CN103717330B - 制造用于螺旋式机器的处理元件的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及制造用于螺旋式机器的处理元件的方法，其中，将第一金属材料（M1）的处理元件芯（11b）布置在热等静压装置（1b）的壳体（2b）的内部空间（9b）中，使得在壳体壁（5b）和处理元件芯（11b）之间形成环形空间（14b）。用第二金属材料（M2）的粉末（15）填充所述环形空间（14b）以制造出耐磨层。然后，以通过热等静压使所述材料（M1，M2）结合而形成复合体的方式来制造处理元件坯料（10b）。然后，后加工处理元件坯料（10b）以形成处理元件。根据本发明的方法尤其通过简化后机加工和/或因此制造出的耐磨层的热处理来简化处理元件的制造。

Description

制造用于螺旋式机器的处理元件的方法
技术领域
本发明涉及用于制造处理元件、尤其是用于螺旋式机器的螺旋式部件和/或捏制部件的方法。本发明还涉及处理元件坯料，其用于制造处理元件、尤其是用于制造螺旋式机器的螺旋式部件和/或捏制部件。
背景技术
从DE 43 28 160 A1已知一种利用热等静压制造螺旋轴的方法。为了制造螺旋轴或螺旋式部件，以这样的方式将钢制芯以及包围所述钢制芯设置的耐腐蚀且耐磨材料的衬套布置在压力模具中，即，使得在所述衬套和所述压力磨具的内部之间形成具有恒定狭槽厚度的狭槽状环形空间。然后，金属粉末被引入到环形间隙中并且然后被压缩，以形成螺纹前层。所述螺纹前层通过热等静压形成，使得该螺纹前层与所述衬套形成一体件，而该衬套与所述钢制芯形成一体件。通过热等静压制造的坯料具有三个厚度恒定的中空-圆柱形相互连接层，并且在冷却之后被机加工，使得制造出所述螺纹和连接至该螺纹的螺纹前层。因为所述衬套起初为了机加工是相对柔软的，因此在机加工之后制造出的螺旋式部件要进一步经受热处理。这种方法的缺点是所描述的制造方法耗费大量精力。尤其在执行热处理时必须注意螺旋式部件中的内应力，以降低或阻止热处理后应力裂纹的形成。
发明内容
本发明的目的是提供一种更简单的制造用于螺旋式机器的处理元件的方法。
这个目的通过一种制造用于螺旋式机器的处理元件的方法实现，所述 方法包括以下步骤：
-提供壳体，该壳体具有中心纵向轴线和限定出内部空间的壳体壁、壳体底部和壳体盖，其中，壳体底部和壳体盖形成有彼此同轴地设置的贯通开口，用以制造具有通孔的处理元件坯料；
-将第一金属材料的管状的处理元件芯布置在所述内部空间中，使得
--所述贯通开口相应于处理元件芯的通孔设置，
--在所述壳体壁和所述处理元件芯之间形成环形空间，并且
--所述环形空间形成有沿着所述中心纵向轴线的波形；
-用第二金属材料的粉末填充所述环形空间以形成耐磨层；
-以通过热等静压利用压力由所述第一和第二金属材料制造出复合体的方式来制造所述处理元件坯料，其中所述压力被施加至所述内部空间和所述通孔；以及
-后加工所述处理元件坯料以获得所述处理元件。
根据本发明发现，如果形成在壳体壁和处理元件芯之间的环形空间沿着中心纵向轴线形成波形或者在沿着中心纵向轴线延伸的截面中形成波形以便适配于待形成的处理元件的外部波形，则处理元件的制造或复制要简单得多。因为第二材料用于形成处理元件的耐磨层，所以所述材料是高合金且极耐磨和/或耐腐蚀的材料，相应地这种材料是昂贵的。由于环形空间的波形设计，已经在热等静压期间制造出适配于待形成的处理元件的外部波形的耐磨层，这降低了所要求的第二材料的体积和量并简化了通过热等静压制造出的处理元件坯料的后加工，尤其有助于用于制造处理元件的外部波形的机加工工艺和/或耐磨层的热处理，所述热处理的需求取决于后续应用。处理元件可以是螺旋式部件和/或捏合部件。被布置在壳体(Kapsel)内的处理元件芯可以由实心材料形成，或者该处理元件芯可以形成有通孔。
因为根据DE 43 28 160 A1中公开的制造方法的耐磨层由利用热等静压而预制的衬套以及利用热等静压而制造的螺纹前层制造而成，所以需要相当大体积的高合金和耐磨和/或耐腐蚀材料，同时后加工坯料引起耗费相当大的精力，用以形成加工好的螺旋式部件。与根据本发明的制造方法相 比，现有技术方法因为通过热等静压预制衬套而要求额外的步骤。此外，需要通过机加工移除相当大体积的耐磨和/或耐腐蚀材料，这使得后加工更加复杂。另外，当通过机加工制造的螺旋式部件正经受后续的热处理时，必须格外注意防止应力裂纹在热处理期间由于耐磨层的明显变化厚度而在耐磨层中形成。
在根据本发明的制造方法中，处理元件坯料的波形耐磨层适配于处理元件的外部波形，这简化了后加工，这是因为待被移除的材料体积明显减少和/或耐磨层具有沿着处理元件的中心纵向轴线基本上恒定的径向厚度——这允许阻止在热处理期间形成应力裂纹。
根据一种有利的实施方式，在所述处理元件芯的芯外侧形成有波形以便制造波形的环形空间。这提供了一种使耐磨层在面向处理元件芯的耐磨层内侧上形成波形的简单方式。这减少了耐磨层所需的材料体积并因此减少了所需的第二材料的材料量。此外，这确保了耐磨层具有沿着中心纵向轴线基本上恒定的厚度，这简化了热处理。
根据一种有利的实施方式，所述处理元件芯的芯外侧具有相对于所述处理元件芯的中心纵向轴线的径向距离，所述径向距离沿着所述中心纵向轴线变化。这提供了一种沿着中心纵向轴线或者在沿着中心纵向轴线延伸的截面中形成波形的环形空间的简单方式。介于芯的外部和中心纵向轴线之间的径向距离在最小距离和最大距离之间变化。
根据一种有利的实施方式，所述壳体壁的壳体壁内侧是圆柱形的。这提供了一种沿着中心纵向轴线或者在沿着中心纵向轴线延伸的截面中形成波形的环形空间的简单方式。介于壳体壁内侧和中心纵向轴线之间的恒定的径向距离，以及处理元件芯相对于中心纵向轴线的变化的径向距离，导致形成了波形的环形空间，该环形空间具有沿着中心纵向轴线变化的厚度。该厚度在最小厚度和最大厚度之间变化。
根据一种有利的实施方式，通过机加工以制造出处理元件外部波形的方式来形成所述处理元件坯料。这允许制造出具有沿着中心纵向轴线基本上恒定的厚度的耐磨层。在移除材料以后，耐磨层外侧的径向距离沿着中 心纵向轴线在最小径向距离和最大径向距离之间变化。
根据一种有利的实施方式，所述壳体壁的壳体壁内侧形成有波形以便制造波形的环形空间。这提供了一种形成面向壳体壁的波形的耐磨层外侧的简单方式。一方面，这减少了耐磨层所需的材料体积。另一方面，由于已经通过热等静压制造出了处理元件坯料或者处理元件的外部波形，这极大地简化了后加工。如果必要，所述外部波形需要精加工。
根据一种有利的实施方式，所述壳体壁的壳体壁内侧具有相对于所述中心纵向轴线变化的径向距离。这确保面向壳体壁的耐磨层外侧沿着中心纵向轴线或者在沿着中心纵向轴线延伸的截面中形成波形。
根据一种有利的实施方式，以使所述处理元件坯料形成处理元件外部波形的方式制造所述处理元件坯料；耐磨层外侧仅在后加工期间需要精加工。这确保处理元件的简单制造。
根据一种有利的实施方式，所述处理元件芯的芯外侧具有沿着中心纵向轴线的相对于该中心纵向轴线恒定的径向距离。这确保处理元件芯的简单供给。
根据一种有利的实施方式，为了制造所述波形的环形空间，所述壳体壁的壳体壁内侧和所述处理元件芯的芯外侧形成有波形。这允许制造出在耐磨层内侧和耐磨层外侧两者上都形成波形的耐磨层。因此，一方面极大地减少了所需的材料体积，允许由少量的第二材料制造耐磨层。另一方面，由于已经利用热等静压制造出处理元件坯料或处理元件的外部波形，因此显著地简化了后加工。另外，耐磨层具有沿着中心纵向轴线基本上恒定的径向厚度，这简化了热处理并阻止了应力裂纹的形成。
根据一种有利的实施方式，所述壳体壁的壳体壁内侧和壳体壁外侧形成有波形。这提供了一种形成并移除壳体的简单方式。
根据一种有利的实施方式，壳体底部和壳体盖形成有彼此同轴地设置的贯通开口，用以制造具有通孔的处理元件坯料。这允许处理元件坯料制造有通孔。
本发明的另一目的是提供一种处理元件坯料，该处理元件坯料提供一 种制造用于螺旋式机器的处理元件的简单方式。
这个目的通过一种用于制造用于螺旋式机器的处理元件的处理元件坯料来实现，所述处理元件坯料包括：
第一金属材料的处理元件芯；
环绕所述处理元件芯的第二金属材料的耐磨层，其中所述第二材料通过热等静压与所述第一材料结合以形成复合体，
其特征在于，
所述耐磨层沿着中心纵向轴线形成波形。
因为耐磨层形成有波形，所以由处理元件坯料制造处理元件得到了极大地简化。处理元件坯料是直接利用热等静压制造出的复合体，无需任何进一步的后加工。波形的耐磨层简化了用于形成外部波形的处理元件坯料机加工和/或在形成外部波形以后处理元件的热处理。耐磨层沿着中心纵向轴线或者在沿着中心纵向轴线延伸的截面中是波形的。根据本发明的处理元件坯料的其它优点与前述已经描述的根据本发明的方法的优点相同。
此外，有利地，根据本发明的处理元件坯料可包括下列特征中的一个或多个：
所述处理元件芯的面向所述耐磨层的芯外侧形成有波形；
芯外侧具有相对于所述处理元件芯的中心纵向轴线的径向距离，该径向距离沿着所述中心纵向轴线变化；
所述处理元件坯料具有圆柱形的坯料外侧；
所述耐磨层的背向所述处理元件芯的耐磨层外侧形成有波形；
所述处理元件芯的面向所述耐磨层的芯外侧以及所述耐磨层的背向所述处理元件芯的耐磨层外侧形成有波形；
所述耐磨层具有相对于所述中心纵向轴线的径向距离，该径向距离沿着该中心纵向轴线变化。
具有上述特征的处理元件坯料的优点与已经描述的创新方法的优点相符。
根据一种有利的实施方式，所述处理元件芯是管状的。这提供了一种 制造和构造不同的螺旋式机器的简单方式。处理元件芯的内侧以通常方式形成内部轮廓，允许将不同设计的处理元件设置在可以多种方式构造的仿形轴(靠模轴)上。
附图说明
本发明的其它优点、特征和细节将通过以下若干示例性实施例的描述变得显而易见。其中：
图1示出根据第一示例性实施例的处于处理元件坯料的制造期间的热等静压装置的壳体的轴向截面；
图2示出图1中的处理元件坯料以及由该处理元件坯料制造出的处理元件的轴向截面；
图3示出根据第二示例性实施例的处于处理元件坯料的制造期间的热等静压装置的壳体的轴向截面；
图4示出图3中的处理元件坯料以及由该处理元件坯料制造出的处理元件的轴向截面；
图5示出根据第三示例性实施例的处于处理元件坯料的制造期间的热等静压装置的壳体的轴向截面；
图6示出图5中的处理元件坯料以及由该处理元件坯料制造出的处理元件的轴向截面；
图7示出根据第四示例性实施例的处于处理元件坯料的制造期间的热等静压装置的壳体的轴向截面；
图8示出根据第五示例性实施例的处于处理元件坯料的制造期间的热等静压装置的壳体的轴向截面；
图9示出根据第六示例性实施例的处于处理元件坯料的制造期间的热等静压装置的壳体的轴向截面；
图10示出图9中的处理元件坯料以及由该处理元件坯料制造出的处理元件的轴向截面。
具体实施方式
以下是对本发明的在图1和图2中示出的第一示例性实施例的描述。已知热等静压装置1的结构总体上包括与用于热等静压的压力单元3和温度单元4接触的壳体2。壳体2具有管状的壳体壁5，该壳体壁的第一端部被壳体底部6关闭。壳体盖7设置在壳体壁5的第二端部上。壳体壁5限定出中心纵向轴线8，并且与壳体底部6和壳体盖7接触用以限定出壳体2的内部空间9。靠近壳体壁5，壳体盖7设置有用于填充内部空间9的填充嘴(加注颈)13。为了实现热等静压，内部空间9中的温度T可以借助温度单元4变化，内部空间9中的压力P可以借助压力单元3变化。
按照以下步骤在热等静压装置1中执行处理元件坯料10的生产：
在第一步骤中，将第一金属材料M1的处理元件芯11布置在内部空间9中，使得该处理元件芯的中心纵向轴线12与中心纵向轴线8基本上叠合(一致)。处理元件芯11的正面紧靠壳体底部6。第一材料M1具有高度的粘性和延展性。优选地，第一金属材料M1是钢。然后，将壳体盖7布置在壳体壁5上并且焊接至该壳体壁。壳体盖7的正面紧靠处理元件芯11。
处理元件芯11具有面向环形空间14的芯外侧KA。芯外侧KA是波形的，以形成芯外部波形AK。由于芯外部波形AK，芯外侧KA具有相对中心纵向轴线8或12变化并且沿着所述中心纵向轴线变化的变化径向距离RKA，其中所述径向距离RKA在最小距离RKAmin和最大距离RKAmax之间变化。
壳体壁5具有圆柱形的壳体壁内侧WI，因此壳体壁内侧WI具有相对中心纵向轴线8或12恒定的径向距离RWI。由于恒定的径向距离RWI和处理元件芯11的变化距离RKA，环形空间14形成一波形，该波形具有沿着中心纵向轴线8或12变化的厚度DR，该厚度介于最小厚度DRmin和最大厚度DRmax之间。环形空间14藉由填充嘴13完全充满第二金属材料M2的粉末；然后，关闭填充嘴13。要求粉末15形成环绕处理元件芯11的耐磨层16。为此，第二材料M2是高合金材料，并因此提供高度的耐磨性和/或耐腐蚀性。
然后，利用热等静压使得形成第一材料M1和第二材料M2的复合体在热等静压装置1中制造处理元件坯料10。
在热等静压之后，通过机械加工将壳体2移除。由于恒定距离RWI，处理元件坯料10具有非波形的圆柱形坯料外侧RA。相应地，处理元件坯料10的耐磨层16具有相对中心轴向轴线12恒定的径向距离RV，该径向距离与距离RWI相符。
在下一步骤中，加工处理元件坯料10以形成处理元件17。为此，通过机械加工以制造出处理元件外部波形AB的方式形成处理元件坯料10。为此，除去处理元件坯料10的耐磨层16的材料区域18。这样，通过所述的材料的除去来形成处理元件17。处理元件外部波形AB由耐磨层外侧VA形成。在除去材料以后，径向距离RVA沿着中心纵向轴线12在最小距离RVAmin和最大距离RVAmax之间变化。因为与耐磨层内侧VI相符的芯外侧KA以及耐磨层外侧VA两者都形成有波形，所以处理元件17的耐磨层16沿着中心纵向轴线12具有基本上恒定的厚度DV。此外，制造出轴向通孔20，其设置有用于仿形轴(靠模轴，Profilwelle erzeugt)的内部轮廓19。通孔20优选地与中心纵向轴线12同轴。处理元件坯料10的坯料外侧RA在图2中示出位于中心纵向轴线12的下方，而加工好的处理元件17在图2中示出位于中心纵向轴线12的上方。
因为环形空间14具有由于波形的芯外侧KA而沿着中心纵向轴线12变化的径向距离RKA，所以耐磨层内侧VI也形成有波形，因此形成耐磨层16所需要的第二材料M2的量明显减少了。在移除材料以后，耐磨层16也在材料区域18内具有恒定的厚度DV，这简化了随后的处理元件14的热处理，该热处理防止应力裂纹的形成。
以下描述本发明的在图3和图4中示出的第二示例性实施例。与第一实施例相比，处理元件芯11a不具有芯外部波形AK。因此，芯外侧KA沿着所述中心纵向轴线12具有相对于中心纵向轴线12恒定的径向距离RKA。为了形成波形的环形空间14a，壳体壁5a的壳体壁内侧WI具有壳体壁外部波形AW。为此，壳体壁5a被构造成管状，机械加工该壳体壁的壳体壁 内侧WI以形成壳体壁外部波形AW。相应地，壳体壁内侧WI具有相对于中心纵向轴线8在最小距离RWImin和最大距离RWImax之间变化的径向距离RWI。因此，环形空间14a的径向厚度DR沿着中心纵向轴线8在最小径向厚度DRmin和最大径向厚度DRmax之间变化。
通过前文已经描述的方式——将处理元件芯11a布置在热等静压装置1a的壳体2a中以及用粉末15填充环形空间14a——来制造处理元件坯料10a。利用热等静压来制造处理元件坯料10a。在热等静压以后，通过机械加工移除壳体2a。因为壳体壁5a形成有波形，所以处理元件外部波形AB在制造处理元件坯料10a期间已经形成。与环形空间14a的径向厚度DR相符，耐磨层16的径向厚度DV沿着中心纵向轴线12在最小径向厚度DVmin和最大径向厚度DVmax之间变化。处理元件坯料10a已经形成有波形的耐磨层外侧VA。为了制造处理元件17a，耐磨层外侧VA仅需要少量的精加工。
然后，处理元件17a以常规方式设置有通孔20和用于仿形轴的内部轮廓19，并经受热处理。加工好的处理元件17再次于图4的上部示出，而处理元件坯料10a于图4的下部示出。关于处理元件坯料10a和处理元件17a的进一步制造和结构的细节在所述第一示例性实施例的描述中阐述。
以下描述本发明的在图5和图6中示出的第三示例性实施例。热等静压装置1b设计成与所述第二示例性实施例相符，并且包括具有波形的壳体内侧WI的壳体2b。将与所述第一示例性实施例相符的处理元件芯11b布置在壳体2b内从而形成环形空间14b，所述环形空间形成有沿着中心纵向轴线8或12的波形。因为芯外部波形AK基本上与壳体壁外部波形AW相符，所以环形空间14b具有沿着中心纵向轴线8或12基本上恒定的径向厚度DR。环形空间14b以前述方式完全充满粉末15，这允许通过热等静压来制造处理元件坯料10b，在这之后以前述方式将壳体2b移除。
壳体壁外部波形AW确保处理元件坯料10在制造期间已经形成有处理元件外部波形AB。如果必要，处理元件外部波形AB可以经受精加工。基本上与处理元件外部波形AB相符的芯外部波形AK确保因此形成的耐磨层 16b具有基本上恒定的径向厚度DV。恒定的径向厚度DV基本上阻止了应力裂纹的形成，因此简化了处理元件17b的热处理。加工好的处理元件17b再次于图6的上部示出，而处理元件坯料10b于图6的下部示出。关于处理元件坯料10b和处理元件17b的进一步制造和结构的细节在前述示例性实施例的描述中阐述。
以下描述本发明的在图7中示出的第四示例性实施例。与第二实施例相比，壳体2c呈现为压型金属板的形式，具有壳体壁外侧WA，该壳体壁外侧的波形与壳体壁内侧WI的波形相符。制造出的处理元件坯料10c和制造出的处理元件17c分别与处理元件坯料10a和处理元件17a相符。关于处理元件坯料10c和处理元件17c的进一步制造和结构的细节在前述示例性实施例的描述中阐述。关于热等静压装置1c的结构和功能的细节特别在所述第二示例性实施例的描述中阐述。
以下描述本发明的在图8中示出的第五示例性实施例。与第三实施例相比，壳体2d呈现为压型金属板的形式，具有壳体壁外侧WA，该壳体壁外侧的波形与壳体壁内侧WI的波形相符。制造出的处理元件坯料10d和制造出的处理元件17d分别与处理元件坯料10b和处理元件17b相符。关于处理元件坯料10d和处理元件17d的进一步制造和结构的细节在前述示例性实施例的描述中阐述。关于热等静压装置1d的结构和功能的细节特别在所述第二示例性实施例的描述中阐述。
以下描述本发明的在图9和图10中示出的第六示例性实施例。与所述第一示例性实施例相比，已经以使处理元件坯料10e形成有通孔20的方式制造出该处理元件坯料。为此，热等静压装置1e的壳体底部6e和壳体盖7e的每一个都装配有贯通开口21e，该贯通开口相应于处理元件芯11e的通孔20设置。将处理元件芯11e焊接至壳体底部6e和壳体盖7e，用以形成内部空间9e。环形空间14e以前述方式填充粉末15，这允许通过热等静压来制造复合体。也施加至通孔20的压力p阻止处理元件芯11e的变形。移除壳体2e，与所述第一示例性实施例相符地机加工处理元件坯料10e，区别仅在于通孔20需要形成内部轮廓19。关于处理元件坯料10e和处理 元件17e的进一步制造和结构的细节在前述示例性实施例的描述中阐述。
与所述第六示例性实施例相符，如果热等静压装置1a-1d的壳体2a-2d被构造成与壳体2e相符并且形成有与贯通开口21e相符的贯通开口，则处理元件坯料10a-10d可以在制造期间已经形成有通孔20。
处理元件17、17a-17e以及相应的处理元件坯料10、10a-10e尤其被构造成螺旋式部件和/或捏制部件，并且意在用于螺旋式机器——尤其是用于塑料材料的处理和加工的双轴螺旋式机器中。适合用于第二材料M2的材料尤其是那些允许获得高度耐磨性和/或耐腐蚀性的材料。合适的第一材料M1尤其是高粘性、易延展的材料，诸如钢。根据本发明的制造方法减少了第二材料M2需要的材料量。由于耐磨层16、16b、16d、16e具有沿着中心纵向轴线12的基本上恒定的径向厚度DV，所以简化了处理元件17、17b、17d、17e的热处理。另外，由于已经以使处理元件坯料10a、10b、10c、10d形成有处理元件外部波形AB的方式制造出这些处理元件坯料，所以简化了处理元件17a、17b、17c、17d的在后机加工。总体而言，根据本发明的方法允许极大地简化处理元件17、17a-17e的制造。

Claims (11)

1.一种制造用于螺旋式机器的处理元件的方法，所述方法包括以下步骤：
-提供壳体(2e)，该壳体具有中心纵向轴线(8)和限定出内部空间(9e)的壳体壁(5e)、壳体底部(6e)和壳体盖(7e)，其中，壳体底部(6e)和壳体盖(7e)形成有彼此同轴地设置的贯通开口(21e)，用以制造具有通孔(20)的处理元件坯料(10e)；
-将第一金属材料(M1)的管状的处理元件芯(11e)布置在所述内部空间(9e)中，使得
--所述贯通开口(21e)相应于处理元件芯(11e)的通孔(20)设置，
--在所述壳体壁(5e)和所述处理元件芯(11e)之间形成环形空间(14e)，并且
--所述环形空间(14e)形成有沿着所述中心纵向轴线(8)的波形；
-用第二金属材料(M2)的粉末(15)填充所述环形空间(14e)以形成耐磨层(16e)；
-以通过热等静压利用压力由所述第一和第二金属材料(M1，M2)制造出复合体的方式来制造所述处理元件坯料(10e)，其中所述压力被施加至所述内部空间(9e)和所述通孔(20)；以及
-后加工所述处理元件坯料(10e)以获得所述处理元件(17e)。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述处理元件芯(11e)的芯外侧(KA)形成有波形以便制造波形的环形空间(14e)。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述处理元件芯的芯外侧(KA)具有相对于所述处理元件芯(11e)的中心纵向轴线(12)的径向距离(RKA)，所述径向距离(RKA)沿着所述处理元件芯的中心纵向轴线(12)变化。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述壳体壁(5e) 的壳体壁内侧(WI)是圆柱形的。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，通过机加工以制造出处理元件外部波形(AB)的方式来形成所述处理元件坯料(10e)。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述壳体壁的壳体壁内侧(WI)形成有波形以便制造波形的环形空间。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述壳体壁的壳体壁内侧(WI)具有相对于所述中心纵向轴线(8)变化的径向距离(RWI)。
8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，以使所述处理元件坯料形成处理元件外部波形(AB)的方式制造所述处理元件坯料；耐磨层外侧(VA)仅在后加工期间需要精加工。
9.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述处理元件芯的芯外侧(KA)具有沿着所述处理元件芯的中心纵向轴线(12)的相对于该中心纵向轴线(12)恒定的径向距离(RKA)。
10.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，为了制造所述波形的环形空间，所述壳体壁的壳体壁内侧(WI)和所述处理元件芯的芯外侧(KA)形成有波形。
11.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述壳体壁的壳体壁内侧(WI)和壳体壁外侧(WA)形成有波形。
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