CN103460077B - 印刷材料及照相材料 - Google Patents

Abstract

一种印刷材料，其包括具有表面的印刷材料体，以及布置在印刷材料体的表面上的光学元件。该光学元件包括以不长于可见光的波长的节距形成的多个结构体。该结构体具有0.6以上且5.0以下的长宽比。

Description

印刷材料及照相材料

技术领域

本技术涉及印刷材料与照相材料。具体地，本技术涉及能够提高可视性的印刷材料与照相材料。

背景技术

例如，在照相纸的情况下，为了使黑色部分更黑，尽可能将照相纸的表面制成平滑表面，以免漫射外部光的反射从而突出黑暗。然而，当漫反射减少，单向反射增加时，以及当在印刷材料上的反射角在视觉上辨别诸如荧光灯的光源时，视觉上可直接辨别光源，从而使得几乎不可能辨别出印刷图像。

当涉及由单向反射形成的光源图像等时，照相纸的表面被相反地处理成无光泽等以漫射外部光的成分并且减少单向反射成分（例如，参见专利文献1）。然而，当漫射成分增加时，外部光的漫反射成分被添加到黑色部分，从而突出作为结果的黑色。如上所述，比较难以实现光源的单向反射成分与漫射成分之间的减少平衡。因此，期望提高照相纸的可视性。

引用列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请公开2006-182012号

发明内容

本发明解决的问题

因此，本技术的目的是提供能够提高可视性的印刷材料与照相材料。问题解决方案

为了解决上述问题，本技术的第一方面是印刷材料，其包括：

具有表面的印刷材料体；以及

设置在印刷材料体的表面上的光学层；

光学层包括以不长于可见光的波长的节距形成的多个结构体，以及

该结构体具有0.6以上且5.0以下的长宽比。

本技术的第二方面是照相材料，其包括：

具有表面的照相材料体；以及

设置在照相材料体的表面上的光学元件；

光学元件包括以不长于可见光的波长的节距形成的多个结构体；以及该结构体具有0.6以上并且5.0以下的长宽比。

在本技术中，诸如椭圆形、圆形（标准圆）、球体、以及椭圆体等形状不仅包括数学定义的完美的椭圆形、圆形、球体、以及椭圆体，而且还包括诸如稍微不标准的椭圆形、圆形、球体、以及椭圆体等形状。

在本技术中，具有凸形或者凹形的结构体优选地被布置成预定网格形式。关于网格形式，优选地使用四方网格图案或者准四方网格图案或者六方网格形式或者准六方网格形式。

在本技术中，在同一轨迹中的结构体间的布置节距P1优选地长于在两个邻近的轨迹的结构体间的布置节距P2。该布置能够改进具有椭圆锥面或者椭圆锥面梯形的形状的结构体的填充比，并因此提高抗反射特性。

在本技术中，当每个结构体在基体表面形成六方网格图案或者准六方网格图案时，比P1/P2优选地满足关系：1.00≤P1/P2≤1.1或者1.00<P1/P2≤1.1，其中，在同一轨迹中的结构体的布置节距与在两个邻近轨迹间的结构体的布置节距分别由P1和P2表示。这个数字范围能够提高具有椭圆锥面或者椭圆锥面梯形形状的结构体的填充比，并从而提高抗反射特性。

在本技术中，当各个结构在基体表面上形成六方网格图案或者准六方网格图案时，每个结构均优选地具有椭圆锥面或者椭圆锥面梯形的形状，该形状具有在轨迹的延伸方向上的长轴方向并且具有形成比顶端和底部的斜坡更陡峭的中部斜坡。该形状能够提高抗反射特性和透射特性。

在本技术中，当每个结构在基体表面形成六方网格图案或者准六方网格图案时，结构体在轨迹的延伸方向上的高度或者深度优选地小于该结构体在轨迹的行方向上的高度或者深度。如果不满足该关系，因为需要在轨迹的延伸方向上延长布置节距，所以该结构体在轨迹的延伸方向上的填充比降低。填充比降低将导致反射特性降低。

在本技术中，当该结构在基体表面形成四方网格图案或者准四方网格图案时，在同一轨迹中的结构的布置节距P1优选地比在两个邻近轨迹之间的结构的布置节距P2长。该布置能够提高具有椭圆锥面或者椭圆锥面梯形的形状的结构的填充比，并因此提高抗反射特性。

当该结构体在基体表面形成四方网格图案或者准四方网格图案时，比P1/P2优选地满足关系：1.4<P1/P2≤1.5，其中，在同一轨迹中的结构体的布置节距以及在两个邻近轨迹之间的结构体的布置节距分别由P1和P2表示。这个数字范围能够提高具有椭圆锥面或者椭圆锥面梯形的形状的结构的填充比，并因此提高抗反射特性。

当结构体在基体表面上形成四方网格图案或者准四方网格图案时，每个结构体优选地具有椭圆椎面或者椭圆锥面梯形的形状，该形状在轨迹的延伸方向上具有长轴方向并且具有形成比顶端和底部的斜坡更陡峭的中部斜坡。该形状能够提高抗反射特性和透射特性。

当结构体在基体表面上形成四方网格图案或者准四方网格图案时，结构体在关于轨迹45度方向或者在约45度方向上的高度或者深度优选地小于结构体在轨迹的行方向上的的高度或者深度。当不满足该关系时，需要在关于轨迹的45度方向或者约45度方向上延长布置节距，从而在关于轨迹的45度方向或者约45度方向上的结构体的填充比下降。填充比的下降将导致反射特性的下降。

在本技术中，以基体表面的精细节距设置的大量结构体优选地产生多行轨迹，并且在邻近三行轨迹之间还产生六方网格图案、准六方网格图案、四方网格图案、或者准四方网格图案。因此，在表面上的结构体的填充密度增加，从而提高防止可见光反射的效率，并且实现了抗反射特性卓越并且传播性高的光学元件。

在本技术中，优选地使用用于制备光盘母盘的工艺与蚀刻工艺的融合来制备光学元件。该方法能够在短时间段内有效地生产用于制备光学元件的母盘，并且还处理基体尺寸的增加，从而提高光学元件的生产力。此外，当结构体的精密布置不仅被设置在光入射面而且还被设置在光出射面处时，能进一步提高透射特性。

因为多个结构体以不长于可见光的波长的精细节距配置，所以本技术能够抑制可见光的反射。因此，能够改进印刷材料的印刷图像或者照相材料的照相图像的对比度。此外，因为结构体具有被调整到0.6以上的长宽比，所以能够抑制反射特性与传播性的下降，但是，因为结构体具有被调整到5以上的长宽比，所以能够抑制结构体的可转印性的下降。

本发明的效果

如上所述，能够提高印刷材料与照相材料的可视性。

附图说明

图1是示出了根据本技术的第一实施方式的印刷材料的结构的实例的截面视图。

图2A至图2C是示出了光学元件的形状实例的图案图。

图3A是示出了根据本技术的第一实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图3B是示出了图3A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图3C是示出了沿着图3B中所示的轨迹T1、T3…的截面视图。图3D是示出了沿着图3B中所示的轨迹T2、T4…的截面视图。

图4A是示出了光学元件的结构的形状实例的透视图。图4B是示出了光学元件的结构的形状实例的透视图。图4C是示出了光学元件的结构的形状实例的透视图。图4D是示出了光学元件的结构的形状实例的透视图。

图5A是示出了辊子母盘的结构的实例的透视图。图5B是示出了图4A中所示的辊子母盘的放大部分的平面图。图5C是沿着图5B中所示的轨迹T1、T3…的截面视图。图5D是沿着图5B中所示的轨迹T2、T4…的截面视图。

图6是示出了辊子母盘曝光装置的结构的实例的示意图。

图7A是用于解释用于产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。图7B是用于解释用于产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。图7C是用于解释用于产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。图7D是用于解释针对产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。

图8A是用于解释针对产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。图8B是用于解释针对产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。图8C是用于解释针对产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。图8D是用于解释用于产生根据本技术的第一实施方式的光学元件的方法的实例的步骤图。

图9A是示出了根据本技术的第二实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图9B是示出了图9A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图9C是沿着图9B中所示的轨迹T1、T3…的截面视图。图9D是沿着图9B中所示的轨迹T2、T4…的截面视图。

图10A是示出了根据本技术的第三实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图10B是示出了图10A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图10C是沿着图10A中所示的直线A-A的截面视图。

图11A是示出了根据本技术的第四实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图11B是示出了图11A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图11C是沿着图11B中所示的轨迹T1、T3…的截面视图。图11D是沿着图11B中所示的轨迹T2、T4…的截面视图。

图12A是示出了根据实例1和比较例1的印刷纸的反射率的图表。图12B是示出了根据实例2和比较例2的照相纸的L^*a^*b^*颜色空间的图表。

图13是示出了用于根据测试例16-1的MOTH-EYE结构体的表面的反射光谱的图表。

图14A是根据测试例21的分析模型的示意图。图14B是用于说明凹状卷曲（concavecurl）的卷曲量的图案图。图14C是用于说明凸状卷曲（convex curl）的卷曲量的图案图。

图15A是示出了作为根据测试例21的分析模型的印刷纸的层结构的图案图。图15B是示出了作为根据测试例23的分析模型的印刷纸的层结构的图案图。

图16A是用于说明在粘附到光学元件的表面的情况下将污染物移除的示意性图解视图。图16B是用于说明在粘附到光学元件的表面的情况下将污染物移除的示意性图解视图。图16C是用于说明在在粘附到光学元件的表面的情况下将污染物移除的示意性图解视图。

图17是针对普通常见紫外线固化树脂的存储可挠性模量和温度之间的相关图。

图18是绘制了实例中用于样本1至12的交联密度和交联间平均分子量的图表。

具体实施方式

将参照附图按照下列顺序描述本技术的实施方式。

1.第一实施方式（包括具有布置成（准）六方网格形式的凸状结构的光学元件的印刷材料的实例）。

2.第二实施方式（包括具有布置成（准）四边形网格形式的凸状结构的光学元件的印刷材料的实例）。

3.第三实施方式（包括具有以随机方式布置的凸状结构的光学元件的印刷材料的实例）。

4.第四实施方式（包括具有布置成（准）六方网格形式的凸状结构的光学元件的印刷材料的实例）。

5.第五实施方式（具有特定交联密度的实例）

<1.第一实施方式>

【印刷材料的结构】

图1是示出了根据本技术的第一实施方式的印刷材料的结构的实例的截面图。如图1所示，印刷材料10包括：具有表面的印刷材料体6；以及设置在印刷材料体6的表面上的光学元件1。印刷材料10进一步包括贴合层5，以便在将贴合层插入期间使得印刷材料体6与光学元件1彼此依附。例如，诸如丙烯酸、橡胶、以及硅压敏粘结剂等粘合剂可以用作贴合层5的材料，并且丙烯酸压敏粘结剂在透明性方面是优选的。印刷材料体6的表面例如是具有印刷图像的印刷图像表面。在下文中，关于印刷材料10的两个主面，设置有光学元件1的主面被称之为“表面”，然而，与其相对的主面被称之为“后表面”。

图2A至图2C是示出了根据本技术的第一实施方式的印刷材料的形状实例的图案图。如图2A所示，印刷材料10优选地被弯曲为使得突出表面，并且该弯曲具体地优选表面的中部作为弯曲的顶部。这是因为该弯曲能够提供美观的外形。

印刷材料10优选地具有平坦的外周缘（图2B）或者弯曲的外周缘（图2C）。本文中的曲面具有向与光学元件1相反的方向上弯曲的外周缘，如图2C所示。因此，突出后表面的曲率被抑制以保持美观的外形。

光学元件1的线性膨胀系数优选地高于印刷材料体6的线性膨胀系数。这是因为抑制突出后表面的曲率能在高温和/或高湿度环境下保持美观的外形。在这种情况下，当印刷材料体6具有由多层构成的堆叠结构时，印刷材料体6的线性膨胀系数是指在构成印刷材料体6的多层中具有最高线性膨胀系数的层的线性膨胀系数。

【光学元件的结构】

图3A是示出了根据本技术的第一实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图3B是示出了图3A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图3C是示出了沿着图3B中所示的轨迹T1、T3…的截面视图。图3D是沿着图3B中所示的T2、T4…的截面视图。在下文中，在光学元件1的主面的平面内彼此正交的两个方向分别被称之为X轴方向与Y轴方向，并且垂直于主面的方向被称之为Z轴方向。光学元件1包括具有主面的基体2、以及布置在基体2的主面上的多个结构体3。结构体3和基体2单独形成或者整体地形成。当结构体3和基体2单独形成时，基底层4可包含于结构体3与基体2之间（如需要）。基底层4是在结构体3的底侧与结构体3整体地形成的层，并且是通过对类似于结构体3的能量线固化树脂成分等进行固化来获得的层。光学元件1优选具有可挠性。这是因为光学元件1能够轻易地贴附到印刷材料体6。光学元件1根据可挠性优选地为光学薄片。

下面将继续描述包含在光学元件1中的基体2和结构体3。

（基体）

例如，基体2是透明基体。例如，尽管用于基体2的材料包括诸如聚碳酸酯（PC）和聚对苯二甲酸乙二酯（PET）等透明合成树脂以及包含玻璃等作为主要成分的无机材料，但基体2不被视为具体地局限于这些材料。尽管基体2的实例可包括例如，薄片、薄板、以及块，但基体2并不被视为具体地局限于这些实例。本文中的薄片被定义为包括薄膜。尽管基体2的形状并不被视为具体地限制，然而优选适当地选择形状，从而符合应用于光学元件的印刷材料体6等的表面形状。

（结构体）

作为重要的研究结果，工程师已经发现当形成结构体的材料具有弹性时，结构体会变形从而以擦拭方式挤出渗透在结构体之间的污染物，并且该变形允许静水擦拭污染物。

为了通过结构体的变形挤压出渗透在结构体之间的污染物，需要使得邻近的结构体体彼此接近。为了使结构体变形并消除结构体间的间隔，形成结构体的材料的弹性模数与结构体的长宽比对其是重要的。此外，接触角在水擦拭时是重要的。因此，作为通过实验获得的重要结果，工程师已经发现只要弹性模数、长宽比、以及接触角落在预定范围内，就能够容易地将污染物移除。

当认为需要使结构体变形时，只要将用于擦拭的压力逐渐增加，即使在具有高弹性模数的材料的情况下，擦拭在原理上视为可以。然而，在不是可挠性材料的情况下，在使该结构体变形的压力的擦拭将结构体拉断或者产生可挠性形变。结果，擦拭之后的反射率高于附着指纹之前的反射率。

“干擦拭和水擦拭可用”意味着当用普通的擦拭方式移除污染物时，在污染物（诸如，指纹）附着之前的反射率与擦除指纹等之后的反射率一致或通常一致。

结构体3具有相对于基体2的表面的凸状。形成结构体3的材料的弹性模数优选为1MPa以上且1200MPa以下，以及优选为5MPa以上且1200MPa以下。小于1MPa的弹性模数以移动步骤方式将邻近的结构体彼此附着，使得结构体3产生不同于期望形状的形状，从而使得不能实现期望的反射特性。超过1200MPa的弹性模数使得邻近的结构体不可能以擦拭方式彼此接触，从而不能够挤压出渗透在结构体之间的污染物等。

具有形成在其上的多个结构体3的基体表面的动摩擦系数优选为0.85以下。0.85以下的动摩擦系数能够抑制表面的粘着性并且防止邻近的结构体彼此粘合。因此，能够抑制反射特性下降。

结构体3优选包含硅树脂和聚氨酯。具体地，基体3优选由包含硅树脂丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯的能量线固化树脂成分的共聚物构成。包含在结构体3中的硅树脂能够降低邻近的MOTH-EYE附着以及动摩擦系数。包含在结构体3中的聚氨酯实现可挠性的结构体3，从而使得材料设计处于1MPa到1200MPa的范围内。

多个结构体3具有在基体2的表面上形成多行轨迹T1、T2、T3、…（以下还被统称为“轨迹T”）的布置。在本技术中，轨迹指一系列结构体3的行。作为轨迹T的形状，可以使用线性形状、弧形形状等，并且这些形状中的轨迹T可以摆动（蜿蜒）。这些摆动的轨迹T能够抑制产生不均匀性的外形。

在摆动轨迹T的情况下，基体2上各个轨迹T的摆动优选为同步。更具体地，摆动优选为同步摆动。摆动的的同步能够保持六方网格或者准六方网格的单位网格形状，并且保持高填充比。摆动轨迹T的波形包括例如正弦波和三角形。摆动轨迹T的波形不被视为限制于周期性的波形，并且可以是非周期性波形。例如，按照±10μm的顺序选择摆动轨迹T的摆动幅度。

例如，结构体3定位在偏移了两个邻近轨迹T之间的节距的一半的位置中。具体地，在两个邻近轨迹T之间，针对一个轨迹（例如，T2）的结构体3被布置在针对另一轨迹（例如，T1）布置的结构体3的中间位置中（偏移了半个节距的位置）。结果，如图3B所示，结构体3被布置成使得具有定位在a1至a7的相应点上的结构体3的中心的六方网格图案或者准六方网格图案沿着三个邻近的轨迹行（T1至T3）形成。

本文中六方网格指等边六方网格。准六方网格指不同于等边六方网格的变形了的等边六方网格。例如，当结构体3被布置在直线上时，准六方网格指通过在线性布置的方向上（轨迹方向）拉长等边六方而发生变形的六方网格。当结构体3以蜿蜒形式被布置时，准六方网格指通过使用结构体3的蜿蜒布置使等边六方网格变形，或者通过在线性布置方向（轨迹方向）上拉伸等边六方网格并且使用结构体3的蜿蜒布置来变形六方网格从而获得六方网格。

当结构体3被布置成使得形成准六方网格图案时，在同一轨迹（例如，T1）中的结构体3的布置节距P1（例如，a1与a2之间的距离）优选为大于在两个邻近轨迹（例如，T1与T2）之间的结构体3的布置节距，即，如图3B所示，在相对于轨迹的延伸方向±θ方向上的结构体3的布置节距P2（例如，a1至a7或者a2至a7之间的距离）。结构体3中的这种布置允许进一步提高结构体3的填充密度。

尽管结构体3的特定形状包括例如锥面形状、柱状、针状、半球形状、半椭圆形状、以及多角形状，然而结构体3并不被视为局限于这些形状，并且可以采用其他形状。尽管锥面形状包括具有尖顶的锥面形状、具有平顶的锥面形状、具有包括凸状或者凹状表面的顶部的锥面形状，然而结构体3并不被视为局限于这些形状。在顶部具有凸起曲面的锥面形状的实例包括诸如具有抛物面表面的形状的二维曲面的形状。此外，顶部形状的锥面可以弯曲成凹状形状或者凸状形状。在使用后面即将描述的辊子母盘曝光装置制备辊子母盘的情况下（见图6），作为结构体3的形状，优选地采用在顶部具有凸曲面的椭圆锥面形状或者具有平顶的椭圆锥面梯形，并且使形成底部的椭圆形的长轴方向与轨迹T的延伸方向一致。

从提高反射特性的方面而言，如图4A所示，圆锥形状优选为在顶部具有平缓斜面并且从中部到底部具有逐渐陡峭的斜面。此外，从提高反射特性与透射特性的角度而言，如图4B所示，优选为在中部具有比底部和顶部的斜面更陡峭的斜面的锥面形状，或者如图4C所示的平顶的锥面形状。当结构体3具有椭圆锥面形状或者椭圆锥面梯形形状时，位于底部的长轴的方向优选为平行于轨迹延伸的方向。

如图4A和图4C所示，结构体3优选为在底部的外周缘具有在从顶部朝向底部的方向上缓慢降低高度的曲面3a。这是因为在生产光学元件1的过程中可以容易地将光学元件1从母盘等中分离。应当注意，尽管结构体3的外周缘仅是部分地设置有曲面3a，然而从分离性的提高方面而言，优选为在结构体3的整体外周缘上设置有曲面3a。

结构体3的外周优选地部分地或者全部地设置有突出5。这是因为即使在结构体3的填充比低时也能够保持低反射率。如图4A至图4C所示，在易于成形方面，突出5优选地设置在邻近的结构体3之间。可替代地，如图4D所示，伸长的突出5可整体地或者部分地设置在结构体3的外周上。例如，尽管该伸长的突出5能够在从结构体3的顶部朝向其底部的方向上延伸，然而，突出5并不被视为具体地局限于该延伸。尽管突出5的形状的实例包括在截面上为三角形状和在截面上为矩形形状，然而，该形状并不被视为具体地局限于这些形状，并且基于易于成形等选择。此外，表面在结构体3的外周可以部分或者整体地被粗糙化以形成精密的粗糙。具体地，例如，邻近结构体3之间的表面可是粗糙的以形成精细的粗糙。此外，例如，结构体3的顶部的表面可以具有形成在其中的微孔。

应当注意，尽管各个结构体3均具有图3A至图4D中相同尺寸、形状、以及高度，然而，结构体3的形状并不被视为限于此，并且具有两种或者两种以上类型的尺寸、形状以及高度的结构体3可以形成在基体的表面上。

例如，出于降低反射率的目的，结构体3规则（周期的）地以不长于光的波段的布置节距二维地布置。多个结构体3的二维布置可以在基体2的表面上形成二维波阵面。本文中的布置节距指的是布置节距P1和布置节距P2。例如，出于降低反射率的目的，光的波段是紫外光的波段、可见光的波段或者红外光的波段。在这种情况下，紫外光的波段指10nm到360nm的波段，可见光的波段指360nm到830nm的波段，以及红外光的波段指830nm到1mm的波段。具体地，布置节距优选为175nm以上且350nm以下。175nm以下的布置节距具有比较难以制备结构体3的趋势。另一方面，超过350nm的布置节距具有致使衍射可见光的趋势。

结构体3在轨迹的延伸方向上的高度H1优选地小于结构体3在行方向上的高度H2。具体地，结构体3的高度H1和H2优选地满足H1<H2关系。这是因为：当结构体3被布置成使得满足H1≥H2关系时，需要在轨迹的延伸方向上延长布置节距P1，从而降低结构体3在轨迹的延伸方向上的填充比。填充比的降低将导致反射特性降低。

结构体3的高度不受具体地限制，而是依据透射光的波长范围适当的设定，并且设定在例如236nm以上并且450nm以下的范围内，优选地为415nm以上并且421nm以下。

结构体3的长宽比（高度H/布置节距P）优选落在0.6以上且5以下的范围内，更优选为0.6以上且4以下，并最优选为0.6以上并且1.5以下。小于0.6的长宽比具有降低反射特性和透射特性的趋势。另一方面，超过5的长宽比具有降低可转印性的趋势，即使在通过将氟涂在母盘或者将诸如基于硅树脂的添加剂材料或者基于氟的添加剂材料添加到转印树脂来应用用于改进脱模性的处理。此外，当长宽比超过4时，光反射比不再有大的变化，因此，基于提高光反射比和易于脱模两方面，长宽比优选为小于等于4。当不应用如上所述的用于提高脱模性的处理时，超过1.5的长宽比具有降低转印性的趋势。

此外，基于进一步提高反射特性，结构体3的长宽比优选设定在0.94以上且1.46以下的范围内。此外，基于进一步提高透射特性，结构体3的长宽比优选设定在0.81以上且1.28以下的范围内。

应当注意，结构体3的长宽比并不限于结构体3均相同的情况，并且相应的结构体3被构造成使得具有特定的高度分布（例如，在长宽比方面，在0.83至1.46的顺序的范围内）。通过提供具有该高度分布的结构体3来减小反射特性的波长相关性。因此，可以实现具有卓越的抗反射特性的光学元件1。

本文中的高度分布指的是具有两种以上类型的高度的结构体3被设置在基体2的表面上。例如，具有参考高度的结构体3与具有不同于结构体3的参考高度的高度的结构体3均设置在基体2的表面上。例如，在这种情况下，具有不同于参考高度的高度的结构体3以周期性或者非周期性（随机）方式设置在例如基体2的表面上。例如，周期性的方向的实例包括轨迹的延伸方向与行方向。

应当注意，长宽比由本技术中的下列公式（1）定义。

长宽比=H/P（1）

其中，H：结构高度，P：平均布置节距（平均周期）

本文中的平均布置节距P由下列公式（2）定义。

平均布置节距P=（P1+P2+P2）/3(2)

然而，P1：在轨迹的延伸方向上的布置节距（在轨迹的延伸方向上周期）；P2：在相对于轨迹的延伸方向的±θ（其中，θ=60°–δ；δ优选为0°<δ≤11°，更优选地，3°≤δ≤6°）方向（θ-方向周期）上的布置节距。

此外，结构体3的高度H被视为结构体3在行方向上的高度。结构体3在轨迹延伸方向（X方向）上的高度小于结构体3在行方向（Y方向）上的高度，此外，结构体3在不同于轨迹延伸方向上的高度基本等于在行方向上的高度，因此，子波长结构体的高度以行方向上的高度表示。然而，当结构体3为凹状时，上述公式（1）中的结构体的高度H被视为结构体的深度H。

比P1/P2优选满足关系：1.00≤P1/P2≤1.1或者1.00<P1/P2≤1.1，其中，在相同轨迹中的结构体3的布置节距与在两个邻近的轨迹之间的结构体3的布置节距分别以P1和P2表示。该数字范围能够提高具有椭圆椎面或者椭圆锥面梯形的形状的结构体3的填充比，从而提高抗反射特性。

以100%为上限的基体表面上的结构体3的填充比落在65%以上的范围内，优选为73%以上，并更优选地86%以上。该范围内的填充比能够提高抗反射特性。为了提高填充比，优选地将邻近结构体3的底部彼此连结或者重叠。或者优选地通过调整结构体的底部的椭圆率提供具有变形的结构体3。

在这种情况下，结构体3的填充比（平均填充比）是以下列方式获得的值。

首先，使用扫描电子显微镜（SEM：扫描电子显微镜）从顶部拍摄光学元件1的表面。然后，从拍摄的SEM照片随机截取单元格Uc，并且针对单元格Uc测量布置节距P1和轨迹节距Tp（见图3B）。此外，通过图像处理测量定位在单元格Uc的中心处的结构体3的底面积S。然后，使用测量的布置节距P1、轨迹节距Tp、以及底部面积S从下列公式（3）中计算出填充比。

填充比=(S(六方)/S(单元))×100(3)。

单元格面积：S(单元)=P1×2Tp

单元格中结构体的底部面积：S(六方)=2S

从拍摄的SEM照片中随即截取的10点单元格符合用于计算填充比的上述处理。然后，平均（算数平均）测量值简单地计算出用于填充比的平均比，并且该平均比被视为在基体表面上的结构体3的填充比。

当结构体3彼此重叠时，或者当具有诸如结构体3之间的突出5的子结构时，通过其中由对应于结构体3的高度的5%的部分作为阈值确定的面积比的方法计算出填充比。

结构体3优选地以其底部彼此重叠的方式连接。具体地，邻近关系上的结构体3的底部优选部分地或者整体地彼此重叠，并且优选在轨迹方向、θ方向或者两个方向上彼此重叠。如上所述，彼此重叠的结构体3的底部能够提高结构体3的填充比。在具有考虑到折射率的光程长度的使用环境下，结构体优选地以小于等于光波段中的最大值的1/4彼此重叠。这是因为能够实现卓越的抗反射特性。

径向长度2r与布置节距P1的比((2r/P1)×100)为85%以上，优选为90%以上，并且更优选地为95%以上。这是因为该范围能够提高结构体3的填充比从而提高抗反射特性。如果比((2r/P1)×100)增加超过结构体3之间的重叠的增加时，则存在减少抗反射特性的趋势。因此，在基于折射率的光学距离的使用环境下，比((2r/P1)×100)的上限优选地设定成使得结构体以小于等于光波段的最大值的1/4彼此连接。在这种情况下，布置节距P1指结构体3在如图3B中所示的轨迹方向上的布置节距，其中，径向长度2r指如图3B中所示结构体的底部在轨迹方向上的的径向长度。应当注意，径向长度2r在结构体的底部为圆形时用作直径，而径向长度2r在结构体的底部为椭圆形时用作长轴。

光学元件1与贴合层5之间的折射率的差异优选为小于等于0.1。这是因为能够抑制接触面上的费涅反射以提高可视性。在结构体3与基体2之间的折射率差异以及在基体2与贴合层5之间的折射率差异优选为小于等于0.1。这是因为能够抑制接触面上的菲涅耳反射以改进可视性。光学元件1的表面粗糙度Rz优选为小于等于1.7μm。这是因为能够获得美观的外形。

基体2的后表面优选满足关系：L^*≥95；|b^*|≤0.53以及在L^*a^*b^*系统的传播色调中|a^*|≤0.05。这是因为能够抑制光学元件1的色彩，由此改进印刷材料表面的可视性。光学元件1的后表面优选满足关系L^*≥96；|b^*|≤1.9以及在L^*a^*b^*系统的传播色调中|a^*|≤0.7。这是因为能够抑制光学元件1的色彩，由此改进印刷材料表面的可视性。

【辊子母盘配置】

图5A是示出了辊子母盘的结构的实例的透视图。图5B是示出了图5A中所示辊子母盘的放大部分的平面图。图5C是示出了沿着图5B中轨迹T1、T3、…的截面视图。图5D是示出了沿着图5B中轨迹T2、T4…的截面视图。辊子母盘11是用于在上述基体表面上形成多个结构体3的母盘。辊子母盘11具有例如柱状或者圆柱状，并且柱表面或者圆柱表面用作用于在基体表面上形成多个结构体3的成形表面。多个结构体12在该成形表面上二维布置。例如，结构体12相对于成形表面具有凹形。例如，尽管玻璃能够被用作辊子母盘11的材料，然而材料并不视为具体地局限于该玻璃材料。

布置在辊子母盘11的成形表面上的多个结构体12以及布置在基体2的表面上的多个结构体3具有凹状和凸状的倒置关系。具体地，辊子母盘11上的结构体12具有与基体2上的结构体3相同的形状、布置、以及布置节距。

【曝光装置的结构】

图6是示出了用于制备辊子母盘的辊子母盘曝光装置的构造的实例的示意图。辊子母盘曝光装置具有基于光盘记录装置的构造。

激光光源21是用于曝光堆积在母盘滚筒11的表面作为记录介质的抗蚀膜的光源，并且旨在发射例如波长λ=266nm的记录激光14。从激光光源21发出的激光14作为校准束直接传播，并且进入电光元件（EOM：电子光学调节器）22。通过电光元件22传播的激光14由反射镜23反射，并且引导进入调制光学系统25。

反射镜23由偏振分束器组成，偏振分束器具有反射一个偏振分量并且传播另一偏振分量的功能。偏振分量通过反射镜23传播由光电二极管24接收，基于接收信号控制电光元件22以调制激光14的相位。

在调制光学系统25中，激光14由聚光透镜26聚光到由玻璃(二氧化硅)等组成的声光元件（AOM：声光调制器）27。激光14经过强度调制以由声音光学元件27漫射，然后由透镜28校准。从调制光学系统25出射的激光14由反射镜31反射，并且水平地、平行引导进入移动光学平台32。

移动光学平台32包括光束扩展器33和物镜34。引导进入移动光学平台32的激光14由光束扩展器33成形到期望的光束形状，然后经过物镜34照射辊子母盘11上的抗蚀剂层。辊子母盘11放置在连接到主轴电机35的转台36上。然后，通过使用激光14间歇地照射抗蚀剂层的同时转动辊子母盘11并在辊子母盘11的高度方向上移动激光14实施曝光抗蚀剂层的步骤。形成的潜像在圆周方向上具有带长轴的基本椭圆形状。通过在箭头R方向上移动光学平台32的移动来移动激光14。

曝光装置包括用于在抗蚀剂层上形成对应于图2B中所示的六方网格或者准六方网格的二维图案的潜像的控制机构37。控制机构37包括格式器29和驱动器30。格式器29包括极性反向单元，并且该极性反向单元控制使用激光14照射抗蚀剂层的定时。驱动器30响应于极性反向单元的输出控制声光元件27。

在辊子母盘曝光装置中，为了空间地链接二维图案，极性反向格式器信号与旋转控制器同步以产生用于各个轨迹的信号，并且该信号由声光元件27调制强度。通过CAV）图案化为适当的转数、适当的调制频率以及适当的节距以恒定角速度记录六方网格或者准六方网格图案。

【用于生产印刷材料的方法】

然后，将参照附图7A至图8C描述用于生产根据本技术的第一实施方式的光学元件1的方法。

(抗蚀剂沉积步骤)

首先，如图7A所示，制备柱形或者圆柱形辊子母盘11。例如，辊子母盘11是玻璃母盘。然后，如图7B所示，抗蚀剂层13形成在辊子母盘11的表面上。例如，任何有机抗蚀剂和无机抗蚀剂均可用作抗蚀剂层13的材料。例如，酚醛树脂清漆抗蚀剂和化学放大抗蚀剂可用作有机抗蚀剂。此外，一种、或者两种或者两种以上金属化合物用作无机抗蚀剂。

（曝光步骤）

然后，如图7C所示，形成在辊子母盘11的表面上的抗蚀剂层13经过激光（曝光光束）14照射。具体地，当放置在图6中所示的辊子母盘曝光装置的转台36上的辊子母盘11旋转时，使用激光（曝光光束）14照射抗蚀剂层13。在这种情况下，通过在辊子母盘11的高度方向（在平行于柱形或者圆柱形辊子母盘11的中心轴的方向上）上移动激光14同时使用激光14间歇照射抗蚀剂层13来暴露整个表面。因此，潜像15根据激光14的轨线诸如以与可见光波长相比的节距形成在抗蚀剂层13的整个表面上。

例如，潜像15被布置成使得在辊子母盘表面的表面上产生多行轨迹，并且形成六方网格图案或者准六方网格图案。例如，潜像15具有在轨迹的延伸方向上为长轴方向的椭圆形状。

（显影步骤）

然后，在旋转辊子母盘11的同时，通过滴落到抗蚀剂层13来传送显影剂使得抗蚀剂层13显影。因此，如图7D所示，多个开口形成在抗蚀剂层13上。因为与非曝光部分相比较，在用激光14曝光的曝光部分中的显影剂的溶解速率增强，所以由正性抗蚀剂形成抗蚀剂层13时，对应于潜像（曝光部分）16的图案形成在如图7D所示的抗蚀剂层13上。开口的图案为预定网格图案，诸如，六方网格图案或者准六方网格图案。

（蚀刻步骤）

然后，使用形成在辊子母盘11上的抗蚀剂层13（抗蚀剂图案）的图案作为掩膜蚀刻辊子母盘11的表面。因此，如图8A所示，凹状部分，即，获得具有长轴方向在轨迹的延伸方向上的椭圆锥面形状或者椭圆锥面梯形的结构体12。如同蚀刻，可以使用干蚀刻和湿浸蚀。在这种情况下，锥面结构体12的图案由交替地实施蚀刻和灰化来形成。

如上所述，获得目的辊子母盘11。

（转印步骤）

然后，如图8B所示，在紧密地将辊子母盘11附着到应用于基体2的转印材料16之后，由诸如来自能量线源17的紫外光能量线照射转印材料16以固化转印材料16，然后分离与固化的转印材料16耦合的基体2。因此，如图8C所示，制备具有位于基体表面上的多个结构体3的光学元件1。

只要可以使得能量线源17发射诸如电子束、紫外光、红外光、激光光束、可见光、电离辐射(X-射线、α-射线、β-射线、γ-射线等)、微波、或者高频波的能量线，能量线源17就不被视为特别受限制。

优选为使用能量线固化树脂成分作为转印材料16。优选为使用紫外线固化树脂成分作为能量线固化树脂成分。能量线固化树脂成分可根据需要包含填充剂或者功能添加剂。

能量线固化树脂成分优选包含硅树脂丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、其它聚合低聚物、单官能单体、双官能单体、多官能单体、以及引发剂。在一个分子中的侧链、末端或者侧链和末端具有两种或者两种以上的丙烯酸酯聚合不饱和基团的丙烯酸酯可以用作硅树脂丙烯酸酯。一种或者多种（甲基）丙烯酸酯基团和（甲基）丙烯酰基团可以用作丙烯酸酯聚合不饱和基团。然而，术语（甲基）丙烯酸酯基团用于指丙烯酸酯基团和甲丙烯酰基团。

例如，硅树脂丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的实例包括具有有机变形的丙烯酸基团的聚二甲硅氧烷。有机变形的实例包括聚醚变形、聚酯变形、二十烷变形、以及聚醚/聚酯变形。具体实例包括来自智索公司的SILAPLANE FM7725、来自DAICEL-CYTEC有限责任公司的的EB350和EB1360、以及来自德固赛的EGORad2100、TEGORad2200N、TEGORad2250、TEGORad2300、TEGORad2500、以及TEGORad2700。

在一个分子中的侧链、末端或其二者具有两种或者两种以上的聚合不饱和基团的丙烯酸酯可以用作聚氨酯丙烯酸酯。一种或者多种（甲基）丙烯酰基团和（甲基）丙烯酰基团可以用作丙烯酸酯聚合不饱和基团。然而，术语（甲基）丙烯酰基团可以用于指丙烯酸基团和甲基丙烯酸基团。

例如，聚氨酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯聚氨酯、脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯甲基丙烯酸酯、芳香族聚氨酯丙烯酸酯、芳香族聚氨酯甲基丙烯酸酯，例如，来自沙多玛股份有限公司的等功能的聚氨酯丙烯酸酯寡聚体CN系列：CN980、CN965、CN962可以用作聚氨酯丙烯酸酯。

已知的低聚物可用作其他的聚合低聚物，并且包括诸如聚酯丙烯酸酯低聚物、聚聚氨酯丙烯酸酯低聚物、以及环氧丙烯酸酯低聚物。

例如，单官能单体的实例可包括羧酸(丙烯酸)、羟基丙烯酸酯（2-羟乙基丙烯酸酯、2-羟丙基丙烯酸酯、4-羟丁基丙烯酸酯）、烷基、脂环丙烯酸酯（丙烯酸酸异丁酯、t-丙烯酸丁酯、异辛基丙烯酸酯、十二醇丙烯酸酯、十八酰丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸酯、环己基丙烯酸酯），其它功能单体（2-甲乙基丙烯酸酯、甲乙基乙烯乙二醇丙烯酸酯、2-乙氧乙烷丙烯酸酯、氢糠丙烯酸酯、丙烯酸苄酯、乙烷基卡必醇丙烯酸酯、苯氧乙烷丙烯酸酯、N,N-丙烯酸二甲氨基乙酯、N,N-二甲基氨丙烷丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺丙烯酰吗啉、N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酸酯、N-乙烯吡咯烷酮、2-(一氟辛基)丙烯酸乙酯、3-一氟己基-2-羟丙基丙烯酸酯、3-一氟辛基-2-羟丙烷基丙烯酸酯、2-(一氟乙酸)丙烯酸乙酯、2-(一氟-3-甲丁基)丙烯酸乙酯、2,4,6-三溴酚甲基丙烯酸酯、2-(2,4,6-三溴酚)丙烯酸乙酯、以及2-丙烯酸乙基己酯酯。

例如，双官能单体的实例包括三个（丙二醇）二丙烯酸酯、三甲氧基二烯丙基醚、并且聚氨酯丙烯酸酯。

例如，多官能单体的实例包括例如三甲基色胺酸、一缩二季戊四醇五-和六亚甲基四胺-丙烯酸酯、以及一缩二季戊四醇四丙烯酸酯。

转印材料优选包含亲水材料。亲水单体的实例包括丙烯酰胺及其衍生物、乙烯吡咯烷酮、以及丙烯酸、甲基丙烯酸及其衍生物、以及包含作为主要成分的水溶性单体的共聚物。例如，实例包括，但不限于N-甲基丙烯酰胺、N、N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰胺、丙烯酰吗啉、2-羟乙基丙烯酸酯、N、N-丙烯酸二甲氨基乙酯、乙烯吡咯烷酮、2-异丁烯酰乙烷基磷酸胆碱、2-异丁烯酰乙烷基-D-葡萄糖苷、2-异丁烯酰乙烷基-D-甘露糖苷、以及乙烯基·甲基醚乙烯基·甲基醚。此外，通过使用如氨基、羧基、以及羟基代表的具有高的极性官能团可实现类似的效果。

此外，尽管亲水聚合物不受具体地限制，然而，亲水聚合物的优选主链结构的实例包括丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚亚安酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚脂树脂、合成橡胶、以及天然橡胶，具体地，丙烯酸类树脂与甲基丙烯酸树脂为优选，因为其卓越地粘合到通用树脂，并且鉴于固化等丙烯酸类树脂更为优选。亲水聚合物可以是共聚物。

亲水聚合物的特定实例包括已知的亲水树脂，并且优选为诸如包含羟基的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯或者在骨架中包含乙二醇的重复单元的丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯。亲水聚合物的更多具体实例包括甲氧基聚乙二醇单甲碘化丙烯酸酯、乙氧基化甲基丙烯酸羟乙酯、聚丙二醇单甲碘化丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯以及乙氧基化三甲基丙烷三丙烯酸酯。

引发剂的实例可包括例如，2,2-甲氧基-1,2-联苯乙烷-1-在上、1-羟基-环己苯基酮以及2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-一个。

例如，任何无机微粒和有机微粒均可用作填充剂。例如，无机微粒包括诸如二氧化硅、二氧化钛、二氧化锆、二氧化锡、三氧化二铝的金属氧化物微粒。

例如，功能添加剂的实例可包括均化剂、表面调整剂、以及防沫剂。

例如，用于基体2的材料包括甲基丙烯酸甲酯(钴)聚合体、聚碳酸酯、苯乙烯(钴)聚合体、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、纤维素二醋酸酯、三乙酸纤维素、乙丁纤维素、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚乙烯砜、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯钛酸酯、芳族聚酰胺、聚乙烯、聚丙烯酸酯、丙烯酸类树脂、环氧树脂、尿素甲醛树脂、诸如聚聚氨酯、三聚氰胺树脂、聚碳酸酯聚合体、以及聚碳酸酯共聚物等聚氨酯树脂。用于基体2的材料包括无机材料形式的石英、蓝宝石、玻璃、以及粘土膜。

当聚合物材料用作基体2的材料时，基体2的厚度在产量方面优选为3μm到500μm。但是并不被视为具体地局限于该范围。

例如，表面调整剂的实例可包括表面润滑剂。表面润滑剂的实例可包括已知的润滑剂，例如，优选为二甲基硅树脂、氟基添加剂、酯润滑剂、以及酰胺添加剂。在给予亲水性的情况下，优选为聚醚变形的二甲基硅树脂。

用于形成基体2的方法不具体地限制，并且基体2可以是注射模制品、挤压模制品或者浇铸模制品。如果需要，基体表面可以被经过诸如电晕处理等表面处理。

应当注意，在制备高长宽比结构体3的情况下（例如，制备具有大于等于1.5并且小于等于5的长宽比的结构体3），优选为将诸如硅树脂基脱模剂或者氟基脱模剂等脱模剂应用到诸如辊子母盘11的母盘的表面，以改进诸如辊子母盘11的母盘的脱模性。此外，优选为将诸如氟基添加剂材料或者硅树脂基添加剂材料等添加剂添加到转印材料16中。

（贴合步骤)

然后，如图8D所示，利用贴合层将制备的光学元件1附着到印刷材料体6的表面，贴合层5插入到光学元件1与印刷材料体6之间。该附着提供目的印刷材料10。应当注意，贴合层5可以预先形成在光学元件1的后表面上。在这种情况下，优选为在贴合层5表面进一步提供用于保护贴合层5的保护层，分离出保护层从而将贴合层5附着到印刷材料体6的表面。在采用预先形成在如上所述的光学元件1的后表面上情况下，贴合层5的情况下，贴合层5优选包含作为其主要成分的粘合剂。

根据第一实施方式，因为包括设置在不长于可见光的波长的精细节距的多个结构体3的光学元件1被附着到印刷材料体6，所以能够抑制印刷材料10的表面上的反射。因此，能够改进印刷材料10的印刷图像的对比度。此外，结构体3具有调整到大于等于0.6并且小于等于5的长宽比，因此能够抑制反射特性和传播性的降低，并且能够进一步抑制结构体3的可转印性降低。

当结构体3的弹性模数被调整到大于等于1MPa并且小于等于1200MPa时，优选为大于等于5MPa并且小于等于1200MPa，能够抑制由邻近的结构体彼此粘合而导致的反射特性降低，并且挤出和擦拭掉渗透在结构体3之间的污染物。此外，当设置有多个结构体3的光学元件的表面具有被调整到小于等于0.85的动摩擦系数时，能够抑制由于邻近的结构体彼此粘合而导致的反射特性降低。

现在将描述在以上述方式产生的粘合到光学元件1的表面上的情况下污染物的移除。图16A至图16C是用于说明在粘合到光学元件1的表面的情况下移除污染物的示意性简图。如图16A所示，当手触摸到光学元件1的表面时，指纹的污染物就粘合到结构体3之间。如图16B所示，当外力施加到这种状态下的光学元件1的表面上时，由于结构体3具有可挠性，结构体3的可挠性形变使得邻近结构体3彼此接触。因此，粘合在结构体3之间的污染物被挤出到外部，指纹的污染物能够因此被移除。可替代地，在水擦拭的情况下，该变形易于允许水渗透，因此将污染物移除。然后，如图16C所示，在擦拭之后，可挠性力使得结构体3的形状恢复到原状态。

<2.第二实施方式>

【光学元件的结构】

图9A是示出了根据本技术的第二实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图9B是示出了图9A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图9C是沿着图9B中的轨迹T1、T3…的截面视图。图9D是沿着图9B中所示的轨迹T2、T4…的截面视图。

根据第二实施方式的光学元件1与根据第一实施方式的光学元件1的不同在于多个结构体3在邻近三行轨迹T之间产生四方网格图案或者准四方网格图案。

本文中的四方网格指等边四角形网格。准四方网格指经过变形的等边四角形网格，不同于等边四角形网格。例如，当结构体3布置成一条线时，准四方网格指通过在线性布置方向（轨迹方向）上拉动等边四角形网格变形的四方网格。当结构体3布置成蜿蜒形式时，准四方网格指通过使用结构体3的蜿蜒布置来变形等边四角形网格而获得的正四方形网格。可替代地，准四方网格指通过在线性布置方向（轨迹方向）上拉动等边梯形网格而变形的四方形网格，以及利用结构体3的蜿蜒布置变形网格。

在同一轨迹中的结构体3在的布置节距P1优选为长于在两个邻近轨迹之间的结构体3的布置节距P2。此外，P1/P2优选满足关系：1.4<1/P2≤1.5，其中，在同一轨迹中的结构体3的布置节距与在两个邻近轨迹之间的结构体3的布置节距分别以P1和P2表示。该数字范围能够提高具有椭圆椎面或者椭圆锥面梯形的形状的结构体3的填充比，并由此提高抗反射特性。此外，结构体3在相对于轨迹的45度方向或者约45度方向上的高度或者深度优选为比结构体3在轨迹的延伸方向上的高度或者深度小。

结构体3在关于轨迹的延伸方向偏斜的布置方向（θ方向）上的高度H2优选为小于结构体3在轨迹的延伸方向上的高度H1。更具体地，结构体3的高度H1和H2优选满足关系：H1>H2。

当结构体3形成四方网格或者准四方网格图案时，结构底部的椭圆率e优选为150%≤e≤180%。该范围能够提高结构体3的填充比，并且实现卓越的抗反射特性。

在基体表面上结构体3的填充比落在大于等于65%的范围（将100%作为上限）内，优选为大于等于73%，并且更优选为大于等于86%。该范围中的填充比能够提高抗反射特性。

在这种情况下，结构体3的填充比（平均填充比）是以下列方式获得的值。

首先，使用扫描电子显微镜（SEM：扫描电子显微镜）从顶部拍摄光学元件1的表面。然后，从拍摄的SEM照片中随机绘制单元格Uc，并且测量针对单元格Uc的布置节距P1和轨迹节距Tp(见图9B）。此外，通过图像处理测量包含在单元格Uc中的任何四个结构体3的底部面积S。然后，使用测量的布置节距P1、轨迹节距Tp、以及底部面积S从以下公式（4）中计算出填充比。

填充比=(S四变形)/S(单元))×100(4)

单元格面积：S(单元)=2×((P1×Tp)×(1/2))=P1×Tp

单元格中的底部面积：S(四边形)=S

从拍摄的SEM照片中随即绘制的10点的单元格符合用于计算填充比的上述处理。然后，平均（算数平均）测量值简单的计算出用于填充比的平均比，即用于填充比的平均比，并且该平均比被视为在基体表面上的结构体3的填充比。

径向长度2r与布置节距P1的比率((2r/P1)×100)为大于等于64%，优选为大于等于69%，并且更优选为大于等于73%。这是因为该范围能够提高结构体3的填充比从而提高抗反射特性。在这种情况下，布置节距P1指结构体3在轨迹方向上的布置节距，其中，径向长度2r指结构体的底部在轨迹方向上的径向长度。应当注意，径向长度2r用作在结构体的底部是圆形时的直径，但在结构体的底部是椭圆形时，径向长度2r用作长轴。

根据第二实施方式，可以实现如同在第一实施方式中的相同效果。

<第三实施方式>

图10A是示出了根据本技术的第三实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图10B是示出了图10A中所示的光学元件的放大部分的平面图。图10C是沿着图10A中所示线A-A的截面视图。

根据第三实施方式的光学元件1与根据第一实施方式的光学元件1的不同在于多个结构体3是以随机（不规则）方式二维布置。此外，结构体21在形状、尺寸、以及高度中至少一个方面可以进一步以随机方式改变。

除了上述情况，适用于第一实施方式的情况同样适用第三实施方式，。

关于制备光学元件1的母盘，例如，可以使用其中铝基体的表面经过阳极处理的方法，但是该实施方式并不被视为局限于该方法。

因为在第三实施方式中多个结构体3以随机方式二维布置，所以能够抑制在外形上产生的不均匀性。

<4.第四实施方式>

图11A是示出了根据本技术的第四实施方式的光学元件的结构的实例的平面图。图11B是示出了图11A中所示的光学元件的放大部件的平面图。图11C是沿着图11B中轨迹T1、T3…的截面视图。图11D是沿着图11B中轨迹T2、T4…的截面视图。

根据第四实施方式的光学元件1与根据第一实施方式的光学元件1的不同在于大量的凹状结构体3布置在基体表面上。结构体3的形状为通过将根据第一实施方式的结构体3的凸状形状翻转获得的凹状形状。应当注意，当结构体3具有如上所述的凹状形状时，凹状结构体3的开口（凹状部分的凹状入口）被定义为底部，其中，基体2在深度方向的最底部分（凹状部分的最深部分）被定义为顶端。具体地，顶部和底部由结构体3定义为非独立存在的空间。此外，在第四实施方式中，因为结构体3为凹状，所以结构体3的在公式（1）中的高度等对应于结构体3的深度H。

如第一实施方式一样的应用于第三实施方式，但上述情况除外。

在第四实施方式中，因为在第一实施方式中凸状结构体3的形状翻转以提供凹状形状，所以能够实现类似于在第一实施方式中的效果。

<5.第五实施方式>

除了形成结构体3的树脂材料的弹性模数的数字范围，或者代替形成结构体3的树脂材料的弹性模数的数字范围之外，根据第五实施方式的光学元件与根据第一实施方式的光学元件的不同在于指定了包含在结构体3中的树脂材料的交联密度的数字范围。

包含在结构体3中的树脂材料的交联密度落在5.1mol/L以下的范围内，优选为0.8mol/L以上且5.1mol/L以下。5.1mol/L以下的交联密度使得交联间距离更长，并且提供具有可挠性的树脂材料。因此，可以排出并且擦拭掉诸如指纹等污染物。应当注意，因为交联密度的相互作用对应于交联间分子量，在交联密度降低时（即，交联密度的的相互作用降低），所以交联间距离变得更长。另一方面，小于等于0.8mol/L的交联密度显著降低涂膜的抗磨损性，由此涉及由于擦拭产生的刮擦。尽管交联包括化学交联和物理交联，然而优选地使用化学交联。

此外，光学元件1的表面优选地被制成进一步亲水。这是因为亲水性使得可以擦拭掉由于排出效果和通过用含水织品例如一次或者两次摩擦以水分代替产生的污染物。在光学元件1的亲水性表面上的水接触角优选为110度以下，具体地，30度以下。

现在，将参照图17描述用于计算结构体3的交联密度的方法。树脂材料的交联密度具有如图17所示的温度关系。树脂材料的交联密度与树脂材料的条件相关联，并且基于温度范围将交联密度划分成四个区域：玻璃区域、过度区域、橡胶区域、以及流动区域。在这些区域之中，橡胶区域中的交联密度由以下公式表示。

N=E’/3RT

（在公式中，n表示交联密度(mol/L)，E'表示存储弹性模数(Pa)，R表示气体常数(Pa·L/K·mol)，并且T表示绝对温度(K)。）

因此，使用上述公式能够根据存储弹性模数E'和绝对温度计算出交联密度。

当包含在结构体3中的树脂材料的交联密度落在上述数字范围内时，包含在结构体3中的树脂材料的交联间平均分子量优选落在400与60000之间的范围内，更优选为在500与10000之间，进一步优选为在700与1500之间。与仅限制交联密度的数字范围为小于等于5.1mol/L的情况相比较，小于等于5.1mol/L的交联密度与大于等于400的交联间平均分子量能够进一步提高擦拭能力。另一方面，大于等于0.8mol/L的交联密度和小于等于60000的交联间密度平均分子量能够提高擦拭能力，并且抑制刮擦涂膜。在这种情况下，当有关聚合反应中的树脂原材料为三种官能或三种官能以上时，包含在结构体3中的树脂材料的交联间平均分子量指通过对包含在聚合反应中的树脂原材料（例如，诸如低聚物）的平均分子量按照平均数量的功能基团进行划分而获得的值。当有关聚合反应中的树脂原材料为双官能时，树脂原材料的平均分子量被视为交联间平均分子量。然而，有关聚合反应中的树脂原材料被视为不包括单官能的树脂原材料。

结构体3优选包含作为其主要成分的直链型聚合物。这是因为能够提高擦拭能力。例如，直链型聚合物是以一维链式形式存在的具有带有两个（甲基）丙烯酸酯基团的化合物的链聚合物。该化合物优选为具有两个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物。本文中（甲基）丙烯酸酯基团指任何丙烯酸酯基团和甲基丙烯酸酯基团。

例如，结构体3通过对紫外线固化树脂进行固化而获得。包含在紫外线固化树脂中的树脂成分优选包含作为其主要成分的具有两个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物以及具有三个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物中的至少一种，更优选包含作为其主要成分的具有两个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物。当成分包含作为其主要成分的具有两个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物以及具有三个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物中的至少一种时，交联间平均分子量被调整到大于等于400。包含作为其主要成分的具有两个（甲基）丙烯酸酯基团的低聚物的成分能够实现大于等于400的交联间平均分子量，并且抑制作为转印材料的紫外线固化树脂的粘性的增加，以提高作为转印材料的紫外线固化树脂的可转印性。本文中低聚物指具有大于等于400并且小于等于60000的分子量的分子。

为了调整结构体3的弹性模数，紫外线固化树脂进一步包含具有（甲基）丙烯酸酯基团的化合物（例如，单体和/或低聚物）和/或不包含在聚合反应中的树脂材料（例如，单体和/或低聚物）。

【实例】

尽管下面将参照实例具体描述本技术，然而，本技术并不被视为仅限制于这些实例。

在下列实例和比较例中，紫外线固化树脂合成物A至F指以下的混合组成。

（紫外线固化树脂成分A）

光固化树脂 97%质量

光化聚合引发剂 3%质量

（紫外线固化树脂成分B）

聚氨酯丙烯酸酯混合物 92%质量

光化聚合引发剂 3%质量

吸水的涂层材料 5%质量

(紫外线固化树脂成分C）

光固化树脂

第一光化聚合引发剂

第二光化聚合引发剂

（紫外线固化树脂成分D）

聚氨脂丙烯酸酯混合物

第一光化聚合引发剂

第二光化聚合引发剂

吸水的涂层材料 5%质量

（红外线固化树脂成分E）

光固化树脂 97%质量

光化聚合引发剂 3%质量

（紫外线固化树脂成分F）

聚氨酯丙烯酸酯混合物 92%质量

光化聚合引发剂 3%质量

吸水的涂层材料 5%质量

将按照下列研究顺序描述实例、比较例、以及测试例。

1.亮度与对比度(实例1，比较例1）

2颜色空间(实例2，比较例2）

3耐用性(实例3，比较例3）

4表面粗糙度(实例4和5，比较例4和5）

5.使用聚合引发剂的L*a*b*染色性的变化（测试例1至6）

6.用于薄膜的L*a*b*染色性（测试例7至15）

7.折射率中的差异（测试例16-1至20-3）

8.膨胀系数（测试例21至23）

9.擦拭能力（测试例24至35）

<1亮度并且对比度>

（实例1）

首先，制备外直径是126mm的玻璃辊子母盘，并且抗蚀剂膜以下列方式设置在玻璃母盘的表面上。具体地，光致抗蚀剂稀释剂稀释到1/10，并且稀释的抗蚀剂通过浸渍到玻璃辊子母盘的圆柱形表面来以大约130nm的厚度应用于沉积抗蚀剂薄膜。然后，作为记录介质的玻璃母盘被传输到图6所示的辊子母盘曝光装置，并且曝光抗蚀剂以获得图案化在抗蚀剂中的潜像，潜像布置成螺旋形并且在三个邻近轨迹之间呈现准六方网格图案。

具体地，具有即将形成的准六方网格图案的区域经过用于暴露玻璃辊子母盘的表面的功率是0.50mW/m激光照射从而形成凹状的准六方网格图案。应当注意，抗蚀剂厚度在轨迹行的行方向上大约是120nm，而抗蚀剂厚度在轨迹的延伸方向上大约为100nm。

然后，玻璃辊子母盘上的抗蚀剂经过显影处理以将抗蚀剂溶解于显影的暴光区域中。具体地，未显影的玻璃辊子母盘放置在显影机器的转台上（未示出），并且当旋转整个转台，通过滴落到玻璃辊子母盘的表面上交付显影剂以在表面上显影抗蚀剂。因此，使用泄露在准六方网格图案打中的抗蚀剂获得抗蚀剂玻璃母盘。

然后，通过干蚀刻交替地实施蚀刻工艺和灰化工艺以在顶部具有凸弯曲面的椭圆锥面形状中获得凹状。在该情况下的图案中的蚀刻量(深依)跟据蚀刻时间变化。最后，通过氧气灰化完全地将光致抗蚀剂移除以获得凹状的准六方网格图案的MOTH-EYE玻璃辊子母盘。在行方向上的凹状深度比在轨迹的延伸方向上的凹状深度大。

然后，制备紫外线固化树脂成分B。然后，制备作为基体的具有75μm厚度的丙烯酸薄膜（来自Sumitomo Chemical Co.,Ltd.，商标名称：TEKUNOROI S001）。然后，将几μm厚度的紫外线固化树脂成分B应用到丙烯酸薄膜中，然后，将MOTH-EYE玻璃辊子母盘紧密地附着到应用表面，并在通过紫外线照射来固化成分B时分离出MOTH-EYE玻璃滚筒母，从而制备MOTH-EYE薄膜。在这种情况下，基底层通过调整位于应用表面上的MOTH-EYE玻璃辊子母盘的压力，来形成在结构体与丙烯酸酯薄膜之间。

然后，在原子力显微镜（AFM：原子力显微镜）下观察制备的MOTH-EYE薄膜的表面。然后，根据在AFM下的截面图计算出结构体的节距和长宽比。结果，节距为250nm并且长宽比为1.0。

然后，制备印刷纸，并且经过印刷以形成白色区域和黑色区域。

然后，制备的MOTH-EYE薄膜附着到具有粘合薄片的印刷纸的印刷图像表面（来自Sony Chemical&Information Device Corporation）。因此，获得根据实例1的目的印刷纸。

（比较例1）

然后，制备印刷纸，并且使用其本身作为根据比较例1的印刷纸。

(反射率)

使用可见紫外分光光度计（来自JASCO Corporation，商标号：V-500）测量根据实例1和比较例1的用于印刷纸表面的反射光谱。图12A示出了550nm波长的反射率。

(亮度)

评估根据实例1和比较例1的印刷纸的白色亮度和黑色亮度。结果如表1所示。

(对比度）

评估根据实例1和比较例1的印刷纸的对比度。结果如表1所示。

表1示出了根据实例1和比较例1的对印刷纸的亮度和对比度的评估结果。

【表1】

	结构	白色亮度	黑色亮度	对比度
					实例1	印刷纸、MOTH-EYE薄膜	79.94	0.95	84.34
比较例1	印刷纸	81.06	5.39	15.04

从图12A中确定以下结论。

与不附着MOTH-EYE薄膜的比较例1比较，附着MOTH-EYE薄膜的实例1能够充分降低反射率。因此，将MOTH-EYE薄膜附着到照相纸能够充分改进照相纸的可视性。

从表1中确定以下结论。

当在附着MOTH-EYE薄膜的实例1与不附着MOTH-EYE薄膜的比较例1之间比较评估结果时，两者均具有几乎相同的白色亮度，但是，黑色亮度基本不同。结果，实例1中的对比度与比较例1中的对比度的比率（对比度比率）接近5.6。具体地，与比较例1相比，实例1中的印刷图像具有增强的可视性。

<2.颜色空间>

（实例2）

首先，制备印刷纸，在该印刷纸上印刷RGB（红色、绿色、以及蓝色）。然后，使用粘合薄片（来自Sony Chemical&Information Device Corporation）以实例1中的相同方式将制备的MOTH-EYE薄膜附着到经过印刷的印刷纸的表面。因此，获得根据实例2的目的印刷纸。

(比较例2）

然后，制备印刷纸，并且将其本身用作根据比较例2的印刷纸。

（颜色空间的评估）

评估根据实例2和比较例2的印刷纸的L*a*b*颜色空间。结果如图12B所示。

从图12B中确定以下结论。

与不附着MOTH-EYE薄膜的实例1比较，在附着MOTH-EYE薄膜的实例2中的颜色坐标区域更大。因此，将MOTH-EYE薄膜附着到照相纸能够放大照相纸的颜色空间。

<3.耐用性>

（实例3）

首先，以上述实例1中的相同方式制备MOTH-EYE薄膜。然后，制备晶体印刷照片，并且使用粘合薄片（来自Sony Chemical&Information Device Corporation）将MOTH-EYE薄膜附着到照片的表面上。因此，获得根据实例3的目的照片。

（比较例3）

制备晶体印刷照片，并且使用其本身作为根据比较例3的照片。

(干擦拭)

根据实例3与比较例3的印刷纸经过干燥擦拭测试。结果如表2所示。

（水擦拭）

根据实例3与比较例3的印刷纸经过水擦拭测试。结果如表2所示。

(铅笔硬度)

根据实例3与比较例3的印刷纸经过铅笔硬度测试。结果如表2所示。

表2示出了针对根据实例3和比较例3的印刷纸的干擦拭测试和水擦拭测试的结果以及铅笔硬度测量的结果。

【表2】

从表2中确定以下结论。

与不附着的MOTH-EYE薄膜的比较例3比较，在附着MOTH-EYE薄膜的实例中能够提高表面的耐用性。

<4.表面粗糙度>

（实例4）

首先，以上述实例1中的相同方式制备MOTH-EYE薄膜。然后，在普通纸基体上制备照片，并且使用粘合剂薄片（来自Sony Chemical&Information Device Corporation）将MOTH-EYE薄膜附着到照片的表面上。因此，获得根据实例4的目的照片。

（实例5）

首先，以上述实例1中的相同方式制备MOTH-EYE薄膜。然后，制备晶体印刷图片，并且使用粘合剂薄片（来自自Sony Chemical&Information Device Corporation）将MOTH-EYE薄膜附着到照片的表面上。因此，获得根据实例5的目的照片。

（比较例4)

在普通纸基体上制备照片，并且使用其本身作为根据比较例4的照片。

（比较例5）

制备晶体印刷照片，并且使用其本身作为根据比较例5的照片。

(表面粗糙度）

对于根据实例4和5以及比较例4和5的照片，使用几何测量机器（SURFCORDER）（来自Kosaka Laboratory Ltd.,商标号:ET4000）测量表面粗糙度。结果如表3所示。

（视觉检查）

在视觉上观察并且评估根据实例4和5以及比较例4和5的照片的表面。结果如表9所示。应当注意，由三名观察者基于下列标准进行评估。

⊙:根本没有相关的照片表面粗糙

○：没有发现任何照片表面粗糙，除非仔细观察。

×：相对容易发现照片表面粗糙。

应当注意，在评估结果为“○”或者“⊙”的照片中，能够给出无关粗糙度的美观的印象。

表3示出了测量根据实例4和5以及比较例4和5的照片的表面粗糙度的结果。

【表3】

从表3中确定以下结论。

与普通纸基体上的照片相比较，将MOTH-EYE薄膜附着到普通纸基体上的照片能够实现美观的表面。此外，与晶体印刷照片相比较，将MOTH-EYE薄膜附着到晶体印刷照片能够实现美观的表面。

<5.使用光化聚合引发剂的L*a*b*染色性的变化>

（测试例1）

除非使用紫外线固化树脂成分A，否则，以实例1中的相同方式获得MOTH-EYE薄膜。

（测试例2）

除非使用紫外线固化树脂成分B，否则，以实例1中的相同方式获得MOTH-EYE薄膜。

（测试例3）

除非使用紫外线固化树脂成分C，否则，以实例1中的相同方式获得MOTH-EYE薄膜。

（测试例4）

除非使用紫外线固化树脂成分D，否则，以实例1中的相同方式获得MOTH-EYE薄膜。

（测试例5）

除非使用紫外线固化树脂成分E，否则，以实例1中的相同方式获得MOTH-EYE薄膜。

（测试例6）

除非使用紫外线固化树脂成分F，否则，以实例1中的相同方式获得MOTH-EYE薄膜。

(透射色调)

将根据测试例1至实例6的MOTH-EYE薄膜作为测试样本，使用可见紫外分光光度计（来自JASCO Corporation，商标号：V-500）测量可见光周围的波长范围（350nm到800nm）内的透射光谱以表示L^*a^*b^*系统中的颜色。结果如表4所示。

(色彩）

在视觉上观察根据测试例1至测试例6的MOTH-EYE薄膜对色彩评估。结果如表4所示。应当注意，由三名观察者基于以下标准完成评估。

⊙：根本没有相关的色彩

○：没有发现色彩，除非仔细观察。

×：相对容易发现色彩

表4示出了评估根据测试例1至测试例6的MOTH-EYE薄膜的透射色调和色彩的结果。

【表4】

从表4中确定以下结论。

当在形成的MOTH-EYE结构体的表面相反的表面上的L*a*b*系统中传的输色调满足关系：L*≥96；并且|a*|≤0.7，b*|≤1.9时，能够抑制MOTH-EYE薄膜的色彩。

<6.用于薄膜的L*a*b*染色性>

（测试例7）

制备厚度为100μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例7的光学薄膜。

（测试例8）

制备厚度为200μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例8的光学薄膜。

（测试例9）

制备厚度为300μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例9的光学薄膜。

（测试例10）

制备厚度为400μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例10的光学薄膜。

（测试例11）

制备厚度为100μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例11的光学薄膜。

（测试例12）

制备厚度为100μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例12的光学薄膜。

（测试例13）

制备厚度为200μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例13的光学薄膜。

（测试例14）

制备厚度为150μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例14的光学薄膜。

（测试例15）

制备厚度为75μm的聚氨酯薄膜，并且用作根据测试例15的光学薄膜。

（透射色调）

将根据测试例7至测试例15的光学薄膜作为测试样本，使用可见紫外分光光度计（来自JASCO Corporation，商标号：V-500）测量可见光周围的波长范围（350nm到800nm）内的透射光谱以表示L^*a^*b^*系统中的色彩。结果如表5所示。

（色彩）

在视觉上观察根据测试例7至测试例15的光学薄膜以对颜色评估。结果如表5所示。应当注意，由三名观察者基于以下标准完成评估。

⊙：根本没有相关色彩

○：没有发现色彩，除非仔细观察。

×：相对容易发现色彩

表5示出了根据测试例7至测试例15的对光学薄膜的透射色调和色彩进行评估的结果。

从表5中确定以下数据。

当L*a*b*系统中的透射色调满足关系：L*≥95；并且|a*|≤0.7；|b*|≤1.9时，能够抑制光学薄膜的色彩。

<7.折射率的差>

（测试例16-1）

按照以下方式，计算出用于由MOTH-EYE结构体（折射率n=1.3）、基体（折射率n=1.3至1.7）、以及粘合层（折射率n=1.3至1.7）构成的板层小体的光反射比R。

首先，按照下列方式计算出MOTH-EYE结构体表面的光反射比R。首先，以实例1中的相同方式制备MOTH-EYE薄膜。然后，通过将黑胶带附着到作为样本的MOTH-EYE薄膜的后表面（与形成的MOTH-EYE结构体的表面相对的表面）实施切断从MOTH-EYE薄膜的后表面反射的处理。然后，使用可见紫外分光光度计（来自JASCO Corporation，商标号：V-500）测量反射光谱。结果如图13所示。在该测量中，使用单向反射5度单元。然后，根据测量的反射光谱的JIS Z8701-1982计算出光反射比R1。

然后，通过光学模拟计算出MOTH-EYE结构体与基体之间的接触面的光反射比R2。

然后，通过下列方式的光学模拟计算出结构体与粘合层之间接触面的光反射比R3。

简单地求和按照上述方式计算出的光反射比R1、R2、以及R3以获得用于板层小体的光反射比R(R1+R2+R3)。

（测试例16-2）

然后，计算出用于由通过干燥工艺制备的抗反射（AR：抗反射）层（折射率n=1.3）、基体（折射率n=1.3至1.7）、以及粘合层（折射率n=1.3至1.7）构成的板层体的光反射比R。

应当注意，以测试例16-1中的相同方式计算出光反射比R，除了以通过干燥工艺制备的抗反射层表面的光反射比R1代替MOTH-EYE结构体表面的光反射比R1。

（测试例16-3）

然后，计算出用于由通过湿法工艺制备的抗反射（AR：抗反射）层（折射率n=1.3）、基体（折射率n=1.3至1.7）、以及粘合层（折射率n=1.3至1.7）构成的板层小体的光反射比R。

应当注意，以测试例16-1中的相同方式计算出光反射比R，除了以通过湿法工艺制备的抗反射层表面的光反射比R1代替MOTH-EYE结构体表面的光反射比R1。

（测试例17-1）

除MOTH-EYE结构体的折射率n被调整到1.4外，以测试例16-1中的相同方式计算出用于板层小体的光反射比R。

（测试例17-2）

除通过干燥工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.4外，以测试例16-1中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例17-3）

除通过湿法工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.4外，以测试例16-3中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例18-1）

除MOTH-EYE结构体的折射率n被调整到1.5外，以测试例16-1中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例18-2）

除通过干燥工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.5外，以测试例16-2中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例18-3）

除通过湿法工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.5外，以测试例16-3中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例19-1）

除MOTH-EYE结构体的折射率n被调整到1.6外，以测试例16-1中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例19-2）

除通过干燥工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.6外，以测试例16-2中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例19-3）

除由湿法工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.6外，以测试例16-3中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例20-1）

除MOTH-EYE结构体的折射率n被调整到1.7外，以测试例16-1中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（测试例20-2)

除通过干燥工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.7外，以测试例16-2中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

(测试例20-3）

除通过湿法工艺制备的抗反射层的折射率n被调整到1.7外，以测试例16-3中的相同方式计算出用于板层体的光反射比R。

（光反射比的评估）

基于如下所示的测试例16-2和16-3、测试例17-2和17-3、测试例18-2和18-3、测试例19-2和19-3、以及测试例20-2和20-3中的光反射比分别评估根据测试例16-1、测试例17-1、测试例18-1、测试例19-1、以及测试例20-1的板层小体的光反射比。结果如表6至10所示。

⊙：包括MOTH-EYE结构体（测试例16-1、测试例17-1、测试例18-1、测试例19-1、以及测试例20-1）的板层体的光反射比比包括通过干燥工艺制备的抗反射层的板层体（测试例16-2、测试例17-2、测试例18-2、测试例19-2、以及测试例20-2）的光反射比R低。

○：包括MOTH-EYE结构体（测试例16-1、测试例17-1、测试例18-1、以及测试例19-1）的板层小体的光反射比R比包括通过湿法工艺制备的抗反射层的板层体（测试例16-3、测试例17-3、测试例18-3、测试例19-3、以及测试例20-3）的光反射比R低。

表6示出了评估根据测试例16-1至测试例16-3的板层小体的光反射比的结果。

【表6】

MOTH-EYE结构体n=1.3

表7示出了评估根据测试例17-1至测试例17-3的测试小体的光反射比的结果。

【表7】

MOTH-EYE结构体n=1.4

表8示出了评估根据测试例18-1至测试例18-3的板层小体的光反射比的结果。

【表8】

MOTH-EYE结构体n=1.5

表9示出了评估根据测试例19-1至测试例19-3的板层体的光反射比的结果。

【表9】

MOTH-EYE结构体n=1.6

表10示出了评估根据测试例20-1至测试例20-3的板层小体的光反射比的结果。

【表10】

MOTH-EYE结构体n=1.7

从表6至10确定以下结论。

MOTH-EYE结构体与基体之间的折射率的差ΔR与基体与粘合层之间的折射率的差ΔR可被调整到小于等于0.1以减少各个层之间的界面的费涅反射，从而实现卓越的可视性。

<8.膨胀系数>

（测试例21）

通过有限元素方法分析由于环境改变引起的印刷纸的卷曲量。分析结果如表12所示。应当注意，ANSYS（来自ANSYS,INC.）用作程序。

图14是根据测试例21的分析模型的示意图。分析模型相对于原点（印刷纸的中心）对称，如图14A所示，对称边界条件将有关原点设为限制位置。假定环境变化是25℃和50%RH至60℃和90%RH内的环境变化。然而，分析是在没有考虑重力的情况下完成的。

图14B和图14C是示出了分析模型中卷曲类型的图案图。如图14A所示，当状态被推定为具有作为上侧的MOTH-EYE薄膜侧与作为下侧的印刷纸侧，以MOTH-EYE薄膜表面具有凹进中心部分的方式卷曲（弯曲）印刷纸被称之为“凹状卷曲”。如图14B所示，当状态被推定为作为上侧的MOTH-EYE薄膜侧与作为下册的印刷纸侧时，以MOTH-EYE薄膜表面具有突出的中心部分的方式卷曲（弯曲）的印刷纸被称之为“凸起卷曲”。在凹状卷曲（末端位置在中心位置之上）的情况下的卷曲量被定义为“正卷曲量“(+Δx)”，而在凸起卷曲（末端位置在中心位置之下）的情况下的卷曲量被定义为“负卷曲量“(-Δx)”。如图14B和14C所示，本文中的卷曲量指将印刷纸10的中心位置作为标准的印刷纸的末端位置的位移。

图15A是示出了作为分析模型的印刷纸的层结构的图案图。应当注意，对应于上述实施方式中的部分以图15A中的相同参考标号表示。

包括下列结构的板层小体模型化为印刷纸6。

印刷纸6的形状：长方形

印刷纸的尺寸：89nm×127mm

板层构造：薄膜2/墨水层6d/白色树脂层6c/光纤层6b/透明树脂Layer6a

（应当注意，薄膜2对应于MOTH-EYE薄膜的基体2，并且在该分析中忽略薄膜表面上的MOTH-EYE结构体的设定。此外，由墨水层6d、白色树脂层6c、纤维层6b、以及透明树脂层6a构成的板层小体对应于印刷材料体6。）

表11示出了用于作为分析模型的印刷纸的各层的设定条件。应当注意，明胶和纤维素具有“温度变化>>热变化”关系，并且湿度膨胀系数由此被设置为明胶和纤维素的膨胀系数。此外，聚乙烯具有“热变化>>温度变化”的关系，并且线性膨胀系数被设定为聚乙烯的膨胀系数。

【表11】

PE：聚乙烯

表12示出了测试例21的分析结果。

【表12】

薄膜膨胀系数	卷曲量（mm）
		1.0×10-6	21.95
5.0×10-6	20.67
		1.0×10-5	19.06
5.0×10-5	6.202
		6.0×10-5	2.99283
7.0×10-5	-0.289203
		8.0×10-5	-3.4471
9.0×10-5	-6.6591
		1.0×10-4	-9.87

从表12中确定以下结论。

当在构成印刷纸的层之中具有最高膨胀系数的层（纤维层）的膨胀系数（湿度膨胀系数）被称之为α1时，其中，薄膜的膨胀系数被称之为α2，印刷纸能够保持具有α2=α1的基本平面。此外，印刷纸能够卷曲成具有α2>α1的凸形。因此，基于印刷纸的外观，膨胀系数α1和α2优选满足α2≥α1关系，并且更优选满足α2>α1关系。

（测试例22）

除如表13中所示作为分析模型的印刷纸的各层的设定条件外，以如测试例21中相同的方式分析由于环境变化引起的印刷水的卷曲量进行分析。分析结果如表14所示。

表13示出了作为分析模型的印刷纸的各层的设定条件。

【表13】

PET:聚对苯二甲酸乙二酯

表14示出了测试例22的分析结果。

【表14】

薄膜膨胀系数	卷曲量Δx(mm)
		1.0×10-6	16.76
5.0×10-6	15.76
		1.0×10-5	14.52

5.0×10-5	4.52
		6.0×10-5	2.03
7.0×10-5	-0.5

从表14中确定以下结论。

当在构成印刷纸的层中具有最高膨胀系数的层（光纤层）的膨胀系数（湿度膨胀系数）被称之为α1时，其中，薄膜的膨胀系数被称之为α2，印刷纸能够保持具有α1=α2的基本平面。此外，印刷纸能够卷曲成具有α2>α1的凸形。因此，基于印刷纸的外观，膨胀系数α1和α2优选满足α2≥α1关系，并且更优选满足α2>α1关系。

（测试例23）

除下列分子模型被设定外，以测试例21中相同的方式分析由于环境变引起的印刷水的卷曲量。分析结果如表16所示。

图15B是示出了作为分析模型的印刷纸的层结构的图案图。应当注意，对应于上述实施方式中的部分以图15B中的相同参考标号表示。

包括下列结构的板层小体模型化为印刷纸6。

印刷纸6的形状：长方形

印刷纸的尺寸：89nm×127mm

板层构造：薄膜2/墨水层6d/薄膜层6e

（应当注意，薄膜2对应于MOTH-EYE薄膜的基体2，并且在该分析中忽略了薄膜表面上的MOTH-EYE结构体的设定。此外，由墨水层6d与薄膜层6e构成的板层小体对应于印刷材料体6。）

表15示出了作为分析模型的印刷纸的各层的设定条件。

【表15】

表16示出了测试例23的分析结果。

【表16】

薄膜膨胀系数	卷曲量(mm)
		1.0×10-6	15.03
5.0×10-6	13.99
		1.0×10-5	12.69
5.0×10-5	2.26
		6.0×10-5	-0.34

从表16中确定以下结论。

当在构成印刷纸的层中具有最高膨胀系数的层（薄膜层）的膨胀系数（线性膨胀系数）被称之为α1时，其中，薄膜的膨胀系数被称之为α2，印刷纸能够基本保持具有α2=α1的平面。此外，印刷纸能够卷曲成具有α2>α1的凸起形状。因此，基于印刷纸的外观，膨胀系数α1和α2优选满足α2≥α1关系，并且更优选满足α2>α1关系。

<9.擦拭能力>

（测试例24）

除使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分，使用滚动等离子蚀刻代替干蚀刻，并且称量用于紫外线固化树脂成分的材料，然后在大约60摄氏度时提高适度，使用搅拌器（来自THINKY CORPORATION）进行1分钟的混合，并返回到实验中使用的正常温度外，以实例1中相同的方式制备光学元件。以实例1中相同的方式计算出结构的长宽比。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 95%质量

(高可挠性树脂：平均分子量：1000，功能基团的数目：2）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

应当注意，添加剂的添加剂量指在紫外线固化树脂成分视为100wt%的情况下的添加剂量。

（测试例25）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 80%质量

(高可挠性树脂：平均分子量：1000，功能基团的数目：2）

亲水丙烯酸酯单体 15%质量

光化聚合引发剂 5%质量

(α-羟基苯）

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例26）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 70%质量

高可挠性树脂：平均分子量：1000，功能基团的数目：2）

亲水丙烯酸酯单体25%质量

光化聚合引发剂 5%质量

(α-羟基苯）

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例27）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 60%质量

（高弹性树脂：平均分子量：1000，功能基团的数目：2）

吸水的丙烯酸酯单体 35%质量

光化聚合引发剂 5%质量

(α-羟基苯）

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例28）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 50%质量

（高弹性树脂：平均分子量：1000，功能基团的数目：2）

亲水丙烯酸酯单体 45%质量

光化聚合引发剂 5%质量

（α-羟基苯）

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例29）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 95%质量

（高弹性树脂：平均分子量：1500，功能基团的数目：2）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例30）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 95%质量

（高弹性树脂：平均分子量：1000，功能基团的数目：2）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例31）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

聚氨酯丙烯酸酯 95%质量

（高弹性树脂：平均分子量：2100，功能基团的数目：3）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例32）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

两种功能丙烯酸酯 95%质量

（分子量：332，功能基团的数目：2）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例33）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

两种功能丙烯酸酯 95%质量

（分子量：349，功能基团的数目：2）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例34）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

三种功能的丙烯酸酯 95%质量

（分子量：956，功能基团的数目：3）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（测试例35）

除了使用具有下列成分的紫外线固化树脂成分之外，以测试例24中相同的方式制备光学元件。

<紫外线固化树脂成分>

四种功能的丙烯酸酯 95%质量

（分子量：352，功能基团的数目：4）

光化聚合引发剂 5%质量

硅树脂添加剂 0.5wt%

（聚醚变形的聚乙烯硅树脂）

（计算交联密度）

根据下列公式计算交联密度。应当注意，使用动态粘弹性测量装置（来自Rheometric Scientific F.E.Ltd.）在正常温度下测量存储弹性模数E'，并且绝对温度也是正常温度。

n=E’/3RT

（在公式中，n表示交联密度(mol/L)，E'表示存储弹性模数(Pa)，R表示气体常数(Pa·L/K·mol)，并且T表示绝对温度(K)。）

（测量接触角与弹性模数）

用于测量接触角和弹性模数的方法与样本1至样本9中实施的方法相同。

（评估擦拭能力）

用于干擦拭和水擦拭的方法与样本1至9实施的方法相同。应当注意，在样本10至21的情况下，重复擦拭操作直至确定可以擦拭掉指纹。结果如表2所示。

为了评估擦拭能力，在表2中，几次容易地擦拭掉指纹表示为“⊙”的情况，大约10次擦拭掉指纹表示为“○”的情况，大约几十次擦拭掉的指纹表示为“△”的情况，以及不可能擦拭掉表示为“×”的情况。

【表17】

此外，图18示出了绘制针对样本10至21的交联密度与交联间平均分子量的曲线图。

根据上述评估结果确定以下结论。

在样本10至17被图18中的圆点椭圆环绕时，在评估擦拭能力时通过干擦拭能相当容易将指纹移除。这是因为光学元件的结构包含作为其主要成分的低聚物，具体地，交联间平均分子量大于等于500并且小于等于1700，并且交联密度大于等于0.8mol/L并且小于等于5.1mol/L。特别是，在样本11至15的情况下，通过水擦拭移除指纹相对容易。这是因为由于具有亲水性的结构，光学元件的接触角小于等于30度。

应当注意，与使用三官能的低聚物情况相比，也已确定在用于结构的材料中使用双官能的低聚物易于改变粘性，从而使得转印操作等更简单。

虽然已经具体地描述根据本技术的实施方式，但本技术并不被视为局限于上述实施方式，在基于根据本技术的技术构思上，可以做出各种类型的变形例。

例如，通过实例方式完全所列的上述实施方式中的成分、方法、步骤、形状、材料、数值等，根据需要可使用（如需）不同的成分、方法、步骤、形状、材料、数值等。

此外，在不偏离本技术的精神的情况下，可以彼此组合上述实施方式中的成分、方法、步骤、形状、材料、数值等。

虽然在上述实施方式中已经描述将光学元件应用到印刷材料的表面的实例，但本技术并不被视为局限于这些实例，并且可以应用于照相材料的表面。

参考标记列表

1 光学元件

2 基体

3 结构体

3a 曲面部

4 基底层

5 贴合层

6. 印刷材料体

5 突出

10 印刷材料体

11 辊子母盘

12 结构体

13 抗蚀剂层

14 激光

15 潜像

16 转印材料

17 能量线源

Claims (16)

1.一种印刷材料，包括：

具有表面的印刷材料体；以及

光学元件，被设置在所述印刷材料体的所述表面上；

其中，所述光学元件包括以小于可见光的波长的节距形成的多个结构体；以及

所述结构体具有0.6以上且5.0以下的长宽比，所述长宽比是所述结构体的高度与所述节距之间的比；

其中，所述光学元件进一步包括具有表面的基体；

所述多个结构体二维地形成在所述基体的所述表面上并且形成多行轨迹，并且在两行邻近轨迹之间，针对一个轨迹的结构体被定位在相对于布置在另一轨迹上的邻近结构体在轨迹的延伸方向上偏移了半个节距的位置，其中，所述光学元件的湿度膨胀系数高于所述印刷材料体的湿度膨胀系数。

2.根据权利要求1所述的印刷材料，其中，所述光学元件侧的所述表面被弯曲为使得向外突出。

3.根据权利要求1所述的印刷材料，其中，所述印刷材料具有平面形状或曲面形状的外周缘；以及

所述曲面形状是在与所述光学元件相反的方向上弯曲所述外周缘获得的。

4.根据权利要求1所述的印刷材料，其中，

所述基体满足如下关系：在L^*a^*b^*系统的透射色调中，L^*≥95；|a^*|≤0.05并且|b^*|≤0.53。

5.根据权利要求1所述的印刷材料，其中，所述光学元件满足如下关系：在L^*a^*b^*系统的透射色调中，L^*≥96；|a^*|≤0.7并且|b^*|≤1.9。

6.根据权利要求1所述的印刷材料，还包括在所述光学元件与所述印刷材料体之间的贴合层；

其中，所述光学元件与所述贴合层之间的折射率的差为0.1以下。

7.根据权利要求6所述的印刷材料，其中，所述光学元件进一步包括具有表面的基体；

所述多个结构体形成在所述基体的所述表面上；并且

所述结构体与所述基体之间的折射率的差以及所述基体与所述贴合层之间的折射率的差均为0.1以下。

8.根据权利要求1所述的印刷材料，其中，所述光学元件具有1.7μm以下的表面粗糙度Rz。

9.根据权利要求1所述的印刷材料，其中，所述结构体具有0.8mol/L以上且5.1mol/L以下的交联密度。

10.根据权利要求9所述的印刷材料，其中，所述结构体具有400以上且10000以下的范围内的交联间平均分子量。

11.根据权利要求10所述的印刷材料，其中，所述结构体具有700以上且1500以下的范围内的交联间平均分子量。

12.根据权利要求10所述的印刷材料，其中，所述结构体包含具有两个(甲基)丙烯酰基团的低聚物以及具有三个(甲基)丙烯酰基团的低聚物中的至少一种作为主要组成成分。

13.根据权利要求12所述的印刷材料，其中，所述结构体包含具有两个(甲基)丙烯酰基团的低聚物作为主要组成成分。

14.根据权利要求10所述的印刷材料，其中，所述结构体包含直链型聚合物作为主要组成成分。

15.根据权利要求4所述的印刷材料，其中，所述多个结构体具有在所述基体的所述表面上形成多行轨迹的配置，其中，在同一轨迹中的结构体的节距长于在两个邻近的轨迹间的结构体的节距。

16.一种照相材料，包括：

具有表面的照相材料体；以及

设置在所述照相材料体的所述表面上的光学元件；

其中，所述光学元件包括在以小于可见光的波长的节距形成的多个结构体；以及

所述结构体具有0.6以上且5.0以下的长宽比，所述长宽比是所述结构体的高度与所述节距之间的比；

其中，所述光学元件进一步包括具有表面的基体；

所述多个结构体二维地形成在所述基体的所述表面上并且形成多行轨迹，并且在两行邻近轨迹之间，针对一个轨迹的结构体被定位在相对于布置在另一轨迹上的邻近结构体在轨迹的延伸方向上偏移了半个节距的位置，

其中，所述光学元件的湿度膨胀系数高于所述照相材料体的湿度膨胀系数。