada da montagem de filtragem; e/ou um armadilha para bolha pode ser localizada na linha de saída para executar uma função auxiliar a jusante da saída da montagem de filtragem. Métodos para condicionar uma montagem de filtragem de acordo com um ou mais aspectos da invenção também podem ser incorporados em qualquer um de inúmeros modos. Após uma montagem de filtragem ter sido instalada em um sistema de condicionamento incorporando a invenção, a montagem de filtragem pode ser condicionada, de acordo com qualquer um destes métodos, e o controlador de sistema pode ser programado de acordo com as etapas, e as sequências de etapas, descritas para qualquer um destes métodos.
Um de muitos exemplos diferentes de uma modalidade de um método de condicionamento pode incluir, em um primeiro estágio, abrir a entrada 20 e a passagem 21, por exemplo, da montagem de filtragem 11 mostrada na figura 1, e fechar a saída 22. Para muitas modalidades, abrir a entrada 20, abrir a passagem 21 e fechar a saída 22 pode incluir abrir a válvula de entrada 33, abrir a válvula de passagem 34 e fechar a válvula de saída 35, respectivamente, sob o comando do controlador 36. Com a entrada 20 e a passagem 21 abertas e a saída 22 fechada, líquido de purgação, por exemplo, um solvente tal como des- crito anteriormente, pode ser passado, por exemplo, em uma pressão de medidor positiva, pela entrada 20 aberta, ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 e através da passagem 21 aberta. Por exemplo, sob o comando do controlador 36 a fonte de pressão 26 pode aumentar a pressão na entrada 20 da montagem de filtragem 11 em qualquer um de uma variedade de modos para impulsionar o líquido de purgação através da montagem de filtragem 11 ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12. Para muitas modalidades, o fornecimento de líquido de purgação 24 pode ser um recipiente flexível e a fonte de pressão 26 pode ser um pressurizador pneumático. O controlador 36 pode controlar a fonte de pressão 26 para aplicar um gás inerte, por exemplo, nitrogênio, contra o exterior do recipiente flexível 24 e impulsionar o líquido de purgação do recipiente flexível 24 pela entrada 20 aberta, por exemplo, ao longo da linha de entrada 25 e através da válvula de entrada 33 aberta. O líquido de purgação pode ser passado pela entrada 20 aberta em uma taxa de fluxo que permite ao líquido de purgação fluir para a parte inferior da montagem de filtragem 11 e se elevar ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 em um modo que desloca qualquer gás ou qualquer líquido de pré-molhadura na montagem de filtragem 11 no lado a montante 14 do meio filtrante 12 através da passagem 21 aberta à frente do líquido de purgação se elevando. O fluxo ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 pode ser não turbulento, pelo menos inicialmente, para reduzir qualquer mistura do gás ou líquido de pré-molhadura com o líquido de purgação. Esta taxa de fluxo pode depender de muitos fatores, incluindo o tamanho da montagem de filtragem, por exemplo, dos canais de fluxo dentro da montagem de filtragem. Para muitas modalidades, incluindo modalidades para uso com montagens de filtragem pretendidas para a indústria microeletrônica, a taxa de fluxo de líquido de purgação pela entrada 20 aberta, por exemplo, pode estar na faixa de cerca de 20 mL/min ou menos a cerca de 100 mL/min ou mais.
Uma vez que o líquido de purgação tenha deslocado qualquer gás ou líquido de pré-molhadura do lado a montante 14 do meio filtrante 12, fluxo do líquido de purgação pela entrada 20 aberta pode continuar e a taxa de fluxo pode ser aumentada ou não para remover adicionalmente contaminantes, incluindo particulados ou outras substâncias desprendidas ou lixiviadas, do lado a montante 14 do meio filtrante 12 ou do lado de dentro do alojamento 13 pela entrada 20 aberta. Por exemplo, sob o comando do controlador 36 a fonte de pressão 26 pode aumentar adicionalmente a pressão na entrada 20 da montagem de filtragem 11. Para muitas modalidades, incluindo modalidades pretendidas para a indústria microeletrônica, o volume total de líquido de purgação passado pela entrada 20 aberta ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 e através da passagem 21 aberta no primeiro estágio, por exemplo, pode estar na faixa de cerca de 100 mL ou menos a cerca de 300 ml_ ou mais.
Para muitas modalidades, líquido de purgação e contaminantes saindo da monta- gem de filtragem 11 através da passagem 21 aberta no primeiro estágio do método de condicionamento podem ser direcionados para o reservatório de resíduos 30. Por exemplo, sob o comando do controlador 36 o líquido de purgação e contaminantes do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 podem ser impulsionados através da passagem 21 aberta para o reservatório de resíduos 30 pela fonte de pressão 26, por exemplo, por meio da válvula de passagem 34 aberta e da linha de passagem 31. No final do primeiro estágio, o lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 pode ficar cheio com líquido de purgação e livre de contaminantes. O método de condicionamento pode incluir adicionalmente, em um segundo estágio do método de condicionamento, abrir a entrada 20, abrir a saída 22 e fechar a passagem 21 da montagem de filtragem 11. De novo, abrir a entrada 20, abrir a saída 22 e fechar a passagem 21 pode incluir abrir a válvula de entrada 33, abrir a válvula de saída 35 e fechar a válvula de passagem 34 sob o comando do controlador 36. Com a entrada 20 e a saída 22 abertas e a passagem 21 fechada, líquido de purgação pode ser passado, por exemplo, em uma pressão de medidor positiva, em uma primeira fase do segundo estágio em uma primeira taxa de fluxo pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 do lado a montante 14 para o lado a jusante 15, ao longo do lado a jusante 15 do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta. Por exemplo, sob o comando do controlador 36 a fonte de pressão 26 pode aumentar a pressão na entrada 20 da montagem de filtragem 11 em qualquer um de uma variedade de modos para impulsionar líquido de purgação através do meio filtrante 12 para a saída 22 aberta. De novo, para muitas modalidades, o controlador 36 pode controlar a fonte de pressão 26 para fornecer um gás inerte contra o exterior de um recipiente flexível 24 e impulsionar o líquido de purgação do recipiente flexível 24 pela entrada 20 aberta, por exemplo, ao longo da linha de entrada 25 e através da válvula de entrada 33 aberta, na primeira taxa de fluxo. A primeira taxa de fluxo na primeira fase do segundo estágio pode capacitar o líquido de purgação para fluir lentamente o suficiente através do meio filtrante 12 para encher inteiramente o meio filtrante. A pressão na entrada 20 aberta pode ser mantida por um tempo suficiente para permitir que líquido de purgação difunda para dentro de todos os poros e vazios no meio filtrante 12, deslocando assim todo o gás ou líquido de pré-molhadura destes poros e vazios que de outro modo podem permanecer presos no meio filtrante 12. À medida que o líquido de purgação atravessa o meio filtrante 12, a primeira taxa de fluxo também pode capacitar o líquido de purgação para encher o lado a jusante 15 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 da parte inferior para cima em um modo que desloca qualquer gás ou líquido de pré-molhadura à frente do líquido de purgação e pela saída 22 aberta. A primeira taxa de fluxo pode capacitar um perfil de fluxo não turbulento a fim de reduzir qualquer mistura do gás ou líquido de pré-molhadura com o líquido de purgação.
Adicionalmente, a primeira taxa de fluxo pode depender de muitos fatores, incluindo o tamanho da montagem de filtragem e as características, por exemplo, a classificação de remoção, do meio filtrante. Para muitas modalidades, incluindo modalidades usadas na indústria microeletrônica onde o meio filtrante pode ter uma classificação de remoção de cerca de 0,05 micro ou menor, a primeira taxa de fluxo do líquido de purgação na primeira fase do segundo estágio, por exemplo, pode estar na faixa de cerca de 20 mL/min ou menos a cerca de 100 mL/min ou mais.
Uma vez que o líquido de purgação tenha deslocado todo o gás ou líquido de pré-molhadura dos poros e vazios do meio filtrante 12 e o gás ou líquido de pré-molhadura tenha sido deslocado do lado a jusante 15 do meio filtrante 12, a taxa de fluxo do líquido de purgação pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta pode ser aumentada para uma segunda taxa de fluxo em uma segunda fase do segundo estágio, a segunda taxa de fluxo sendo maior que a primeira taxa de fluxo. Por exemplo, sob o comando do controlador 36 a fonte de pressão 26 pode aumentar adicionalmente a pressão de medidor na entrada 20 da montagem de filtragem 11, impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 aberta em uma taxa de fluxo maior. A segunda taxa de fluxo maior leva contaminantes, incluindo particulados ou outras substâncias desprendidas ou lixiviadas do meio filtrante assim como qualquer gás remanescente ou líquido de pré-molhadura, da montagem de filtragem 11 muito mais efetivamente do que a primeira taxa de fluxo menor. A segunda taxa de fluxo pode depender de muitos dos mesmos fatores dos quais depende a primeira taxa de fluxo. Para muitas modalidades, incluindo modalidades usadas na indústria microeletrônica, a segunda taxa de fluxo pode estar na faixa até cerca de 500 mL/min ou mais, incluindo de cerca de 50 mL/min ou menos a cerca de 500 mL/min ou mais. Adicíonalmente, o volume total de líquido de purgação passado pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta durante o segundo estágio, por exemplo, pode estar na faixa de cerca de 250 mL ou menos a cerca de 1.000 mL ou mais, uma parte significativa do volume total, por exemplo, 5% a cerca de 25% ou mais, sendo passada através da montagem de filtragem 11 na segunda fase do segundo estágio. Líquido de purgação e contaminantes saindo da montagem de filtragem 11 pela saída 22 aberta em ambas as primeira e segunda fases do segundo estágio do método de condicionamento da figura 1 podem ser direcionados para o reservatório de resíduos 30. Por exemplo, sob o comando do controlador 36, o líquido de purgação e contaminantes de dentro do meio filtrante 12 e do lado a jusante 15 do meio filtrante dentro da montagem de filtragem 11 podem ser impulsionados pela saída 22 aberta para o reservatório de resíduos 30 pela fonte de pressão 26, por exemplo, por meio da válvula de saída 35 aberta e da linha de saída 32. No final do segundo estágio, a montagem de filtragem total 11 pode ficar cheia com líquido de purgação e livre de contaminantes. A montagem de filtragem pode então ser removida do sistema de condicionamento. A entrada, saída e a passagem podem ser seladas, permitindo que a montagem de filtragem seja armazenada e/ou expedida cheia com líquido de purgação e livre de contaminantes. Alternativamente ou de forma adicional, o líquido de purgação pode ser deslocado da montagem de filtragem, por exemplo, pelo produto químico a ser filtrado e a montagem de filtragem pode ser colocada no serviço para filtrar o produto químico.
Outras modalidades do sistema de condicionamento 10 e de métodos de condicionamento estão ilustradas na figura 2. O sistema de condicionamento 10 da figura 2 pode ser muito similar ao sistema de condicionamento 10 da figura 1 e componentes análogos são identificados pelos mesmos números de referência. O sistema de condicionamento 10 da figura 2 de forma similar pode incluir um fornecimento de líquido de purgação 24 que pode ser acoplável à entrada 20 de uma montagem de filtragem 11 em qualquer um dos modos descritos anteriormente, por exemplo, por meio de uma linha de entrada 25. Uma fonte de pressão 26 pode ser arranjada de forma similar para impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 da montagem de filtragem, por exemplo, sob o controle de um controlador 36 conectado à fonte de pressão 26. Uma válvula de entrada 33, uma válvula de passagem 34 e uma válvula de saída 35 de forma similar podem ser associadas operacionalmente com a entrada 20, a passagem 21 e com a saída 22, respectivamente, da montagem de filtragem 11 e conectadas ao controlador 36. O sistema de condicionamento 10 também pode incluir um reservatório de resíduos 30 acoplado de forma similar à passagem 21 e à saída 22 da montagem de filtragem 11, por exemplo, por meio da linha de passagem 32 e da linha de saída 33.
Além do mais, o sistema de condicionamento 10 da figura 2 pode incluir um dispositivo de vácuo 40 para arrastar líquido de purgação para a entrada 20 aberta da montagem de filtragem 11 pela saída 22 aberta, por exemplo, em uma pressão negativa de medidor. O dispositivo de vácuo pode ser configurado em uma variedade de modos. Por exemplo, o dispositivo de vácuo 40 pode incluir uma montagem edutora e pode arrastar por meio de vácuo líquido de purgação para a entrada 20 aberta. O dispositivo de vácuo 40 pode ser conectado ao controlador 36 e pode ser acoplado ao sistema de condicionamento 10 em uma variedade de localizações. Por exemplo, o dispositivo de vácuo 40 pode ser acoplado à saída 22 da montagem de filtragem 11 para diminuir a pressão na saída 22 e arrastar líquido de purgação através da montagem de filtragem 11 pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta. Na modalidade ilustrada, o dispositivo de vácuo 40 pode ser localizado na linha de saída 32, por exemplo, a jusante da válvula de saída 35. O método para condicionar a montagem de filtragem 11 da figura 2 pode ser muito similar ao método para condicionar a montagem de filtragem 11 da figura 1. Por exemplo, o primeiro estágio do método de condicionamento da figura 2 pode ser muito similar ao primeiro estágio do método de condicionamento da figura 1 tal como descrito anteriormente. Para muitas modalidades, no primeiro estágio o dispositivo de vácuo 40 pode ser incapacitado, a entrada 20 e a passagem 21 podem ser abertas, a saída 22 pode ser fechada, e líquido de purgação pode ser passado do fornecimento de líquido de purgação 24, pela entrada 20 aberta, ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 e através da passagem 21 aberta para o reservatório de resíduos 30. Por exemplo, sob o comando do controlador 36, a válvula de entrada 33 e a válvula de passagem 34 podem ser abertas, a válvula de saída 35 pode ser fechada, e a fonte de pressão 26 pode aumentar a pressão na entrada 20 aberta, impulsionando líquido de purgação para dentro da montagem de filtragem 11.0 líquido de purgação e quaisquer contaminantes no lado a montante 14 do meio filtrante 12 na a montagem de filtragem 11 saem pela passagem 21 aberta e são impulsionados para o reservatório de resíduos 30 tal como descrito anteriormente. No final do primeiro estágio, o lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 pode ficar cheio com líquido de purgação e livre de contaminantes.
No segundo estágio do método de condicionamento da figura 2, a entrada 20 e a saída 22 podem ser abertas e a passagem 21 pode ser fechada, tal como descrito anteriormente, e na primeira fase do segundo estágio o líquido de purgação pode ser passado através da montagem de filtragem na primeira taxa de fluxo, tal como descrito anteriormente. Entretanto na primeira fase do segundo estágio, o dispositivo de vácuo 40 e a fonte de pressão 26 podem ser arranjados para fornecer uma pressão na saída 22 aberta da montagem de filtragem 11 que seja menor que pressão atmosférica. Por exemplo, a fonte de pressão 26 pode fornecer pouco ou nenhum aumento em pressão na entrada 20 aberta acima da pressão atmosférica, enquanto que o dispositivo de vácuo 40 pode diminuir a pressão na saída 22 aberta para abaixo da pressão atmosférica, por exemplo, até cerca de menos 12 psig (82,74 kPa) ou menos. Para muitas modalidades, o controlador 36 pode direcionar a fonte de pressão 26 para aplicar pouca ou nenhuma pressão aumentada acima da pressão atmosférica no exterior do recipiente flexível 24 contendo o líquido de purgação, enquanto que o dispositivo de vácuo 40, sob o comando do controlador 36, diminui a pressão na saída 22 aberta para abaixo da pressão atmosférica.
Nesta primeira fase do segundo estágio, o líquido de purgação pode ser arrastado do fornecimento de líquido de purgação 24, por exemplo, ao longo da linha de entrada 31 e através da válvula de entrada 33 aberta, para a montagem de filtragem 11 pelo dispositivo de vácuo 40, por exemplo, sob o comando do controlador 36. O líquido de purgação pode então ser arrastado pela entrada 20 aberta na primeira taxa de fluxo, através do meio filtrante 12 do lado a montante 14 para o lado a jusante 15, ao longo do lado a jusante 15 do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta. A primeira taxa de fluxo pode capacitar um perfil de fluxo não turbulento e pode permitir que o líquido de purgação flua lentamente o suficiente através do meio filtrante 12 para encher todos os poros e vazios, deslocando gás ou líquido de pré-molhadura dos poros e vazios, tal como descrito anteriormente com relação à figura 1. Ao fornecer uma pressão menor que pressão atmosférica na saída 22 aberta, o dispositivo de vácuo 40 aprimora adicionalmente a remoção de gás ou de líquido de pré-molhadura dos poros e vazios do meio filtrante 12. O “arrastar” do dispositivo de vácuo 40 pode combinar com o “empurrar” do líquido de purgação de entrada para remover mais inteiramente o gás ou líquido de pré-molhadura dos poros e vazios do meio filtrante 12 e é especialmente efetivo para os pequenos poros e vazios de meios filtrantes tendo uma classificação de remoção de cerca de 0,05 micro ou menor. Do meio filtrante 12, o líquido de purgação pode encher o lado a jusante 13 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11, por exemplo, da parte inferior para cima, forçando ar ou líquido de pré-molhadura pela saída 22 aberta à frente do líquido de purgação.
Após o líquido de purgação ter deslocado o gás ou líquido de pré-molhadura dos poros e vazios do meio filtrante 12 e do lado a jusante 15 do meio filtrante 12, a taxa de fluxo do líquido de purgação pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta pode ser aumentada para a segunda taxa de fluxo maior na segunda fase do segundo estágio do método de condicionamento. A segunda fase do segundo estágio do método de condicionamento da figura 2 pode incluir incapacitar o dispositivo de vácuo 40, mas de outro modo pode ser virtualmente idêntica à segunda fase descrita anteriormente do segundo estágio do método de condicionamento da figura 1. Por exemplo, o dispositivo de vácuo 40 pode ser incapacitado e a fonte de pressão 26 pode aumentar a pressão na entrada aberta 22 da montagem de filtragem 11 para estabelecer a segunda taxa de fluxo maior, por exemplo, sob o comando do controlador 36. Mais líquido de purgação é então impulsionado na segunda taxa de fluxo maior do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 aberta, o que remove mais efetivamente contaminantes da montagem de filtragem 11, tal como descrito anteriormente com relação à figura 1. Líquido de purgação e contaminantes saindo pela saída 22 aberta da montagem de filtragem 11 em ambas as primeira e segunda fases do segundo estágio do método de condicionamento da figura 2 podem ser direcionados para o reservatório de resíduos 30, por exemplo, por meio da saída aberta válvula 35 e da linha de saída 32 sob o comando do controlador 36, tal como descrito anteriormente. No final do segundo estágio, a montagem de filtragem total pode ficar cheia com líquido de purgação e livre de contaminantes e pode ser preparada para expedição, armazenamento ou uso tal como descrito anteriormente.
Outras modalidades dos sistemas de condicionamento 10 e de métodos de condicionamento estão ilustradas na figura 3. O sistema de condicionamento 10 da figura 3 pode ser muito similar aos sistemas de condicionamento 10 das figuras 1 e 2, e componentes análogos são identificados pelos mesmos números de referência. O sistema de condicionamento da figura 3 de forma similar pode incluir um fornecimento de líquido de purgação 24 que pode ser acoplável à entrada 20 de uma montagem de filtragem 11 em qualquer um dos modos descritos anteriormente, por exemplo, por meio de uma linha de entrada 25. Uma fonte de pressão 26 pode ser arranjada de forma similar para impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 da montagem de filtragem 11, por exemplo, sob o controle de um controlador 36 acoplado à fonte de pressão 26. Uma válvula de entrada 33, uma válvula de passagem 34 e uma válvula de saída 35 de forma similar podem ser associadas operacionalmente com a entrada 20, a passagem 21 e com a saída 22, respectivamente, da montagem de filtragem 11 e conectadas ao controlador 36. O sistema de condicionamento 10 também pode incluir um reservatório de resíduos 30 acoplado à passagem 21 e à saída 22 da montagem de filtragem 11, por exemplo, por meio da linha de passagem 32 e de uma linha de saída 33. Adicionalmente, o sistema de condicionamento 10 da figura 3 também pode incluir um dispositivo de vácuo 40 acoplado à saída 22, por exemplo, por meio da linha de saída 35, e conectado ao controlador 36 similar ao dispositivo de vácuo 40 mostrado na figura 2.
Além do mais, o sistema de condicionamento 10 da figura 3 pode incluir um recipiente 41, por exemplo, um segundo recipiente, capaz de conter líquido de purgação. O segundo recipiente 41 pode ser configurado variavelmente, por exemplo, como um recipiente fixo ou flexível, e pode ser acoplado à saída 22 da montagem de filtragem 11 em uma variedade de modos. Por exemplo, o segundo recipiente 41 pode ser acoplado à saída 22 da montagem de filtragem 11 por meio de uma linha de recuperação 42 e de um arranjo de válvulas de saída 43, 44 conectando a linha de recuperação 42 à linha de saída 32. Para modalidades que incluem um dispositivo de vácuo 40, a linha de recuperação 42 pode ser conectada à linha de saída 32 a montante, tal como mostrado na figura 3, ou a jusante do dispositivo de vácuo 40. O arranjo de válvulas de saída 43, 44, o qual pode ser conectado ao controlador 36, pode ser ativado para direcionar líquido de purgação da saída 22 aberta da montagem de filtragem 11 para o reservatório de resíduos 30 ou para o segundo recipiente 41.
Os métodos para condicionar a montagem de filtragem 11 da figura 3 podem ser muito similares aos métodos para condicionar a montagem de filtragem 11 das figuras 1 ou 2. Por exemplo, o primeiro estágio do método de condicionamento da figura 3 pode ser virtualmente idêntico ao primeiro estágio do método de condicionamento da figura 1 ou 2, tal como descrito anteriormente. Para muitas modalidades, no primeiro estágio o dispositivo de vácuo 40 pode ser incapacitado, a entrada 20 e a passagem 21 da montagem de filtragem 11 podem ser abertas, a saída 22 pode ser fechada, e líquido de purgação pode ser passa- do do fornecimento de líquido de purgação 24, pela entrada 20 aberta, ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 e através da passagem 21 aberta para o reservatório de resíduos 30. Por exemplo, sob o comando do controlador 36, a válvula de entrada 33 e a válvula de passagem 34 podem ser abertas, a válvula de saída 35 pode ser fechada, e a fonte de pressão 26 pode aumentar a pressão na entrada 20 aberta, passando líquido de purgação para a entrada 20 aberta e levando líquido de purgação e quaisquer contaminantes no lado a montante 14 do meio filtrante 12 através da passagem 21 aberta para o reservatório de resíduos 30, tal como descrito anteriormente. No final do primeiro estágio, o lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 pode ficar cheio com líquido de purgação e livre de contaminantes. O segundo estágio do método de condicionamento da figura 3 pode ser virtualmente idêntico ao segundo estágio do método de condicionamento da figura 2. A entrada 20 e a saída 22 da montagem de filtragem 11 podem ser abertas e a passagem 21 pode ser fechada. Por exemplo, sob o comando do controlador 36, a válvula de entrada 33 e a válvula de saída 35 podem ser abertas e a válvula de passagem 34 pode ser fechada. Adicionalmente, a fonte de pressão 26 e o dispositivo de vácuo 40 podem ser arranjados para fornecer uma pressão na saída 22 aberta que seja menor que a pressão atmosférica, tal como descrito anteriormente. Entretanto, antes de o líquido de purgação ser passado pela entrada 20 aberta da montagem de filtragem 11 na primeira fase do segundo estágio, o arranjo de válvulas de saída 43, 44, por exemplo, sob o comando do controlador 36, pode ser ativado para fechar a linha de recuperação 42 e abrir a linha de saída 32 entre o arranjo de válvulas de saída 43, 44 e o reservatório de resíduos 30. O líquido de purgação pode então ser arrastado pelo dispositivo de vácuo 40 do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 aberta da montagem de filtragem 11 e passado adicionalmente na primeira taxa de fluxo pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 do lado a montante 14 para o lado a jusante 15, ao longo do lado a jusante 15 do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta, tal como descrito anteriormente com relação à figura 2. Contaminantes, incluindo gás ou líquido de pré-molhadura, no meio filtrante 12 e no lado a jusante 15 do meio filtrante 12 são efetivamente deslocados e/ou transportados da montagem de filtragem 11 pela saída 22 aberta. Da saída 22 aberta o líquido de purgação e os contaminantes podem ser direcionados para o reservatório de resíduos 30 durante a primeira fase do segundo estágio. Por exemplo, o arranjo de válvulas de saída 43, 44, sob o comando do controlador 36, pode direcionar o líquido de purgação e os contaminantes para o reservatório de resíduos 30 por meio da linha de saída 32.
Após o líquido de purgação ter deslocado o gás ou líquido de pré-molhadura dos poros e vazios do meio filtrante 12 e do lado a jusante 15 do meio filtrante 12, a taxa de fluxo do líquido de purgação pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta pode ser aumentada para a segunda taxa de fluxo maior na segunda fase do segundo estágio do método de condicionamento. A segunda fase do segundo estágio do método de condicionamento da figura 3 pode ser virtualmente idêntica à segunda fase do segundo estágio do método de condicionamento da figura 2. Por exemplo, o dispositivo de vácuo 40 pode ser incapacitado e a fonte de pressão 26 pode aumentar a pressão na entrada aberta 22 da montagem de filtragem 11 para estabelecer a segunda taxa de fluxo maior, por exemplo, sob o comando do controlador 36. Líquido de purgação é então impulsionado na segunda taxa de fluxo maior do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 aberta da montagem de filtragem 11, o que remove mais efetivamente contaminantes da montagem de filtragem 11, tal como descrito anteriormente com relação às figuras 1 e 2.
Além do mais, o método de condicionamento da figura 3 inclui adicionalmente direcionar líquido de purgação da saída 22 aberta da montagem de filtragem 11 para o segundo recipiente 41, e para longe do reservatório de resíduos 30, durante a segunda fase do segundo estágio. Por exemplo, durante a segunda fase do segundo estágio, o arranjo de válvulas de saída 43, 44 pode ser ativado, por exemplo, sob o comando do controlador 36, para fechar a linha de saída 32 a jusante do arranjo de válvulas de saída 43, 44 e abrir a linha de recuperação 42. Líquido de purgação passa então da saída 22 aberta da montagem de filtragem 11 para o segundo recipiente 41, por exemplo, por meio da linha de saída 32 e da linha de recuperação 42. Para muitas modalidades, após um volume suficiente de líquido de purgação ter passado através da montagem de filtragem 11 e pelo meio filtrante 12 na segunda taxa de fluxo, virtualmente todos os contaminantes terão sido removidos do meio filtrante 12 e do lado a jusante 15 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11. Continuação do fluxo do líquido de purgação na segunda taxa de fluxo pode ser benéfica para remover quaisquer contaminantes isolados remanescentes, mas de uma maneira geral o líquido de purgação saindo nesta hora pela saída 22 aberta está substancialmente livre de contaminante e pode ser recuperado no segundo recipiente 41. O volume suficiente de líquido de purgação que pode ser passado através da montagem de filtragem 11 durante a segunda fase do segundo estágio para tornar a montagem de filtragem 11, incluindo o meio filtrante 12, virtualmente livre de contaminantes pode variar, dependendo, por exemplo, do tamanho e limpeza da montagem de filtragem 11 e das características, por exemplo, a classificação de remoção, do meio filtrante 12, e pode ser determinado empiricamente para qualquer dada montagem de filtragem 11. Para muitas modalidades, cerca de 5% ou menos a cerca de 25% ou mais da quantidade total de líquido de purgação passado através da montagem de filtragem 11 durante a segunda fase do segundo estágio do método de condicionamento pode ser recuperada no segundo recipiente 41. No final do segundo estágio, a montagem de filtragem total pode ficar cheia com líquido de purgação e livre de contaminantes e pode ser preparada para expedição, armazenamento ou uso tal como descrito anteri- ormente. Além do mais, uma parte significativa do líquido de purgação fornecido pelo fornecimento de líquido de purgação pode ser recuperada no segundo recipiente. O método de condicionamento da figura 3 pode incluir adicionalmente reutilizar o líquido de purgação recuperado no segundo recipiente 41. Por exemplo, o segundo recipiente 41 pode ser acoplado à entrada aberta de uma nova a montagem de filtragem 11 instalada no sistema de condicionamento 10 da figura 3. Para algumas modalidades, o segundo recipiente 41 contendo o líquido de purgação recuperado pode substituir um fornecimento de líquido de purgação 24 esgotado, por exemplo, um primeiro recipiente esgotado, na fonte de pressão 26. O segundo recipiente pode então ser acoplado à entrada 20 da nova montagem de filtragem 11, por exemplo, por meio da linha de entrada 25, e um filtro, por exemplo, um filtro tendo uma classificação de remoção similar à classificação de remoção do meio filtrante na nova montagem de filtragem 11, pode ser colocado na linha de entrada 25. Além do mais, um segundo recipiente 41 vazio pode ser acoplado à saída 22 da montagem de filtragem 11, por exemplo, no final da linha de recuperação 42. A fonte de pressão 26, por exemplo, sob o comando do controlador 36, pode então impulsionar o líquido de purgação recuperado no segundo recipiente para a entrada 20 aberta da nova montagem de filtragem 11 para condicionar a nova montagem de filtragem 11.0 filtro (não mostrado) na linha de entrada 25 pode remover quaisquer contaminantes encontrados do líquido de purgação recuperado. Uma parte significativa do líquido de purgação recuperado pode ser de novo recuperada no segundo recipiente 41 vazio acoplado à linha de recuperação 42.
Outras modalidades dos sistemas de condicionamento 10 e de métodos de condicionamento estão ilustradas na figura 4. O sistema de condicionamento 10 da figura 4 pode ser muito similar aos sistemas de condicionamento 10 das figuras 1, 2 e 3, e componentes análogos são identificados pelos mesmos números de referência. O sistema de condicionamento 10 da figura 4 pode incluir um fornecimento de líquido de purgação 24, por exemplo, um primeiro recipiente, o qual pode ser acoplável à entrada 20 de uma montagem de filtragem 11 em qualquer um dos modos descritos anteriormente, por exemplo, por meio de uma linha de entrada 25. Uma primeira fonte de pressão 26 pode ser arranjada para impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação 24 para a entrada 20 da montagem de filtragem 11, por exemplo, sob o controle de um controlador 36 acoplado à primeira fonte de pressão 26. Uma válvula de entrada 33, uma válvula de passagem 34 e uma válvula de saída 35 podem ser associadas operacionalmente com a entrada 20, a passagem 21 e com a saída 22, respectivamente, da montagem de filtragem 11 e conectadas ao controlador 36. O sistema de condicionamento 10 pode incluir adicionalmente um reservatório de resíduos 30, um dispositivo de vácuo 40 e um segundo recipiente 41 capaz de conter líquido de purgação. O reservatório de resíduos 30 pode ser acoplado à passagem 21 e à saída 22 da montagem de filtragem 11, por exemplo, por meio de uma linha de passagem 31 e de uma linha de saída 32. O dispositivo de vácuo 40 pode ser acoplado à saída 22 da montagem de filtragem 11, por exemplo, por meio da linha de saída 32, e conectado ao controlador 36. O segundo recipiente 41 pode ser acoplado à saída 22 da montagem de filtragem, por exemplo, por meio de um arranjo de válvulas de saída 43, 44 e de uma linha de recuperação 42.
Além do mais, o sistema de condicionamento 10 da figura 4 pode incluir uma segunda fonte de pressão 45 para impulsionar líquido de purgação do segundo recipiente 41. A segunda fonte de pressão 45 pode ser configurada em uma variedade de modos similares àqueles da primeira fonte de pressão 26. Por exemplo, a segunda fonte de pressão 45 pode ser um pressurizador pneumático e pode ser acoplada ao controlador 36. O segundo recipiente 41 pode ser um recipiente flexível disposto dentro da segunda fonte de pressão 45, e a segunda fonte de pressão 45 pode ser arranjada para aplicar um gás inerte tal como nitrogênio ao exterior do segundo recipiente flexível, por exemplo, sob o comando do controlador 36, tal como descrito anteriormente com relação à primeira fonte de pressão 26. Um arranjo de válvulas de recuperação 50, 51 pode ser acoplado entre a linha de recuperação 42 e os primeiro e segundo recipientes 24, 41 para conectar um recipiente 24, 41 de cada vez à linha de recuperação 42 e isolar o outro recipiente 41, 24 da linha de recuperação 42. Um arranjo de válvulas de entrada 52, 53 pode ser acoplado entre a linha de entrada 25 e os primeiro e segundo recipientes 24, 41 para conectar um recipiente 24, 41 de cada vez à linha de entrada 25 e isolar o outro recipiente 41, 24 da linha de entrada 25. Tanto o arranjo de válvulas de recuperação 50, 51 quanto o arranjo de válvulas de entrada 52, 53 podem ser acoplados ao controlador 36 e podem ser arranjados para alternativamente 1) acoplar o primeiro recipiente 24 à linha de entrada 25 e não à linha de recuperação 42 enquanto que o segundo recipiente 41 está acoplado à linha de recuperação 42 e não à linha de entrada 25 e 2) acoplar o segundo recipiente 41 à linha de entrada 25 e não à linha de recuperação 42 enquanto que o primeiro recipiente 24 está acoplado à linha de recuperação 42 e não à linha de entrada 25. O sistema de condicionamento 10 da figura 4 pode assim condicionar uma pluralidade de montagens de filtragem individualmente por um período de tempo estendido em diversos ciclos. Em cada ciclo, o primeiro recipiente 24 fornece líquido de purgação para condicionar as montagens de filtragem 11 enquanto que o segundo recipiente 41 recupera uma parte do líquido de purgação e então o segundo recipiente 41 fornece líquido de purgação para condicionar as montagens de filtragem 11 enquanto que o primeiro recipiente 24 recupera uma parte do líquido de purgação. Um filtro 54, similar ao filtro descrito com relação à figura 3, pode ser disposto na linha de entrada 25 para remover contaminantes encontrados do líquido de purgação recuperado.
Os métodos de condicionamento da figura 4 podem ser muito similares aos métodos de condicionamento das figuras 1, 2 e 3. Por exemplo, os primeiro e segundo estágios do método de condicionamento da figura 4 podem ser virtualmente idênticos aos primeiro e segundo estágios do método de condicionamento da figura 3, tal como descrito anteriormente, com a adição de isolar um dos recipientes 41, 24 da linha de entrada 25 e isolar o outro dos recipientes 24, 41 da linha de recuperação 42. Por exemplo, o controlador 36 pode controlar o arranjo de válvulas de recuperação 50, 51 para conectar o segundo recipiente 41 à linha de recuperação 42 e isolar o segundo recipiente 41 da linha de entrada 25. O controlador 36 também pode controlar o arranjo de válvulas de entrada 52, 53 para conectar o primeiro recipiente 24 à linha de entrada e isolar o primeiro recipiente da linha de recuperação 42. Condicionamento de uma pluralidade das montagens de filtragem 11 pode então continuar em uma primeira metade de ciclo, uma montagem de filtragem 11 após uma outra sendo instaladas no sistema de condicionamento 10, submetidas aos primeiro e segundo estágios do método de condicionamento, e então removidas do sistema de condicionamento 10. A primeira fonte de pressão 26 pode impulsionar líquido de purgação do primeiro recipiente 24 para cada montagem de filtragem 11 durante primeiro e segundo estágios sucessivos do método de condicionamento até que o primeiro recipiente 24 esteja esgotado e o segundo recipiente 41 tenha recuperado uma parte significativa do líquido de purgação fornecido pelo primeiro recipiente 24.
Durante a segunda metade de ciclo, o segundo recipiente 41 contendo o líquido de purgação recuperado é acoplado à linha de entrada 25 e isolado da linha de recuperação 42 enquanto que o primeiro recipiente 24 é conectado à linha de recuperação 42 e isolado da linha de entrada 25, por exemplo, pela ação do arranjo de válvulas de recuperação 50, 51 e do arranjo de válvulas de entrada 52, 53 sob o controle do controlador 36. Condicionamento de uma pluralidade das montagens de filtragem 11 pode então continuar de forma similar na segunda metade de ciclo até que o segundo recipiente 41 esteja esgotado de líquido de purgação recuperado e o primeiro recipiente 24 tenha recuperado novamente uma parte significativa do líquido de purgação recuperado fornecido pelo segundo recipiente 41. O método de condicionamento da figura 4 pode então continuar os ciclos de condicionamento das montagens de filtragem 11 até que o líquido de purgação recuperado se torne muito contaminado para uso com segurança ou até que uma quantidade insuficiente de líquido de purgação seja recuperada.
Sistemas e métodos de condicionamento incorporando a invenção podem compreender adicionalmente preparar a montagem de filtragem condicionada para filtragem do produto químico. Sistemas preparatórios podem ser sistemas autônomos separados ou podem ser integrados a outros sistemas, incluindo os sistemas de condicionamento descritos anteriormente ou um sistema de dispensação. Um de muitos exemplos diferentes de um sistema preparatório 60 está mostrado na figura 5. De uma maneira geral, o sistema preparatório 60 pode incluir um fornecimento de gás inerte 61, por exemplo, uma fonte de gás de nitrogênio, acoplado à entrada 20 de uma montagem de filtragem condicionada 11 cheia com um líquido de purgação. O fornecimento de gás inerte 61 pode ser configurado variavelmente, por exemplo, como um tanque ou um recipiente. Na modalidade ilustrada o fornecimento de gás inerte 61 pode compreender uma linha de gás inerte acoplada de forma direta ou indireta à entrada 20 da montagem de filtragem condicionada 11, por exemplo, por meio da linha de entrada 25 a montante da válvula de entrada 33. Uma válvula de linha de gás 62, a qual pode ser acoplada a um controlador, tal como o controlador 36 dos sistemas de condicionamento, pode ser arranjada para acoplar ou isolar o fornecimento de gás inerte 61 à/da linha de entrada 25, por exemplo, sob o comando do controlador 36. O sistema preparatório 60 pode incluir adicionalmente um fornecimento de produto químico 63 que também pode ser configurado variavelmente, por exemplo, como um tanque ou uma linha ou, tal como mostrado na figura 5, um recipiente, por exemplo, um recipiente flexível. O fornecimento de produto químico 63 pode ser acoplado de forma direta ou indireta à entrada 20 da montagem de filtragem condicionada 11, por exemplo, por meio de uma linha de produto químico 64 conectada à linha de entrada 25 a montante da válvula de entrada 33. Uma válvula 65 na linha de produto químico 64 pode ser conectada ao controlador 36 e pode ser arranjada para acoplar ou isolar o fornecimento de produto químico 63 à/da linha de entrada 25, por exemplo, sob o comando do controlador 36. Uma fonte de pressão 66, similar às fontes de pressão 26 descritas anteriormente, pode ser conectada ao controlador 36 e arranjada para impulsionar o produto químico para a entrada de montagem de filtragem 20. Por exemplo, a fonte de pressão 66 pode compreender um pressurizador pneumático que circunda o fornecimento de produto químico 63 e aplica pressão de gás contra o exterior do fornecimento de produto químico 63, por exemplo, sob o comando do controlador 36, impulsionando o produto químico para a entrada de montagem de filtragem 20. O sistema preparatório 60 pode compreender adicionalmente um reservatório de resíduos 30 similar aos reservatórios de resíduos descritos anteriormente. O reservatório de resíduos 30 pode ser acoplado à passagem 21 e à saída 22 da montagem de filtragem condicionada 11 em uma variedade de modos. Por exemplo, a passagem 21 pode ser acoplada ao reservatório de resíduos 30 por meio de uma linha de passagem 31 e de uma válvula de passagem 34 conectada ao controlador 36. A saída 22 pode ser acoplada ao reservatório de resíduos 30 por meio de uma linha de saída 32 e de uma válvula de saída 35 acoplada ao controlador 36. Métodos para preparar a montagem de filtragem condicionada 11 podem ser incorporados em qualquer um de inúmeros modos. Por exemplo, um método preparatório pode compreender primeiro deslocar o líquido de purgação do lado a montante 14 do meio filtrante 12 da montagem de filtragem condicionada 11.0 líquido de purgação no lado a montante do meio filtrante pode ser deslocado pelo próprio produto químico. Entretanto, na modalidade ilustrada na figura 5, o líquido de purgação pode ser deslocado do lado a montante 14 do meio filtrante 12 pelo gás inerte. Por exemplo, a entrada 20 e a passagem 21 da montagem de filtragem condicionada 11 podem ser abertas e a saída 22 fechada. Para muitas modalidades, a entrada 20 e a passagem 21 podem ser abertas ao abrir a válvula de entrada 33 e a válvula de passagem 34 e a saída 22 pode ser fechada ao fechar a válvula de saída 35, por exemplo, sob o comando do controlador 36. Adicionalmente, a válvula de linha de gás 62 pode ser aberta e a válvula de linha de produto químico 65 pode ser fechada, por exemplo, sob o comando do controlador 36. Gás inerte sob pressão pode então ser fornecido pelo fornecimento de gás inerte 61, por exemplo, sob o comando do controlador 36, para a entrada 20 aberta da montagem de filtragem condicionada 11 onde ele passa pela entrada 20 aberta, passa ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 e através da passagem 21 aberta. O gás inerte desloca o líquido de purgação do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11, impulsionando o líquido de purgação através da passagem 21 aberta. A pressão do gás inerte pode ser grande o suficiente para forçar o líquido de purgação ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 através da passagem 21 aberta, mas baixa o suficiente para impedir que o gás force seu caminho para dentro dos poros e vazios do meio filtrante 12. Pressões adequadas podem ser determinadas empiricamente para um dado meio filtrante, dependendo, por exemplo, da classificação de remoção, por exemplo, o tamanho dos poros e vazios. Da passagem 21 aberta, o gás inerte pode impulsionar o líquido de purgação deslocado para o reservatório de resíduos 30, por exemplo, por meio da válvula de passagem 34 aberta e da linha de passagem 31, por exemplo, sob o comando do controlador. Em outras modalidades, o líquido de purgação deslocado pode ser recuperado em um recipiente, por exemplo, por meio de uma linha de recuperação e de um segundo recipiente tal como descrito anteriormente.
Para muitas modalidades, após o líquido de purgação ter sido deslocado do lado a montante 14 do meio filtrante 12, o método preparatório pode incluir encher o lado a montante 14 do meto filtrante 12 dentro da montagem de filtragem com o produto químico. Por exemplo, a entrada 20 e a passagem 21, por exemplo, a válvula de entrada 33 e a válvula de passagem 34, podem permanecer abertas, e a saída 22, por exemplo, a válvula de saída 35, pode permanecer fechada. A válvula de linha de gás 62 pode ser fechada e a válvula de linha de produto químico 65 pode ser aberta, por exemplo, sob o comando do controlador 36. O produto químico no fornecimento de produto químico 63 pode então ser passado para a entrada 20 aberta da montagem de filtragem 11, por exemplo, sob o comando do controlador 36. A fonte de pressão 66 pode impulsionar o produto químico do fornecimento de produto químico 63 para a entrada 20 aberta da montagem de filtragem 11.0 produto quí- mico passa então pela entrada 20 aberta, ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 dentro da montagem de filtragem 11 e através da passagem 21 aberta, enchendo a montagem de filtragem 11 ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 com o produto químico e impulsionando o gás inerte ao longo do lado a montante 14 do meio filtrante 12 através da passagem 21 aberta. Da passagem 21 aberta o produto químico e o gás inerte podem ser direcionados para o reservatório de resíduos 30. O método preparatório pode incluir adicionalmente deslocar o líquido de purgação do meio filtrante 12 e do lado a jusante 15 do meio filtrante 12 e encher o meio filtrante 12 e o lado a jusante 15 do meio filtrante 12 com o produto químico. Por exemplo, após o lado a montante 14 do meio filtrante 12 ter sido enchido com o produto químico, a entrada 20 e a saída 22 podem ser abertas e a passagem 21 pode ser fechada, por exemplo, ao abrir a válvula de entrada 33 e a válvula de saída 35 e fechar a válvula de passagem 34 sob o comando do controlador 36. O produto químico pode então ser fornecido do fornecimento de produto químico 63 para a entrada 20 aberta, pela entrada 20 aberta, através do meio filtrante 12 do lado a montante 14 para o lado a jusante 15, ao longo do lado a jusante 15 do meio filtrante 12 e pela saída 22 aberta, enchendo os poros e vazios do meio filtrante 12 e o lado a jusante 15 do meio filtrante 12 com o produto químico e deslocando o líquido de purgação pela saída 22 aberta. Da saída 22 aberta o produto químico e o líquido de purgação podem ser passados para o reservatório de resíduos 30, por exemplo, por meio da saída aberta válvula 35 e da linha de saída 32. No final do método preparatório, a montagem de filtragem está cheia com o produto químico, livre de contaminantes e pronta para serviço.
Embora a invenção tenha sido revelada nas modalidades descritas e ilustradas anteriormente, a invenção não está limitada a essas modalidades. Por exemplo, um ou mais recursos de uma modalidade podem ser eliminados ou modificados, um ou mais recursos de uma modalidade podem ser combinados com um ou mais recursos de outras modalidades, ou modalidades com recursos muito diferentes podem ser previstas sem divergir do escopo da invenção. Por exemplo, algumas modalidades podem incluir um segundo recipiente para recuperar líquido de purgação, mas não incluir uma fonte de vácuo para arrastar líquido de purgação através do meio filtrante na primeira taxa de fluxo. Estas modalidades podem usar a fonte de pressão para impulsionar o líquido de purgação através do meio filtrante na primeira taxa de fluxo. Para algumas modalidades, um sistema de condicionamento pode ser uma unidade autônoma separada de qualquer sistema para fabricar ou usar a montagem de filtragem. Para outras modalidades, um sistema de condicionamento pode ser um subsiste-ma integrado a um sistema de fabricação ou a um sistema do usuário final, tal como um sistema de dispensação. Para algumas modalidades, sistemas e métodos de condicionamento podem preparar uma montagem de filtragem para armazenamento ou expedição. Para outras modalidades sistemas e métodos de condicionamento podem preparar uma montagem de filtragem para uso imediato por um usuário final. A presente invenção abrange assim inúmeras modalidades e modificações que podem estar incluídas no escopo das reivindicações.
Todas as referências, incluindo publicações, pedidos de patente e patentes, citadas neste documento estão incorporadas a este documento pela referência para a mesma extensão tal como se cada referência estivesse indicada individualmente e de forma específica para ser incorporada pela referência e estivesse exposta na sua totalidade neste documento. O uso dos termos “um” e “uma”, “o” e “a” e de referências similares no contexto de descrever a invenção (especialmente no contexto das reivindicações a seguir) é para ser interpretado para cobrir tanto o singular quanto o plural, a não ser que indicado de outro modo neste documento ou claramente contradito por contexto. Os termos “compreendendo”, “tendo”, “incluindo” e “contendo” são para ser interpretados como termos abertos (isto é, significando “incluindo, mas não limitado a isto”,) a não ser que notado de outro modo. Recitação de faixas de valores neste documento é pretendida somente para servir como um método abreviado de se referir individualmente a cada valor separado estando dentro da faixa, a não ser que indicado de outro modo neste documento, e cada valor separado está incorporado ao relatório descritivo tal como se ele estivesse relatado individualmente neste documento. Todos os métodos descritos neste documento podem ser executados em qualquer ordem adequada a não ser que indicado de outro modo neste documento ou contradito claramente de outro modo por contexto. O uso de todos e quaisquer exemplos, ou de linguagem exemplar (por exemplo, “tal como”) fornecida neste documento, é pretendido somente para melhor esclarecer a invenção e não para propor uma limitação no escopo da invenção a não ser que reivindicado de outro modo. Nenhuma linguagem no relatório descritivo não deve ser interpretada como indicando qualquer elemento não reivindicado como essencial para a prática da invenção.

Claims (42)

1. Método para condicionar uma montagem de filtragem que inclui um meio filtrante permeável tendo um lado a montante e um lado a jusante, uma entrada e uma passagem no lado a montante do meio filtrante, e uma saída no lado a jusante do meio filtrante, o método CARACTERIZADO pelo fato de que compreende: abrir a entrada e a passagem e fechar a saída, e passar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta da montagem de filtragem; e abrir a entrada e a saída e fechar a passagem, e primeiro passar líquido de purgação em uma primeira taxa de fluxo pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta da montagem de filtragem, e então passar líquido de purgação em uma segunda taxa de fluxo maior que a primeira taxa de fluxo pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta da montagem de filtragem, enchendo assim a montagem de filtragem com o líquido de purgação.
2. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação inclui passar um solvente.
3. Método, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta inclui aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem.
4. Método, de acordo com a reivindicação 1, 2 ou 3, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação na primeira taxa de fluxo inclui diminuir a pressão na saída da montagem de filtragem.
5. Método, de acordo com a reivindicação 4, CARACTERIZADO pelo fato de que diminuir a pressão na saída da montagem de filtragem inclui arrastar por meio de vácuo o líquido de purgação pela saída da montagem de filtragem.
6. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-5, CARACTERIZADO pelo fato de que passar o líquido de purgação na segunda taxa de fluxo inclui aumentar a pressão do fluido de purgação na entrada da montagem de filtragem.
7. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-6, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta da montagem de filtragem inclui direcionar líquido de purgação da passagem aberta para um reservatório de resíduos acoplado de forma fluídica à passagem da montagem de filtragem.
8. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-7, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação em uma primeira taxa de fluxo pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta da montagem de filtragem inclui direcionar líquido de purgação da saída para um reservatório de resíduos acoplado à saída da montagem de filtragem.
9. Método, de acordo com a reivindicação 3 ou 6, CARACTERIZADO pelo fato de que aumentar a pressão do líquido de purgação na entrada da montagem de filtragem inclui aplicar pressão contra um recipiente que contém o líquido de purgação e é acoplado de forma fluídica à entrada da montagem de filtragem, forçando assim líquido de purgação do recipiente para a entrada da montagem de filtragem.
10. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1-8, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente fornecer líquido de purgação de um primeiro recipiente acoplado de forma fluídica à entrada da montagem de filtragem.
11. Método, de acordo com a reivindicação 10, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação em uma segunda taxa de fluxo pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta da montagem de filtragem inclui direcionar líquido de purgação da saída para um segundo recipiente capaz de conter líquido de purgação.
12. Método, de acordo com a reivindicação 11, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente acoplar o segundo recipiente à entrada de uma segunda montagem de filtragem e condicionar a segunda montagem de filtragem com o líquido de purgação no segundo recipiente.
13. Método, de acordo com a reivindicação 12, CARACTERIZADO pelo fato de que condicionar a segunda montagem de filtragem inclui passar líquido de purgação através de um filtro entre o segundo recipiente e a entrada da segunda montagem de filtragem.
14. Método, de acordo com a reivindicação 11 ou 12, CARACTERIZADO pelo fato de que direcionar líquido de purgação da saída da montagem de filtragem para o segundo recipiente inclui passar líquido de purgação através de um filtro entre a saída e o segundo recipiente.
15. Método para condicionar uma montagem de filtragem que inclui um meio filtrante permeável tendo um lado a montante e um lado a jusante, uma entrada e uma passagem no lado a montante da montagem de filtragem, e uma saída no lado a jusante da montagem de filtragem, o método CARACTERIZADO pelo fato de que compreende: abrir a entrada e a passagem e fechar a saída e: fornecer líquido de purgação de um primeiro recipiente acoplado de forma fluídica à entrada da montagem de filtragem; passar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta; e direcionar o líquido de purgação da passagem aberta para um reservatório de resíduos; e abrir então a entrada e a saída e fechar a passagem e: fornecer líquido de purgação do primeiro recipiente acoplado de forma fluídica à entrada da montagem de filtragem; passar inicialmente líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o reservatório de resíduos; e passar então líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para um segundo recipiente capaz de conter líquido de purgação, enchendo assim a montagem de filtragem com líquido de purgação e recuperando uma parte do líquido de purgação.
16. Método, de acordo com a reivindicação 15, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente acoplar o segundo recipiente à entrada de uma segunda montagem de filtragem e condicionar a segunda montagem de filtragem com o líquido de purgação no segundo recipiente.
17. Método, de acordo com a reivindicação 15 ou 16, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente direcionar o fluido de purgação através de um filtro acoplado entre a saída da montagem de filtragem e o segundo recipiente.
18. Método, de acordo com a reivindicação 16, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente direcionar o fluido de purgação através de um filtro acoplado entre o segundo recipiente e a segunda montagem de filtragem.
19. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 15-18, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta para o reservatório de resíduos inclui passar líquido de purgação pela entrada aberta em uma primeira taxa de fluxo e em que passar líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta para um segundo recipiente capaz de conter líquido de purgação inclui passar líquido de purgação pela entrada aberta em uma segunda taxa de fluxo maior que a primeira taxa de fluxo.
20. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 15-19, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação inclui passar um solvente.
21. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 15-20, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação pela entrada aberta, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta para o reservatório de resíduos inclui aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem.
22. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 15-20, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta para o reservatório de resíduos inclui diminuir a pressão na saída da montagem de filtragem.
23. Método, de acordo com a reivindicação 22, CARACTERIZADO pelo fato de que diminuir a pressão na saída da montagem de filtragem inclui arrastar por meio de vácuo o líquido de purgação pela saída da montagem de filtragem.
24. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 15-23, CARACTERIZADO pelo fato de que passar líquido de purgação pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante e pela saída aberta para o segundo recipiente inclui aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem.
25. Sistema para condicionar uma montagem de filtragem tendo um meio filtrante que inclui um lado a montante e um lado a jusante, uma entrada e uma passagem no lado a montante do meio filtrante, e uma saída no lado a jusante do meio filtrante, o sistema CARACTERIZADO pelo fato de que compreende: um fornecimento de líquido de purgação acoplável a uma entrada de uma montagem de filtragem; um reservatório de resíduos acoplável a uma saída e a uma passagem da montagem de filtragem; uma fonte de pressão arranjada para impulsionar líquido de purgação do fornecimento de líquido de purgação para a entrada da montagem de filtragem; uma válvula de entrada operável para abrir e fechar a entrada da montagem de filtragem; uma válvula de saída operável para abrir e fechar a saída da montagem de filtragem; uma válvula de passagem operável para abrir e fechar a passagem da montagem de filtragem; um controlador conectado à fonte de pressão, à válvula de entrada, à válvula de saída e à válvula de passagem, em que o controlador é operável em um primeiro estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de passagem, fechar a válvula de saída e direcionar líquido de purgação proveniente do fornecimento de líquido de purgação, pela entrada aberta da montagem de filtragem, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta para o reservatório de resíduos, em que o controlador é operável em uma primeira fase de um segundo estágio subsequente para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída, fechar a válvula de passagem e direcionar líquido de purgação proveniente do fornecimento de líquido de purgação em uma primeira taxa de fluxo pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o reservatório de resíduos, e em que o controlador é operável em uma segunda fase subsequente do segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída, fechar a válvula de passagem e direcionar líquido de purgação proveniente do fornecimento de líquido de purgação em uma segunda taxa de fluxo maior pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta, enchendo assim a montagem de filtragem com líquido de purgação.
26. Sistema, de acordo com a reivindicação 25, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente um dispositivo de vácuo acoplável à saída da montagem de filtragem, em que o controlador é acoplado ao dispositivo de vácuo e é operável para controlar a fonte de vácuo para diminuir a pressão na saída da montagem de filtragem durante a primeira fase do segundo estágio.
27. Sistema, de acordo com a reivindicação 25 ou 26, CARACTERIZADO pelo fato de que o controlador é operável para controlar a fonte de pressão para aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem durante o primeiro estágio.
28. Sistema, de acordo com a reivindicação 25 ou 26, CARACTERIZADO pelo fato de que o controlador é operável para controlar a fonte de pressão para aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem durante a segunda fase do segundo estágio.
29. Sistema, de acordo com a reivindicação 25 ou 26, CARACTERIZADO pelo fato de que o fornecimento de líquido de purgação compreende um recipiente e a fonte de pressão é controlada pelo controlador para exercer pressão no exterior do recipiente para impulsionar líquido de purgação do recipiente para a entrada da montagem de filtragem.
30. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 25-28, CARACTERIZADO pelo fato de que o fornecimento de líquido de purgação compreende um primeiro recipiente para conter líquido de purgação, o sistema compreendendo adicionalmente um segundo recipiente para conter líquido de purgação e um primeiro arranjo de válvulas acopladas entre a saída da montagem de filtragem, o reservatório de resíduos e o segundo recipiente, o controlador sendo conectado ao primeiro arranjo de válvulas para direcionar líquido de purgação da saída aberta para o reservatório de resíduos durante a primeira fase do segundo estágio e para direcionar líquido de purgação da saída aberta para o segundo recipiente durante a segunda fase do segundo estágio.
31. Sistema, de acordo com a reivindicação 30, CARACTERIZADO pelo fato de que o segundo recipiente é acoplável a uma entrada de uma segunda montagem de filtragem.
32. Sistema, de acordo com a reivindicação 30, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente um segundo arranjo de válvulas acopladas entre o primeiro recipiente, a saída da montagem de filtragem e a entrada da montagem de filtragem, e um terceiro arranjo de válvulas acopladas entre o segundo recipiente, a saída da montagem de filtragem e a entrada da montagem de filtragem, em que o fornecimento de líquido de purgação compreende o primeiro recipiente e o segundo recipiente e em que o controlador é conectado aos segundo e terceiro arranjos de válvulas para impulsionar alternativamente líquido de purgação do primeiro recipiente por uma entrada aberta e uma saída aberta de uma primeira montagem de filtragem para o segundo recipiente e impulsionar líquido de purgação do segundo recipiente por uma entrada aberta e uma saída aberta de uma segunda montagem de filtragem para o primeiro recipiente.
33. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 25-32, CARACTERIZADO pelo fato de que o meio filtrante tem uma classificação de remoção de cerca de 0,05 micro ou menor.
34. Sistema para condicionar uma montagem de filtragem tendo um meio filtrante que inclui um lado a montante e um lado a jusante, uma entrada e uma passagem no lado a montante do meio filtrante, e uma saída no lado a jusante do meio filtrante, o sistema CARACTERIZADO pelo fato de que compreende: um primeiro recipiente contendo líquido de purgação e sendo acoplável à entrada de uma montagem de filtragem; um segundo recipiente para conter líquido de purgação e sendo acoplável a uma saída da montagem de filtragem; um reservatório de resíduos acoplável à saída e à passagem da montagem de filtragem; uma fonte de pressão arranjada para impulsionar líquido de purgação do primeiro recipiente para a entrada da montagem de filtragem; uma válvula de entrada operável para abrir e fechar a entrada da montagem de filtragem; uma válvula de saída operável para abrir e fechar a saída da montagem de filtragem; uma válvula de passagem operável para abrir e fechar a passagem da montagem de filtragem; e um controlador acoplado à fonte de pressão, à válvula de entrada, à válvula de saída e à válvula de passagem, em que o controlador é operável em um primeiro estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de passagem, fechar a válvula de saída e direcionar líquido de purgação proveniente do primeiro recipiente pela entrada aberta da montagem de filtragem, ao longo do lado a montante do meio filtrante e através da passagem aberta para o reservatório de resíduos, em que o controlador é operável em uma primeira fase de um segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída, fechar a válvula de passagem e direcionar fluido de purgação do primeiro recipiente pela entrada aberta da montagem de filtragem, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o reservatório de resíduos, e em que o controlador é operável em uma segunda fase subsequente do segundo estágio para abrir a válvula de entrada e a válvula de saída, fechar a válvula de passagem e direcionar líquido de purgação proveniente do primeiro recipiente, pela entrada aberta, através do meio filtrante do lado a montante para o lado a jusante, ao longo do lado a jusante do meio filtrante e pela saída aberta para o segundo recipiente, enchendo assim a montagem de filtragem com líquido de purgação e recuperando uma parte do líquido de purgação.
35. Sistema, de acordo com a reivindicação 34, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente um primeiro arranjo de válvulas acopladas entre a saída da montagem de filtragem, o reservatório de resíduos e o segundo recipiente, o controlador sendo conectado ao primeiro arranjo de válvulas e operável para direcionar líquido de purgação para o reservatório de resíduos durante a primeira fase do segundo estágio e direcionar líquido de purgação para o segundo recipiente durante a segunda fase do segundo estágio.
36. Sistema, de acordo com a reivindicação 34 ou 35, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente um dispositivo de vácuo acoplável à saída da montagem de filtragem, em que o controlador é acoplado ao dispositivo de vácuo e é operável para controlar a fonte de vácuo para diminuir a pressão na saída da montagem de filtragem durante a primeira fase do segundo estágio.
37. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 34-36, CARACTERIZADO pelo fato de que a fonte de pressão é controlada pelo controlador para exercer pressão no exterior do primeiro recipiente para impulsionar líquido de purgação do recipiente para a entrada da montagem de filtragem.
38. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 34-36, CARACTERIZADO pelo fato de que o controlador é operável para controlar a fonte de pressão para aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem durante o primeiro estágio.
39. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 34-36 e 38, CARACTERIZADO pelo fato de que o controlador é operável para controlar a fonte de pressão para aumentar a pressão na entrada da montagem de filtragem durante a segunda fase do segundo estágio.
40. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 34-39, CARACTERIZADO pelo fato de que o segundo recipiente é acoplável à entrada da montagem de filtragem.
41. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 34-39, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende adicionalmente um segundo arranjo de válvulas acopladas entre o primeiro recipiente, a saída da montagem de filtragem e a entrada da montagem de filtragem, e um terceiro arranjo de válvulas acopladas entre o segundo recipiente, a saída da montagem de filtragem e a entrada da montagem de filtragem, em que a fonte de pressão é arranjada para impulsionar líquido de purgação do segundo recipiente e o controlador é acoplado aos segundo e terceiro arranjos de válvulas para impulsionar alternativamente líquido de purgação do primeiro recipiente por uma entrada aberta e uma saída aberta de uma primeira montagem para o segundo recipiente e impulsionar líquido de purgação do segundo recipiente por uma entrada aberta e uma saída aberta de uma segunda montagem de filtragem para o primeiro recipiente.
42. Sistema, de acordo com qualquer uma das reivindicações 34-41, CARACTERIZADO pelo fato de que o meio filtrante tem uma classificação de remoção de cerca de 0,05 micro ou menor.
BR102013029186A 2012-11-12 2013-11-12 Sistemas e métodos para condicionar uma montagem de filtragem BR102013029186A2 (pt)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/674,415 US9656197B2 (en) 2012-11-12 2012-11-12 Systems and methods for conditioning a filter assembly

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BR102013029186A2 true BR102013029186A2 (pt) 2014-11-04

Family

ID=49578150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR102013029186A BR102013029186A2 (pt) 2012-11-12 2013-11-12 Sistemas e métodos para condicionar uma montagem de filtragem

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9656197B2 (pt)
EP (1) EP2730326B1 (pt)
JP (1) JP5760255B2 (pt)
KR (1) KR101544521B1 (pt)
CN (1) CN103801146B (pt)
BR (1) BR102013029186A2 (pt)
IL (1) IL229298A (pt)
SG (1) SG2013082904A (pt)
TW (1) TWI528994B (pt)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0816310D0 (en) 2008-09-05 2008-10-15 Mtt Technologies Ltd Filter assembly
JP6107690B2 (ja) 2013-09-27 2017-04-05 東京エレクトロン株式会社 フィルタユニットの前処理方法、処理液供給装置、フィルタユニットの加熱装置
JP2017538038A (ja) * 2014-11-21 2017-12-21 レニショウ パブリック リミテッド カンパニーRenishaw Public Limited Company 付加製造装置および方法
CN109876513B (zh) * 2019-03-13 2023-12-08 成都飞机工业(集团)有限责任公司 一种加油装置全油量油液的净化方法及装置
JP7309297B2 (ja) * 2021-03-03 2023-07-18 株式会社Screenホールディングス 給液装置、塗布装置、エージング装置、給液方法、およびエージング方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4282105A (en) 1980-01-28 1981-08-04 J. R. Schneider Co., Inc. Filter
US4556486A (en) 1984-02-15 1985-12-03 Lesley Merket Circulating water filtering system and method of operation
US4617131A (en) * 1985-07-29 1986-10-14 Environmental Elements Corp. Method and system of cleansing a filter bed
US5262068A (en) * 1991-05-17 1993-11-16 Millipore Corporation Integrated system for filtering and dispensing fluid having fill, dispense and bubble purge strokes
US5281344A (en) 1992-01-23 1994-01-25 Pall Corporation Regenerable sorbent system
US5372653A (en) 1993-05-28 1994-12-13 Courtaulds Fibres (Holdings) Limited Cleaning of filters
US5507959A (en) * 1994-11-04 1996-04-16 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus for wetting, flushing and performing integrity checks on encapsulated PTFE filters
JPH11510095A (ja) 1995-07-27 1999-09-07 ポール・コーポレーション ハイブリッドフィルタシステム及びプロセス流体濾過方法
US5733441A (en) 1996-06-27 1998-03-31 United Microelectronics Corporation Pre-wet system for a filter
US6378907B1 (en) 1996-07-12 2002-04-30 Mykrolis Corporation Connector apparatus and system including connector apparatus
US7029238B1 (en) 1998-11-23 2006-04-18 Mykrolis Corporation Pump controller for precision pumping apparatus
EP1133639B1 (en) * 1998-11-23 2004-06-09 Mykrolis Corporation Pump controller for precision pumping apparatus
UA72503C2 (uk) 1999-04-04 2005-03-15 Сода Клаб (Со2) Са Система та спосіб випробування цілісності фільтра і система водоочищення (варіанти)
WO2000072936A1 (en) 1999-05-28 2000-12-07 Pall Corporation Separation of non-miscible fluids, especially non-miscible liquids and solids
JP2001187323A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Nitto Denko Corp 膜分離装置およびその運転方法
CN1183993C (zh) * 2000-09-13 2005-01-12 迈克里斯公司 液体过滤设备和方法
JP4578103B2 (ja) 2002-02-07 2010-11-10 ポール・コーポレーション フォトレジストを供給するために用いられるシステム及びフォトレジストを供給する方法
KR100643494B1 (ko) * 2004-10-13 2006-11-10 삼성전자주식회사 반도체 제조용 포토레지스트의 디스펜싱장치
US7967978B2 (en) 2006-12-11 2011-06-28 International Business Machines Corporation Method and apparatus for filter conditioning
KR100776205B1 (ko) 2007-02-14 2007-11-28 주식회사 엔케이 여과 및 전기분해 방식의 밸러스트수 처리 시스템 및 그의구동방법
US8580117B2 (en) * 2007-03-20 2013-11-12 Taiwan Semiconductor Manufactuing Company, Ltd. System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects
KR101185212B1 (ko) * 2009-02-06 2012-09-26 엘지전자 주식회사 세정시스템이 구비된 정수기

Also Published As

Publication number Publication date
CN103801146B (zh) 2016-01-20
EP2730326B1 (en) 2017-01-04
TWI528994B (zh) 2016-04-11
TW201436849A (zh) 2014-10-01
KR101544521B1 (ko) 2015-08-13
KR20140061274A (ko) 2014-05-21
US9656197B2 (en) 2017-05-23
SG2013082904A (en) 2014-06-27
EP2730326A1 (en) 2014-05-14
JP5760255B2 (ja) 2015-08-05
CN103801146A (zh) 2014-05-21
IL229298A (en) 2016-04-21
JP2014094375A (ja) 2014-05-22
US20140131293A1 (en) 2014-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9421498B2 (en) Systems and methods for conditioning a filter assembly
BR102013029186A2 (pt) Sistemas e métodos para condicionar uma montagem de filtragem
EP2844363B1 (en) Liquid recovery filter
JP2010501340A (ja) 低圧逆洗
US7416293B2 (en) Ink recirculation system
JP2012086563A (ja) インクジェットプリンタにおけるインクの供給および除去されたインクの回収のための方法およびシステム
JP2008526497A (ja) 濾過システム
JP3539680B2 (ja) 汚液の濾過方法及びその装置
JP6204728B2 (ja) ベーパ回収装置
KR20200011138A (ko) 역세척 기능을 가진 슬러지 정화장치
IL229361A (en) Systems and methods for operating a filter assembly
JP2019018162A (ja) 中空糸膜濾過装置の洗浄方法及び中空糸膜濾過装置
KR19980701369A (ko) 필터 패키지 형성방법 및 필터 패키지(method for forming a filter package and filter package)
CN110621385A (zh) 用于使可流动的流体脱气的装置
JP7152809B2 (ja) 液体及び気体から固体材料を分離するための装置
KR101050797B1 (ko) 독성가스 분리 배기장치 및 이를 이용한 유독물 저장장치
WO2009128119A1 (ja) 膜モジュールの洗浄方法および装置
JP5450501B2 (ja) 気液分離装置
CZ30636U1 (cs) Filtrační jednotka
TW201943452A (zh) 過濾模組之洗淨方法及過濾裝置

Legal Events

Date Code Title Description
B03A Publication of an application: publication of a patent application or of a certificate of addition of invention
B08F Application fees: dismissal - article 86 of industrial property law

Free format text: REFERENTE A 3A ANUIDADE.

B08K Lapse as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi (acc. art. 87)

Free format text: EM VIRTUDE DO ARQUIVAMENTO PUBLICADO NA RPI 2385 DE 20-09-2016 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDO O ARQUIVAMENTO DO PEDIDO DE PATENTE, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013.