CN103538343A - 一种耐低温镭射膜工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明主要公开了一种耐低温镭射膜工艺，首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一层树脂溶液，树脂溶液经过涂布烘干后作为承压层，承压层经过模压后有镭射效果，成为镭射层，在镭射层之上真空镀铝，最后复卷分切成成品。使用本发明生产的镭射膜制作成印刷品在较低温度的环境下具有优良的耐爆铝性。

Description

一种耐低温镭射膜工艺
技术领域
本发明涉及包装印刷技术领域，特别与一种耐低温镭射膜工艺有关。
背景技术
全息镭射产品由于优异的外观表现力，广泛应用于各种烟包产品及高档社会类包装产品，社会类包装产品应用环境复杂，需要全息镭射产品有较好的耐低温要求。本发明人对耐低温镭射膜的原理进行探讨，并且分析耐低温镭射膜和传统镭射膜的区别，自主开发设计出一种耐低温镭射膜工艺，本案由此产生。
发明内容
本发明的目的是提供一种耐低温镭射膜工艺，使用这种膜的印刷品能在较低温度的环境下具有优良的耐爆铝性。
为了达到上述目的，本发明的技术解决方案是：
一种耐低温镭射膜工艺，首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一层树脂溶液，树脂溶液经过涂布烘干后作为承压层，承压层经过模压后有镭射效果，成为镭射层，在镭射层之上真空镀铝，最后复卷分切成成品。
所述树脂溶液的配料步骤：树脂原液中加入质量百分比为5%的丙二醇甲醚，搅拌制成。
所述的树脂原液中溶剂组份包括丁酮、乙酯、丙酯、丁酯，树脂组份为丙烯酸类，其中丁酮：乙酯：丙酯：丁酯的质量百分比为10-20%：60-70%:15%：5%。
所述的搅拌，当环境温度≥25℃，搅拌30分钟；当环境温度≤25℃，搅拌60分钟。
所述树脂溶液涂布时，设置好进排风风门和烘道温度，设置好张力系统，粘度要求15-17s，小料桶循环涂布并使用溶剂滴加补充装置补充溶剂；采用200线电雕辊在电晕面涂布，要求湿涂量6±0.5g，涂布树脂溶液，居中涂布，两边留白；涂布温度80～160℃，速度100m/min，风门位置：进风：50%/50%/100%/100%/100%，排风：50%/50%/100%/100%/100%/100%，回风：全部开到最大，涂布干量控制在0.7-1.0g/m2；关闭涂布头抽风；涂布头环境温度20-30℃，控制料槽涂布溶液温度20-25℃。
所述的溶剂滴加补充装置所补充的溶剂为丁酮和丙二醇甲醚，两者质量比为丁酮：丙二醇甲醚=3：1。
所述镭射层，在模压时需选择合适的版辊，版辊上固定全息工作版，通过加热油把版辊上的全息工作版加热到温度130±10℃，模压速度30±10m/min，全息工作版上的全息镭射信息转移到涂布承压层上。
所述真空镀铝，在承压面镀上铝层。
采用上述方案后，耐冷冻镭射膜复合到纸张上，在-30℃冷冻2小时，纸张折叠后用手揉搓棱角无爆铝现象，而普通镭射膜无法达到此要求。
具体实施方式
第一步配料，配成树脂溶液：树脂原液（溶剂组份：丁酮，乙酯，丙酯，丁酯。树脂组份丙烯酸类）中加入5%(质量百分比)丙二醇甲醚，当环境温度≥25℃，搅拌30分钟，当环境温度≤25℃，搅拌60分钟。其中溶剂组份中丁酮：乙酯：丙酯：丁酯质量百分比=10-20%：60-70%:15%：5%。溶剂体系中低、中、高沸点溶剂都存在，更能确保涂布时溶剂挥发完全，涂层成膜质量稳定。
第二步涂布承压层，设置好进排风风门和烘道温度，设置好张力系统，粘度要求15-17s，小料桶循环涂布并使用溶剂滴加补充装置，采用200线电雕辊在电晕面涂布，要求湿涂量6±0.5g，涂布树脂溶液，有效宽度保证在要求宽度以上，居中涂布，两边必须有留白。涂布温度80～160℃（误差±3℃），速度100m/min，风门位置：进风：50%/50%/100%/100%/100%，排风：50%/50%/100%/100%/100%/100%，回风：全部开到最大，涂布干量控制在0.7-1.0g/m2。关闭涂布头抽风。涂布头环境温度20-30℃，控制料槽涂布溶液温度20-25℃。
其中，采用溶剂滴加补充装置补加溶剂，是用来弥补生产过程中溶剂挥发部分，保证树脂溶液体系稳定。补充溶剂主要是丁酮和丙二醇甲醚两种，且两者质量比为丁酮：丙二醇甲醚=3：1。
第三步模压，在模压时需选择合适的版辊，版辊上固定一种全息工作版，通过加热油把版辊上的全息工作版加热到温度130±10℃，模压速度30±10m/min，全息工作版上的全息镭射信息转移到涂布承压层上，成为镭射层，需重点控制模压全息亮度及表面质量。
第四步镀铝，涂布承压层面镀铝，镀铝速度600-700m/min，送丝速度45-75cm/min，铝层厚度410±30埃。注意镀铝白条、擦伤。
第五步复卷，检查薄膜质量并按要求两边分切，按产品包装要求包装出货。

Claims (8)

1.一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一层树脂溶液，树脂溶液经过涂布烘干后作为承压层，承压层经过模压后有镭射效果，成为镭射层，在镭射层之上真空镀铝，最后复卷分切成成品。
2.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述树脂溶液的配料步骤：树脂原液中加入质量百分比为5%的丙二醇甲醚，搅拌制成。
3.如权利要求2所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述的树脂原液中溶剂组份包括丁酮、乙酯、丙酯、丁酯，树脂组份为丙烯酸类，其中丁酮：乙酯：丙酯：丁酯的质量百分比为10-20%：60-70%:15%：5%。
4.如权利要求2所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：当环境温度≥25℃，配料需搅拌30分钟；当环境温度≤25℃，配料需搅拌60分钟。
5.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述树脂溶液涂布时，设置好进排风风门和烘道温度，设置好张力系统，树脂溶液粘度要求15-17s，用小料桶循环涂布并使用溶剂滴加补充装置补充溶剂；采用200线电雕辊在电晕面涂布，要求湿涂量6±0.5g，涂布树脂溶液，居中涂布，两边留白；涂布温度80～160℃，速度100m/min，风门位置：进风：50%/50%/100%/100%/100%，排风：50%/50%/100%/100%/100%/100%，回风：全部开到最大，涂布干量控制在0.7-1.0g/m2；关闭涂布头抽风；涂布头环境温度控制20-30℃，控制料槽涂布溶液温度20-25℃。
6.如权利要求5所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述的溶剂滴加补充装置所补充的溶剂为丁酮和丙二醇甲醚，两者质量比为丁酮：丙二醇甲醚=3：1。
7.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述镭射层，在模压时需选择合适的版辊，版辊上固定全息工作版，通过加热油把版辊上的全息工作版加热到温度130±10℃，模压速度30±10m/min，全息工作版上的全息镭射信息转移到涂布承压层上。
8.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述真空镀铝，在承压面镀上铝层。
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Pledgor: SHAOXING HUCAIS LASER MATERIALS TECHNOLOGY CO.,LTD.

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